WO2005124832A1 - 露光装置 - Google Patents

Abstract

　オフアクシスの面位置計測装置の複数の計測点は、露光領域ＩＡを一重に囲むように枠状領域ＭＡに配置されている。このようにすれば、露光領域ＩＡに到達するウエハＷ上の領域は、この枠状領域ＭＡを通過するようになり、その領域が露光されるときには、その領域の面形状マップが作成されている状態となっている。したがって、その面形状マップに基づいて、ウエハＷの面位置を調整すれば、露光領域内にウエハＷの面位置を計測する計測点を配置しなくても、高精度な露光が可能となる。

Description

術分野

０００1 、露光 置に係り、さらに詳し は、投影 学系を介して を物体の 面上に照射する 置に関する。

０００2 来より、半導体 ( 積回路)、 の イスを製造する グラ ィ 程では、 スク又は ク ( 下、 ク 総称する)の タ ンの像 を、投影 学系を介して、 ジスト( )が 布された 又はガラスプ ト 等感光性の ( 下、 又は ウ 呼ぶ) ョッ 域に転写する 置が使用されて る。この種の投 としては、従来、ステップ・ アンド・ ピ ト 式の縮 ( わゆるステッ )が多用されて たが、 最近では とを同期 査し 光を行 ステップ・アン スキヤン 式の投 ( わゆるスキヤ ング・ステッ )も注目されて る。

０００3 この種の露 置を用 て 光を行 際には、デ ォ カスに起因する 良 の 生を極力 制するために、投影 学系の 向に関する の 置を、焦 点 ( ォ カス )により検出し、その 果に基 て、露光 ( 射される )に対応する の 面を投影 学系の 像面に 焦点 度の 囲内に合わ る、 わゆるオ ト ォ カス・ ベ ング 御を行 て る。 常、このよ としては、露光 域に対応する 上の領域 の 置を検出する 式の ( 下、 系 呼ぶ )が採用されて る( えば、特許 、 2等 )。

０００4 し しながら、上記 置にお ては、解像 を向上さ るため、投影 学 系の ( )数が大き な てきており、この 口数の に伴 て、投影 学 系と、ウ との間のワ キングディスタンスが短 な て るので、上記 系 の計 域に配置することが困難にな てきて る。

０００5 このよ 不都合を解決す 、最近では、露光 域に計測 を配置しな ク ス 式の Wの 置計測 置を備える 置も提案されて る( え ば、特許 3、4等 )。し しながら、この種の アク ス 式の計 置で は、実際の 域を計測することができな ので、ウ Wの 置のさらなる計 測 度の 上が望まれて る。

1 6 2834 3

2 5、448 332

3 54659

4 5、825 43

明の

題を解決するための

０００6 記事情の下になされた 、投影 学系を介して を物体の 面上 に照射する 置であ て、前記 体を保持して前記 学系の 軸に直 する2 内を移動 能なステ ジ 学系を介して前記

射される所定 域の 囲の な とも一部に配置された 数の を有し、 数の のそれぞれにお て前記 学系の 軸に関する物体の 報を計測する 置の 果に基 て、前記 体 の 報を算出する ステ ジの 報を計測する 2 置の 果と前記 2 置の 果とに基 て、前 記 域に対する物体の 置を制御する制御 を備える 置である ０００7 これによれば、投影 学系の 向に関する物体の 報を計測するため の 置の 数の 、投影 学系を介した 射される所定 域の 囲の な とも一部に配置されて る。そのため、物体上のある 域に対し 光を行 前に、その 域が、複数の による物体の 置を計測 能な 所 を必ず 過するよ になり、その 域の 報を必ず 出することができるので 、その 報に基 て、その 域を 光中に投影 学系の 像面に焦 点 度内で一致さ ることができるよ になる。この 果、高 度な 光を実現するこ とができる。

明の の 態に係る 置の 成を 略的に示す図である。 2(A 明の の 態に係る面 置計測 置の の 置を示す図 である。

2(B) 域の 部を拡大して 図である。

3 ステ ジws の 、 置計測 置の の との 係を示 す図である。

4 w上の計 象となる地点の 標を示す図である。

5面 置計測 置により 測を〒 ウ の 域を示す図である。

6(A ド時の ステ ジの 置の 例を示す図である。

6(B)サ チアライメント(又は アライメント)中の ステ ジの 置の 例を示す図である。

6(c)サ チアライメント(又は アライメント)中の ステ ジの 置の他 の例を示す図である。

7(A) 3 の における計測の 子を示す (その )である。

7(B) 3 の における計測の 子を示す (その2)である。

7(c) 3 の における計測の 子を示す (その3)である。

8(A ステ ジの 速度が大であるときの 布を示す図であ る。

8(B) ステ ジの 速度が小であるときの 布を示す図であ る。

9 置の を示す制御 ック図である。

1０ 明の 2の 態に係る面 置計測 置の の 置を示す図で ある。

11 域と w上の領域との 係を示す図である。

12(A) 象の 域が、露光 に向 に ステ ジws が移 動して る様子を示す (その である。

12(B) 象の 域が、露光 に向 に ステ ジws が して る様子を示す (その2)である。

12(C) 象の 域が、露光 に向 に ステ ジWS が移 動して る様子を示す (その3)である。

上の露 象の 域が、計測 域にまたが て位置して るときの 態を示す図である。

14(A) ～ A3で計測される 置によ て 成される平面を示す図 である。

14(B) 2で計測される 置の を示す図である。

14(C) ～ A3で計測される 置によ て 成される平面と領域 2で計測される 置の との差を示す図である。

上の露 象の 域が、露光 域に位置して るときの 態を示す図 である。

16(A) で計測される 置によ て 成される平面を示す図である。 16(B) で計測される 置によ て 成される平面の 域の 心 におけるZ 置を示す図である。

16(C) の 心における 定面 置を示す図である。

17(A) の 外の 点での 状の 果を示す図である。 17(B) の 外の 点における 光中の 定面 置を示す図で ある。

18 明の 2の 態における 置計測 置の 点の他の配 を 示す (その )である。

19ステップ・アンド・ ピ ト 式の露 置に適用される計測 の を示す 図である。

2０ 明の 2の 態における 置計測 置の 点の他の配 を 示す (その2)である。

21(A)面 置計測 置の 部の における計測の 子を示す図である。 2 B 2 ( に示される 置 ら ステ ジが所定 だけ 動した き の 部の における計測の 子を示す図である。 22 果の 続を模式的に示す図である。

23 成される ップの 例を示す図である。

24(A)面 置計測 置の 点の他の配 を示す図である。

24(B)面 状が計測された 域が、露光 域に到達したときの 態を示す図であ る。

24(c) 24( )に示される状態での 果を模式的に示す図である。

24(D) 24( )に示される状態での 果を模式的に示す図である。

25(A)面 置計測 置の 点の他の配 を示す図である。

25(B)面 置計測 置の 果の 続を模式的に示す図である。 26面 置計測 置の 点の他の配 ( )を示す図である。

27(A) 域が一部 り出して る配置 を示す図である。

27(B)面 置が計測された 域が 域に移動したときの 態を示す図であ る。

28(A) の を示す (その )である。

28(B) の を示す (その2)である。

29(A) の を示す (その3)である。

29(B) の を示す (その4)である。

3０(A) 域内に計測 域を配置したときの (その )である。

3０(B) 域内に計測 域を配置したときの (その2)である。

明を実施するための 良の

０００9 の

下、本 明の の 態に て ～ 9に基 て説明する。

００1０ には、 明の の 態に係る の 体構成が 略的に示 されて る。この は、ステップ・アン スキヤン 式の投 (ス キヤ ング・ステッ (スキヤナ)とも呼ばれる)である。

００11 この は、 源及び 学系を含み、 ネ ギ ビ ムとしての

( ) により を照明する と、 を保持する ク ステ ジ s と、 を介した照明 を wに投射する と、ウ Wが れる ステ ジWS と、これらの とを備えて る。

００12 は、例えば 2 3 325 ( 応する米国

2 3 2589 )などに開示されるよ に、 、オプテイカ インテグ タ等を含む 学系、ビ ムスプ ッタ、 ンズ、可変 イ タ、 ラインドで 定された 上のス ット状の照 域を照明 により ほぼ 一な 度で 明する。ここで、照明 としては、一例として キ ザ ( )が用 られて る。また、オプテイカ インテグ タとしては 、 ライアイ ンズ、 ッドインテグ タ( インテグ タ)ある は回折 子などを用 ることができる。なお、照明 を、例えば 6 3497 報及びこれに対応する米国 5 534 97 号などに開示されるよ と同様に構成しても良 。 国際 指定した指定 (又は選択した選択 )の 内法令が許す りにお て、上記 公報及び対応する米国 開明細書 米国 における 示を援用して木明細書の 載の 部とする。

００13 ク ステ ジ S は、 ク ベ ス上に、その 面に設けられ た ベア ングなどによ て例えば数 度のク アランスを介して浮 上 持されて る。この ク ステ ジ S 上には、 が、例えば

(又は静電 )により固定されて る。 ク ステ ジ S は、ここでは、 ア タ等を含む ク ステ ジ 動部 SC( では 、図9 )により、後 述する 学系P の Xに垂直なX 面内で2 元的に(X 、 向及びX 面に直 するZ りの 転方向(6z )に) 能であ るとともに、 ク ベ ス上を所定の 査方向にこでは、 における紙 面 向である 向とする)に指定された走査 度で駆動 能とな て る。 ００14 ク ステ ジ S の には 工が施されており、 ク ステ ジ S のステ ジ 動面内の 、その ビ ムを照射する ザ ( 下、 ク ) 6によ て投影 ット を構成する 4 面に固定された の を基準として、例えば ・ 5～ 度の 出されて る。 際には、 ク ステ ジ S 上には 向に直 する X 向に直 する とが設けられ、更にこれに対応してX 置計測 の 置計測 の とが設けられており、X 向 及び 向に関する ザ 、 では ク 6として 合して されて 。

００15 ク 6の ちの の をそれぞれ 計及び

X とする。 X の 方、例えば

2軸の干 であり、この の に基 き ク ステ ジ S の 置に加え z 向の 転も計測できるよ にな て 。なお 、例えば、 ク ステ ジ S 上に移動 を設けてその を上記 の わ りとしても 。また、 ク ステ ジ S の 査方向( の 態では )の 出に用 られるX 向に延びる の わりに、少な とも ナキ ラ ( えば ト クタ)を ても 。

００16 ク 6の 、主制御 2 に送られて 。 制御 2 は 、 ク 6の に基 ク ステ ジ 動部 SC( では 、図9 )を介して ク ステ ジ S を駆動制御する。

００17 ット は、円筒状の 4 と、 4 に保持された 数の

子 ら成る 学系P とによ て構成されて 。

００18 学系P としては、例えばZ 向の 通の A を有する複数の ンズ( ンズ メント) ら成る 学系が用 られて 。この ンズ メントの 、最も像面 に配置されて るのが ンズ9 である。この 学系P は、例え ば テ セント ック 学系で所定の ( えば 4f 又は 5f )を有 する。このため、照明 らの によ て の 域が 明さ れると、この を通過した照明 により、投影 学系P を介してその 域内の の えば回路 タ ンの ( タ ンの 部の )が、表面に ジスト( )が 布された W上に形成される。

００19 なお、 の 態の では、 を適用した 光が行われる ため、開口数 が実質的に増大することに ク 側の開口が大き なる。こ のため、 ンズのみで構成する 学系にお ては、ペッツヴァ の 件を満足 することが困難となり、投影 学系が大型化する傾向にある。 る 学系の を避けるために、 ラ ンズとを含んで構成される反射 (カタデイ プ ト ック系)を用 ても良 。

００2０ 学系P を構成する最も像面 (ウ W )の ンズ( 下、先 とも )9 の には、 ステム32を構成する ノズ 5 と、 ノ ズ 5 とが設けられて る。 ノズ 5 ノズ 5 とは、例え ば、 4 が支持された定盤に保持されており、その 端が、後述する ステ ジWS 対向するよ に配置されて る。 では、この ステム32を するため、後述するアライメント S、面 置計測 6 の 部を破砕して して る。

００21 ノズ 5 Aでは、その 端が、 3 ( では

、図9 )に接続された の に接続されており、前記 ノズ 5 では、その 端が、 3 ( では 、図9 )に接続された の に接続されて る。

００22 3 は、 タンク、加圧ポンプ 度制御 びに供 給 に対する 体の ・ 止を制御するための 等を含んで構成されて 。この としては、例えば 体の ・ 止のみならず、流量の 整も可能とな るよ に流量 を用

。 度制御 、 タンク内の液 体の 度を、露光 が収納されて る )内の温度と同 度に なるよ に調整する。

００23 3 は、 タンク ポンプ びに回収 を介した液体 の ・ 止を制御するための 等を含んで構成されて る。この として は、前述した液体 3 側の に対応して流量 を用 るのが望 。

００24 記の 体としては、ここでは、 キ ザ ( の )が透過 する ( 下、特に必要な場合を除 て、単に 記述する)を用 るものと する。 、半導体 場等で 易に大量に入手できる もに、ウ 上の ォト ジスト 光学 ンズ等に対する悪影響がな 点がある。また、 は環境に対する悪影響がな 、不純 の 有量が極めて少な ため、ウ W の 面及び 9 の 面をも洗浄する作用も期待できる。

００25 水の屈折率 は、ほぼ 44である。この水の中では、照明 の 、

X 34 に短波長 される。

００26 3 3 は、それぞれ ント うを具備し ており、それぞれの ント うは、主制御 2 によ て制御されるよ にな て る( 9 。 3 の ント うは、主制御 2 らの 示に応 じ、供給 に接続された を所定 で開き、 ノズ 5 を介して 9 Wとの間に水を供給する。また、このとき、 3 の ント うは、主制御 2 らの 示に応じ、回収 に接続された を所定 で開き、 ノズ 5 を介して 9 Wとの間 ら 3 ( 体のタン の内部に水を回収する。このとき、主制御 2 は、 9 Wとの間に ノズ 5 ら供給される水の量と、 ノズ 5 を 介して回収される水の量とが常に等し なるよ に、 3 の ント ラ 、 3 の ント うに対して指令を与える。そのため、 9

Wとの間には常に一定量の ( )が保持される。この 合、先 9

Wとの間に保持された は、常に入れ替わ て る。

００27 明 ら明ら なよ に、 の 態の ステム32は、上記

3 、 3 、供給 、回収 、 ノズ 5 ノズ 5 等を含んで構成された、局所 の ステムである。 なお、上記の 明では、その 明を簡単にするため、 ノズ ノ ズ とがそれぞれ ず けられて るものとしたが、これに限らず、例えば、国際 公開 99 495 4 ン に開示されるよ に、ノズ を多数 する構成を採 用することとしても良 。要は、最も像面 に配置された投影 学系P の 学部 ( )9 Wとの間に 体を供給することができるのであれば、その は なるものであ ても良 。

００28 なお、 9 W の間の間 、すなわちワ キングデイスタンスは、例えば 度であり、非常に狭 定されて る。 ００29 ウ ステ ジWS は、 に示されるよ に、投影 ット の 方に水平 に配置されたステ ジベ ス Sの 面に、その 面に設けられた 数の ベア ングを介して 触で浮上 持されて る。この ステ ジWS 上に、ウ ホ ダ7 を介して Wが真空 (又は静電 )によ て 定されて る。 ステ ジベ ス Sの z側の面( )は、その が非常に高 なるよ に加工 されており、この面が ステ ジWS の であるガイド とな て る ００3０ ウ ステ ジWS は、 ア タある は平面 タ等の駆 によ て X 2 内で駆動されるX ステ ジWS と、ウ を保持するZ・ ベ ングステ ジW とを備えて る。 Z・ ベ ングステ ジW は、X ステ ジWS 上 に同一直線上に並ぶことがな よ に配置された3 のアクチ タ4 ～4 C上 に設けられており、この3 のアクチ タ4 ～4 CのZ 向の 作によ り、Z 置及びX 面に対する傾斜を調整 能なステ ジである。 9にお ては、 X ステ ジWS をX 2 内で駆動する 、アクチ タ4 ～4 C とで構成される 、ウ ステ ジ 動部 SCとして 合して されて る。 すなわち、前記ウ ステ ジWS は、投影 学系P の における下方で、ウ ステ ジ 動部 SCによ て上記ガイド面に沿 てX 面 ( z )で駆動さ れ、Z 、 (x りの 転方向)、 ( りの 転方向)の3 向に微小 動される。

００31 ウ ホ ダ7 は、板状の 体部と、 体部の 面に固定されその 央に

Wの より ・ 径が大きな円形 口が形成された の プ トとを備えて る。この プ トの 口内部の 域には、多数の が配置されており、その 数の によ て Wが支持された状態で真空 着されて る。この 合、ウ Wが真空 着された状態では、その Wの 面 と補助プ トの 面との さがほぼ同一の さとなるよ に設定されて る。

００32 また、補助プ トには、その 部に 形状の 口が形成され、その 口内に基準 ク ( が 込まれて る。この ク板はその 面が、補助プ ト 同一面とされて る。この ク板の表面には、少な とも一対の アライメント用の第 ク 、これらの クに対して既知の 係 にある アク スアライメント系(後述するアライメント S の スライン の 2 クなどが形成されて る。

００33 ウ ステ ジWS のX 面内に関する 、Z・ ベ ングステ ジ W に固定された 7X に ビ ムを照射する ザ ( 下 、 ウ ) 8X によ て、例えば ・ 5～ 度の

出されて る。この 8X は、例えば 4 が支持された の 盤に り下げ状態で固定されており、投影 ット を構成する 4 の 面に固 定された の の を基準とする移動 7X の の 報 を ステ ジWS のX 面内の 報として計測する。

００34 際には、ウ ステ ジWS 上には、 3に示されるよ に、走査方向である 向に直 する反射 を有する 7 査方向である 向に直 する反射 を有するX 7Xとが設けられ、これに対応して、X 置計 測 置計測 ザ がそれぞれ けられて る。 ではこ れらが代表的に移動 7X 、ウ 8X として されて る。なお、例 えば、ウ ステ ジWS の 工して反射 ( 7X の に 相当)を形成しても良 。また、ウ 8X の 、X 置計測 ザ 計及び 置計測 ザ 、ともに す る であり、ウ ステ ジWS のX、 置の 、回転( イング

向の )、 、チング 9 向の )、 ング (6 向の ))も 計測 能とな て る。

００35 ウ ステ ジWS を構成するZ・ ベ ングステ ジWS2のZ 向に関す る 、ウ ザ ( 下、 ウ ) 8Zによ て、例 えば ・ 5～ 度の 出されて る。X ステ ジWS の X には、反射 ラ 66 66 がその が所定 度で に 向に延 されて る。ウ 8Zが、X 向に平行な2 の ビ ムを、 反射 ラ 66 に向けて 射すると、反射 ラ 66 は、その2 の ビ ムを反 射 ラ 66 に向けて反射し、反射 ラ 66 は、反射 ラ 66 で反射された 光を Z側に反射する。 ラ 66 で反射した2 の ビ ムの ちの 方 のビ ムは、例えば、 4 を支持する定盤にX 向に水平に延 された参照 29Zに達し、他方のビ ムは、Z・ ベ ングステ ジW の 面に設けられた反 射 ラ 67に達するよ に設定されて 。 29 、反射 ラ 67で反射した ビ ムは、その を逆行して(すなわち ラ 66 66 を経て)、ウ

8Zに戻るよ になる。したが て、ウ 8Zにお 、参照 29Zで 反射した ビ ムを参照光とし、反射 ラ 67で反射した ビ ムを計測光とす れば、Z・ ベ ングステ ジW のZ 向の 位を検出することが可能となる。 ００36 の 態では、投影 学系P の 方の Wの との 間を往来する間でも、ウ 8Zが ステ ジWS のZ 置を常に タできるよ に、参照 29ZのX 向の さが規定されて 。これにより、Z・ ベ ングステ ジW のX 置に関わらず、ウ ステ ジWS のZ・ ベ ングステ ジW のZ 置を常に 8Zによ て検出することができる。 ００37 8X 8Zで計測された ステ ジWS の (又は速 度情報)は、主制御 2 に送られて 。 制御 2 は、ウ ステ ジ S の (又は速度情報)に基 、ウ ステ ジ 動部WSC( 9 ) を介して ステ ジWS のX 面内及びZ 置を含む6 向の 置を制 御する。特に、ウ ステ ジWS のZ、 6 向の 御に ては、主 制御 2 が、ウ ステ ジ 動部 SCを構成するアクチ タ4 4 4 Cを協調 作さ ることによ て実現される。

００38 ット の 側には、オ アク スのアライメント Sが、 4 を 支持する の 盤に支持されるよ に設置されて 。このアライメント

Sとしては、例えば、ウ W上の ジストを感光さ な ド ンドな検出光束 を対象 クに照射し、その ク らの 射光により に結像された対 象 クの と不 の 標の とを (CC )等を用 、それらの 号を出 する画像 理方式の ( ed mageA gnmen)系のアライメント センサが られて 。このアライメント Sの 、主制御 2 に送られる。 ００39 置計測

の 態では、投影 学系P を囲むよ にして 置計測 6 が設 けられて る。なお、 置計測 6 は、投影 学系P を囲まずに、 ノ ズ 5 、 ノズ 5 を囲むよ に構成してもよ 。この 置計測 6 は、投影 学系P の 方に ステ ジWS 上の Wが 置して るとき に、投影 学系P の Xの (Z )に関する Wの 置を計測 能な 数の を有して る。 2( )には、この 数の の が示 されて る。なお、 2( )では、X と平行なX を設定し、このX の 点を投影 学系P の A の 置に設定して る。

００4０ 2( )では、投影 学系P の 9 に対応する部分、すなわち 学系P の P が一点 で示されて る。その P 内に、X の 点、 すなわち 学系P の A を中心として、 上の回 タ ンの 影像が形成される が示されて る。 は、ステップ・アン スキヤン 式の露 置であるので、露光 では、スキヤン 向である 向の幅が短 な て る。この は、照明 を構成する ラ インド( ラインド)によ て 定されて る。

００41 は、局所 の 置であるため、露光の際には、露光

を、 で全面的にカ して る。 2( )では、 で される 、投影 学系P の P の 部の 域だけをカ して るが、投影 学系P の P を で全面的にカ するよ にしてもよ 。

００42 面 置計測 6 の 、投影 学系P の A を中心とし、 9 の

P の 側に、 ( X 、 ( X 、 ( X 、 ( X )を 点とする 形の 上(すなわち の )に、所定の 隔で配置されて る。 この の ( )を とし、所定の 隔を とする( 2 ) )。こ の は、非常に短 間隔とな て るため、 2( )では、この 数の 点 ら成 る計測 を連続的な領域とみなし、 で示して る。 2 )では、

( X ) 近の の 部が示されており、その 部に含まれる計測 が何 されて る。ここでは、計測 内に形成された計測 をそれ ぞれS ( ～ )とする。すなわち、 の 態では、ウ Wの 置を 計測する 置計測 6 の 数の Sが、露光 を、X 面内で実 質的に囲むよ に配置されて る。

００43 この の は、任意の さとすることができるが、投影 学系P の

度と Wの 験的な との 係とに基

。面 置 計測 6 における Sでの Wの 置の 出原理は、任意の 理 を適用することができるが、 射光を用 た検出方法を採用する場合には、例え ば 54659 報に開示されて るものと同じとすることができるので、 詳細な説明を する。なお、本国際 指定した指定 (又は選択した選択 )の 内法令が許す りにお て、上記 報及び対応する米国 における 示を 援用して木明細書の 載の 部とする。

００44 の 態では、この 置計測 6 を用 て、上記 に 配置された 数の Sに一致する Wの 点の 置を計測する。 3に は、 置計測 6 の と、X 、すなわち ステ ジ との 係を示す図が示されて る。 3に示されるよ に、ウ ステ ジ S ( における移動 7X を構成する移動 7X 7 )には、ウ 8 X ら、 向に所定 隔離して配置されたX軸に平行な2 の ビ ム X X2と、X 向に所定 隔離して配置された 軸に平行な2 の ビ ム 2とが 射されて る。

００45 ビ ム X X2は、光軸A を通りX軸に平行な 線に対し、線対称に配置 されており、 ビ ム 2は、光軸A を通り 軸に平行な 線に対し、線 対称に配置されて る。したが て、 の 態では、 ビ ム X X2 により 測されるX との ステ ジWS のX とし、 ビ ム 、 2により 測される 置の ステ ジWS の とすることが できる。

００46 すなわち、露光 にお ては、ウ 8X によ て ステ ジ WS の 置が計測されるが、 の 態では、ウ ステ ジWS の 置が(X )であるときに、投影 学系P の A に一致して る W の ( )の 標を(X )とし、 置計測 6 により 測されるその (X )における WのZ 向に関する 置をM(X )とする。すなわ ち、M(X )とは、ウ ステ ジWS のX 置が(X )であるとき、光軸A 上 にある W上の地点の 置の を意味して る。

００47 ただし、 置計測 6 は、オ アク スの 置であり、投影 学系P の

X らX 向に X、 向に の セットを有する計測 の 置を計測するよ にな て る。 の 態では、これらの セットを考慮し て、ウ Wの 地点の 置を計測する必要がある。

００48 えば、これらの 置計測 6 の 隅にそれぞれ 置された計測 、 X における( X )に位置する計測 に対応する Wの 、ウ ステ ジWS がX 向に X、 向に だけ 動したときに、 光軸 X上に位置する地点である。したが て、この では、ウ ステ ジWS のX 置が(X )に位置して るときに、X における (x x )での Wの (X X )が計測されることとなる。

００49 様に、ウ ステ ジWS のX 置が(X )に位置して るときに、X

における( X )に位置する計測 では、X における (

1

X X )での Wの (X X )が計測されることとなり、 ( X )に位置する計測 では、X における (X X )で の Wの (X X )が計測されることとなり、 ( X )に する計測 では、X における (X X )での Wの (X X )が計測されることとなる。

００5０ したが て、全体的に見れば、この 置計測 6 は、ウ ステ ジWS の X 置が(X )であるときに、 (X X )～(X X )を結ぶ線分、 ( X X )～(X X )を結ぶ線分、 (X X )～(X X

)を結ぶ線分、 (X X )～(X X )を結ぶ線分に対応する4 上 の Wの 置を所定の で配置された 数の で計測することにな る。

００51 4には、ウ Wの 域を所定の で 子状に 切 た時の様子が示 されて る。なお、 4では、格子を図 するために、所定の を拡大して して るが、この 、実際には、ウ Wのサイズに対しても と細 定されて る。 の 態では、主制御 2 は、この 子を構成する 線の 点に 対応する Wの 点にの 点の 標を( )( 2 ・‥)とし、この ( )とする)が、 置計測 6 の に一致したときの Wの 置の 果を用 て、ウ Wの ップを作成する。

００52 また、 の 態では、これら 置計測 6 の 数の の ち の な とも の Wの ( )が一致して るときには、その でその ( )の面 置の 測を〒 。 Sが地点( )に対応し て る 否 は、ウ 8X によ て計測される ステ ジWS のX 置によ て判断すればよ 。

００53 また、主制御 2 は、ウ 8X で計測された ステ ジWS の X 置が図5に 線で示されるよ な にあるときに、計測 S 一致する W上の地 ( )の面 置の を有効 として取得する。この は 、 ずれ の 点 ら Wの に相当する距離 内となる範囲である 。ウ ステ ジWS のX 置がこの 内にあれば、ウ Wの 心がこの 内に位置するよ になるので、 5に点線で示されるよ に、面 置計測 6 の 数の の ちの な とも の Wの 面を捉えることが できるよ になり、主制御 2 は、面 置計測 6 のその での 果 を Wの 置の として取得することができるよ になる。

００54 なお、 5に示される Xは、アライメント Sの 野の (

)を示して る。 5に示されるよ に、アライメント Sの ( ) Xは 上記 内に位置して る。このことは、アライメント Sにより、ウ W上 の ク等を検出する場合でも、 置計測 6 の 数の の ちの な とも の Wの 置を計測 能であることを意味して る。

００55 制御 2 は、 CP ( 央演算処理装置)、メインメ 、記憶装置等 ら成る わゆる イク ンピ タ(又はワ クステ ョン を含んで構成され、こ の P によ て所定のプ グラムなどを実行することにより、 9に示されるよ に、 体を統括して制御する。すなわち、この 制御 2 の 理により、ウ W の 状の 、ウ ステ ジWS の が実現される。

００56 次に、露光 における 作に て説明する。なお、前提として、 ク ステ ジ S 上に がすでに され、 アライメント、 スラ イン の 定の 備作業が完了して るものとする。このよ な で は、まず、ウ ステ ジWS 上に露光 象となる Wを ドする。この

Wは、 わゆる アウ ではな 、すでに一層 上の ョッ 域が形成された であるものとする。この 際には、 6( )に示されるよ に、ウ ステ ジWS が、ウ ステ ジ 動部 SCを介した主制御 2 の 御の 、投 影 学系P の 方 ら、 側にある Wの 置に移動し、その 置で、ウ Wが ダにより される。この 置にお ては、ウ Wの 、 5の の 側に位置して るものとする。すなわち、 ウ ド時に、ウ Wは、面 置計測 6 の (

の )に位置して る。

００57 て、主制御 2 は、ウ Wを吸着 持した ステ ジWS を、ウ ステ ジ 動部 SCを介してアライメント Sの 方に移動さ 、サ チア ライメント アライメントなどを行 。このサ チアライメント 、ウ アライメ ントの 、例えば、 6 44429 報及びこれに対応する米国

4 78 6 7 に開示されて る。このサ チアライメント アライメント では、アライメント Sを用 て、ウ W上に形成された各種アライメント クのX における 報を検出する。この 出のために、その クが付設 された 数の ョッ (サンプ ョッ )を、アライメント Sの 方に位置 さ る 、ウ ステ ジWS を、例えば 6 )、 6 C 示されるよ に、順次 移動さ る。なお、本国際 指定した指定 (又は選択した選択 )の 内法 令が許す りにお て、上記 報及び対応する米国 における 示を援用して 木明細書の 載の 部とする。

００58 の 態では、このサ チアライメント又は アライメント中にお て、 可能であれば、 置計測 6 により Wの 置計測を〒 。 えば、 6( )に示されるよ な位置に ステ ジWS が 置して るとき、すなわち、ウ Wの 心が、 5の 内にな ときには、 置計測 6 の Sに 対応する 置に Wが存在して な ので、ウ Wの 置計測を行わな 。 6(C)に示される 置に ステ ジWS が 置して るとき、すなわち Wの 心が、 5の 内にあるときには、 置計測 6 の 数の の ちの な とも の Wが対応して るので、その

Wの 置を計 する。

００59 このよ に、 置計測 6 は、サ チアライメント アライメント中にお て、複数の の ちの な とも の W上の地 ( ) 一 致して る場合には、その を有効 として Wの 置を計測する 。すなわち、ウ Wが ドされて ら 光が開始されるまでの間、ウ ステ ジ WS がX 面内を移動するので、ウ W上の地 ( )での面 置が、 置計測 6 の 数の なる計測 で計測されることとなる。 えば、 7( )には 、計測 に連続的に配置された3 の S S S が模式的に示さ 。・1 。・2

れており、その下には、計測 S S。 S が計測する W 面の 部の

・1 。・2

図が示されて る。 来、計測 S S。 S の下に Wの 面があるが、便宜 ・1 。・2

、図7( )～ 7(C)のよ に示して以下、説明する。この 合、面 置計測 6 は、計測 S S S に一致する

。 Wの 面上の地 ( )の面 置を計 ・ 2

するが、ここで、計測 S 一致する Wの 面上の地点を ( )とする

A A

( )は、ウ Wの 面上の地 ( )の中の の 点である。次

A A に ステ ジWS が、紙面 側に距離 だけ 動すると、計測 S

。 に位置して ・2

W上の地 は、計測 S。 に位置するよ になる。 置計測 6 は このときにも計測 S S S での・ Wの 置を計測する。ここでは、地点 。・1 。・2

の面 置が、計測 S

。 で計測される。そして、さらに ステ ジWS が紙面 ・1

側に距離 だけ 動すると、計測 S に一致して た地点 は、計測 Sに するよ になる。 置計測 6 は、このときにも計測 S S。 S での ・1 。・2

Wの 置を計測する。ここでは、地点 の 置が、計測 Sで計測される。 ００6０ このよ に、ウ ステ ジWS が紙面 側に 移動すると、地点 は、計測 S 、S 、S さ

。 で計測される。すなわち、地点 に代表 れるよ に、ウ Wの 面上 ・2

の 地点( )の面 、ウ ステ ジWS の 動により、 置計測 6 の なる計測 で複数回 測される。したが て、 の 態では、主制御 2 にお て、ウ ステ ジWS の 動に伴 て Wの 面上の地 ( )に一致することとな た 数の で計測される計測 を考慮して、その ( )の面 置を算出する。

００61 そこで、 の 態では、主制御 2 が、所定の ( )で計測され た Wの 置の ( )に対し、その が得られたサンプ ング を示すカウンタを付与し、サンプ ング で計測された 置の 、 ( )とする。 えば、 7( )～ 7 C 示される、計測 S 、S 、 S

2 で計測 された地点 での 置の 、 ( ) ( ) ( )となる。

A A 2 A A 3 A A ００62 また、 の 態では、ウ ステ ジWS が静止 である 動中であ る に わらず、 置計測 6 により Wの 置を計測する。このよ 場合、ウ ステ ジWS が静止 である場合の 、ウ ステ ジWS が移動中である場合の とでは、その に含まれる 差の 向が異なり、 その 頼性が変動するよ になる。 の 態では、このよ 計測 件によ る計測 の 頼性をも考慮して、ウ Wの 置の 測を行 。

００63 の 態では、ウ Wの ( )の 態に依存する信頼 性を、c ( )とする。このc ( )の 範囲は、O c ( ) とし、最も信 性が高 ときの値を とする。 制御 2 では、面 置計測 6 によ て Wの 面上のある地点( )での面 ( )が計測されたときの 件に応じて 頼性c ( )の値を設定する。この 頼性c ( )としては、その 時の ステ ジWS の 速度に応じた値を設定することができる。 え ば、計測 ステ ジWS の 速度が であるときには、その の 頼性を とし、その 速度が最大であるときには、計測 の 頼性を最小とす ることができる。

００64 8( )、 8( )には、ウ ステ ジWS の 速度と、計測 の 頼性と の 係の 例が示されて る。この 8( ) 8 )には、計測 に生じる 布を示す 数が示されて る。 8( )では、ウ ステ ジWS の 速度が比較的 き であるときの に生じる 差 の 布が示され て る。 8( )では、ウ ステ ジWS の 速度が比較的 さ である ときの に生じる 差 の 布が示されて る。 8( ) 8 示さ れるよ に、計測 に生じる 差 は正規 従 て発生するとみなすことができ るが、ウ ステ ジWS の 速度が大き なるに れて、その 差の に おける標準 大き な て る(a a )

００65 そこで、 の 態では、信頼性c ( )を、ウ ステ ジWS の

速度に応じた誤差 の 布の に応じた値とし、c ( ) a とする。 えば、ウ ステ ジWS の 速度が である場合には、信頼性。 ( ) 2

を、 a とし、ウ ステ ジWS の 速度が である場合には、

2

頼性c ( )を、 a とする。なお、 の 態では、ウ ステ 」 ジW S の 速度が に近 に れて、このc ( )の 頼性の 数の が に近 て よ になり、その 速度が のときに になるよ に設定されて るものとする。

００66 なお、計測 の 差が正規 従 て発生する場合には、計測に要した計測時 間(すなわち W上の地 ( )を えて た時間)に基 値を、 信頼性c ( )として ても良 。すなわちこの 測時間が長ければ長 ほど、 その の 頼性は増し、短ければ ほどその 頼性は減少するので、その 測時間に応じた 頼性c ( )を設定すればよ 。

００67 なお、ウ ステ ジWS の 速度と計測 の 差との間に、 8( ) 8 ( )に示されるよ 正規 限らな 特定の 係が見出 るのであれば、その 係に基 て、上述したよ なものとは別の方法で、計測 の 頼性c ( )を 設定することも 能である。

００68 7( )～ 7(C)に示される計測の 例を参照して、主制御 2 における、ウ

Wの 面上の地 ( )の面 ( )の 出方法に て説明する。 まず、 7( )に示されるよ に、サンプ ング のときに、面 置計測 6 の S で地点 の 置が計測され、その が主制御 2 によ て 得される。この ( )となる。こ

A A の 点では、地点 の はまだ し 測されて な ため、 ( ) ( )とする。 の 態

A A A A で は、ここで、地点 の の 頼性の C ( )も

1 A A あわ て 出する。C (

A

) C ( )となる。 出した ( )と、信頼性の C ( )と A A A A A は、

A A

示の記憶装置に 納される。

００69 次に、 7( に示されるよ に、サンプ ング 2にお て、 置計測

6 によ て計測 S で地点 の 置の が計測され、主制御 2 によ 。

てその が取得・されたとする。ここで、カウンタ は インク メントされて 2とな ており、この 、 ( )となる。

2 A A

００7０ この 点では、計測 S 2で計測された地点 の ( )と

A A 、計測 S 計測された地点 の ( )とが

2 A A 得られたことになる。 制御 2 は、 これまでの での の み付け 、地点 の ( )と

2 A A して 出する。 に対する重みは、その の 頼性C ( )(

A A 2)を る。したが て、ここでは、

と

して 出する。

００71 なお、記憶装置に実際に記憶されて るのは、面 ( )と、こ

A A A れまでの C ( )

A Aの C ( )

A Aであるが、上述のよ に、 (

A A A A AA

Aで あり、C ( ) C ( )であるため、ここでは、記憶装置 ら ( )の

A A A A A A

C ( ) を読み出して C ( ) ( ) C ( ) ( ) A A A A A A A 2 A A (C ( ) C ( ) 地 )

A A 2 点 の ( と

A A 2 A A して 出すればよ 。 、ここでは、計測 の 頼性の C ( ) C ( ) C ( )も

2 A A A A 2 A A 出して お 。 出された

の として 示の記憶装置に 納してお 。

００72 次に、 7(C)に示されるよ に、サンプ ング 3のときに、面 置計測

6 の Sで地点 の 置が計測され、主制御 2 によりその が取 得されたとする。この ( する。この 点では、計測 S で計測さ

3 A A 2 れた地点 の (x )と、計測 S で計測さ

A れた地点

A の 2 A 、計測 Sで計測された地点 の ( )とが

A 3 A A 計測されて るので、

) )と

A 相当する値を、地点 の (

3 A A して 出すればよ 。ただし、記憶装置には、 2の の み付け

のみが記憶されて るので、 C (

2 A A ) ( ) C (

2 A A 3 A ) ( ) (C2( ) C ( ) 、地点

A A A 3 の

A A

( と

A して 出すればよ 。また、主制御 2 は

)

を算出する。 制御 2 は、 出さ A れた

( )

を、

A A の 憶装置に 納する。

００73 このよ に、 の 態では、複数の なる計測 で計測されたその (

)での ( )のその 測の際の信頼性C ( )に基 重み付け 値を、その 点での ( )とする。

００74 Wの 面上の各地点( )の み付け 均値 ( )は、 算によ 出することが可能である。すなわち、その 点での ( )は、前回 までに算出された ( )と、それまでの 頼性の C ( )と、今回 測された ( )と、そのときの 頼性C ( )と ら、 のよ に求め られる。

００75 1 C C x， )

， ・‥㈹

C ， C また、C ( )は、 のよ になる。

００76 2 C， C c 2) なお、サンプ ング で、地点( )が計測 と一致して な 場合には、記 憶装置に 納されて る、その 点での ( )は計測されな ので、格納 された ( 、信頼性の C ( が、そのまま、 ( 頼性の C ( )となる。 ００77 なお、 の 態では、 置計測 6 により 測が行われて る間に は、Z 置が常に一定で、 ング 、ピッチング が常に となるよ に、ウ ステ ジWS の 御が行われて る。そのため、主制御 2 では、このよ な ステ ジWS のZ 置、 考慮することな 、ウ Wの 置を計測 することができるよ にな て るものとする。また、上述した例では、サンプ ング 、ウ ステ ジWS が計測 の だけ 動するよ にな て るが、 実際には、ウ ステ ジWS の はまちまちであり、サンプ ング 、隣 接する計測 でその 点の 置を計測することができるわけではな 。 制御 2 では、 W上のどの 点を捉えて る 否 を、サンプ ング 、ウ 8X の (X ) ら判断する必要がある。

００78 の 態での Wの 状の 出方法に てまとめる。 制御

2 は、ウ Wの 心が図5の 線に示される範囲 に位置しており、 、 4 の ( )と、面 置計測 6 の 数の の ちの な とも の とが一致して る場合には、ウ W上の表面を捉えて る計測 を有効 とし、 置計測 6 によ て計測された、その における Wの 置を取得する。そして、主制御 2 は、その 、ウ Wの 面上のどの ( えば )に一致して る を、ウ 8X の (X )と、計測 Sの とに基 て き出す。そして、 き出された地 点( )が、すでに 置が計測された地点である 否 を判断し、まだ 置が 計測されて な 地点である場合には、その 点での ( )、計測の 頼性の C ( )をそれぞれ して、上記 ( )、 (2)を計算して、その 点での ( )、計測の 頼性の C ( )を算出し、すでに 置が計 されて る地点である場合には、その ( )での面 ( )、計測の 頼性の C ( )を、 の 憶装置 ら読み出し、読み出した値を用 て ( )、 (2)を計算し、その ( )での面 ( )、計測の 頼性 の C ( )を算出し、 の 憶装置に 納する。

００79 なお、 の 態では、ウ W上の同 点の 置を 数回 測する こととなるが、これまでに算出された ( )と、今回の 置の ( 何ら の 因、例えば W上の回 タ ンにより 射された検出ビ ムの 形により、Z 置計測 果を誤 て認識する だまされや、完全に排水されな た の 溜り などで大き 異なる場合には、今回の 置の ( )を ジ クするよ にしても良 。 えば、今回 測された 置の ( )と、前回までのこの 点の み付け 均値 ( )との差が所定 以上とな て る場合には、その ( )を ジ クすることができる。

００8０ また、 の 態では、実質的に連続とみな る間隔で配置された 数の 、ウ Wの 地点の 置を同時に計測するが、同時に計測された 数の なる計測 でそれぞれ 測される計測 、互 に近 値となると予想され る。 て、その に対して所定の イ タ ング 理を施して同時に計測さ れた 数の なる計測 の の を〒 よ にしても良 。

００81 また、 の 態では、ある計測 で所定のサンプ ング 隔で Wの 置の 数回の 測を〒 が、この で計測された 列の 、所定 の イ タ ング 理を施して平滑 するよ にしても良 。

００82 また、ウ ステ ジWS の 度が非常に高速であると、サンプ ング 期中 に、ウ W上のある地点( )が複数の なる計測 にまたが て移動し、それ らの で計測される場合もある。この 合には、そのサンプ ング でのその ( )の面 置の 、例えばそれらの での の 均値など としてもよ 。

００83 なお、 置計測 6 による Wの 置の 測では、アライメント

Sによる ク 時などの ステ ジWS が静止して るときの 置計測 6 の での 置の 、最初の とするのが望まし 。このよ にすれば、ウ Wの 地点( )の面 ( )が、ウ WS の 動の 響を受けな 真の値に収束する時間( 時間)を短縮するこ とができるよ になる。

００84 キヤ ョン

述したよ に、面 置計測 6 は、複数の S～Sを備えており、その 数の S～Sで、ウ Wの 面上の任意の ( )の面 置を計測 する。し しながら、 における ( )は の にそれぞ れ 応する変位センサの 性に応じてばら ものである。したが て、その セ ンサ間の出力の のばら き(オ セット)を補正する、 わゆる (キヤ ョン)を行 必要がある。 下では、この 方法に て説明する。

００85 の 態では、上述したよ に、 Sで、ウ Wの 面上の各地 点( )の面 置を計測し、その の 頼性の み付け 均により、ウ W の 面上の各地点( )の面 置を算出して る。この 方法では、ある地点( )での、その にの S (sは ～ の ずれ )とする)のみの 果 ら られる 他の計 で計測されたその 点での 置の を含むその 点でのす ての 果 ら られる とを 較して、その での 報を検出する。

００86 えば、主制御 2 は、計測 で計測された Wの 面上の任意の

( )の ( )( えば での ( )

A A 取得し、その の 頼性( えばc ( ))とに基 て、 を用 て、計測 Sのみで 測された地点 の 置を算出してお 。

００87 3 C cs

3

C ， c ) なお、C ( )は、 で示されるよ に、 目の Sでの 頼性c ( )の C ( )である。

００88 4 C C + 4 述したよ に、ウ Wの 面上の地 ( )の面 ( )は、ウ テ ジWS の 動により、 置計測 6 の 数の なる計測 での

( )の み付け 均であるので、この ( )は、その 置の 測を た 数の でのセンサ 力のばら き(オ セット)が平均 された値とな て る。したが て、この 方法では、この 数の なる計測 で計測された Wの 面上の地点の ( )を基準とする、上記 (3)によ て検出され る、ある計測 Sでの 定の ( )での面 ( )の イアスに基 、その Sの を補正する補正 を算出する。すなわち、計測 Sの の を、 を用 て 出する。

００89 5 C x， x

5

C ここで、 として る。すなわち、計測 Sの の は、その ０

点で計測された Wの ての 点における、その での のみで 出された ( )と、他の計 を含む 数の で計測された地点( )の面 ( )との の み付け 均に応じて決定される。 ００9０ なお、上記 (5)によれば、補正 の ( )の ての での は 常に となり、計測 の 体が トすることはな 。

００91 すなわち、主制御 2 では、 置計測 6 の で計測された計測 、この で補正する。このよ にすれば、 置計測 6 での 数の での センサ 力のばら きを計測する特別な動作を〒 ことな 、 ウ Wの 置の 測を行 て 過程で ョンを実現することができ る。 て、ス プット的に有利であるとともに、ウ Wの 置の 、上 記キヤ ョン 算を随 〒 ので、 センサ 力のド トにも対応 することが可能となる。また、 置計測 6 のす ての するよ 大 有し、平坦 が極めて高 基準 を設け、 置計測 6 のす ての 、この の 置を計測することにより、計測 での 置の 果に基 て セットを計測するなどの 業が不要となるので、そのよ 基準 ステ ジWS 上に設ける必要がな なり、 ドウ アの 約が減ると 果もある。

００92 も とも、このよ 基準 の 置を 数の で計測することにより、 、 セットを求めてお よ にしても わな 。 ００93 なお、 の 態では、 置計測 6 の ての ～ によ て 計測される Wの 面上の地点があれば、その 点だけの (すなわち、 所定の Sで計測されたその 点の 置の 、全体の で計測 されたその 点の 置の )における イアスの み付け 均 ら、上記 を求めるよ にしても良 。

００94 の 態では、このよ にして、計測 センサ 力の セットを検出 し、それらの 対関係を求めて るので、投影 学系P の 像面に対する 置計測 6 の ョンを〒 際には、面 置計測 6 の 部の との ョンを行えば、投影 学系P の 像面と、 置計測 6 のす ての での ョンを行 たことと同じとなる。

００95 なお、 の 態では、 置計測 6 の センサ 力の ョンを行 たが、ウ ステ ジWS の 減速に伴 ステ ジWS 体の ( )に関する ョンを〒 よ にしてもよ 。 体的には、 ウ ステ ジWS の 速度が所定の きさである場合、面 置計測 6 の 定計測 Sでの Wの 面上の所定の ( )の面 置の 、 ウ ステ ジWS の 速度が である場合のその での Wの 面上の同一地点( )の面 置の との に応じた値を、その 速度 における 置の の とするよ にしても良 。

００96 の 態では、このよ にして、 置計測 6 の の 力差 の ョンを 、 の 力のド トの 響を ンセ し 、 ウ Wの 面上の複数の ( )の面 ( )を算出し、ウ Wの ップ(すなわち、計測 ( )における ( )の )を作成して 。そして、実際にスキヤン 光を〒 場合には、この ップに基 て、ウ Wの 面が投影 学系P の 像面に焦点 度内に入るよ に、ウ ス テ ジ 動部 SCを介して ステ ジWS を制御する。 体的には、主制御 2 は、ウ 8X の f X ) ら、露光 に対応する W 面上の地点での 状を、 ップ ら抽出して、抽出された 状に 応じた指令 を作成し、その 、ウ ステ ジWS の 御を〒 に対する ィ ド オワ ド とする。この では、この ィ ド オワ ド に基 て ィ ド オワ ド 御が行われ、アクチ タ4 ～4 Cに対する電流 令が作成される。アクチ タ4 ～4 Cは、その 令に基 てそれぞれZ・ ベ ングステ ジW を駆動し、結果的に、ウ W上の露 、投影 学系P の 像面に焦点 度内で一致するよ に 制御される。なお、ウ Wの 御を〒 光中にお ては、ウ

。 8Zによ て計測されるZ 置を一定とし、ウ 8 によ て計測される 、チング 、 ング をOにするステ ジ 御を行わな ものとする。 ００97 なお、このスキャン 光中には、主制御 2 の 御の 、前述した構成を有す る ット32により、露光 に対する の 給が行われて る。 ００98 なお、この ィ ド オワ ド 御を〒 際にも、面 置計測 6 の 数の

により Wの 置の 測を〒 ことができることは までもな 。し しなが ら、露光中にお ては、干渉 の による ステ ジWS のZ 置、 一定にする制御は行われて な ので、ウ 8X 8Zによ て計測 される ステ ジWS のZ 置、 考慮して Wの 置を計測する 必要がある。

００99 また、 の 態では、露光中には、事前 測された Wの ッ プのみを用 て、ウ Wの 置の 御を行 たが、露光中に、 置計測 6 の 部の によ て Wの 置を計測し、この 、 測さ れた ップ のずれに基 て、露光 に対応する Wの 置 を推定し、その 定面 置を用 て、ウ Wの 置を制御するよ にしてもよ 。また、この 光中の 置計測 6 の に対しても、その の 頼性 に応じた重み付けを〒 にしてもよ 。

０1００ 上 細に述 たよ に、 の 態によれば、 置計測 6 にお ては、投影 学系P の Xの 向に関する Wの 置を計測するため の 数の (S～S )が、投影 学系P を介した タ ン像が形成される を実質的に囲むよ に配置されて る。そのため、ウ W上のある 域に 対し タ ンを転写する場合には、その 、ウ Wの 行方向に関わらず、 面 置計測 6 の 数の によ てその 置を計測 能な場所を必ず 過するよ になる。これにより、主制御 2 では、その 域の 前に、その 域の 状を必ず めることができるよ になるので、露光 の Wの 置を直接 ずとも、投影 学系P の 度内に、その 域を合わ ることが できるよ になる。この 果、高 度な 光を実現することができる。

０1０1 また、 の 態では、主制御 2 は、ウ ステ ジWS の 動に伴 て 置計測 6 の 数の なる計測 Wの 面上の所定の ( )の面 置を計測し、さらに、計測が行われたときの 8X の (X )に基 て Wの 面上のどの 点を捉えて 判断し、ウ Wの ップにおけるその ( )での面 ( ) を算出する。このよ にすれば、ウ W 面上の所定地点( )の面 置を、複 数の なる計測 で計測することができるので、 の でのセンサの 力の ばら きなどに関わらず、統計 に見て 当な面 置を算出することができる。その 果、高 度な Wの ップを作成することができる。

０1０2 また、 の 態では、主制御 2 は、ウ W 面上の所定の 点で の 置計測 6 の 果のその 頼性に基 重み付け 均値を、ウ Wの ップにおける所定地点( )での Wの ( )として 出する。このよ にすれば、例えば、その が得られたときの 件に関わ らず、 置を 測することができる。

０1０3 また、 の 態では、計測 の み付け 算出するが、この

、過去の をす て記憶して な ても、上記 み付け 算を実行する ことができる。したが て、過去のす ての を記憶してお 必要がな なるため 、記憶装置の 憶容量を削減することできる。

０1０4 また、 の 態では、 置計測 6 の 数の の ちの な とも の W 面上の所定の ( )が一致して る場合には、 その での Wの 報の 測を行 。このよ にすれば、ウ Wの 置の だけの 程を特別に行わな ても、ウ Wの 定地点がたまたま の に位置して れば、その 定の ( )での面 置の 測を〒 ことが できるので、ス プ、 的に有利である。また、同じ 点の 置を 数回 測す るので、統計 に見て 当な面 置を算出することができる。

０1０5 特に、面 置計測 6 は、ウ W上に形成された クの 報の 出の 、すなわちサ チアライメント アライメントの 測の際に、ウ ク等の位 報をアライメント Sで検出するときにも、ウ Wの 置 の 測を行 。このよ にすれば、ス プ、 を低下さ ることな 、ウ Wの 状を事前 測できるとともに、ウ ステ ジWS が静止した状態での 果に 基 て Wの 置を 測することができる。特に、サ チアライメン ト アライメントの 測の際に ステ ジWS が静止した状態で、ウ Wの 置の 測を開始すれば、信頼性が高 計測 を面 置の の とすることができるので、 出される 置の を高めることができる。 ０1０6 なお、 の 態では、ウ ステ ジWS の 速度と面 置計測 6 の 差との 接な関係が既知である場合には、その 差で、 置計測 6 の での を補正するよ にしてもよ 。

０1０7 また、 の 態では、ウ Wの の 置も事前に計測して るの で、 を する際にも、 度な オ カス ベ ング 御を〒 こと ができる。

０1０8 2の

次に、 明の 2の 態に て 等に基 て説明する。 2の 態に係る は、面 置計測 6 における複数の の 置 及び Wの 報の 出及び ベ ング 御方法が上記 の 態 と異な ており、以下では、 の 態に係る 異なる点を中心に説明 を行 。

０1０9 には、面 置計測 6 における計測 の 置が示されて る。 に示 されるよ に、 2の 態では、 置計測 6 の 数の 、露光 の 囲を三重に囲むよ に配置されて る。すなわち、複数の 、露 光 を囲む の 域としての 、 の 側を 2の 域としての 2、 2の 側を囲む 3の 域としての 3とにそれぞれ 置されて る。 3 にお て、計測 、 2( )、 2( )に示される計測 同様に、所定 で を 重に囲むよ に配置されて るが、 2は、ある 程度の幅を有しており、その 2内にお ては、計測 ト クス状に 等に配置されて る。 2にお ては、計測 の 異な て ても良 。なお、ここで、 域とは、その枠で囲まれる 形の 域ではな 、その枠で囲まれる 域の の 域を意味するものとする。

０11０ また、 2の枠の幅は、露光 の きさに対応して る。すなわち 、露光 ら見て、 2の X 、 x側に位置する辺のX 向に関する幅は、露光 のX 向の 上とな ており、露光 ら 見て、 2の 、 側に位置する辺の 向に関する幅は 、露光 の 向の 上とな て る。すなわち、 2は、露光 を基準とするX 面内の 意の 向で、 2のその 向に関す る大きさが、露光 のその 向に関する大きさ 上となるよ に設定されて 。このよ に 定することにより、ウ ステ ジWS が ずれの 向に移動しても、 露光 に到達する W上の領 、その 前に、必ず 2 内に含まれるよ になる。

０111 に示されるよ に、露光 の 心 ら 、 2(その枠の 中央を通る中心 )、 3までの 、それぞれX 向にa a2 a3、 向にb b2 b3とな て る。このa a2 a3に関しては、a2 2・a a3 3・a と なるよ に 定されており、距離b b2 b3に関しては、b2 2・b b3 3・b とな るよ に 定されて る。これらの 係により、 ～ 3

との間に次のよ 関係が生ずる。

０112 には、 A 3の 部にまたがり、 同じサイズ の W上の枠 W が点線で示されて る。 示されるよ に、 W を A 3の 部にまたがるよ に配置した場合、

W の 、 の 上の頂点及び 2の 上の辺 の 部と一致するよ に 定されて る。すなわち、 の 点に配置さ れた 置計測 6 の にお て W上の枠 W 上の地点の 置を計測することができるよ になり、 3の 上の辺の 部に ある計測 にお て W 上の地点の 置を計測することができるよ に なる。

０113 また、 に対する の 係と同様の 係となる、

W に対する 仮定する。 では、この 、一点 で示されて る。 示されるよ に、 W を 3の 部にまたがるよ に配置した場合、領域 、 2内に完全に収まる よ になる。このことは、 W を、 示される 外で、

、 3の 部にまたがるよ に配置した場合でも同様である。すなわち、 W を、 3の 部にまたがるよ に配置すれば、領域 、 2内に含まれるよ になる。 換えれば、 2の 態では、

2の 部と とを重ね合わ た場合に、 3の 部の ( 直線上にな 少な とも3 の )が、 W の と重なるよ に複数の が配置されて る。

０114 ( )～ C)には、領域 、ウ ステ ジWS の 動により

に移動する様子が示されて る。

０115 ( )に示されるよ に、 3の 側に位置して た W上の領 、矢印で示される ステ ジWS の 動により、紙面 方向の に向 て進む。すると、 点線で示されるよ に、ウ W上の領 、計測 の 2の 部と一致するよ になり、ウ W上の枠 W が、 3の 部にまたがるよ 位置( 示される W )に位置するよ になる。

０116 そして、ウ ステ ジWS のさらなる移動により、ウ W上の領 、 2 C 示されるよ に、露光 に到達し、 W上の枠 W とが一致するよ になる。

０117 このよ に、ウ W上の領 、ウ ステ ジWS の 動により、 に至る前に、 W 、領域 ～ 3を必ず 過す るよ になる。 2の 態では、 W 、

2 3を通過する際に、 W 対的な面 置 の 係を計測し、その 果 ら、領域 、露光 に到達したときの Wの 置を制御する。 下では、その 御方法に て説明する。 ０118 3に示されるよ に、ウ W上の枠 W が、 3に て位置して るときに、その W 上にある計測 の 合に含まれる計 測 S とする。 3では、計測 S 、 の 上の頂点にある 計測 ( S とする)と、 3の 辺にある計測 ( S とする )と、 3の 辺にある計測 ( S )とが、代表的に示されて る。 このときの 心点の 標を( )としたときの、それぞれの S ～S 標をそれぞれ( ( (

2 2 3 )とする。

０119 4( )には、この Wの 置の の 例 が、模式的に示されて る。この S S S Wの 置の

)とする。 4( )には、この3 の S S S での 置の ( ( ( )

3 によ て 定される、平面P( ( ・ ) 示されて る。

０12０ 4( )には、ウ W上の領 心に対応する 2の

で計測された Wの ( )が示されて る。また、 4(C)では、この

( )と、その 点での の ( )が示されて る。この ( 、 )は、 で表される。

０121 6 T x け

x ) 2の 態では、平面 を算出して、上記 (6)を用 て ( )を算出し、 その S S S ( ， ( ( )とともに、この ( )を、 の 憶装置に 納してお 。

3 3

０122 ステ ジWS がさらに移動し、 5に示されるよ に、ウ W上の枠

W が 一致した場合を考える。 の の 合 をS とする。 制御 2 は、このときの の 心の 標を( ) としたときに、 の 、 標がそれぞれ( (

)

となる計測 S 、S 、S を探索

3 3 3 する。そ 2 2 し

、 置計測 6 ら送られて る計測 S 、S 、S での Wの ( ( ( )を取得

2 2 2 3 3 3 す 。 6( )には、この3 の S 、S 、S での面 置の によ て 成される Wの ( ( ) 示されて る。

2 は、これら3 の S 、S 、S での より、この を 算出する。

０123 、 は、ウ W上の3 の 一の 点で計測された Wの 置の であるので、露光 の 心における Wの 置を推定しよ とする 場合には、この を重ね合わ て考えれば良 。 体的には、 を用 て 、ウ W上の領 心における平面 らの ( )を平面 に加算すれ ば、その値が示す 置を Wの 置の 定値とすることができる。

０124 7 ""x xy y ) x ) 7) 6( )には、このときの の ( )における平面 ( )の値が 示されて る。この 合、図 6(C)に示されるよ に、この の ( ) における平面 ( )を基準として、 ( )が加算されることにより、露光 の ( )における Wの 置が推定される。

０125 なお、 2の 態では、ウ Wの ベ ング ため、露光

の ( )の 置だけでな 、露光 内の他の地点における Wの 置も推定する。 ( )には、露光 の4隅の点の ( A A )に対応する計測 での ( A A )が示されて 。 制御 2 では、 を用 て、ウ W上の領 点における平面 計測 ( A A )との ( A A )を算出し、 の 憶装 置に 納する。

０126 8

， ) ( Ax P x +y 8 )には、平面 ( A A )を基準として、この 内の地 ( A A )における ( A )が加算され、露光 の ( A A )における Wの 定面 置の 例が示されて る。 ０127 制御 2 では、露光 1 の 他の3点に ても、上記 (8)を 用 て、ウ Wの 置の 定を 、露光 の 心及び W の 定された 置が投影 学系P の 像面に焦点 度内で一致するよ に 、ウ ステ ジ 動部 SCを構成するアクチ タ4 ～4 Cを駆動すること により、ウ W(ウ ステ ジWS )のオ ト ォ カス・ ベ ング 御を行 。 ０128 なお、 2の 態では、平面 の 出を 3 の での より める のよ に説明したが、実際には、4 以上の計 を用 て平面 、 を算出 するよ にしてもよ 。この 合には、それらの の 果に基 て、統計 ( えば最小二乗 似などの 法により) を求めるよ にしてもよ 。こ れは、 ( ) ( A A )に基 て、露光 に対応する W の 定面 置を算出する場合も同様である。

０129 上 細に述 たよ に、 2の 態によれば、 置計測 6 の 数 の 、露光 を三重に囲 ており、その 重に配置された計測 により Wの なる 置での 置を同時に計測することができるので、ウ Wの 面の3 元的なデ タを取得することができる。したが て、上記 の 態とは 異なり、ウ ステ ジWS の 性が比較的 てその みが大き 、ウ

8X 8Zの の 、 置計測 6 の 、すなわち Wの 面との 係の 動が無視できな 場合であ ても、ウ Wの 状を 測することができる。 ０13０ また、 2の 態によれば、 置計測 6 の 数の 、露光 の 側を囲む と、 の 側を囲む 2 と、 2の 側を囲む 3とにそれぞれ 置されて る。そし て、露光 を基準とするX 面内の 意の 向で、 2のその 向に関するサイズが のその 向に関するサイズ 上であり、

2の 部と とを重ね合わ た場合に、

3に含まれる同一直線上にな 少な とも3 の 、 の と重なるよ に、面 置計測 6 の 数の が配置されて る。このよ に すれば、露光 に到達する W上のある 辺の3 元的な面 状を、

2 3の の 果 ら めてお ことができる ので、現在の の で計測された Wの 置の 値 ら 、露光 に一致する W上の領域の 置を推定することができる。

０131 なお、 2の 態にお ても、面 置計測 6 の 果を、計測の際 の ステ ジWS の 速度や、計測に要した時間などの 頼性を考慮して補 正するよ にしてもよ とは である。 えば、ウ W上の同 点を、複数の なる計測 で計測する場合には、その の 頼性に基 重み付け 均に よりその 点の 置を算出することが可能である。

０132 なお、 2の 態では、 3の の 隔を同じ としたが、例えば、計測 の 置を図 8に示されるよ なものとすることもできる。 8では、 3における計測 、 と黒 とで示されて る。すなわち 、この例では、 3の の 度が とな ており、実質的に連続 でな 立するよ に配置されて る。このよ 配置であ ても、露光

2の 部と重ね合わ た場合に、同一直線上にな 上の少 な とも3 の とそれぞれ一致する、 3上の 少な とも3 の が存在するよ になる。この 点 らすれば、さらに、 8に で示される計測 することができる。し しながら、 の 、 3 同じよ に疎に配置することは望まし な 。ウ ステ ジ WS の 動方向によ て、平面 を算出するための が変動するので、 内では、計測 を実質的に連続に配置してお ほ が望まし 。

０133 また、 9に示されるよ に、露光 が、ステップ・アンド・スキヤン 式でな 、一括 光を〒 ステップ・アンド・ ピ ト 式の露 置であ た場合には、露光 が大面積となるため、 2の幅をさらに広げる必要がある。

０134 このよ に、露光 1 を三重に囲むよ に複数の を配置することによ て、 ウ Wの 状を先読みして、ウ の 御を〒 ことが可能であるが、こ のよ な計測 の 、 変形が可能である。 2 には、その の 置の が示されて る。この 置では、2 目に大き 2で は、その きさが が完全に含まれるよ な大きさとはな ておらず、

3 同様に、露光 を一重に囲むよ に、計測 が配置されて る。このよ にすれば、計測 が配置されて る 域の 小さ することができ るので、面 置計測 6 を小型 、 ドウ アの 約を低減 することができ る。

０135 X 向に関し、露光 の 心を基準として、 までの 離をa とし、 2までの 離をaと

2 し、 3までの 離をaと

3 する。また 、 向に関し、露光 の 心を基準として、 までの 離をb とし、 2までの 離をbと

2 し、 3までの 離をbと

3 する。この 合、a～a、b～bの 係を次 のよ に 定する。

０136 9 o

[12] 9) すなわち、X 向に関して 接する 域の であり、 向に関して 接する 域の とな て る。また、X 向に関する の 心 ら までの aは、 の 数倍に 定されており、 向に関する の 心 ら までの bは、 の 数倍に 定されて る。

０137 このよ に配置された 数の の 、ウ ステ ジWS の 動に伴 、上 記 の 態と同様に、ウ Wの ( ・ ・)が計測 に一致して る場合に は、その ( )の面 置を計測する。この 点で同時に計測される W の 数の 点の 置の をそれぞれ ( )とする。 制御 2 は、こ のよ にして同時に計測された 数の ( )の面 置の ( )を の 憶装置に 納する。

０138 ただし、上記 の 態とは異なり、少な とも4 の にお て、同時に

Wの 置を計測 能でな 場合には、主制御 2 は、その 、ウ Wの 状の 出には な こととする。 3 の し 同時に得られな た場合には、後述する計測 果の 続を行 ことができな らである。 えば 、 2 に示されるよ 計測 の 置の 合では、領域 3の 辺の 、領 域 2の な とも の とで、ウ の 置の 測が可能とな た時点 で計測を開始するよ にすれば、必ず4 以上の計 の 置の を得るこ とができる。

０139 2 ( )、 2 ( )には、複数の ちの ～ 3の 部 が拡大されて され、領域 ～ 3に てそれぞれ 3 ず され て る。 2 ( )では、ヴ ステ ジWS がある 置に位置して るときに、領域 ～ 3の3 の にお て計測された Wの ( )が で 示されて る。これらの 点の 標を( )(は、 自然数)とする。 制御 2 は、この で示される地点の 置の ( )を、 の 憶装置 に 納する。 22には、この 置の ( )によ て 成される面の 例 が示されて る。

０14０ この 、ウ ステ ジWS が 向に だけ 動したとする。 2 ( )では、 ウ ステ ジWS の 動後に、 ～ 3の3 の にお て 計測される W上の地点がXで示されて る。この 点を( とする。 制 御 2 は、これらXで示される地点の 置の ( )を、記憶装置 に 納する。

０141 なお、 2 ( )では、 2 ( )で計測された地点( )を、そのまま丸で示して る。 22( )に示されるよ に、ウ ステ ジWS が計測 が配置された

向の だけ 向に移動して るので、丸 X の 方で示され る地点がある。すなわち、地点( )と、地点 との中には、共通の 点が存 する。し も、これらの 、直線上にな 少な とも3 の 点を含んで る。 そこで、 2 ( )で計測された地点( )の面 置の 果と、 2 ( )で計 測された地点( )の 置の 果とを接続し、 の 置の 果と して連結することができる。 22では、 2 ( )に示される地点( )での

( )によ て 成される面と、 2 ( )に示される地点( )での ( )によ て 成される面とが模式的に示されて る。 22に示されるよ に、 地点( )と、地点( )の ちの 通の 点にお て計測される 置の が同じになるよ に、例えば、 成される面に、 X点で 成される面を合 わ ることによ て、それらの を形成することができる。

０142 このよ に、ウ ステ ジWS の 動に伴 、同一地点の 置が、複数の なる計測 で計測されることになるので、同一直線上にな 少な とも3 の 点で の 果がある場合には、それらの 果を接続し、連結することができる。こ の 続の られる連結 Wの ップとすれば、計測 が配置さ れた 域を通過した Wの 域の ップを作成することが可能となる。 ０143 この ップを作成する際の、主制御 2 の 順に て説明する。

制御 2 では、同時に計測された4 以上の Wの 置の 果を 取得した場合には、記憶装置に、少な とも3 の な地点での 置の 果を含む ップがすでに 納されて る 否 を調 る。そして、主制御 2 は 、そのよ ップがな 場合には、今回 得された計測 果の 合にれを ッ プとする)を新たな ップとして記憶装置するが、少な とも3 の な地点での 置の 果を含む ップが存在した場合には、その ップを読み出し、その ッ プ 今回 得された 、さ ップとを接続し、その 続により作成された Wの ップを記憶装置に 納する。

０144 23には、このよ 計測 果の面の接続により作成された Wの ッ プ ( 、 ( )の 例が示されて る。 2 の ップ ( )、 ( )の 地点のX軸及び 向の 、計測 ～ 3のX 軸及び 向の に依存する。このよ に、仮に、ウ W 面を面 置 計測 6 により 測すれば、幾 の ップを作成することができ、それら の面 ップは、結果的に、計測 ～ 3の間 によ て 定 される ップとなる。

０145 また、 23には、面 置計測 6 の も示されて る。 23で は、領域 で計測される地点が、 ップ ( )でな 、 ップ ( )に対応して るので、主制御 2 では、面 ップ ( )を記憶 装置 ら読み出し、この ップ ( )を用 て、ウ Wの 置を推定 し、その 置の オ カス ベ ング 御を行 。ウ Wが移動し、計測

に対応する地点が、 ップ ( ) 点となれば、今度は、 記憶装置 ら面 ッ ( )を読み出して ればよ 。

０146 なお、この 合にも、 置計測 置の 、露光 を囲むよ に配置 されて るので、ウ ステ ジWS の 行方向に沿 て ッ ( ップ) を接続して ことができる。 て、ウ ステ ジWS の 行方向に関わらず、 露光前に、露光 象の Wの 置を必ず 定することができるよ になる。 ０147 なお、この の は、 ければ さ ほど、 置計測

6 のサイズを 、さ することができるので ドウ ア 成上 利であるとともに、 きめ細 な ップを作成することができるよ になる。し しながら、上述した小 さ ップの 続により ップを作成して 方法では、その 続による 差 が 積して ことも考えられるため、これらの 差の 値なども考慮して計測 域の 離を決定するのが望まし 。

０148 上述 たよ に、 2０に示されるよ 計測 置を有する 置計測 置で は、ウ ステ ジWS の 性に関わらず、ウ Wの 状を 測する ことができる。 故ならば、ここでは、同一直線上にな 3 の の を用 て、計測 士の 続を行 て ップを作成して るため、上記ウ ステ ジWS のZ 置、 、チング 、 ング量を考慮する必要がな らであ る。

０149 し しながら、 ップを求める際に、ウ ステ ジWS の 、チング 、 ング量が制御されており、ウ ステ ジWS (Z・ ベ ングステ ジWS2の であることとすれば、 置計測 6 の 数を削減することも可能 である。

０15０ 24 )には、このよ ケ スで可能な面 置計測 6 の の 置が示 されて る。 24( )に示されるよ に、面 置計測 6 の 数の 、露 光 の 囲を二重に囲むよ に配置されて る。すなわち、複数の 、 露光 を囲む の 域としての 、

側を囲む 2の 域としての 2 とにそれぞれ 置されて る。

2にお ては、計測 、 2( に示される計測 同様に 、所定 で 列に配置されて るが、 、ある程度の幅を有して るため、その 域内にお て、複数の ト クス状に 等に配置されて る。 での の でな ても良 。

０151 また、 の枠の幅は、露光 の きさに対応して る。すなわ ち、露光 ら見て、 X 、 X側に位置する辺のX 向に関する幅は、露光 のX 向の 上とな ており、露光 ら見 て、 、 側に位置する辺の 向に関する幅は、露光 の 向の 上とな て る。すなわち、 、露光 1 を規準とするX 面内の 意の 向で、 のその 向に関する大 きさが、露光 のその 向に関する大きさ 上となるよ に設定されて る。この よ に 定することにより、ウ ステ ジWS が ずれの 向に移動しても、露光 に到達する W上の領 、必ず、 内に同時に含まれ るよ になる。

０152 24( )には、 2 部と一致し、 同じサイズの

Wの W が太 点線で示されて る。さらに、この

対する の 係と同様の 係を、 W に対し する W上の領 仮定する。 24( )では、この 、細 点線で示さ れて る。 24( )に示されるよ に、領域 とを重ね合わ た ときに、 W が 部と一致するよ になる。このことは、 領域 、 24( に示される 外で、 部に含まれるよ にした場合でも同様である。すなわち、領域 、 部に一致 するよ に配置すれば、 2 上の計 、 部の と一致するよ になる。

０153 したが て、ここでは、 24( )に示されるよ 位置に 置して ると きに、 2 上の計 点及び 内に含まれる 一 致する計測 での Wの 置を計測する。 24(C)には、

上の計 Sでの ( )が示されて る。 制御 2 は、 心に対応する 内の計 での 置の ( ) を取得し、 ( )と ( )との ( )を求める。

０154 24( )には、ウ W上の領 に移動したときの 子が示さ れて る。 制御 2 は、 24(C)に示される計測 を計測した計測 S に対 応する 上の計 S を探索し、計測 での 置の ( を取得する。そして、主制御 2 は、この ( を ( )に加算することにより、露光 の 心の Wの 置を推定するこ とができる。

０155 25( )には、計測 の 置の が示されて る。この 置では 、内側の の 、露光 A 体をカ する大きさとはな ておらず、 の 2 同様に、露光 を一重に囲むよ に計測 が配置されて る。

０156 X 向に関し、露光 の 心を基準として、 までの 離を" とし、 2までの 離を"2とする。また、 向に関し、露光 の 心を基準として、 までの 離をb とし、 2までの 離をb2とする。"は"2 a の 数倍、b はb2 b の 数倍の 係 なるよ に 定されて る。

０157 数の をこのよ に配置しても、ウ ステ ジWS (Z・ ベ ングステ ジ W )の であることが保証されて る場合には、計測 果の 続を〒 こと により、ウ Wの ップを作成することができる。 えば、 25( )に示され るよ に 少な とも の 一地点の 報を含む2 の 果が存在する 場合には、その 点における2 の を一致さ ることにより、それぞれの 果を接続することができる。

０158 また、上記 態では、ウ Wの ップを作成するための W の 置を計測する計測 置が、投影 学系P の 野を囲むよ に配置された 数の を有する 置計測 6 のみであ たが、その他に、ウ Wの 置を計測する計測 置を備えて ても良 。 えば、アライメント Sを囲 むよ に複数の が配置された計測 により Wの 状を計測する計測 置を備え、露光前に、その 置で Wの 状 を計測するよ にしても良 。この 合には、投影 学系P の 野を囲む 置計 測 6 の 、 26に示されるよ にすることもできる。これによれば、 置計測 6 の 数の 、露光 を中心として、放射 8 だ け 置されて る。他の計 置で、すでに Wの 状を計測し、 、プを作成して れば、 置計測 6 の に対応する地点の 、 露光 に一致する地点の 置の 係が既知となるので、露光 、 置計測 6 の で計測される Wの 置の 果 ら、露光 一致する Wの 置を推定することができ、ウ Wの 面を、投影 学系P の 像面に焦点 度内で合わ ることが可能となる。 に対 応する Wの 置の 定方法は、上記 2の 態における 置の 定方法と同じとすることができる。

０159 ころで、ステップ・アン スキャン 式の露 置にお ては、スキャン (

)には の幅が短 ため、この 向の ベ ング 度が非スキャ ン 向に比 な 場合もある。したが て、この 合には、露光中に、X 向 に関する Wの 置の ベ ング 御を行 だけとすることもできる。

０16０ 27( )には、このときの 置計測 6 の の が示されて る。

27( )に示されるよ に、これらの 、露光 を実質的に囲む の 上に配置されて る。この は、スキャン ( )に沿 た計測 が形成された2 の ( 2とする)と、X 向に沿 た計測 が形成された2 の ( A A 2とする)とで、露光 を、実質的に囲んで る。 2は、露光 の 心を基 として、X 向に関し、距離aの 置にそれぞれ されており、領域

X2は、露光 の 心を基準として、距離bの 置にそれぞれ されて る。

０161 この 置における Wの 状の 測及び面 置の 法に て説明 する。 27( )では、次の露 象の ョッ S が点線で示されて る。すな わち、ここでは、 ョッ S を するために、領域 X X2の の 果に基 て、ウ Wの ップを作成する。

０162 なお、この が A 2のX 向の さは、2a (a a)であり、 軸に 対し、線対称に配置されて る。この が A 2の 心の 置を( ) とすると、領域 が 、 A 2の の ( )は、 a a a a) となる。

０163 27( )に示される状態では、 ョッ S の 部が、領域 が 上にあるの で、その 部の 置を、その が 上にある複数の によ て計測する ことができる。 27( )では、その が 上にあり、 ョッ S の 部で、 露光 の 心を通過する W上の点が黒 で示されて る。また、この点 ら、X 向に距離aだけ離れた X 上の2 の点が、 で示されて る 。 制御 2 は、この で示された計測 での Wの 置の ( )と、 で示された2 の での Wの 置の j ( 、 ( a )とを取得し、 を計算する。

０164 1０ T x x x ) ０ すなわち、主制御 2 は、 で示される計測 での 置の 、 で示される計測 での 置の の との ( )を算出する。

０165 なお、露光 に一致する 面のX 向の ベ ング 御を行 ため、 で示される ( ) ら、X 向にA だけ離れた地点での 置も計測して おき、 を用 て、その での 置の ( A )と、 で示され る計測 での 置の の との ( A )も 出してお 。 ０166 11 T x ) fx x 1 ０167 そして、ウ ステ ジWS の 動により、計測された W上の領域が、 27 ( )に示されるよ に、露光 に差し掛 たとする。 制御 2 は、このと き ( ) 置が 同じである 2上の計 での Wの 置を計測し、その の 均に、 ( ) ( A )を加算する ことにより、それぞれの ( 、 ( A )での Wの 置を推定し、こ の 定面 置を用 て、ウ Wの 置のX 向の ベ ング 御を行 。 ０168 様に、ウ ステ ジWS の 行方向が 向であり、 ョッ S が に対し、 向 ら 入して る場合には、計測 A 2にお て 、 ョッ 域内のX 向に関する 状を計測するよ にすれば、上述 同様な Wの 御を実現することができる。

０169 ころで、この 置では、露光 の 心 らの のX軸に平行 な までの bを、スキヤン ステ ジWS の より なる よ に 定して る。このよ にすれば、 ョッ 域を走査 する際に、ウ ステ ジWS をその 置に位置さ た状態で、露光 象の ョッ S を、計測 の 部に位置さ ることができるよ になるので、領域 X A 2の ずれ で、 ョッ S 内での Wの 置のX 向の 必ず 測できるよ になる。

０17０ また、例えば、複数の ョッ 域を交互スキヤン( えば、ウ ステ ジWS を 向に走査してある ョッ 域をスキヤン した後に、隣接する ョッ 域を 、ウ ステ ジWS を 向に移動してスキヤン する方法)する際には、ウ ステ ジWS が、加速 始後には、露光 に対し、斜め方向 ら侵入し て る場合もあるが、計測 が A 2は、X 向に拡張されて るので 、その ョッ 域を確実に えることができ、その ョッ 域内の WのX 向の 状を計測することができる。

０171 また、このよ に A 2をX 向に拡張しておけば、 ョッ S のスキヤン 光中に、 ョッ S に隣接する ョッ 域での 状も事前に 計測してお ことができる。特にa aを ョッ 域のX 向の と同じにしておけ ば、隣接する ョッ 域全体の 状を事前 測してお ことが可能である。その 味では、a 大きければ大き よ 。なお、このよ 事前 測を行 合にも、上 記 の 態と同様に、計測 の 頼性などを考慮するよ にすることができる ０ 72 また、領域 2 平行に、これらの 域と同じよ 、 置を計測 能な計測 域を、 間隔に3 ( 端に3 ず で 6 ) すれば、 上記 2の 態と同様に、 向の Wの 置の ベ ング 可 能となる。

０173 なお、上記 、 2の 態では、露光 を完全に囲むよ に、計測 S ～Sを配置したが、 はこれには限られな 。 えば、 28( )、 28( )に 示されるよ に、露光 を挟んで対向する2 の 上に、計測 を配置するよ にしてもよ 。 28( )に示される配置 では、X( 下、Xとする) 向に延びる 計測 が、露光 ら見て、スキヤン (すなわち Wが移動 する方向)である ) 向の (すなわち、露光 を挟んで、その

)にそれぞれ 置されて る。また、 28( )に示される配置 では、 向に延びる計測 が、露光 ら見て、X 向に露光 を 挟むよ に、その X 、 x側にそれぞれ 置されて る。

０174 このよ に、計測 S～Sを、 28( )、 28( )に示されるよ に配置しても、上 述した実施 態と同様に、 置計測 置の 果 ら Wの ップ を作成することできるのは である。なお、 2( )の 照らし合わ る と、 28( )、 28( ) される計測 、 ( 2( )での

)の4辺の 、対向する2辺に配置された計測 であるとみなすこともできる。 ０175 また、 29( )に代表して されるよ に、 ( 2( )での ) の4辺の 、 3辺に計測 を配置するよ にしてもよ 。なお、 29( )に示される よ に露光 の 、 、 側に計測 を設けるのではな 、露光 の 、 、 X 、露光 の 、 、 X 、露光 の 、 X 、 x側に計測 を設けてもよ とは である。 ０176 さらに、別の例として、 ( 2( )での )の4辺の 、互 に する2 の 上に、計測 を配置してもよ 。

０177 また、 29( )に示される例では、露光 に対する ( )側に計測 、 向に 間隔に配置された3 のX 上に配置して る。 の 側に計測 を配置したのは、この 向に、アライメント系 Sの Xが 置しており、アライメ 作が行われる間に、露光 の 、 X 、 X側に計測 を配置するよりも、 Wの面を捉える確率が 高 ためである。なお、このことは、露光 の 、 X 、 X側に複数の を配置することを妨げるものではな 。また、計測 列の数は、3 より多 てもよ 、 でも2 でもよ 。 の 、 間隔でな てもよ 。

０178 また、上記 、 ずれもワ キングディスタンスが短 、投影 学系P の に一致する Wの 置を直接 測することができな 場合に て説明したが、これらの 域に位置する Wの 置を直接 測す ることができる場合には、 3 ( )、 3 ( )のよ に複数の を配置すること もできる。

０179 3 ( )では、X 向に延びる5本の計 域が設けられて る。この5 本の計 域をそれぞれ ～ 5とする。このよ にすれば、例えばスキヤン 中の ステ ジWS の 行方向が 向であ た場合、例えば、領域

2 3でそれぞれ Wの 置を計測し、計測 3で の 果に対する計測 2での 果の 対的関係を検出してお 。 そして、この 状が計測された Wの 域が計測 2 3 に進むよ になると、前述の 果の 対的関係と、このときの 2 4の 果とを用 て、領域 3に対応する、すなわち に対応 する Wの 置を推定することができるよ になるので、その 果に基 て、 置を調整することができる。

０18０ なお、 3 ( に示される配置では、 端の 域を除 3本 の配 2～ 4は、露光 象の ョッ S に隣接する ョッ S 、 S をカ するよ に、X 向に延長されて る。このよ にすれば、次に 象となる ョッ S S に対応する Wの 状を、 ョッ S の 光中に計測することができるよ になる。 3 ( )に示されるよ に、ウ 8X 8Zの 果を考慮すれば、領域 3だけが 接する ョッ 域をカ するよ にな て ても良 ことは である。

０181 なお、上記 態では、 の 、す ての 方形の

であ たが、これには限られず、露光 域を実質的に囲んで ればどのよ 形状の枠であ てもよ 、例えば、輪状 多角形状であ てもよ 。し しながら、 辺で支えられる長方形状の枠を選択した方が主制御 2 における演算が容易に なるなどの の 点がある。

０182 また、上記 の 態では、ウ Wの 置の 、ウ ステ ジW S のZ 一定であり、 、チング 、 ング ともに に制御された状 態であるとしたが、ウ 8X 8Zによ て計測された基準Z 置 らの ずれや、 、チング 、 ング などを ンセ するよ にしてもよ 。 ０183 なお、 置計測 6 の の 、上記 態で述 たよ に、 配置が可能であるが、この 、ウ ステ ジWS の 性などによる、ウ 8X 8Zで計測される ステ ジWS と、面 置計測 6 で

。ここで、 ウ 8X 8Zで計測される計測 の デ は、 のよ に表す ことができる。

０184 12 w， + r …

「 (12 ここで、 ( )の ( )における計測 差を示す。また、 は、この 差 に含まれる 成分であり、 は、 成分の 数を示し、 ( )は、計測 差 に含まれる2 上の成分を示す。

０185 ここで、2 上の成 ( ) とみな るが、他の成分を とみなすことができ な 場合には、 置計測 置の 置を、上記 2の 態で説明したよ

。また、 上の成分を とみな るが、 成分を とみ なすことができな 場合には、 24( )、 24( )に示されるよ 配置とするのが望 。また、 成分までも とみなすことができる場合には、上記 の 態

。

０186 なお、どのよ 計測 置を採用しても、ウ Wの 置を計測 能な状態で あれば、

。このよ にすれば、ウ W上の所定の 点 を 数回 測することができるので面 置の 度が向上し、上記 の 態で述 たよ 、信頼性に基 重み付け 均による 出や

ョンが可能となる。

０187 また、上記 態では、アクチ タ4 ～4 Cの 動によるZ・ ベ ンス テ ジW の 御により、ウ Wの 置を制御したが、これに限らず、投 影 学系P の 置を制御するよ にしても良 。

０188 また、上記 態では、局所 を採用した 置に て説明したが 、 、 との間を液体で浸すことのな な 置にも適 用することができるのは である。 学系の が大き 、ワ キングデイスタ ンスを 取る必要のある 置であれば、好適に適用することができる。

０189 また、上記 態では、ウ Wの 報として、離散 な面 ッ プ ( )に基 て Wの 置を制御するものとしたが、隣接する地点( )間を補間することにより、X 面内における連続 な面 ップ ( ) を作成し、その ップ ( )に基 て、ウ Wの 置を制御するよ にしてもよ 。

０19０ なお、上記 態では、 体として ( )を用 るものとしたが、 明 がこれに限定されな ことは である。 体としては、 的に安定で、照明 の が高 安全な 体、例えば ッ 体を使用しても良 。この ッ 体としては、例えば ナ ト( ス ム社の商品名)が使用で きる。この ッ 冷却 果の点でも優れて る。また、 体として、照 明 に対する 過性があ てできるだけ 折率が高 、また、投影 学系や

面に 布されて る ジストに対して安定なもの( えば )を 用することもできる。また、 ザを とする場合は、 ォン ンオイ を選択す れば 。

０191 また、上記 態で、回収された液体を再利用するよ にしても良 、この 回収された液体 ら不純 を除去する ィ を 置、又は回収 に

。

０192 なお、上記 態では、投影 学系P の最も像面 の 子が先 9 で あるものとしたが、その 、 ンズに限られるものではな 、投影 学系P の 性、例えば ( 、 差等)の 整に用 光学プ ト( 行平面 )であ ても 、単なるカ ガラスであ ても 。 学系P の最も像面 の ( 態では 9 )は、照明 の によ て ジスト ら発生する の の に起因して ( 態では )に接触してその 面が汚れることがある。このため、その 、 4 の 下部に着脱( ) 在に固定することとし、定期的に交換 することとしても 。

０193 このよ 場合、 体に接触する光学 子が ンズであると、その 品の スト が高 、 換に要する時間が長 な てしま 、メンテナンス スト(ラン ング スト)の ス プットの 下を招 。そこで、 体と接触する光学 子を、例え ば 9 よりも安価な平行平面 とするよ にしても 。

０194 また、上記 態にお 、 ( )を流す の タ ン像の 投 ( の )の 域を覆 に設定されて れば良 、その きさは任意で 、流速、流量 制御する上で、照射 よりも少し大き してそ

。

０195 なお、複数の ンズ ら 成される 学系、投影 ット を 体 に組み込み、更に、投影 ット に ット32 置計測 6 を取り付ける。その 、光学 整をするとともに、多数の 品 らなる ク ス テ ジ ステ ジWS を 体に取り付けて配線や配管を接続し、 更に総合 ( 気調整、動作 )をすることにより、上記 態の 置を製造することができる。なお、露光 置の 温度及びク ン が管理さ

。

０196 また、上記 態では、ステップ・アン スキヤン 式 の 置に 本 明が適用された場合に て説明したが、 明の 囲がこれに限定さ れな ことは である。すなわちステップ・アンド・ ピ ト 式の縮

置にも 好適に適用できる。また、 ョッ 域と ョッ 域とを合成する 、プ・アン スティッ 式の縮 置における 光にも 明を好適に 適用することができる。また、ウ ステ ジを2 えた インステ ジ型の露 置にも適用できる。

０197 置の としては半導体 の 置に限定されることな 、例えば、 ガラスプ トに タ ンを転写する 用の 置や、有 機 、 ッド、 (CC 等)、 イク ン チップなどを 製造するための 置にも広 用できる。また、半導体 子などの イク イスだけでな 、 置、 置、X 置、 び電子 置 などで使用される ク 又は スクを製造するために、ガラス ンウ などに回路 タ ンを転写する 置にも 明を適用できる。

０198 また、上記 態の 置の 、 キ ザ に限らず、 キ ザ 、 ザ 源などの ス ザ 、 ( 436 )、 ( )などの 線を発する超高圧水銀ランプなどを用 ることも可 能である。また、 導体 ザ又は ァイ ザ ら発振される赤外 、又 は可視 の ザ光を、例えば ビウム(又は ビ

の )が された ァイ アンプで増幅し、非線形 を用 て紫外 光に波長 換した高調波を用 ても良 。また、投影 学系の 縮小 のみな らず等 および 大系の ずれでも良 。

０199 また、上記 態では、露光 置の としては波長 OO 上の光 に限らず、波長 OO 満の光を用 ても良 ことは までもな 。 えば、近年 7 下の タ ンを するために、SO プラズ ザを として、 X ( えば5～ 5 の 長城)の (Ex emeU av。。)光を発生さ る とともに、その 光波長( えば 3 5 )の下で設計されたオ 系、 スクを用 た 置の 発が行われて る。この 置に お ては、円弧 明を用 て スク を同期 査してスキヤ する構成が 考えられる。

０2００ また、電子 イオンビ ムなどの 電粒子 を用 る 置にも、

適用できる。なお、電子 、ペン ビ ム 式、可変成形ビ ム 式、 セ プ ジ ク ョン 式、 ランキング・ア チ ・ア イ 式、 スク 式の ずれであ ても良 。 えば、電子 を用 る 置では、電磁 ンズを 備えた光学系が用 られる。

０2０1 導体 イスは、 イスの ・ 計を行 ステップ、この ステップに 基 た を製作するステップ、 ン 料 ら を製作するステップ、 前述した実施 態の 置により の タ ンを に転写するステップ 、 イス み立てステッ (ダイ グ 程、ボ ディ グ 程、 ッケ ジ 程を 含む)、検査ステップ等を経て 造される。

上の利用 ， ０2０2 上述 たよ に、 明の 、半導体 子、 製造す るための グラ ィ 程に適して る。

Claims

求の

学系を介して を物体の 面上に照射する 置であ て、 前記 体を保持して前記 学系の 軸に直 する2 内を移動 能な ステ ジ

学系を介して前記 射される所定 域の 囲の な とも一 部に配置された 数の を有し、 数の のそれぞれにお て前記 学系の 軸に関する物体の 報を計測する

置の 果に基 て、前記 体の 報を算出する ステ ジの 報を計測する 2

置の 果と前記 2 置の 果とに基 て、前記 域に対する物体の 置を制御する制御 を備える 。

2 に記載の 置にお て、

前記 、

前記ステ ジの 動に伴 、異なる計測 で計測される前記 上の所定の 点 での 報に基 て、前記 体の 報におけるその 点での 置 を算出することを特徴とする 。

3 2に記載の 置にお て、

前記 、

前記 上の所定の 点での 置の 果のその 頼性に基 重み付け 均値を、前記 体の 報におけるその 点での として 出することを特徴とする 。

4 3に記載の 置にお て、

前記 、

前記 置の 果の みを、その 測に要する時間に応じて変更する ことを特徴とする 。

5 3に記載の 置にお て、

前記 、 置の 果の みを、その 測の際の前 ステ ジの 速度に応じて変更することを特徴とする 。

6 に記載の 置にお て、

前記 、

前記 数の ちの な とも に前記 体の 定の 点が 置して る場合には、前記 な とも での 体の 報の 測を行 ことを特徴とする 。

7 6に記載の 置にお て、

前記 、

前記 上に形成された前記 体の わ クの 報の 出の際 に、前記 体の 報の 測を〒 ことを特徴とする 。

8 に記載の 置にお て、

前記 数の ちの 定の で計測された前記 上の所定の 点 の 報と、他の計 でのその 点での 果を含む 数回の 果 ら られる 報との差に基 て、前記 定の での 報を算 出する 装置をさらに備えることを特徴とする 。

9 8に記載の 置にお て、

前記 装置は、

前記 置により前記 定の で前記 体の 定の 点の 置が 計測される際のその 果の 頼性を考慮し 、前記 報を算出すること を特徴とする 。

０ に記載の 置にお て、

前記 数の 、

前記 域の 囲を三重に囲むよ に配置された計測 を含むことを特徴とす る 。

に記載の 置にお て、

前記 数の 、前記 域の 側を囲む の 域 、前記 の 域の 側を囲む 2の 域と、前記 2の 域の 側を囲む 3 域とにそれぞれ 置され、

前記 域を基準とする前記2 内の 意の 向で、

前記 2の 域のその 向に関するサイズが前記 域のその 向に関 するサイズ 上であり、

前記 2の 域の 部と前記 域とを重ね合わ た場合に、前記 の 域及び 3の 域に含まれる同一直線上にな 少な とも3 の 、前記 の 域の と重なるよ に、前記 数の が配置さ れて ることを特徴とする 。

2 記載の 置にお て、

前記 、

前記 な とも3 の 、前記 2の 域の な とも の とで 、前記 体の 報を同時に計測し、

前記 、

前記 置の 果に基 て、前記 体の 部の 域の 報 を算出し、

前記 、

前記ステ ジの 動により前記 体の 部の 域が前記 の 域にさし たときに、前記 の 域の ちの な とも3 の に それぞれ 応する計測 での 果と、前記 体の 部の 域の 報と に基 て、前記 体の 置を制御することを特徴とする 。

3 に記載の 置にお て、

前記 、

隣接する 域の 隔が同一で、 、前記 域の 心と前記 の 域との 離が、前記 の 数倍となるよ に配置されて ることを特徴とする 。

4 3に記載の 置にお て、

前記 、

前記ステ ジの 前の前 な とも4 の での 果と、前記ステ 動後の な とも4 の での 果との中に、前記 上の同 一直線上にな 少な とも3 の 点における 報が含まれて た場合には 、前記 な とも3 の 点の 報を基準として 2 の 果を なぎ合 わ ることにより、前記 体の 報を算出することを特徴とする 。5 に記載の 置にお て、

前記 数の 、前記 域の 囲を二重に囲むよ に配置された計測 を含み、

前記 、

前記 置の 果と、前記 2 置によ て計測された前記2 に対する前記ステ ジの 報とに基 て、前記 体の 報を算 出することを特徴とする 。

6 5に記載の 置にお て、

前記 数の 、前記 域の 側を囲む の 域と、前記 の 域の 側を囲む 2の 域とにそれぞれ 置され、

前記 域を基準とする前記2 内の 意の 向で、

前記 の 域のその 向のサイズが、前記 域のその 向のサイズ 上であり、

前記 の 域と前記 域とを重ね合わ たときに、前記 2の 域における少な とも の 、前記 の 域の と重なるよ に、 前記 数の が配置されて ることを特徴とする 。

7 6に記載の 置にお て、

前記 、

前記 3の 域の な とも の 、前記 の 域の な とも の とで、前記 体の 報を同時に計測し、

前記 、

前記 置の 果に基 て、前記 体の 部の 域の 報 を算出し、

前記 、 ステ ジの 動により前記 体の 部の 域が前記 の 域にさし たときに、前記 の 域の ちの な とも の に それぞれ 応する計測 での 果と、前記 体の 部の 域の 報と に基 て、前記 体の 置を制御することを特徴とする 。

8 5に記載の 置にお て、

前記 域の 心 ら前記 の までの 離が、前記 の 域 と、 2の 域との の 数倍となるよ に配置されて ることを特徴とする 9 8に記載の 置にお て、

前記 、

前記ステ ジの 前の前 数の における計測 果と、前記ステ ジの 動後の 数の における計測 果との中に、前記 上の少な とも の 点における 報が含まれて る場合には、前記 な とも の 点 の 報を基準として2 の 果を なぎ合わ ることにより、前記 体の 報を算出することを特徴とする 。

2０ に記載の 置にお て、

前記 数の 、

前記 を前記 上に照射する際の前 ステ ジの 動方向に平行な第 向に沿 た2列の第 の 、前記 向に直 する 2 向に沿 た2 列の第2の とで、前記 域を実質的に囲むよ に配置されており、 前記 、

前記 2 における前記 体の 報に基 て、前記 体の

報を算出し、

前記 、

前記ステ ジの 動により、前記 報に対応する 域が前記 域に差 し掛 たとき、前記 報と、前記 向に関する 置が前記 域の 心と同じ の での 報とに基 て、前記 体の 置を制御することを特徴とする 。 2 2 に記載の 置にお て、

前記 2 向に関し、

前記 域の 心 ら前記 列の端の計 までの 離と、前記 域の 心 ら前記 2 までの 離との差が、前記 域の さと同一 とな て ることを特徴とする 。

22 に記載の 置にお て、

前記 体の 報を検出する検出 置をさらに備え、

前記 数の 、前記 域を一重に囲むよ に配置され、

前記 、

前記 置の 果と、前記 置の 果とに基 て、前記 域に対する前記 体の 置を制御することを特徴とする に記載の 23 に記載の 置にお て、

前記 数の 、

前記 域を含む 形の4辺の ちの する2辺に配置されて る計測 を 含むことを特徴とする 。

24 23に記載の 置にお て、

前記 する2辺は、

前記 域 ら見て、前記 の における前記 体の 行方向に配 置された辺であることを特徴とする 。

25 23に記載の 置にお て、

前記 数の 、

前記 域 ら見て、前記 の における前記 体の 行方向に直 する方向に配置された辺であることを特徴とする 。

26 23に記載の 置にお て、

前記 数の 、

前記 形 4辺 、 3辺に配置されて ることを特徴とする 。

27 に記載の 置にお て、 数の 、

前記 域 ら見て、一方向に、 、平行に並 られた 数の列に配置され た計測 を含むことを特徴とする 。

28 27に記載の 置にお て、

前記 上に形成された前記 体の わ クを検出するための をさらに備え、

前記 数の 点の列は、前記 域と前記 の 野との間に配置 されて ることを特徴とする 。