CN101114129A - 具有平面电机驱动支架的光刻设备 - Google Patents

具有平面电机驱动支架的光刻设备 Download PDF

Info

Publication number
CN101114129A
CN101114129A CNA2007101367215A CN200710136721A CN101114129A CN 101114129 A CN101114129 A CN 101114129A CN A2007101367215 A CNA2007101367215 A CN A2007101367215A CN 200710136721 A CN200710136721 A CN 200710136721A CN 101114129 A CN101114129 A CN 101114129A
Authority
CN
China
Prior art keywords
support
additional body
electric machine
composition
machine assembly
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2007101367215A
Other languages
English (en)
Other versions
CN100580560C (zh
Inventor
汉斯·巴特勒
弗朗西斯库斯·阿德里安那斯·赫拉尔杜
斯·克拉森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ASML Netherlands BV
Original Assignee
ASML Netherlands BV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ASML Netherlands BV filed Critical ASML Netherlands BV
Publication of CN101114129A publication Critical patent/CN101114129A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100580560C publication Critical patent/CN100580560C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70991—Connection with other apparatus, e.g. multiple exposure stations, particular arrangement of exposure apparatus and pre-exposure and/or post-exposure apparatus; Shared apparatus, e.g. having shared radiation source, shared mask or workpiece stage, shared base-plate; Utilities, e.g. cable, pipe or wireless arrangements for data, power, fluids or vacuum

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

一种光刻设备，包括：照射系统，用于调节辐射束；构图支架，用于支撑构图装置，所述构图装置对辐射束进行构图；衬底支架，用于支撑衬底；投影系统，用于把已构图的辐射束投影到所述衬底上；附加支架；以及柔性线路组件，用于对电流、信号和流体中至少一项进行传送。所述线路组件的第一部分在底座与所述附加支架之间延伸，并且第二部分在所述附加支架与所述构图支架或所述衬底支架之一之间延伸。第一电机组件产生沿至少一个方向的力，并且所述第一电机组件与所述构图支架和所述衬底支架之一相连。第二电机组件产生沿至少一个方向的力，并且所述第二电机组件与所述附加支架相连。所述第一电机组件包括平面电机。

Description

具有平面电机驱动支架的光刻设备
技术领域
本发明涉及一种具有平面电机驱动支架的光刻设备。
背景技术
光刻设备是把期望的图案施加到衬底上、通常施加到该衬底的目标部分上的机器。例如，光刻设备可以用于制造集成电路(IC)。在这种情况下，可以使用构图装置(代替地称作掩模或掩模板)来产生将在IC的单独层上形成的电路图案。这个图案可以被转移到衬底(例如硅晶片)的目标部分(例如包括一个或若干管芯的部分)上。典型地，经由成像将所述图案转移到衬底上提供的对辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单独的衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括：所谓的步进机(stepper)，在所述步进机中，通过把完整的图案一次曝光在目标部分上来对每一个目标部分进行辐射；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过沿给定方向(“扫描”方向)的辐射束扫描图案、同时沿与该方向平行或反平行地扫描所述衬底来对每一个目标部分进行辐射。还可以通过把图案压印(imprinting)在衬底上来把图案从构图装置转移到衬底上。
构图装置由构图支架来支撑或保持，该支架可以由构图驱动装置在六个自由度(DOF)上移动。衬底由衬底支架来支撑，该支架可以由衬底驱动装置在六个DOF上移动。传统上，把被驱动的构图支架和被驱动的衬底支架称作台架(stage)，其中构图支架还可以被称作掩模板台架，而衬底支架还可以被称作晶片台架。光刻设备还可以包括具有驱动装置的其他支架，这些支架同样被称作台架。
在光刻设备的操作期间，期望很精确地对光刻设备中的台架进行定位，从而能够获得具有所需构图结构的衬底。
传统上，把来自长冲程模块和短冲程模块的台架驱动装置进行组合。短冲程模块的驱动装置提供了台架支架相对于长冲程模块的定位。长冲程模块的驱动装置提供了长冲程模块相对于框架或底座的定位。因此，在对包括长冲程模块和短冲程模块的台架进行定位时，长冲程模块的驱动装置产生同时移动长冲程模块和短冲程模块的力，而短冲程模块的驱动装置产生仅移动短冲程模块(相对于长冲程模块)的力。因此，产生了移动短冲程模块所需的力两次，即由长冲程模块和短冲程模块所产生，这导致了长冲程模块驱动装置的高能耗，而且可能引起加热问题，并限制了光刻设备的精确性和性能。
美国专利No.6891599公开了一种包括主台架(例如掩模板台架)和子台架的台架设备的实施例，其中将从框架或底座引导至主台架的电缆和管子(例如供流电缆、通信/传感器电缆和冷却流管)部分地安装在底座和子台架之间，并且部分地安装在子台架与主台架之间。子台架与主台架之间设置有电机，该电机用于短冲程定位，并且受到控制，使得子台架与主台架之间的距离仅在几十微米的范围内变化。在台架装置的移动期间，由底座与子台架之间的电缆和管子所引起的干扰因此不会引起对主台架产生影响的干扰。主台架和子台架由线性电机驱动，该电机具有沿Y方向的长冲程，和沿X方向的短冲程。
发明内容
期望提供一种简化的、更为通用的具有高精确性的台架设备。
在实施例中，本发明提供了一种光刻设备，包括：照射系统，被配置用于调节辐射束；构图支架，被构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿其横截面赋予辐射束图案，以形成已构图的辐射束；衬底支架，被构建用于支撑衬底；投影系统，被配置用于把已构图的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；附加支架；柔性线路组件，被配置用于对电流、信号和流体中至少一项进行传送，所述线路组件具有在底座与所述附加支架之间延伸的第一部分，而且具有在所述附加支架和所述构图支架之间或所述附加支架和所述衬底支架之间延伸的第二部分；第一电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向的力，所述第一电机组件与所述构图支架和所述衬底支架之一相连；以及第二电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向上的力，所述第二电机组件与所述附加支架相连，其中所述所述第一电机组件包括平面电机。
在实施例中，本发明提供了一种光刻设备，包括：照射系统，被配置用于调节辐射束；构图支架，被构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够把沿其横截面赋予辐射束图案，以形成已构图的辐射束；衬底支架，被构建用于支撑衬底；投影系统，被配置用于把已构图的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；附加支架；柔性线路组件，被配置用于对电流、信号和流体中至少一项进行传送，所述线路组件具有在底座与所述附加支架之间延伸的第一部分，而且具有在所述附加支架和所述构图支架之间或所述附加支架和所述衬底支架之间延伸的第二部分；第一电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向的力，所述第一电机组件与所述构图支架和所述衬底支架之一相连；以及第二电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向的力，所述第二电机组件与所述附加支架相连；其中，所述第一电机组件包括平面电机，而且所述构图支架和所述衬底支架之一具有第一边，所述附加支架具有第二边，所述第二边至少部分地沿着所述第一边具有一个距离地延伸，所述设备还包括多个传动装置，所述传动装置沿着所述第一和第二边的地方定位，而且每一个传动装置被配置用于在所述附加支架和所述构图支架之间或所述附加支架和所述衬底支架之间产生力。
在实施例中，本发明提供了一种光刻设备，包括：照射系统，被配置用于调节辐射束；构图支架，被构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿其横截面赋予辐射束图案，以形成已构图的辐射束；衬底支架，被构建用于支撑衬底；投影系统，被配置用于把已构图的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；附加支架；柔性线路组件，被配置用于对电流、信号和流体中至少一项进行传送，所述线路组件具有在底座与所述附加支架之间延伸的第一部分，而且具有在所述附加支架和所述构图支架之间或所述附加支架和所述衬底支架之间延伸的第二部分；第一电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向的力，所述第一电机组件与所述构图支架和所述衬底支架之一相连；第二电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向的力，所述第二电机组件与所述附加支架相连；以及多个传动装置，每一个传动装置被配置用于在所述附加支架和所述构图支架之间或所述附加支架和所述衬底支架之间产生力，其中所述第一电机组件包括平面电机。
附图说明
现在仅作为示例，参考示意性附图来描述本发明的实施例，附图中相应的附图标记表示相应的部分，其中：
图1示出了根据本发明实施例的光刻设备；
图2示出了用于说明平面电机的结构和操作的俯视图；
图3示出了根据本发明实施例的光刻设备的台架的俯视图；
图4示出了根据本发明实施例的光刻设备的另一个台架的俯视图；
图5示出了根据本发明实施例的光刻设备的另一个台架的俯视图；
图6示出了根据本发明实施例的光刻设备的另一个台架的俯视图；
图7示出了根据本发明实施例的光刻设备的另一个台架的俯视图；以及
图8示出了根据本发明实施例的光刻设备的另一个台架的俯视图。
具体实施方式
图1示意性地示出了根据本发明一个实施例的光刻设备。所述设备包括：照射系统(照射器)IL，被配置用于调节辐射束B(例如UV辐射或任意其他适合的辐射)；掩模支架结构(例如掩模台)MT，被构建用于支撑构图装置(例如掩模)MA，并与第一定位装置PM相连，所述第一定位装置PM被配置用于根据特定参数精确地定位所述构图装置。所述设备还包括衬底台(例如晶片台)WT或“衬底支架”，被构建用于支持衬底(例如涂有抗蚀剂的晶片)W，并与第二定位装置PW相连，所述第二定位装置PW被配置用于根据特定参数精确地定位衬底。所述设备还包括投影系统(例如折射投影透镜系统)PS，被配置用于通过构图装置MA将赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一个或更多个管芯)上。
照射系统可以包括诸如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其他类型的光学组件或其任意组合之类的各种类型的光学组件，用于引导、整形或控制辐射。
掩模支架结构支撑即承担构图装置的重量。所述掩模支架结构按照取决于构图装置的方位、光刻设备的设计、以及其他条件(例如构图装置是否处于真空环境)的方式来支持所述构图装置。掩模支架结构可以使用机械、真空、静电或其他钳技术来支持构图装置。例如，掩模支架结构可以是框架或台，根据需要可以是固定的或可移动的。掩模支架结构可以确保构图装置位于所需位置，例如位于相对于投影系统的所需位置。这里使用的任何术语“掩模板”或“掩模”可以认为与更通用的术语“构图装置”同义。
这里使用的术语“构图装置”应当从广义上来解释，它是指能够用于可以沿横截面赋予辐射束图案以便在衬底的目标部分中创建图案的任何设备。应当注意的是，被赋予辐射束的图案可能不完全与衬底的目标部分中的所需图案相对应，例如如果所述图案包括相移特征或所谓的辅助特征。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分中创建的装置的具体功能性层相对应，例如集成电路。
构图装置可以是透射或反射的。构图装置的示例包括：掩模、可编程镜阵列、以及可编程LCD面板。掩模是光刻领域中公知的，包括例如二元掩模类型、交替相移掩模类型、以及衰减相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的的掩模类型。可编程镜阵列的示例采用小镜子的矩阵排列，每一个小镜子可以单独地倾斜，以沿不同方向反射入射辐射。倾斜的镜子把赋予由镜阵列所反射的辐射束图案。
这里使用的术语“投影系统”应当从广义上解释，它包括任意类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，只要对于所使用的曝光照射或对于其他因素(例如使用浸没流体或使用真空)来说是适合的。这里任意使用的术语“投影透镜”可以被看作是与更通用的术语“投影系统”同义。
如这里所示，所述是透射型(例如采用透射掩模)。替代地，所述设备可以是反射型(例如采用上述类型的可编程镜阵列，或采用反射掩模)。
光刻设备可以具有两个(双台架)或更多个衬底台或“衬底支架”(和/或两个或更多个掩模台或“掩模支架”)。在这种“多台架”机器中，可以并行地使用额外的台或支架，或可以对一个或更多个台或支架执行预备步骤，同时使用一个或更多个其他台或支架进行曝光。
光刻设备还可以是如下类型：其中至少一部分衬底被具有相对高的折射率的液体(例如水)所覆盖，以填充投影系统与衬底之间的空间。还可以把浸没液体应用到光刻设备中的其他空间，例如掩模与投影系统之间。可以使用浸没技术来提高投影系统的数值孔径。这里使用的术语“浸没”不意味着例如衬底的结构必须被浸没在液体中，而仅意味着曝光期间液体位于投影系统与衬底之间。
参考图1，照射器IL从照射源SO接收辐射束。所述源和光刻设备可以是分离的实体，例如当该照射源是受激准分子激光器时。在该情况下，不会认为所述源不被看作形成光刻设备的一部分，而且辐射束借助于束传递系统BD而从源SO传递至照射器IL，例如所述束传递系统BD包括适合的导引镜和/或扩束器。在其他情况下，所述源可以是光刻设备的必要部件，例如当所述源是汞灯时。源SO和照射器IL以及如果需要时的束传递系统BD一起可以被称作照射系统。
照射器IL可以包括调节器AD，调节器AD被配置用于调节辐射束的角强度分布。通常，至少可以调节照射器的光瞳面中强度分布的外部和/或内部径向范围(一般分别称为σ-外部和σ-内部)。另外，照射器IL可以包括各种其他组件，例如积分器IN和聚光器CO。照射器可以用于调节辐射束，以在其横截面中具有所需的均匀性和强度分布。
辐射束B入射到构图装置(例如掩模MA)上，该构图装置由掩模支架结构(例如掩模台MT)所支持，并由该构图装置进行构图。在已经穿过掩模MA后，辐射束B经过投影系统PS，所述系统PS把束聚焦到衬底W的目标部分C上。借助于第二定位装置PW和定位传感器IF(例如干涉仪装置、线性编码器或电容性传感器)，可以精确地移动衬底台WT，例如以便定位于辐射束B的光程上的不同目标部分C。类似地，例如在从掩模库执行机械修补后或是在扫描期间，第一定位装置PM和另一个定位传感器(图1中没有明确地示出)可以用于对掩模MA相对于辐射束B的光程精确地定位。
根据本发明的实施例，可以借助于平面电机来实现掩模台MT的移动，该平面电机形成第一定位装置PM的一部分。类似地，根据本发明的实施例，可以使用平面电机来实现衬底台WT或“衬底支架”的移动，该平面电机形成第二定位装置PW的一部分。如果第一定位装置PM和第二定位装置PW中的一个包括平面电机，则定位装置PM和PW中的另一个可以包括非平面电机，其中，例如可以借助于长冲程模块(粗糙定位)和短冲程模块(精细定位)来实现掩模台MT的移动，或可以使用长冲程模块和短冲程模块来实现衬底台WT或“衬底支架”的移动。作为示例，图1中的第一定位装置PM象征性地被示出为包括非平面电机，而。第二定位装置PM象征性地被示出为包括平面电极。在步进机(与扫描器相反)的情况下，掩模台MT可以仅与短冲程传动装置(actuator)相连，或可以是固定的。可以使用掩模对齐标记M1、M2和衬底对齐标记P1、P2来对齐掩模MA和衬底W。尽管所示出的衬底对齐标记占据了专用的目标部分，然而它们可以位于目标部分之间的空间中(被称作划线(scribe-lane)对齐掩标记)。类似地，在掩模MA上设置有多于一个管芯的情况下，掩模对齐标记可以位于管芯之间。
所示装置可以用于以下模式中至少一种：
在步进模式下，掩模台MT或“掩模支架”以及衬底台MT或“衬底支架”本质上保持静止，而把赋予给辐射束的整个图案一次投影到目标部分C上(即单独的静态曝光)。然后沿X和/或Y方向上移动衬底台MT或“衬底支架”，从而可以对不同的目标部分C进行曝光。在步进模式中，曝光场的最大尺寸限制了单独的静态曝光中成像的目标部分C的尺寸。
在扫描模式下，在把赋予辐射束的图案投影到目标部分C上(即单一的动态曝光)的同时，同步地对掩模台MT或“掩模支架”以及衬底台WT或“衬底支架”进行扫描。衬底台WT或“衬底支架”相对于掩模台MT或“掩模支架”的速度和方向可以由投影系统PS的放大(缩小)率和图像反转特性而确定。在扫描模式下，曝光场的最大尺寸限制了单独的动态曝光中的目标部分的宽度(在非扫描方向上)，而扫描运动的长度确定了目标部分的高度(在扫描方向上)。
在另一个模式下，掩模台MT或“掩模支架”本质上保持静止，支持着可编程构图装置，而且当把赋予辐射束的图案投影到目标部分C的同时，对衬底台WT或“衬底支架”进行移动或扫描。在这个模式下，通常采用脉冲辐射源，而且在衬底台MT或“衬底支架”的每一次移动时后、或在扫描期间的连续辐射脉冲之间，根据需要对可编程构图装置进行更新。这个操作模式可以容易地应用于使用可编程构图装置的无掩模光刻中，所述可编程构图装置例如是上述类型的可编程镜阵列。
也可以采用上述使用的模式的组合和/或变体，或采用完全不同的使用模式。
图2示出了平面电机的实施例的组件配置，用于简要地重申基本结构和操作。定子(stator)包括永磁体组件，而动子(mover)包括电线圈组件，其中针对每一个线圈仅示出作为电流导体的部分。将永磁体按照棋盘图案进行排列，并且所述永磁体包括：第一磁体2，按照与沿第一方向的制图平面成直角进行极化；第二磁体4，按照与沿第一方向相对的第二方向的制图平面成直角进行极化；以及可选的第三(Halbach)磁体6，本质上与第一和第二方向成直角进行极化，用于增强由第一磁体2和第二磁体4所创建的磁场图案。因此，形成了具有行和列的永磁图案(阵列)。每一行和每一列包含第一、第三、第二、第三、第一、第三、第二、第三磁体等的序列。第一磁体2、第二磁体4和第三磁体6被设置在支架(未示出)上。电流导体8、10和12(每一个都可以形成不同线圈的一部分)以相对于行或列的方向不同于0度的角度延伸(例如在大约30-60度之间，特别是图2中所示的45度)，并且位于第一、第二和第三磁体的有效磁场中。
当电流导体8、10、12携带有沿图2所示箭头14方向的电流，而且由位于所示位置处的第一、第二和第三磁体所产生的磁场B的方向与箭头14成直角时，电磁力将会沿箭头16的方向上施加到电流导体8、10或12上。因此，通过适当地选择电流导体中的电流，可以将与电流导体8、10和12相连的动子在具有第一、第二和第三磁体的阵列两端上移动。
要注意的是，在实际中通常使用三相电流系统，其中应用具有一组三个线圈(或者多组三个线圈)，所述线圈携带彼此具有120度相移的电流。此外，为了获得动子相对于定子移动的足够自由度，动子包括不同组的线圈，该线圈具有沿不同方向上延伸的电流导体。动子与定子之间的轴承是磁性轴承。
图3示意性地示出了根据本发明实施例的台架的平面电机动子。该动子包括主动子30和附加动子32，它们可以具有公共的定子(未示出)。主动子30和定子是第一电机组件的一部分，而附加的动子和定子是第二电机组件的一部分。主动子30具有本质上矩形形状，而且可以包括多组(例如所示的4组)线圈34。附加的动子32本质上为矩形框架形状，沿着主动子30的周长而延伸，并且可以包括多组(例如所示的4组)线圈36。主动子30和附加动子32沿与定子(未示出)的平面实质平行的相同平面延伸。主动子30可以与衬底支架或构图支架或另一个支架相连或集成，从而对该支架进行定位，使得能够对该支架上支持的设备(例如构图装置或衬底)进行处理。附加动子32可以与附加支架相连或集成。主动子30和附加动子32两者均是所谓的“长冲程”动子，因为它们相对于定子移动了较长的距离。
多个(例如3个或所示的4个)传动装置40中的每一个具有第一部分42和第二部分44，所述多个传动装置40被设置在主动子30的边与附加动子32的边之间，换句话说：一方面在衬底支架或构图支架的边之间工作，另一方面在附加支架的边之间工作，并沿着该边而定位。在每一个传动装置40的第一部分42和第二部分44之间，可以沿所需方向产生力。传动装置可以是所谓的“音圈(voice-coil)”类型(线圈和铁磁芯，由永磁体进行极化，可相对于彼此而移动)，或具有“洛伦兹”类型(可在永磁体产生的磁场中移动的空气线圈)。
从光刻设备的底座38(可以是框架或支架，或者是静止的或者是可移动的)，一个或更多个柔性线路46延伸至附加动子32或与其相连的支架。从附加动子32，一个或更多个柔性线路48延伸至主动子30或与其相连的支架。通过至少一个柔性线路46，可以提供针对线圈34和36组的电能，而且可以提供用于执行测量的功率和信号(例如电或光信号)以及用于附加动子32和主动子30的冷却液体等。通过至少一个柔性线路48，可以提供线圈组34的电能，而且可以提供用于执行测量的功率和信号(例如电或光信号)以及用于主动子30的冷却液体等。至少一个柔性线路46通过连接50与附加动子32相连，连接50可以是刚性的或者可以是柔性的，例如允许沿双箭头52的方向和/或与其成直角地旋转。至少一个柔性线路48通过分别连接54和56与附加动子32和主动子30相连。如同连接50那样，连接54和56中的每一个或两者都可以是刚性的或柔性的。
在操作中，通过为线圈组34提供能量，主动子30原理上可以相对于定子在制图平面中移动，该移动与通过为线圈组36提供能量而使附加动子32相对于定子的移动无关。然而，为了避免主动子30与附加动子32之间的机械干扰，对附加动子32进行控制，使得其移动跟随主动子30的移动。传动装置40允许对主动子30和附加动子32相对于彼此的位置进行修正。至少一个柔性线路46的柔性以及连接50的可能柔性允许附加动子32自由地在由相关联的定子所确定的平面中移动，从而跟随主动子30的移动。至少一个柔性线路48的柔性以及连接54、56中任意一个的可能柔性允许主动子30和附加动子32相对于彼此移动。
在光刻设备中，使用平面电机提供对台架结构和控制的简化。附加动子32相对于主动子30的方位和距离尽可能地保持恒定。结果，由至少一个线路46引起的任意干扰对附加动子32产生影响，而且本质上不会影响动子30。附加动子32和传动装置40都可以具有有限的功率，而且可以被做得较小。附加动子32基本上仅需要产生移动至少一个线路46及其自身质量的力，而传动装置40仅需要产生修正力。
主动子30承载衬底或掩模，因而期望其移动精确性较高。线圈组34产生加速力。然而，线圈组34由于其结构而可能不会提供足够的移动精确性，该结构必须确保大的移动范围。为此，传动装置40用于通过在移动期间向主动子30施加修正力而提供所需的精确性。由于传动装置40不需要提供加速力，所以它们可以被做得小且轻，而且不会耗散过多功率。将传动装置40的反作用力施加到附加动子32上。由于修正力较小，该反作用力不会引入动子30相对于附加动子32较大位移。典型地，如果主动子30和附加动子32具有可比较的质量，则传动装置40的修正力引入附加动子32小于1μm的位移。
在下面的附图中，X和Y方向已经由箭头指出。
参考图4，主动子30a基本上具有与根据图3的主动子相似的配置，包括线圈组34。具有本质上为矩形形状的附加动子32a包括线圈组36。至少一个柔性线路46连接在底座38和连接50之间，而且至少一个柔性线路48连接在连接54和连接56之间。传动装置40a每一个都具有第一部分42a和第二部分44a，该传动装置40a被设置在主动子30a和附加动子32a之间，传动装置40a位于支架边之间并工作，所述支架与主动子30a和附加动子32a分别连接或集成。在实线所示位置和虚线所示位置之间的附加动子32a相对于主动子30a的任意位置中，传动装置40a是有效的并且可操作的。
在操作中，通过为主动子30a的线圈组34提供能量，主动子30a原理上可以相对于定子在制图平面中移动，该移动与通过为附加动子32a的线圈组36提供能量而使附加动子32a相对于定子的移动无关。然而，为了避免主动子30a与附加动子32a之间的机械干扰，对附加动子32a进行控制，使得其移动跟随主动子30a的移动。传动装置40a允许对主动子30a和附加动子32a相对于彼此的位置进行修正，例如以对主动子30a进行精确的定位。至少一个柔性线路46的柔性以及连接50的可能的柔性允许附加动子32a自由地在由相关联的定子所确定的平面中移动，从而跟随主动子30a的移动。至少一个柔性线路48的柔性以及连接54、56中任一个的可能柔性允许主动子30a和附加动子32a相对于彼此移动。
在光刻设备中，附加动子32a相对于主动子30a的方位和距离尽可能地保持恒定。图4所示的实施例允许附加动子32a相对于主动子30a在实线所示位置和虚线所示位置之间沿X方向上移动，从而整体上提供动子的延伸的可操作灵活性，同时保持对主动子30a的任何干扰力较小或可忽略。
参考图5，主动子30b基本上具有与根据图3的主动子相似的配置，包括线圈组34。具有本质上为L形的附加动子32b包括线圈组36。至少一个柔性线路46连接在底座38和连接50之间，而且至少一个柔性线路48连接在连接54和连接56之间。传动装置40b(例如3个或所示的4个)每一个都具有第一部分42b和第二部分44b，该传动装置40b被设置在主动子30b和附加动子32b之间，传动装置40b位于支架边之间并工作，所述支架与主动子30b和附加动子32b分别连接或集成。
在操作中，通过为主动子30b的线圈组34提供能量，主动子30b原理上可以相对于定子在制图平面中移动，该移动与通过为附加动子32b的线圈组36提供能量而使附加动子32b相对于定子的移动无关。然而，为了避免主动子30b与附加动子32b之间的机械干扰，对附加动子32b进行控制，使得其移动跟随主动子30b的移动。传动装置40b允许对主动子30b和附加动子32b相对于彼此的位置进行修正，例如以对主动子30b进行精确的定位。至少一个柔性线路46的柔性以及连接50的可能柔性允许附加动子32b自由地在由相关联的定子所确定的平面中移动，从而跟随主动子30b的移动。至少一个柔性线路48的柔性以及连接54、56中任一个的可能柔性允许主动子30b和附加动子32b相对于彼此移动。
在光刻设备中，附加动子32b相对于主动子30b的方位和距离尽可能地保持恒定，同时保持对主动子30b的任何干扰力较小或可忽略。
参考图6，主动子30c基本上具有与根据图3的主动子相似的配置，包括线圈组34。具有本质上为U形的附加动子32c包括线圈组36。至少一个柔性线路46连接在底座38和连接50之间，并且至少一个柔性线路48连接在连接54和56之间。传动装置40c(例如所示的3个)每一个都具有第一部分42c和第二部分44c，该传动装置40c被设置在主动子30c和附加动子32c之间，传动装置40c位于支架边之间并工作，所述支架与主动子30c和附加动子32c分别连接或集成。在实线所示位置和虚线所示位置之间的附加动子32c相对于主动子30c的任意位置中，传动装置40c是有效的并且是可操作的。
在操作中，通过为主动子30c的线圈组34提供能量，主动子30c原理上可以相对于定子在制图平面中移动，该移动与通过为附加动子32c的线圈组36提供能量而使附加动子32c相对于定子的移动无关。然而，为了避免主动子30c与附加动子32c之间的机械干扰，对附加动子32c进行控制，使得其移动跟随主动子30c的移动。传动装置40c允许对主动子30c和附加动子32c相对于彼此的位置进行修正，例如以对主动子30c进行精确的定位。至少一个柔性线路46的柔性以及连接50的可能柔性允许附加动子32c自由地在由相关联的定子所确定的平面中移动，从而跟随主动子30c的移动。至少一个柔性线路48的柔性以及连接54、56中任一个的可能柔性允许主动子30c和附加动子32c相对于彼此移动。
在光刻设备中，附加动子32c相对于主动子30c的方位和距离尽可能地保持恒定，同时保持对主动子30c的任何干扰力较小或可忽略。
参考图7，具有圆形形状的主动子30d包括线圈组34。具有本质上为四边形的附加动子32d包括线圈组36。至少一个柔性线路46连接在底座38和连接50之间，而且至少一个柔性线路48连接在连接54和连接56之间。传动装置40d每一个都具有第一部分42d和第二部分44d，该传动装置40d被设置在主动子30d和附加动子32d之间，传动装置40d位于支架边之间并工作，所述支架与主动子30d和附加动子32d分别连接或集成。在实线所示位置和虚线所示位置之间的附加动子32d相对于主动子30d的任意位置中，传动装置40d是有效的并且是可操作的。
在操作中，通过为主动子30d的线圈组34提供能量，主动子30d原理上可以相对于定子在制图平面中移动，该移动与通过为附加动子32d的线圈组36提供能量而使附加动子32d相对于定子的移动无关。然而，为了避免主动子30d与附加动子32d之间的机械干扰，对附加动子32d进行控制，使得其移动跟随主动子30d的移动。传动装置40d允许对主动子30d和附加动子32d相对于彼此的位置进行修正，例如以对主动子30d进行精确的定位。至少一个柔性线路46的柔性以及连接50的可能柔性允许附加动子32d自由地在由相关联的定子所确定的平面中移动，从而跟随主动子30d的移动。至少一个柔性线路48的柔性以及连接54、56中任一个的可能柔性允许主动子30d和附加动子32d相对于彼此移动。
在光刻设备中，附加动子32d相对于主动子30d的方位和距离尽可能地保持恒定。然而，图7所示的实施例允许附加动子32d在实线所示位置和虚线所示位置之间相对于主动子30d移动，由此整体上提供了动子延伸的可操作灵活性，同时保持对主动子30d的任何干扰力较小或可忽略。
参考图8，主动子30e基本上具有与根据图3的主动子相似的配置，包括线圈组34。通过使用线性电机，附加动子32e可以沿双箭头62所示的X方向沿着导管60而移动，所述线型电机的动子由36e所表示，且该线型电机的定子(未示出)被设置在导管60上。导管60与动子64相连，通过使用线性电机，动子64可以在沿由双箭头68所示的Y方向沿着导管66而移动，所述线性电机的动子由36f表示，且该线性电机的定子(未示出)被设置在导管66上。至少一个柔性线路46连接在附加动子32e上的底座38和连接50之间，而且至少一个柔性线路48连接在附加动子32e上的连接54和主动子30e上的连接56之间。传动装置40e每一个都具有第一部分42e和第二部分44e，该传动装置40e被设置在主动子30e和附加动子32e之间，传动装置40e位于支架边之间并工作，所述支架与主动子30e和附加动子32e分别连接或集成。
在操作中，通过为主动子30e的线圈组34提供能量，主动子30e原理上可以相对于定子在制图平面中移动，该移动与通过线性动子36e和36f使附加动子32e相对于定子的移动无关。然而，为了避免主动子30e与附加动子32e之间的机械干扰，对附加动子32e的位置进行控制，使得其移动跟随主动子30e的移动。传动装置40e允许对主动子30e和附加动子32e相对于彼此的位置进行修正，例如以对主动子30e进行精确的定位。至少一个柔性线路46的柔性以及连接50的可能柔性允许附加动子32e自由地在由与定子平行的导管60和66所确定的平面中移动，从而跟随主动子30e的移动。至少一个柔性线路48的柔性以及连接54、56中任一个的可能柔性允许主动子30e和附加动子32e相对于彼此而移动。
在双台架设计的光刻设备中，包括两个独立可移动的台架，每一个台架包含根据图4、5、6或8的实施例的主动子/支架和相关联的附加动子/支架，这些动子/支架可能具有公共的定子，两个台架的主动子/支架可以位于彼此大致相对的位置，从而连带地移动，例如所谓的大块交换(chuckswap)。如可以从图4看出的，主动子/支架30a提供了三个边，以对另一个主动子/支架30a再次进行定位。如可以从图5看出的，主动子/支架30b提供了两个边，以对另一个主动子/支架30b再次进行定位。从可以从图6看出的，主动子/支架30c提供了一个边，以对另一个主动子/支架30c再次进行定位。从可以从图8看出的，主动子/支架30e提供了三个边，以对另一个主动子/支架30e再次进行定位。
注意的是，在一些应用中，先前图中所示的传动装置可以被省略，或可以使用其他数目的传动装置，例如4个、3个或2个，取决于所示的实施例。
还要注意的是，在上述平面电机中，代替包含线圈的动子以及包含永磁体的定子，动子可以包含永磁体，并且定子可以包含线圈。例如，在美国专利No.6144119和美国专利申请No.2005/255624中公开了这种替换平面电机实施例的示例，将其内容在此引入作为参考。
尽管正文中特意参考了IC制造中使用的光刻设备，应当理解的是这里描述的光刻设备可以具有其他应用，例如制造集成光学系统、引导和检测磁域存储器的图案、平板显示器、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头等。本领域的技术人员可以理解，在这种备选应用的上下文中，这里使用的任意术语“晶片”或“管芯”可以看作分别与更一般的术语“衬底”或“目标部分”同义。这里所指的衬底可以在曝光前或曝光后处理，例如在轨道(典型地把抗蚀剂层施加到衬底并对曝光的抗蚀剂进行显影的工具)、度量工具和/或检查工具中进行处理。当可以应用时，这里公开的内容可以应用于这些和其他衬底处理工具。此外，可以对衬底进行多于一次的处理，例如为了创建多层IC，从而这里使用的术语衬底还可以是指已经包含多个处理后的层的衬底。
尽管上文特意参考了本发明实施例在光学平版印刷环境中的应用，可以理解的是本发明可以用于其他应用，例如压印光刻，而且在环境允许时不限于光学光刻。在压印光刻中，构图装置中的形貌限定了在衬底上创建的图案。构图装置的形貌可以被压入施加到衬底的抗蚀剂层，其中通过施加电磁照射、热量、压力或其组合而对抗蚀剂进行固化。在抗蚀剂固化后，构图装置从抗蚀剂中去除，留下抗蚀剂中的图案。
这里使用的术语“辐射”和“束”包括所有类型的电磁辐射，包括紫外(UV)辐射(例如具有大约为365、248、193、157或126nm的波长)和超紫外(EUV)辐射(例如具有5-20nm范围内的波长)，以及粒子束，例如离子束或电子束。
在上下文允许的情况下，术语“透镜”可以指各种光学组件中的任意一个或组合，包括折射型、反射型、磁性型、电磁型和静电型光学组件。
正如所需，这里公开了本发明的详细实施例。然而可以理解的是，所公开的实施例仅是本发明的示范，能够以各种形式来实现。因此，这里公开的特定结构和功能细节不应被解释为限制性的，而仅作为权利要求的基础，并作为教导本领域的技术人员以实质上任意适合的详细结构来实现本发明的基础。此外，这里使用的术语和短语并非意在限制，而是提供对本发明的可以理解的描述。
这里使用的术语“a”或“an”被定义为一个或多于一个。这里使用的术语多个被定义为两个或多于两个。这里使用的术语另一个被定义为至少为第二个或更高次序。这里使用的术语包括和/或具有被定义为包括(即开放式语言)。这里使用的术语耦接被定义为连接，尽管不一定直接连接，而且不一定机械连接。

Claims (14)

1.一种光刻设备，包括：
照射系统，被配置用于调节辐射束；
构图支架，被构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿其横截面给予辐射束图案，以形成已构图的辐射束；
衬底支架，被构建用于支撑衬底；
投影系统，被配置用于把已构图的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；
附加支架；
柔性线路组件，被配置用于对电流、信号和流体中至少一项进行传送，所述线路组件具有在底座与所述附加支架之间延伸的第一部分，并且具有在所述附加支架与所述构图支架之间、或者所述附加支架与所述衬底支架之间延伸的第二部分；
第一电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向的力，所述第一电机组件与所述构图支架和所述衬底支架之一相连；以及
第二电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向的力，所述第二电机组件与所述附加支架相连，
其中，所述第一电机组件包括平面电机。
2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述第二电机组件包括平面电机。
3.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述第一和第二电机组件中的每一个都包括定子和动子，而且所述定子和所述动子之中的一个包括线圈组，而所述定子和所述动子之中的另一个包括永磁体组。
4.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述第二电机组件包括：
第一导管；
第二导管，与所述第一导管实质上成直角地延伸；
第一线性电机，被配置用于把所述第二导管沿着所述第一导管移动；以及
第二线性电机，被配置用于把所述附加支架沿着所述第二导管移动。
5.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述第二电机组件包括：
平行导管组；
横向导管，与所述平行导管组实质上成直角地延伸；
第一线性电机组，被配置用于把所述横向导管沿着所述平行导管组移动；以及
第二线性电机组，被配置用于把所述附加支架沿着所述横向导管移动。
6.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述构图支架和所述衬底支架之一具有第一边，所述附加支架具有第二边，所述第二边至少部分地沿着所述第一边、与其具有一个距离地延伸，所述设备还包括多个传动装置，所述多个传动装置沿着所述第一和第二边定位，而且所述多个传动装置中的每一个被配置用于在所述附加支架和所述构图支架之间、或者所述附加支架和所述衬底支架之间产生力。
7.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述构图支架和所述衬底支架之一具有大致的多边形状，所述多边形状定义了多个第一边，所述附加支架具有至少两个边，所述至少两个边至少部分地沿着至少两个所述第一边、与其具有一个距离地延伸，所述设备还包括多个传动装置，所述多个传动装置沿着至少两个所述第一和第二边定位，而且所述多个传动装置中的每一个被配置用于在所述附加支架和所述构图支架之间、或者所述附加支架和所述衬底支架之间产生力。
8.根据权利要求7所述的光刻设备，其中，所述构图支架和所述衬底支架之一具有大致的矩形的形状，所述形状定义了四个第一边。
9.根据权利要求8所述的光刻设备，其中，所述附加支架具有四个第二边。
10.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述线路组件的第一部分与所述附加支架之间的连接是柔性的。
11.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述线路组件的第二部分与所述附加支架之间的连接是柔性的。
12.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述线路组件的第二部分与所述构图支架或者所述衬底支架之间的连接是柔性的。
13.一种光刻设备，包括：
照射系统，被配置用于调节辐射束；
构图支架，被构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿其横截面给予辐射束图案，以形成已构图的辐射束；
衬底支架，被构建用于支撑衬底；
投影系统，被配置用于把已构图的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；
附加支架；
柔性线路组件，被配置用于对电流、信号和流体中至少一项进行传送，所述线路组件具有在底座与所述附加支架之间延伸的第一部分，而且具有在所述附加支架和所述构图支架之间、或者所述附加支架和所述衬底支架之间延伸的第二部分；
第一电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向的力，所述第一电机组件与所述构图支架和所述衬底支架之一相连；以及
第二电机组件，被配置用于产生沿所述至少一个方向的力，所述第二电机组件与所述附加支架相连；
其中，所述第一电机组件包括平面电机，以及
所述构图支架和所述衬底支架之一具有第一边，所述附加支架具有第二边，所述第二边至少部分地沿着所述第一边、与其具有一个距离地延伸，所述装置还包括多个传动装置，所述多个传动装置沿着所述第一和第二边定位，而且每一个传动装置被配置用于在所述附加支架和所述构图支架之间、或者所述附加支架和所述衬底支架之间产生力。
14.一种光刻设备，包括：
照射系统，被配置用于调节辐射束；
构图支架，被构建用于支撑构图装置，所述构图装置能够沿其横截面给予辐射束以图案，以形成已构图的辐射束；
衬底支架，被构建用于支撑衬底；
投影系统，被配置用于把已构图的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；
附加支架；
柔性线路组件，被配置用于对电流、信号和流体中至少一项进行传送，所述线路组件具有在底座和所述附加支架之间延伸的第一部分，而且具有在所述附加支架和所述构图支架之间、或者所述附加支架和所述衬底支架之间延伸的第二部分；
第一电机组件，被配置用于产生沿至少一个方向的力，所述第一电机组件与所述构图支架和所述衬底支架之一相连；
第二电机组件，被配置用于产生沿所述至少一个方向的力，所述第二电机组件与所述附加支架相连；以及
多个传动装置，每一个传动装置被配置用于在在所述附加支架和所述构图支架之间、或者所述附加支架和所述衬底支架之间产生力，
其中，所述第一电机组件包括平面电机。
CN200710136721A 2006-07-25 2007-07-25 具有平面电机驱动支架的光刻设备 Expired - Fee Related CN100580560C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/492,215 US7675201B2 (en) 2006-07-25 2006-07-25 Lithographic apparatus with planar motor driven support
US11/492,215 2006-07-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101114129A true CN101114129A (zh) 2008-01-30
CN100580560C CN100580560C (zh) 2010-01-13

Family

ID=38461081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200710136721A Expired - Fee Related CN100580560C (zh) 2006-07-25 2007-07-25 具有平面电机驱动支架的光刻设备

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7675201B2 (zh)
EP (1) EP1882986B1 (zh)
JP (1) JP4922089B2 (zh)
KR (1) KR100902644B1 (zh)
CN (1) CN100580560C (zh)
SG (1) SG139665A1 (zh)
TW (1) TWI370957B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101807010A (zh) * 2010-03-19 2010-08-18 清华大学 纳米精度六自由度磁浮微动台及应用

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7538273B2 (en) * 2006-08-08 2009-05-26 Asml Netherlands B.V. Cable connection to decrease the passing on of vibrations from a first object to a second object
US7592760B2 (en) * 2006-09-11 2009-09-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP2249205B1 (en) * 2008-05-08 2012-03-07 ASML Netherlands BV Immersion lithographic apparatus, drying device, immersion metrology apparatus and device manufacturing method
US20100060106A1 (en) * 2008-09-10 2010-03-11 Hiwin Mikrosystem Corp. Linear planar servomotor with spare-mover standby area
US20100090545A1 (en) * 2008-10-09 2010-04-15 Binnard Michael B Planar motor with wedge shaped magnets and diagonal magnetization directions
US8492934B2 (en) * 2009-03-23 2013-07-23 Nikon Corporation Coil variations for an oval coil planar motor
NL2004680A (en) * 2009-07-06 2011-01-10 Asml Netherlands Bv Imprint lithography apparatus.
US20130255414A1 (en) * 2010-09-09 2013-10-03 Nikon Corporation Parallel Linkage and Actuator Motor Coil Designs for Tube Carrier
NL2010934A (en) * 2012-06-11 2013-12-12 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
WO2014063871A1 (en) * 2012-10-23 2014-05-01 Asml Netherlands B.V. Patterning device manipulating system and lithographic apparatuses
EP3557326A1 (de) * 2018-04-17 2019-10-23 Schneeberger Holding AG Positioniervorrichtung zum positionieren eines objektes innerhalb einer ebene in wenigstens zwei freiheitsgraden
AT523565A1 (de) * 2020-03-05 2021-09-15 B & R Ind Automation Gmbh Transporteinrichtung
US11480871B2 (en) * 2020-03-30 2022-10-25 Canon Kabushiki Kaisha Apparatus and method for improving accuracy of imprint force application in imprint lithography
US11776833B2 (en) * 2020-12-22 2023-10-03 Canon Kabushiki Kaisha Method for improving accuracy of imprint force application in imprint lithography
CN113643963B (zh) * 2021-06-30 2024-05-14 长江存储科技有限责任公司 3d存储器件的栅线缝隙图案化方法及曝光掩模

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3800616B2 (ja) * 1994-06-27 2006-07-26 株式会社ニコン 目標物移動装置、位置決め装置及び可動ステージ装置
US6222614B1 (en) * 1996-12-06 2001-04-24 Nikon Corporation Exposure elements with a cable-relaying support
JPH10223527A (ja) * 1996-12-06 1998-08-21 Nikon Corp 露光装置
US6262796B1 (en) * 1997-03-10 2001-07-17 Asm Lithography B.V. Positioning device having two object holders
TW479156B (en) * 1999-01-08 2002-03-11 Asm Lithography Bv Lithographic projection apparatus, method of controlling the position of a moveable table in a lithographic projection apparatus, integrated circuits device manufacturing method, and integrated circuits device made by the manufacturing method
US6144119A (en) * 1999-06-18 2000-11-07 Nikon Corporation Planar electric motor with dual coil and magnet arrays
TWI248718B (en) * 1999-09-02 2006-02-01 Koninkl Philips Electronics Nv Displacement device
TWI264617B (en) * 1999-12-21 2006-10-21 Asml Netherlands Bv Balanced positioning system for use in lithographic apparatus
US6437463B1 (en) * 2000-04-24 2002-08-20 Nikon Corporation Wafer positioner with planar motor and mag-lev fine stage
JP2002043213A (ja) * 2000-07-25 2002-02-08 Nikon Corp ステージ装置および露光装置
US6989887B2 (en) * 2001-06-06 2006-01-24 Nikon Corporation Dual force mode fine stage apparatus
JP3963426B2 (ja) * 2001-11-28 2007-08-22 キヤノン株式会社 ステージ装置および露光装置
KR100547943B1 (ko) * 2001-11-30 2006-02-01 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피장치 및 디바이스 제조방법
JP3676779B2 (ja) * 2001-12-11 2005-07-27 エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ リソグラフィ装置およびデバイスの製造方法
US6937911B2 (en) * 2002-03-18 2005-08-30 Nikon Corporation Compensating for cable drag forces in high precision stages
KR100523823B1 (ko) * 2002-06-13 2005-10-25 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피장치 및 디바이스제조방법
EP1372039B1 (en) 2002-06-13 2007-11-14 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20050128449A1 (en) * 2003-12-12 2005-06-16 Nikon Corporation, A Japanese Corporation Utilities transfer system in a lithography system
JP4586367B2 (ja) * 2004-01-14 2010-11-24 株式会社ニコン ステージ装置及び露光装置
US7253576B2 (en) * 2004-04-05 2007-08-07 Nikon Corporation E/I core actuator commutation formula and control method
JP2005327993A (ja) * 2004-05-17 2005-11-24 Canon Inc 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法
US7429845B2 (en) * 2005-04-16 2008-09-30 Nikon Corporation System and method for controlling a stage assembly
US7468589B2 (en) * 2006-01-13 2008-12-23 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus having a controlled motor, and motor control system and method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101807010A (zh) * 2010-03-19 2010-08-18 清华大学 纳米精度六自由度磁浮微动台及应用

Also Published As

Publication number Publication date
EP1882986A1 (en) 2008-01-30
KR100902644B1 (ko) 2009-06-15
TWI370957B (en) 2012-08-21
CN100580560C (zh) 2010-01-13
JP2008034844A (ja) 2008-02-14
JP4922089B2 (ja) 2012-04-25
US7675201B2 (en) 2010-03-09
TW200813655A (en) 2008-03-16
KR20080010322A (ko) 2008-01-30
US20080024741A1 (en) 2008-01-31
EP1882986B1 (en) 2013-09-04
SG139665A1 (en) 2008-02-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100580560C (zh) 具有平面电机驱动支架的光刻设备
US7292317B2 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating
KR102027589B1 (ko) 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
CN101840159B (zh) 光刻设备和器件制造方法
US7348752B1 (en) Stage apparatus and lithographic apparatus
CN102269935B (zh) 位移装置、光刻设备以及定位方法
CN102799072B (zh) 多平台系统、用于多平台系统的控制方法以及光刻设备
CN101713930B (zh) 光刻设备和洛伦兹致动器
KR20120091160A (ko) 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법
CN102799071B (zh) 包括衬底台的光刻设备
KR102022788B1 (ko) 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
KR20120031076A (ko) 이동체 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
KR20110033075A (ko) 액추에이터, 위치설정 시스템 및 리소그래피 장치
CN102736439A (zh) 平面马达和包括这种平面马达的光刻设备
JP5919395B2 (ja) 可動ステージシステム及びリソグラフィ装置
KR20120031075A (ko) 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
US20160154322A1 (en) Lithographic Apparatus and Device Manufacturing Method
NL2011336A (en) Method of calibrating a reluctance actuator assembly, reluctance actuator and lithographic apparatus comprising such reluctance actuator.
JP2013098355A (ja) 移動体装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP6862543B2 (ja) モータアセンブリ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法
JP2012531030A (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
KR20150003312A (ko) 이동체 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20100113

Termination date: 20150725

EXPY Termination of patent right or utility model