JP3637639B2 - 露光装置 - Google Patents

露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3637639B2
JP3637639B2 JP17307195A JP17307195A JP3637639B2 JP 3637639 B2 JP3637639 B2 JP 3637639B2 JP 17307195 A JP17307195 A JP 17307195A JP 17307195 A JP17307195 A JP 17307195A JP 3637639 B2 JP3637639 B2 JP 3637639B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
air
exposure apparatus
laser
interferometer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP17307195A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0922121A (ja
Inventor
豊 林
浩人 堀川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP17307195A priority Critical patent/JP3637639B2/ja
Publication of JPH0922121A publication Critical patent/JPH0922121A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3637639B2 publication Critical patent/JP3637639B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • G03F7/70875Temperature, e.g. temperature control of masks or workpieces via control of stage temperature
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、半導体製造用露光装置のXYステージ周辺部の空調に関する。
【0002】
【従来の技術】
ICの高集積化が進むにつれて、ウェハを載置するXYステージの位置決めは、非常に高精度で行う必要がある。そのために、従来の露光装置は、温度を一定とするチャンバの中に入れて温度調節された状態で使用するか、或いはXYステージの周辺に空調装置を設け、温度調節された空気を吹き込むことにより部分的に温度制御をして使用していた。
【0003】
このような空調装置を有する従来の露光装置の主要部分の構成を、図3により説明する。露光装置は、照明系1、マスク2、マスク2のパターンをウェハ3に投影する投影光学系4、ウェハ3を載置するXYステージ5、XYステージ5をX方向に駆動するためのX方向駆動モータ6とX方向送りネジ7、同じくY方向に駆動するためのY方向駆動モータ8とY方向送りネジ9、レーザ干渉計光源10、XYステージ5のX方向位置計測のためのX方向干渉計11とX方向測長用反射鏡12、同じく、Y方向位置計測のためのY方向干渉計13とY方向測長用反射鏡14、X方向空調装置15及びY方向空調装置16等から構成される。図3の装置において、レーザ干渉計光源10から出た光は、2つに分岐されてX方向干渉計11とY方向干渉計13に導入され、それぞれXYステージに固着されているX方向測長用反射鏡12とY方向測長用反射鏡14にて反射され、XY方向の計測がなされる。この位置計測結果に基づきウェハ3の位置決めがなされた後、マスク2のパターンがウェハ3に投影される。
【0004】
図3の配置の通り、X方向空調装置15はX方向干渉計11の後方にあり、X方向空調装置15からの空気流の向きはXYステージ5のX方向にほぼ平行となり、Y方向空調装置16はY方向干渉計13の後方にあり、Y方向空調装置16からの空気流の向きはXYステージ5のY方向にほぼ平行となる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながらこの種の露光装置は、XYステージの駆動モータやレーザ光源等さまざまな熱源を有しており、上述の第1の従来例のように、チャンバに入れたとしても部分的な温度ムラが発生する。
【0006】
又、図3に示す第2の従来例のように、温度調節された空気をX及びY方向に平行に吹き込む方法は、この空気流がXYステージ及び反射鏡に当たって乱流となり、空気の揺らぎや温度ムラが発生する。このような空気の揺らぎや温度ムラがレーザ測長光路上で起こると、XYステージの位置測長誤差を生む原因となる。さらに、XYステージ周辺で発生するゴミが空気の渦により長時間空中に浮遊すると、被露光基盤(ウェハ)のクリーン度が低下する。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明は、直交するXY軸に移動可能なステージと、前記ステージに対してX方向に沿って照射されるレーザ光で前記ステージのX方向の位置を計測する第1のレーザ干渉計と、前記ステージに対してY方向に沿って照射されるレーザ光で前記ステージのY方向の位置を計測する第2のレーザ干渉計と、を有する露光装置において、前記第1、第2のレーザ干渉計のレーザ光の光路を横切るように、一定の温度に保たれた空気を、前記X方向及びY方向に対し斜め方向から、且つ前記ステージの上面にほぼ平行に前記ステージに向けて吹き込む空調手段を有する。
本発明においては、前記第1のレーザ干渉計は、前記ステージのX側面に配置され、前記X方向に沿って照射されるレーザ光を反射するX方向用反射鏡を含み、前記第2のレーザ干渉計は、前記ステージのY側面に配置され、前記Y方向に沿って照射されるレーザ光を反射するレーザ光を反射するY方向用反射鏡を含むものとする。
また、一定の温度に保たれた前記斜め方向の一例としては、前記X方向と前記Y方向との両方に対して45°であることが挙げられる。
さらに、前記空調手段としては、複数の斜め方向から前記空気を前記ステージに向けて吹き込む、複数の空調装置を採用しても良い。
【0008】
【作用】
本発明によれば、温度調節された空気をX方向及びY方向測長光路の両方に対して斜め方向からXYステージ上面にほぼ平行に吹き込むと、その空気流は、XYステージの側面に沿って流れ、乱流は生じ難くくなる。従って、乱流発生に伴う空気の揺らぎ、温度ムラがほとんどなくなり、空間における屈折率のムラ等の測長用レーザ光に及ぼす悪影響を回避することができ、その結果、XYステージ位置の高精度計測が可能となる。さらに、XYステージ周辺で発生する塵埃が、空気の渦によって長時間空中に浮遊することもないので、ウェハ及びその周辺のクリーン度が低下することもない。
【0009】
【実施例】
図1は、本発明の実施例に係わる露光装置の主要部分の概略構成を示す透視図である。図1に示す本発明の露光装置の基本構成は、空調装置の台数及び配置を除き、前述の図3に示すものと同様である。換言すれば、この空調システムに関る改良が本発明を構成するものである。
【0010】
図1において、本発明の露光装置は、照明系1、マスク2、マスク2のパターンをウェハ3に投影する投影光学系4、ウェハ3を載置するXYステージ5、XYステージ5をX方向に駆動するためのX方向駆動モータ6とX方向送りネジ7、同じくY方向に駆動するためのY方向駆動モータ8とY方向送りネジ9、レーザ干渉計光源10、XYステージ5のX方向位置計測のためのX方向干渉計11とX方向測長用反射鏡12、同じく、Y方向位置計測のためのY方向干渉計13とY方向測長用反射鏡14及び空調装置17等から構成される。又、XYステージ5の位置を計測するための測長システムにおいて、レーザ干渉計光源10から出た光は、2つに分岐されてX方向干渉計11とY方向干渉計13に導入され、それぞれXYステージに固着されているX方向測長用反射鏡12とY方向測長用反射鏡14にて反射され、XY方向の計測がなされる。この位置計測結果に基づきウェハ3の位置決めがなされた後、マスク2のパターンがウェハ3に投影される。
【0011】
空調については、図1に示すように、空調装置17をXYステージ5のX方向及びY方向に対してそれぞれ斜めになるように配置する。このように配置すると、空調装置17からXYステージ5に向けて吹き出された空気流は、XYステージ5の側面に沿って流れたり、XYステージ5の上面に沿って流れるので、乱流は生じ難くくなる。
【0012】
この空気の流れを図2を用いて説明する。図2は、図1のXYステージ5の周辺を示す平面図である。XYステージ5の上面には、ウェハ3が載置され、X方向測長用反射鏡12とY方向測長用反射鏡14とが固着されている。空調装置17は、X方向及びY方向に対してそれぞれ斜め、例えば角度45°に設置されている。空調装置17からXYステージ5に向けて吹き出された空気流は、図中、矢印の線をもって模式的に示す。この空気流は様々な流路を形成するが、X方向測長用反射鏡12とY方向測長用反射鏡14との間隙を通過するか、XYステージ5の側面に当たって光路11′又は光路13′を横切るか、直接光路11′又は光路13′を横切るか、いずれかとなる場合が多い。いずれにせよ、空気の流れはスムーズであり、乱流は生じ難くくなる。従って、空気の揺らぎ、温度ムラがほとんどなくなり、XYステージ周辺の空間、特に光路11′、光路13′における屈折率のムラ等の悪影響がなくなるので、XYステージ位置の高精度計測が可能となる。さらに、XYステージ周辺で発生する塵埃が、長時間空中に浮遊することもなくなるので、ウェハ3及びその周辺のクリーン度が低下することもなくなる。
【0013】
なお、空調装置17からの空気の吹き出し方向は、X方向及びY方向に対して必ずしも45°に限られず、計測精度に悪影響を及ぼさない範囲で角度を変えてもよい。又、空調装置の台数は1台に限られず、XYステージは4つの斜め方向があるので最大数4台まで配置してもよい。
【0014】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、温度調節された空気をX方向及びY方向測長光路の両方に対して斜め方向からXYステージ上面にほぼ平行に吹き込む空調手段を設けたので、その空気流は、XYステージの側面に沿ってスムーズに流れ、乱流は生じ難くくなる。従って、空気の揺らぎ、温度ムラがほとんどなくなり、XYステージ周辺の空間、特に測長光路上の屈折率のムラ等が回避できる。その結果、XYステージ位置の高精度計測が可能となる。さらに、空気の滞留もほとんどなくなるので、XYステージ周辺で発生する塵埃が長時間空中に浮遊することもないので、ウェハ及びその周辺のクリーン度が向上する。
【0015】
又、空調装置をXYステージに対し斜め方向に設置するので、空調装置を測長光路の内側(XYステージ寄り)に配置することができ、露光装置のコンパクト化に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係わる露光装置の主要部分の概略構成を示す透視図。
【図2】本発明の一実施例に係わる露光装置のXYステージ周辺の空気流を示す平面図。
【図3】従来の、露光装置の主要部分の概略構成を示す透視図。
【符号の説明】
1・・・照明系
2・・・マスク
3・・・ウェハ
4・・・投影光学系
5・・・XYステージ
6,8・・・駆動モータ
7,9・・・送りネジ
10・・・レーザ干渉計光源
11,13・・・干渉計
11′,13′・・・測長光路(光路)
12,14・・・測長用反射鏡
15,16,17・・・空調装置

Claims (4)

  1. 直交するXY軸に移動可能なステージと、前記ステージに対してX方向に沿って照射されるレーザ光で前記ステージのX方向の位置を計測する第1のレーザ干渉計と、前記ステージに対してY方向に沿って照射されるレーザ光で前記ステージのY方向の位置を計測する第2のレーザ干渉計と、を有する露光装置において、
    前記第1、第2のレーザ干渉計のレーザ光の光路を横切るように、一定の温度に保たれた空気を、前記X方向及びY方向に対し斜め方向から、且つ前記ステージの上面にほぼ平行に、前記ステージに向けて吹き込む空調手段を有することを特徴とする露光装置。
  2. 請求項1記載の露光装置において、
    前記第1のレーザ干渉計は、前記ステージのX側面に配置され、前記X方向に沿って照射されるレーザ光を反射するX方向用反射鏡を含み、
    前記第2のレーザ干渉計は、前記ステージのY側面に配置され、前記Y方向に沿って照射されるレーザ光を反射するレーザ光を反射するY方向用反射鏡を含むことを特徴とする露光装置。
  3. 請求項1又は2記載の露光装置において、
    前記斜め方向は、45°であることを特徴とする露光装置。
  4. 請求項1乃至3のいずれかに記載の露光装置において、
    前記空調手段が、複数の斜め方向から前記空気を前記ステージに向けて吹き込む、複数の空調装置であることを特徴とする露光装置。
JP17307195A 1995-07-10 1995-07-10 露光装置 Expired - Fee Related JP3637639B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17307195A JP3637639B2 (ja) 1995-07-10 1995-07-10 露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17307195A JP3637639B2 (ja) 1995-07-10 1995-07-10 露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0922121A JPH0922121A (ja) 1997-01-21
JP3637639B2 true JP3637639B2 (ja) 2005-04-13

Family

ID=15953674

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17307195A Expired - Fee Related JP3637639B2 (ja) 1995-07-10 1995-07-10 露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3637639B2 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW563002B (en) 1999-11-05 2003-11-21 Asml Netherlands Bv Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using a lithographic projection apparatus, and device manufactured by the method
EP1098226A3 (en) * 1999-11-05 2002-01-09 Asm Lithography B.V. Lithographic apparatus with gas flushing system
US6933513B2 (en) 1999-11-05 2005-08-23 Asml Netherlands B.V. Gas flushing system for use in lithographic apparatus
EP2157480B1 (en) 2003-04-09 2015-05-27 Nikon Corporation Exposure method and apparatus, and device manufacturing method
TWI609409B (zh) 2003-10-28 2017-12-21 尼康股份有限公司 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
TWI519819B (zh) 2003-11-20 2016-02-01 尼康股份有限公司 光束變換元件、光學照明裝置、曝光裝置、以及曝光方法
TWI494972B (zh) 2004-02-06 2015-08-01 尼康股份有限公司 偏光變換元件、光學照明裝置、曝光裝置以及曝光方法
US7136142B2 (en) * 2004-05-25 2006-11-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus having a gas flushing device
EP3232270A3 (en) 2005-05-12 2017-12-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
JP5267029B2 (ja) 2007-10-12 2013-08-21 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法
US8379187B2 (en) 2007-10-24 2013-02-19 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9116346B2 (en) 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0922121A (ja) 1997-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3365571B2 (ja) 光学式計測装置及び露光装置
JPH0785112B2 (ja) ステージ装置
US5141318A (en) Laser interferometer type length measuring apparatus and positioning method using the same
JP3637639B2 (ja) 露光装置
WO2002054460A1 (fr) Dispositif d'exposition
US6133982A (en) Exposure apparatus
JP3448787B2 (ja) ステージ位置計測装置
US7515277B2 (en) Stage apparatus, control system, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP3372782B2 (ja) 走査ステージ装置および走査型露光装置
US20070103696A1 (en) Apparatus for measuring the position of an object with a laser interferometer system
JP3013837B2 (ja) ステージ位置計測装置およびその計測方法
JP7469864B2 (ja) 位置決め装置、露光装置、および物品の製造方法
JP2001044112A (ja) 気圧制御方法および装置、これを用いたレーザ計測装置および露光装置
KR20150029580A (ko) 스테이지 장치, 리소그래피 장치 및 소자 제조 방법
JP2004273666A (ja) 露光装置
JPH03129720A (ja) 露光装置
JPH06109417A (ja) ステージ位置計測装置
JPH09243324A (ja) レーザ干渉計方式のxy位置決め装置
JP2004335631A (ja) ステージ装置
JP3958321B2 (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
JPH10289873A (ja) 露光装置
JP3309906B2 (ja) 走査型露光装置、及び該装置を用いる素子製造方法
JPH0480912A (ja) 露光装置
KR20240134712A (ko) 노광장치 및 물품의 제조방법
JPH0320062B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040415

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040518

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040716

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040907

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041105

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20041221

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050103

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080121

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110121

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees