JP2003066341A - レチクル検査装置 - Google Patents
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
-
- G—PHYSICS
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
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- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
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- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
- G01S17/88—Lidar systems specially adapted for specific applications
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/28—Systems for automatic generation of focusing signals
- G02B7/34—Systems for automatic generation of focusing signals using different areas in a pupil plane
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置の変形等によるオートフォーカス機能の
誤差の発生を自動的に診断することができる信頼性が高
いレチクル検査装置を提供する。 【解決手段】 レチクル検査装置において、レチクル１
６の画像データを作成する画像データ化装置４２を設
け、この画像データから画像の鮮明度を解析する鮮明度
解析装置４４を設け、画像の鮮明度が所定の基準範囲に
入っているかどうかを判断する鮮明度判定装置４５を設
け、画像の鮮明度が前記基準範囲を超えた場合にポジシ
ョンセンサ３３の位置を修正するセンサ位置調整用ステ
ージ３４を設ける。
誤差の発生を自動的に診断することができる信頼性が高
いレチクル検査装置を提供する。 【解決手段】 レチクル検査装置において、レチクル１
６の画像データを作成する画像データ化装置４２を設
け、この画像データから画像の鮮明度を解析する鮮明度
解析装置４４を設け、画像の鮮明度が所定の基準範囲に
入っているかどうかを判断する鮮明度判定装置４５を設
け、画像の鮮明度が前記基準範囲を超えた場合にポジシ
ョンセンサ３３の位置を修正するセンサ位置調整用ステ
ージ３４を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レチクルにおける
欠陥の有無を検査するレチクル検査装置に関し、特に、
オートフォーカス装置を備え、このオートフォーカス装
置において発生する誤差を診断する自己診断機能及びこ
の診断結果に基づいて自動的にオートフォーカス装置の
修正を行う自動修正機能を備えたレチクル検査装置に関
する。
欠陥の有無を検査するレチクル検査装置に関し、特に、
オートフォーカス装置を備え、このオートフォーカス装
置において発生する誤差を診断する自己診断機能及びこ
の診断結果に基づいて自動的にオートフォーカス装置の
修正を行う自動修正機能を備えたレチクル検査装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、レーザ光をレチクルに照射し
てこのレチクルにおける欠陥の有無を検査するレチクル
検査装置には、オートフォーカス装置が設けられてい
る。このオートフォーカス装置は、前記対物レンズと前
記レチクルの検査面との間の距離を測定し、両者が常に
最適な間隔を保つように対物レンズの位置を制御して、
前記レーザ光の焦点を前記レチクルの検査位置に一致さ
せるために使用されている。一般に、このようなオート
フォーカス装置には、欠陥を検査するための検査光をオ
ートフォーカスにも使用する非点収差法、ナイフエッジ
法及びオートフォーカス専用の光源を使用する斜入射法
等がある。
てこのレチクルにおける欠陥の有無を検査するレチクル
検査装置には、オートフォーカス装置が設けられてい
る。このオートフォーカス装置は、前記対物レンズと前
記レチクルの検査面との間の距離を測定し、両者が常に
最適な間隔を保つように対物レンズの位置を制御して、
前記レーザ光の焦点を前記レチクルの検査位置に一致さ
せるために使用されている。一般に、このようなオート
フォーカス装置には、欠陥を検査するための検査光をオ
ートフォーカスにも使用する非点収差法、ナイフエッジ
法及びオートフォーカス専用の光源を使用する斜入射法
等がある。
【０００３】オートフォーカス装置は、カメラ、顕微鏡
及び半導体露光装置等、種々の装置において使用されて
いる。レチクル検査装置においては、近年の半導体素子
の微細化に伴い検査光学系のＮＡ（Numerical Apertur
e：開口数）が大きくなったことから、オートフォーカ
ス調整精度として０．１μｍレベルが要求されている。
及び半導体露光装置等、種々の装置において使用されて
いる。レチクル検査装置においては、近年の半導体素子
の微細化に伴い検査光学系のＮＡ（Numerical Apertur
e：開口数）が大きくなったことから、オートフォーカ
ス調整精度として０．１μｍレベルが要求されている。
【０００４】この要求に応えるために、例えば、米国特
許６，０５２，４７８号においては、２系統の光学系を
備えた非点収差法によるオートフォーカス装置が提案さ
れている。このオートフォーカス装置においては、検査
光が被検査対称物により反射された反射光を分割して前
記２系統の光学系に入射させ、夫々の光学系におけるビ
ームスポットの形状を比較することによりオートフォー
カスの調整を行う。また、特開平１０−０３０９８８号
公報及び特開平１１−３０６５５４号公報においては、
斜入射法によるオートフォーカス装置が提案されてい
る。
許６，０５２，４７８号においては、２系統の光学系を
備えた非点収差法によるオートフォーカス装置が提案さ
れている。このオートフォーカス装置においては、検査
光が被検査対称物により反射された反射光を分割して前
記２系統の光学系に入射させ、夫々の光学系におけるビ
ームスポットの形状を比較することによりオートフォー
カスの調整を行う。また、特開平１０−０３０９８８号
公報及び特開平１１−３０６５５４号公報においては、
斜入射法によるオートフォーカス装置が提案されてい
る。
【０００５】これらの先行技術文献に開示された手法の
うち、斜入射法について説明する。図８は、従来の斜入
射法によるオートフォーカス装置を示す模式図である。
図８に示すように、従来のレチクル検査装置において
は、検査光学系１０、オートフォーカス光学系３０ｂ及
びコントローラ系４０ｂが設けられている。なお、図８
においては、図示の横方向をＸ方向（右方向を＋Ｘ方
向、左方向を−Ｘ方向）、図示の縦方向をＺ方向（上方
向を＋Ｚ方向、下方向を−Ｚ方向）、紙面に垂直な方向
をＹ方向（奥に向かう方向を＋Ｙ方向、手前に向かう方
向を−Ｙ方向）とする。
うち、斜入射法について説明する。図８は、従来の斜入
射法によるオートフォーカス装置を示す模式図である。
図８に示すように、従来のレチクル検査装置において
は、検査光学系１０、オートフォーカス光学系３０ｂ及
びコントローラ系４０ｂが設けられている。なお、図８
においては、図示の横方向をＸ方向（右方向を＋Ｘ方
向、左方向を−Ｘ方向）、図示の縦方向をＺ方向（上方
向を＋Ｚ方向、下方向を−Ｚ方向）、紙面に垂直な方向
をＹ方向（奥に向かう方向を＋Ｙ方向、手前に向かう方
向を−Ｙ方向）とする。
【０００６】検査光学系１０においては、検査用レーザ
光ａ０を−Ｘ方向に発振する検査用レーザ光源１１が設
けられ、この検査用レーザ光ａ０の経路に沿って、検査
用レーザ光ａ０のビーム径を広げるテレスコープ１２、
検査用レーザ光ａ０を−Ｚ方向に反射するミラー１３、
ミラー１３により反射された検査用レーザ光ａ０を集光
する対物レンズ１４、検査対象であるレチクル１６を搭
載しこのレチクル１６をＸ方向及びＹ方向に移動させる
ＸＹステージ１７がこの順に設けられている。また、レ
チクル１６の後方には、レチクル１６を透過した検査用
レーザ光ａ０（以下、検査用透過光ａ１という）を集光
するレンズ１８及びこのレンズ１８により集光されたレ
ーザ光ａ１が入力されこのレーザ光ａ１の強度を測定す
る透過光検査用センサ１９が設けられている。更に、ミ
ラー１３と対物レンズ１４との間には、ミラー１３によ
り反射した検査用レーザ光ａ０を透過させると共にレチ
クル１６により反射した検査用レーザ光ａ０（以下、検
査用反射光ａ２という）を−Ｘ方向に偏向するビームス
プリッタ２０、このビームスプリッタ２０により偏向さ
れた検査用反射光ａ２を集光するレンズ２１、レンズ２
１により集光された検査用反射光ａ２が入力されこの検
査用反射光ａ２の強度を測定する反射光検出用センサ２
２が設けられている。更にまた、対物レンズ１４を支持
し対物レンズ１４の高さを調整することにより対物レン
ズ１４とレチクル１６との間の距離を調整する対物レン
ズ高さ調整装置１５が設けられている。
光ａ０を−Ｘ方向に発振する検査用レーザ光源１１が設
けられ、この検査用レーザ光ａ０の経路に沿って、検査
用レーザ光ａ０のビーム径を広げるテレスコープ１２、
検査用レーザ光ａ０を−Ｚ方向に反射するミラー１３、
ミラー１３により反射された検査用レーザ光ａ０を集光
する対物レンズ１４、検査対象であるレチクル１６を搭
載しこのレチクル１６をＸ方向及びＹ方向に移動させる
ＸＹステージ１７がこの順に設けられている。また、レ
チクル１６の後方には、レチクル１６を透過した検査用
レーザ光ａ０（以下、検査用透過光ａ１という）を集光
するレンズ１８及びこのレンズ１８により集光されたレ
ーザ光ａ１が入力されこのレーザ光ａ１の強度を測定す
る透過光検査用センサ１９が設けられている。更に、ミ
ラー１３と対物レンズ１４との間には、ミラー１３によ
り反射した検査用レーザ光ａ０を透過させると共にレチ
クル１６により反射した検査用レーザ光ａ０（以下、検
査用反射光ａ２という）を−Ｘ方向に偏向するビームス
プリッタ２０、このビームスプリッタ２０により偏向さ
れた検査用反射光ａ２を集光するレンズ２１、レンズ２
１により集光された検査用反射光ａ２が入力されこの検
査用反射光ａ２の強度を測定する反射光検出用センサ２
２が設けられている。更にまた、対物レンズ１４を支持
し対物レンズ１４の高さを調整することにより対物レン
ズ１４とレチクル１６との間の距離を調整する対物レン
ズ高さ調整装置１５が設けられている。
【０００７】オートフォーカス光学系３０ｂにおいて
は、オートフォーカス用レーザ光ｂ０を−Ｘ方向に発振
するＨｅ−Ｎｅレーザ光源３１が設けられ、Ｈｅ−Ｎｅ
レーザ光源３１の後方にはオートフォーカス用レーザ光
ｂ０を反射するミラー３２が設けられている。ミラー３
２は、オートフォーカス用レーザ光ｂ０が−Ｚ方向に反
射され、対物レンズ１４の光軸ｃ０と平行に且つ光軸ｃ
０から離れた経路に沿って進み、対物レンズ１４を介し
てレチクル１６に斜めに入射されるように配置されてい
る。また、レチクル１６により反射されたオートフォー
カス用レーザ光ｂ０（以下、オートフォーカス用反射光
ｂ１という）の入射位置を検出するポジションセンサ３
３が設けられている。
は、オートフォーカス用レーザ光ｂ０を−Ｘ方向に発振
するＨｅ−Ｎｅレーザ光源３１が設けられ、Ｈｅ−Ｎｅ
レーザ光源３１の後方にはオートフォーカス用レーザ光
ｂ０を反射するミラー３２が設けられている。ミラー３
２は、オートフォーカス用レーザ光ｂ０が−Ｚ方向に反
射され、対物レンズ１４の光軸ｃ０と平行に且つ光軸ｃ
０から離れた経路に沿って進み、対物レンズ１４を介し
てレチクル１６に斜めに入射されるように配置されてい
る。また、レチクル１６により反射されたオートフォー
カス用レーザ光ｂ０（以下、オートフォーカス用反射光
ｂ１という）の入射位置を検出するポジションセンサ３
３が設けられている。
【０００８】コントローラ系４０ｂにおいては、透過光
検査用センサ１９及び反射光検査用センサ２２の出力信
号並びにＸＹテーブル１７の座標データが入力され、検
査用透過光ａ１及び検査用反射光ａ２の各強度の測定デ
ータからレチクル１６のパターンの画像データを作成す
る画像データ化装置４２が設けられ、この画像データ化
装置４２から前記画像データが入力され、この画像デー
タからレチクル１６にある欠陥を抽出する欠陥抽出装置
４３が設けられている。また、画像データ化装置４２及
びＸＹテーブル１７に接続されＸＹテーブル１７の動作
を制御すると共にＸＹテーブル１７の座標データを画像
データ化装置４２に対して出力するＸＹステージコント
ローラ４６が設けられている。更に、ポジションセンサ
３３からの信号を演算処理するオートフォーカス（Ａ
Ｆ）コントローラ４８、オートフォーカスコントローラ
４８からの信号が入力されこの信号に基づいて対物レン
ズ高さ調整装置１５を作動させ対物レンズ１４の位置を
調整する対物レンズ高さ調整用コントローラ４９が設け
られている。更にまた、画像データ化装置４２及び欠陥
抽出装置４３に接続され、コントローラ系４０内の各装
置に指令を与えると共に検査結果を出力する入出力装置
４１が設けられている。なお、このレチクル検査装置に
おけるオートフォーカス装置は、オートフォーカス光学
系３０ｂ並びにオートフォーカスコントローラ４８及び
対物レンズ高さ調整用コントローラ４９から構成されて
いる。
検査用センサ１９及び反射光検査用センサ２２の出力信
号並びにＸＹテーブル１７の座標データが入力され、検
査用透過光ａ１及び検査用反射光ａ２の各強度の測定デ
ータからレチクル１６のパターンの画像データを作成す
る画像データ化装置４２が設けられ、この画像データ化
装置４２から前記画像データが入力され、この画像デー
タからレチクル１６にある欠陥を抽出する欠陥抽出装置
４３が設けられている。また、画像データ化装置４２及
びＸＹテーブル１７に接続されＸＹテーブル１７の動作
を制御すると共にＸＹテーブル１７の座標データを画像
データ化装置４２に対して出力するＸＹステージコント
ローラ４６が設けられている。更に、ポジションセンサ
３３からの信号を演算処理するオートフォーカス（Ａ
Ｆ）コントローラ４８、オートフォーカスコントローラ
４８からの信号が入力されこの信号に基づいて対物レン
ズ高さ調整装置１５を作動させ対物レンズ１４の位置を
調整する対物レンズ高さ調整用コントローラ４９が設け
られている。更にまた、画像データ化装置４２及び欠陥
抽出装置４３に接続され、コントローラ系４０内の各装
置に指令を与えると共に検査結果を出力する入出力装置
４１が設けられている。なお、このレチクル検査装置に
おけるオートフォーカス装置は、オートフォーカス光学
系３０ｂ並びにオートフォーカスコントローラ４８及び
対物レンズ高さ調整用コントローラ４９から構成されて
いる。
【０００９】図８に示す従来のレチクル検査装置の動作
について説明する。先ず、検査用レーザ光源１１から−
Ｘ方向に発振された検査用レーザ光ａ０が、テレスコー
プ１２によりビーム径が拡大され、ミラー１３により−
Ｚ方向に反射された後、対物レンズ１４により集光さ
れ、ＸＹステージ１７上に搭載されたレチクル１６に照
射される。このとき、検査用レーザ光ａ０はそのビーム
スポット径が最小になる位置の近傍においてレチクル１
６に照射される。ＸＹステージ１７がＸＹステージコン
トローラ４６からの信号を受けてレチクル１６をＸ方向
及びＹ方向に移動させることにより、レチクル１６上に
おける検査用レーザ光ａ０の照射スポットが、レチクル
１６上を相対的に移動する。ＸＹステージコントローラ
４６はＸＹステージ１７の座標データを画像データ化装
置４２に対して出力する。レチクル１６を透過した検査
用レーザ光ａ０（検査用透過光ａ１）は、レンズ１８に
より検査用センサ１９上に集光され、その光強度が透過
光検査用センサ１９により測定される。一方、レチクル
１６により反射された検査用レーザ光ａ０（検査用反射
光ａ２）は、ビームスプリッタ２０にて光路を−Ｘ方向
に偏向された後、レンズ２１により反射光検査用センサ
２２上に集光され、その光強度が検査用センサ２２によ
り測定される。
について説明する。先ず、検査用レーザ光源１１から−
Ｘ方向に発振された検査用レーザ光ａ０が、テレスコー
プ１２によりビーム径が拡大され、ミラー１３により−
Ｚ方向に反射された後、対物レンズ１４により集光さ
れ、ＸＹステージ１７上に搭載されたレチクル１６に照
射される。このとき、検査用レーザ光ａ０はそのビーム
スポット径が最小になる位置の近傍においてレチクル１
６に照射される。ＸＹステージ１７がＸＹステージコン
トローラ４６からの信号を受けてレチクル１６をＸ方向
及びＹ方向に移動させることにより、レチクル１６上に
おける検査用レーザ光ａ０の照射スポットが、レチクル
１６上を相対的に移動する。ＸＹステージコントローラ
４６はＸＹステージ１７の座標データを画像データ化装
置４２に対して出力する。レチクル１６を透過した検査
用レーザ光ａ０（検査用透過光ａ１）は、レンズ１８に
より検査用センサ１９上に集光され、その光強度が透過
光検査用センサ１９により測定される。一方、レチクル
１６により反射された検査用レーザ光ａ０（検査用反射
光ａ２）は、ビームスプリッタ２０にて光路を−Ｘ方向
に偏向された後、レンズ２１により反射光検査用センサ
２２上に集光され、その光強度が検査用センサ２２によ
り測定される。
【００１０】画像データ化装置４２は、透過光検査用セ
ンサ１９及び反射光検査用センサ２２からの光強度信号
並びにＸＹステージコントローラ４６からの座標データ
を処理し、レチクル１６の画像データを作成し、欠陥抽
出装置４３に対して出力する。欠陥抽出装置４３は、こ
の画像データをレチクル１６の設計データ等と比較処理
し、レチクル１６の欠陥を検出する。
ンサ１９及び反射光検査用センサ２２からの光強度信号
並びにＸＹステージコントローラ４６からの座標データ
を処理し、レチクル１６の画像データを作成し、欠陥抽
出装置４３に対して出力する。欠陥抽出装置４３は、こ
の画像データをレチクル１６の設計データ等と比較処理
し、レチクル１６の欠陥を検出する。
【００１１】一方、Ｎｅ−Ｎｅレーザ３１から−Ｘ方向
に発振されたオートフォーカス用レーザ光ｂ０は、ミラ
ー３２により−Ｚ方向に反射され、対物レンズ１４の光
軸ｃ０と平行で且つ光軸ｃ０から離れた経路に入射され
る。その後、オートフォーカス用レーザ光ｂ０はミラー
１３及びビームスプリッタ２０を透過し、対物レンズ１
４において屈折し、レチクル１６上に斜め方向から照射
される。オートフォーカス用レーザ光ｂ０はレチクル１
６にて反射されてオートフォーカス用反射光ｂ１とな
り、再び対物レンズ１４において屈折して＋Ｚ方向に進
み、ビームスプリッタ２０及びミラー１３を透過し、ポ
ジションセンサ３３に入射する。ポジションセンサ３３
はオートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置を測定す
る。
に発振されたオートフォーカス用レーザ光ｂ０は、ミラ
ー３２により−Ｚ方向に反射され、対物レンズ１４の光
軸ｃ０と平行で且つ光軸ｃ０から離れた経路に入射され
る。その後、オートフォーカス用レーザ光ｂ０はミラー
１３及びビームスプリッタ２０を透過し、対物レンズ１
４において屈折し、レチクル１６上に斜め方向から照射
される。オートフォーカス用レーザ光ｂ０はレチクル１
６にて反射されてオートフォーカス用反射光ｂ１とな
り、再び対物レンズ１４において屈折して＋Ｚ方向に進
み、ビームスプリッタ２０及びミラー１３を透過し、ポ
ジションセンサ３３に入射する。ポジションセンサ３３
はオートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置を測定す
る。
【００１２】図８に示すレチクル検査装置においては、
ポジションセンサ３３により測定されたオートフォーカ
ス用反射光ｂ１の入射位置と対物レンズ１４の高さとの
関係が一意的に決まる。即ち、対物レンズ１４の高さが
最適値であり、検査用レーザ光ａ０の焦点がレチクル１
６に合っている場合、ポジションセンサ３３におけるオ
ートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置は所定の位置に
なる。これに対して、レチクル１６の位置が＋Ｚ方向に
ずれるか又は対物レンズ１４の位置が−Ｚ方向にずれた
場合、即ち、レチクル１６と対物レンズ１４とが相互に
近づく方向に位置ずれを起こした場合、ポジションセン
サ３３においてオートフォーカス用反射光ｂ１が入射す
る位置は＋Ｘ方向に移動する。逆に、レチクル１６の位
置が−Ｚ方向にずれるか対物レンズ１４の位置が＋Ｚ方
向にずれた場合、即ち、レチクル１６と対物レンズ１４
とが相互に遠ざかる方向に位置ずれを起こした場合は、
ポジションセンサ３３においてオートフォーカス用反射
光ｂ１が入射する位置は−Ｘ方向に移動する。
ポジションセンサ３３により測定されたオートフォーカ
ス用反射光ｂ１の入射位置と対物レンズ１４の高さとの
関係が一意的に決まる。即ち、対物レンズ１４の高さが
最適値であり、検査用レーザ光ａ０の焦点がレチクル１
６に合っている場合、ポジションセンサ３３におけるオ
ートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置は所定の位置に
なる。これに対して、レチクル１６の位置が＋Ｚ方向に
ずれるか又は対物レンズ１４の位置が−Ｚ方向にずれた
場合、即ち、レチクル１６と対物レンズ１４とが相互に
近づく方向に位置ずれを起こした場合、ポジションセン
サ３３においてオートフォーカス用反射光ｂ１が入射す
る位置は＋Ｘ方向に移動する。逆に、レチクル１６の位
置が−Ｚ方向にずれるか対物レンズ１４の位置が＋Ｚ方
向にずれた場合、即ち、レチクル１６と対物レンズ１４
とが相互に遠ざかる方向に位置ずれを起こした場合は、
ポジションセンサ３３においてオートフォーカス用反射
光ｂ１が入射する位置は−Ｘ方向に移動する。
【００１３】ポジションセンサ３３において検出された
オートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置を示す信号
は、オートフォーカスコントローラ４８に入力されて処
理され、前記位置ずれ分を元に戻す信号が作成されて対
物レンズ高さ調整用コントローラ４９へ出力される。対
物レンズ高さコントローラ４９は、入力された信号に従
って対物レンズ高さ調整装置１５を作動させ、ポジショ
ンセンサ３３においてオートフォーカス用反射光ｂ１が
入射する位置が前記所定の位置になるように対物レンズ
１４の高さを調整する。これにより、対物レンズ１４が
レチクル１６に対して常に一定の距離を維持するように
調整される。この結果、検査用レーザ光ａ０のスポット
径が、常にレチクル１６の検査位置近傍において最小に
なる。
オートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置を示す信号
は、オートフォーカスコントローラ４８に入力されて処
理され、前記位置ずれ分を元に戻す信号が作成されて対
物レンズ高さ調整用コントローラ４９へ出力される。対
物レンズ高さコントローラ４９は、入力された信号に従
って対物レンズ高さ調整装置１５を作動させ、ポジショ
ンセンサ３３においてオートフォーカス用反射光ｂ１が
入射する位置が前記所定の位置になるように対物レンズ
１４の高さを調整する。これにより、対物レンズ１４が
レチクル１６に対して常に一定の距離を維持するように
調整される。この結果、検査用レーザ光ａ０のスポット
径が、常にレチクル１６の検査位置近傍において最小に
なる。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来の技術には以下に示すような問題点がある。レチク
ル検査装置を長期間に亘って使用すると、装置が設置さ
れる雰囲気の温度変化及び気圧変化等により、装置全体
が徐々に変形する場合がある。また、装置自体の重量に
よっても、装置の構造に歪みが発生する場合がある。こ
れにより、図８に示す検査光学系１０とオートフォーカ
ス光学系３０ｂとの間の位置関係並びに検査光学系１０
内及びオートフォーカス光学系３０ｂ内の各構成物間の
位置関係が、初期の状態から徐々にずれてしまう。この
結果、オートフォーカス機能に誤差が生じ、レチクル１
６の画像データにピンぼけが生じてしまい、レチクル１
６の検査が正常に実施できなくなるという問題点があ
る。
従来の技術には以下に示すような問題点がある。レチク
ル検査装置を長期間に亘って使用すると、装置が設置さ
れる雰囲気の温度変化及び気圧変化等により、装置全体
が徐々に変形する場合がある。また、装置自体の重量に
よっても、装置の構造に歪みが発生する場合がある。こ
れにより、図８に示す検査光学系１０とオートフォーカ
ス光学系３０ｂとの間の位置関係並びに検査光学系１０
内及びオートフォーカス光学系３０ｂ内の各構成物間の
位置関係が、初期の状態から徐々にずれてしまう。この
結果、オートフォーカス機能に誤差が生じ、レチクル１
６の画像データにピンぼけが生じてしまい、レチクル１
６の検査が正常に実施できなくなるという問題点があ
る。
【００１５】また、レチクル１６の検査が正常に実施で
きなくなった場合に、その原因が前述のオートフォーカ
ス機能の誤差にあるかどうかを判断するためには、検査
異常が発生したレチクル検査装置自体を詳細に調査する
必要がある。従って、このレチクル検査装置を客先に販
売した場合、前記調査を実施するためには客先まで出向
く必要があり、対応に時間がかかるという問題もある。
きなくなった場合に、その原因が前述のオートフォーカ
ス機能の誤差にあるかどうかを判断するためには、検査
異常が発生したレチクル検査装置自体を詳細に調査する
必要がある。従って、このレチクル検査装置を客先に販
売した場合、前記調査を実施するためには客先まで出向
く必要があり、対応に時間がかかるという問題もある。
【００１６】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、装置の変形等によるオートフォーカス機能
の誤差の発生を自動的に診断することができる信頼性が
高いレチクル検査装置を提供することを目的とする。
のであって、装置の変形等によるオートフォーカス機能
の誤差の発生を自動的に診断することができる信頼性が
高いレチクル検査装置を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明に係るレチクル検
査装置は、レチクルにおける欠陥の有無を検査するレチ
クル検査装置において、検査用レーザ光を発振する検査
用レーザ光源と、この検査用レーザ光を集光して前記レ
チクルに照射する対物レンズと、前記レチクルにより反
射された前記検査用レーザ光及び前記レチクルを透過し
た前記検査用レーザ光により前記レチクルの画像を作成
し前記レチクルにおける欠陥の有無を検査する画像作成
装置と、前記対物レンズを介して前記対物レンズの軸に
対して傾斜した方向から前記レチクルにオートフォーカ
ス用レーザ光を照射するオートフォーカス用レーザ光源
と、前記レチクルにより反射された前記オートフォーカ
ス用レーザ光が前記対物レンズを介して入射されこの入
射位置を検出するポジションセンサと、このポジション
センサの検出結果に基づいて前記対物レンズと前記レチ
クルとの間の距離を算出し前記対物レンズの高さを調節
して前記検査用レーザ光の焦点位置を前記レチクルの検
査位置に一致させる対物レンズ高さ調節装置と、前記レ
チクルの画像の鮮明度を解析しこの鮮明度が許容範囲内
にあるかどうかを評価する鮮明度評価装置と、を有する
ことを特徴とする。
査装置は、レチクルにおける欠陥の有無を検査するレチ
クル検査装置において、検査用レーザ光を発振する検査
用レーザ光源と、この検査用レーザ光を集光して前記レ
チクルに照射する対物レンズと、前記レチクルにより反
射された前記検査用レーザ光及び前記レチクルを透過し
た前記検査用レーザ光により前記レチクルの画像を作成
し前記レチクルにおける欠陥の有無を検査する画像作成
装置と、前記対物レンズを介して前記対物レンズの軸に
対して傾斜した方向から前記レチクルにオートフォーカ
ス用レーザ光を照射するオートフォーカス用レーザ光源
と、前記レチクルにより反射された前記オートフォーカ
ス用レーザ光が前記対物レンズを介して入射されこの入
射位置を検出するポジションセンサと、このポジション
センサの検出結果に基づいて前記対物レンズと前記レチ
クルとの間の距離を算出し前記対物レンズの高さを調節
して前記検査用レーザ光の焦点位置を前記レチクルの検
査位置に一致させる対物レンズ高さ調節装置と、前記レ
チクルの画像の鮮明度を解析しこの鮮明度が許容範囲内
にあるかどうかを評価する鮮明度評価装置と、を有する
ことを特徴とする。
【００１８】本発明においては、検査用レーザ光源が検
査用レーザ光を発振し、この検査用レーザ光が対物レン
ズにより集光されて被検査対象物であるレチクルに照射
され、画像作成装置がレチクルにより反射された前記検
査用レーザ光及び前記レチクルを透過した前記検査用レ
ーザ光により前記レチクルの画像を作成してレチクルに
おける欠陥の有無を検査する。このとき、オートフォー
カス用レーザ光源から発振されたオートフォーカス用レ
ーザ光が対物レンズにおいて屈折し斜め方向からレチク
ルに照射され、レチクルによって反射されて再び対物レ
ンズにおいて屈折してポジションセンサに入射する。こ
の入射位置と、レチクルと対物レンズとの間の距離には
一定の関係があるため、ポジションセンサがオートフォ
ーカス用レーザ光の入射位置を検出し、この検出結果に
基づいて対物レンズ高さ調節装置が対物レンズの高さを
調節することにより、レチクルと対物レンズとの間の距
離を一定に保ち、常に検査用レーザ光の焦点をレチクル
に合わせることができる。また、鮮明度評価装置がレチ
クルの画像の鮮明度を評価し、オートフォーカス装置が
正常に機能しているかどうかを診断する。なお、オート
フォーカス装置は、前記オートフォーカス用レーザ光
源、ポジションセンサ及び対物レンズ高さ調節装置によ
り構成される。これにより、装置の変形等によりオート
フォーカス装置に誤差が発生しレチクルの画像の鮮明度
が低下した場合に、この鮮明度の低下の程度を自動的に
評価し、オートフォーカス装置が正常に作動しているか
どうかを診断することができる。この結果、レチクルの
検査の信頼性を向上させることができる。
査用レーザ光を発振し、この検査用レーザ光が対物レン
ズにより集光されて被検査対象物であるレチクルに照射
され、画像作成装置がレチクルにより反射された前記検
査用レーザ光及び前記レチクルを透過した前記検査用レ
ーザ光により前記レチクルの画像を作成してレチクルに
おける欠陥の有無を検査する。このとき、オートフォー
カス用レーザ光源から発振されたオートフォーカス用レ
ーザ光が対物レンズにおいて屈折し斜め方向からレチク
ルに照射され、レチクルによって反射されて再び対物レ
ンズにおいて屈折してポジションセンサに入射する。こ
の入射位置と、レチクルと対物レンズとの間の距離には
一定の関係があるため、ポジションセンサがオートフォ
ーカス用レーザ光の入射位置を検出し、この検出結果に
基づいて対物レンズ高さ調節装置が対物レンズの高さを
調節することにより、レチクルと対物レンズとの間の距
離を一定に保ち、常に検査用レーザ光の焦点をレチクル
に合わせることができる。また、鮮明度評価装置がレチ
クルの画像の鮮明度を評価し、オートフォーカス装置が
正常に機能しているかどうかを診断する。なお、オート
フォーカス装置は、前記オートフォーカス用レーザ光
源、ポジションセンサ及び対物レンズ高さ調節装置によ
り構成される。これにより、装置の変形等によりオート
フォーカス装置に誤差が発生しレチクルの画像の鮮明度
が低下した場合に、この鮮明度の低下の程度を自動的に
評価し、オートフォーカス装置が正常に作動しているか
どうかを診断することができる。この結果、レチクルの
検査の信頼性を向上させることができる。
【００１９】また、本発明に係るレチクル検査装置は、
更に、前記鮮明度評価装置による評価結果に基づいて前
記ポジションセンサの位置を調節するポジションセンサ
位置調節装置を有することが好ましい。これにより、画
像の鮮明度が許容範囲を超えて低下した場合に、ポジシ
ョンセンサの位置を調整することができる。この結果、
画像の鮮明度を許容範囲内に戻すことができる。
更に、前記鮮明度評価装置による評価結果に基づいて前
記ポジションセンサの位置を調節するポジションセンサ
位置調節装置を有することが好ましい。これにより、画
像の鮮明度が許容範囲を超えて低下した場合に、ポジシ
ョンセンサの位置を調整することができる。この結果、
画像の鮮明度を許容範囲内に戻すことができる。
【００２０】又は、前記鮮明度評価装置による評価結果
に基づいて前記対物レンズ高さ調節装置により前記対物
レンズの高さを調節することが好ましい。これにより、
ポジションセンサ位置調節装置を設けなくても、画像の
鮮明度が許容範囲を超えて低下した場合にオートフォー
カス機能の誤差を修正し、画像の鮮明度を許容範囲内に
戻すことができる。
に基づいて前記対物レンズ高さ調節装置により前記対物
レンズの高さを調節することが好ましい。これにより、
ポジションセンサ位置調節装置を設けなくても、画像の
鮮明度が許容範囲を超えて低下した場合にオートフォー
カス機能の誤差を修正し、画像の鮮明度を許容範囲内に
戻すことができる。
【００２１】これにより、装置の筐体等の構造物が長期
的な経時変化を起こし、オートフォーカス装置の各素子
の位置関係が初期状態からずれ始めたときに、これを自
動的に診断し修正することで、レチクル検査装置が検査
不能に陥ることを回避できる。これにより、長期間に亘
って安定して動作するレチクル検査装置を供給すること
ができる。
的な経時変化を起こし、オートフォーカス装置の各素子
の位置関係が初期状態からずれ始めたときに、これを自
動的に診断し修正することで、レチクル検査装置が検査
不能に陥ることを回避できる。これにより、長期間に亘
って安定して動作するレチクル検査装置を供給すること
ができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について添
付の図面を参照して具体的に説明する。先ず、本発明の
第１の実施例について説明する、図１は本実施例に係る
レチクル検査装置の構成を示す模式図である。なお、図
８に示す従来のレチクル検査装置の構成要素と同一の構
成要素には同一の符号を付す。図１に示すように、本実
施例のレチクル検査装置は、検査光学系１０、オートフ
ォーカス光学系３０及びコントローラ系４０からなる。
なお、図１においては、図８と同様に、図示の横方向を
Ｘ方向（右方向を＋Ｘ方向、左方向を−Ｘ方向）、図示
の縦方向をＺ方向（上方向を＋Ｚ方向、下方向を−Ｚ方
向）、紙面に垂直な方向をＹ方向（奥に向かう方向を＋
Ｙ方向、手前に向かう方向を−Ｙ方向）とする。
付の図面を参照して具体的に説明する。先ず、本発明の
第１の実施例について説明する、図１は本実施例に係る
レチクル検査装置の構成を示す模式図である。なお、図
８に示す従来のレチクル検査装置の構成要素と同一の構
成要素には同一の符号を付す。図１に示すように、本実
施例のレチクル検査装置は、検査光学系１０、オートフ
ォーカス光学系３０及びコントローラ系４０からなる。
なお、図１においては、図８と同様に、図示の横方向を
Ｘ方向（右方向を＋Ｘ方向、左方向を−Ｘ方向）、図示
の縦方向をＺ方向（上方向を＋Ｚ方向、下方向を−Ｚ方
向）、紙面に垂直な方向をＹ方向（奥に向かう方向を＋
Ｙ方向、手前に向かう方向を−Ｙ方向）とする。
【００２３】検査光学系１０においては、検査用レーザ
光ａ０を−Ｘ方向に発振する検査用レーザ光源１１が設
けられ、この検査用レーザ光ａ０の経路に沿って、検査
用レーザ光ａ０のビーム径を広げるテレスコープ１２、
検査用レーザ光ａ０を−Ｚ方向に反射するミラー１３、
ミラー１３により反射された検査用レーザ光ａ０を集光
する対物レンズ１４、検査対象であるレチクル１６を搭
載しこのレチクル１６をＸ方向及びＹ方向に移動させる
ＸＹステージ１７がこの順に設けられている。対物レン
ズ１４の光軸ｃ０は垂直方向、即ちＺ方向に平行になっ
ている。ＸＹステージ１７におけるレチクル１６を搭載
する面は、Ｚ方向に対して垂直に設けられている。
光ａ０を−Ｘ方向に発振する検査用レーザ光源１１が設
けられ、この検査用レーザ光ａ０の経路に沿って、検査
用レーザ光ａ０のビーム径を広げるテレスコープ１２、
検査用レーザ光ａ０を−Ｚ方向に反射するミラー１３、
ミラー１３により反射された検査用レーザ光ａ０を集光
する対物レンズ１４、検査対象であるレチクル１６を搭
載しこのレチクル１６をＸ方向及びＹ方向に移動させる
ＸＹステージ１７がこの順に設けられている。対物レン
ズ１４の光軸ｃ０は垂直方向、即ちＺ方向に平行になっ
ている。ＸＹステージ１７におけるレチクル１６を搭載
する面は、Ｚ方向に対して垂直に設けられている。
【００２４】図２はレチクル１６の一例を示す断面図で
あり、レチクル１６にラインアンドスペースパターンが
形成されている場合を示している。図２に示すように、
レチクル１６においては、ガラス等からなるレチクル基
板１６ａ上に、長方形状の遮光部１６ｂ（ライン）が断
続的な位置に等間隔に形成されている。レチクル基板１
６ａ上において遮光部１６ｂが配列している方向は、遮
光部１６ｂの長手方向に直交する方向である。これによ
り、レチクル基板１６ａ上における遮光部１６ｂ間が透
過部１６ｃ（スペース）となる。これにより、レチクル
基板１６ａ上にラインアンドスペースパターンが形成さ
れる。遮光部１６ｂ（ライン）及び透過部１６ｃ（スペ
ース）は一定周期ｄで交互に配置されている。
あり、レチクル１６にラインアンドスペースパターンが
形成されている場合を示している。図２に示すように、
レチクル１６においては、ガラス等からなるレチクル基
板１６ａ上に、長方形状の遮光部１６ｂ（ライン）が断
続的な位置に等間隔に形成されている。レチクル基板１
６ａ上において遮光部１６ｂが配列している方向は、遮
光部１６ｂの長手方向に直交する方向である。これによ
り、レチクル基板１６ａ上における遮光部１６ｂ間が透
過部１６ｃ（スペース）となる。これにより、レチクル
基板１６ａ上にラインアンドスペースパターンが形成さ
れる。遮光部１６ｂ（ライン）及び透過部１６ｃ（スペ
ース）は一定周期ｄで交互に配置されている。
【００２５】また、レチクル１６の後方には、レチクル
１６を透過した検査用レーザ光ａ０（検査用透過光ａ
１）を集光するレンズ１８及びこのレンズ１８により集
光された検査用透過光ａ１が入力されこの検査用透過光
ａ１の強度を測定する透過光検査用センサ１９が設けら
れている。更に、ミラー１３と対物レンズ１４との間に
は、ミラー１３により反射した検査用レーザ光ａ０を透
過させると共にレチクル１６により反射した検査用レー
ザ光ａ０（検査用反射光ａ２）を−Ｘ方向に偏向させる
ビームスプリッタ２０、このビームスプリッタ２０によ
り偏向された検査用反射光ａ２を集光するレンズ２１、
レンズ２１により集光された検査用反射光ａ２が入力さ
れこの検査用反射光ａ２の強度を測定する反射光検出用
センサ２２が設けられている。更にまた、対物レンズ１
４を支持し対物レンズ１４の高さ、即ちＺ方向の位置を
調整することにより対物レンズ１４とレチクル１６との
間の距離を調整する対物レンズ高さ調整装置１５が設け
られている。
１６を透過した検査用レーザ光ａ０（検査用透過光ａ
１）を集光するレンズ１８及びこのレンズ１８により集
光された検査用透過光ａ１が入力されこの検査用透過光
ａ１の強度を測定する透過光検査用センサ１９が設けら
れている。更に、ミラー１３と対物レンズ１４との間に
は、ミラー１３により反射した検査用レーザ光ａ０を透
過させると共にレチクル１６により反射した検査用レー
ザ光ａ０（検査用反射光ａ２）を−Ｘ方向に偏向させる
ビームスプリッタ２０、このビームスプリッタ２０によ
り偏向された検査用反射光ａ２を集光するレンズ２１、
レンズ２１により集光された検査用反射光ａ２が入力さ
れこの検査用反射光ａ２の強度を測定する反射光検出用
センサ２２が設けられている。更にまた、対物レンズ１
４を支持し対物レンズ１４の高さ、即ちＺ方向の位置を
調整することにより対物レンズ１４とレチクル１６との
間の距離を調整する対物レンズ高さ調整装置１５が設け
られている。
【００２６】オートフォーカス光学系３０においては、
オートフォーカス用レーザ光ｂ０を−Ｘ方向に発振する
Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源３１が設けられ、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザ光源３１の後方にはオートフォーカス用レーザ光ｂ０
を反射するミラー３２が設けられている。ミラー３２
は、オートフォーカス用レーザ光ｂ０が−Ｚ方向に反射
され、対物レンズ１４の光軸ｃ０と平行に且つ光軸ｃ０
から離れた経路に沿って進み、対物レンズ１４を介して
レチクル１６にＺ方向に対して傾斜した方向から照射さ
れるように配置されている。また、レチクル１６により
反射されたオートフォーカス用レーザ光ｂ０（オートフ
ォーカス用反射光ｂ１）の位置を検出するポジションセ
ンサ３３、ポジションセンサ３３のＸ方向における位置
を調整するセンサ位置調整用ステージ３４が設けられて
いる。
オートフォーカス用レーザ光ｂ０を−Ｘ方向に発振する
Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源３１が設けられ、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザ光源３１の後方にはオートフォーカス用レーザ光ｂ０
を反射するミラー３２が設けられている。ミラー３２
は、オートフォーカス用レーザ光ｂ０が−Ｚ方向に反射
され、対物レンズ１４の光軸ｃ０と平行に且つ光軸ｃ０
から離れた経路に沿って進み、対物レンズ１４を介して
レチクル１６にＺ方向に対して傾斜した方向から照射さ
れるように配置されている。また、レチクル１６により
反射されたオートフォーカス用レーザ光ｂ０（オートフ
ォーカス用反射光ｂ１）の位置を検出するポジションセ
ンサ３３、ポジションセンサ３３のＸ方向における位置
を調整するセンサ位置調整用ステージ３４が設けられて
いる。
【００２７】本実施例の装置においては、オートフォー
カス光学系３０は検査光学系１０の上方に設けられてお
り、上から順に、センサ位置調整用ステージ３４及びポ
ジションセンサ３３、ミラー３２、ミラー１３、ビーム
スプリッタ２０、対物レンズ１４、レチクル１６及びＸ
Ｙステージ１７、レンズ１８、透過光検査用センサ１９
がほぼ一直線に対物レンズ１４の光軸ｃ０に沿って配置
されている。但し、ミラー３２並びにセンサ位置調整用
ステージ３４及びポジションセンサ３３は、光軸ｃ０か
ら僅かにずれた位置にある。また、ミラー３２から見て
＋Ｘ方向にはＨｅ−Ｎｅレーザ光源３１が配置され、ミ
ラー１３から見て＋Ｘ方向にはテレスコープ１２及び検
査用レーザ光源１１が配置され、ビームスプリッタ２０
から見て−Ｘ方向にはレンズ２１及び反射光検査用セン
サ２２が配置されている。
カス光学系３０は検査光学系１０の上方に設けられてお
り、上から順に、センサ位置調整用ステージ３４及びポ
ジションセンサ３３、ミラー３２、ミラー１３、ビーム
スプリッタ２０、対物レンズ１４、レチクル１６及びＸ
Ｙステージ１７、レンズ１８、透過光検査用センサ１９
がほぼ一直線に対物レンズ１４の光軸ｃ０に沿って配置
されている。但し、ミラー３２並びにセンサ位置調整用
ステージ３４及びポジションセンサ３３は、光軸ｃ０か
ら僅かにずれた位置にある。また、ミラー３２から見て
＋Ｘ方向にはＨｅ−Ｎｅレーザ光源３１が配置され、ミ
ラー１３から見て＋Ｘ方向にはテレスコープ１２及び検
査用レーザ光源１１が配置され、ビームスプリッタ２０
から見て−Ｘ方向にはレンズ２１及び反射光検査用セン
サ２２が配置されている。
【００２８】コントローラ系４０の画像データ化装置４
２に、透過光検査用センサ１９及び反射光検査用センサ
２２の出力信号並びに後述するＸＹステージコントロー
ラ４６の出力信号が入力され、画像データ化装置４２は
検査用透過光ａ１及び検査用反射光ａ２の強度の測定デ
ータ並びにレチクル１６の座標データからレチクル１６
のパターンの画像データを作成し、この画像データから
光強度分布を測定する。
２に、透過光検査用センサ１９及び反射光検査用センサ
２２の出力信号並びに後述するＸＹステージコントロー
ラ４６の出力信号が入力され、画像データ化装置４２は
検査用透過光ａ１及び検査用反射光ａ２の強度の測定デ
ータ並びにレチクル１６の座標データからレチクル１６
のパターンの画像データを作成し、この画像データから
光強度分布を測定する。
【００２９】図３は、横軸にレチクル基板１６ａ上のラ
インアンドスペースパターンの配列方向における位置を
とり、縦軸にこのラインアンドスペースパターンを本実
施例のレチクル検査装置により検査して得られた画像の
光強度をとって、レチクル１６の画像データにおける光
強度分布を示すグラフ図である。例えば、画像データ化
装置４２が図２に示すラインアンドスペースパターンの
画像データを作成すると、その光強度分布は図３に示す
ようになる。
インアンドスペースパターンの配列方向における位置を
とり、縦軸にこのラインアンドスペースパターンを本実
施例のレチクル検査装置により検査して得られた画像の
光強度をとって、レチクル１６の画像データにおける光
強度分布を示すグラフ図である。例えば、画像データ化
装置４２が図２に示すラインアンドスペースパターンの
画像データを作成すると、その光強度分布は図３に示す
ようになる。
【００３０】また、コントローラ系４０の欠陥抽出装置
４３には、画像データ化装置４２から画像データが入力
され、欠陥抽出装置４３はこの画像データからレチクル
１６の欠陥を抽出する。更に、ＸＹステージコントロー
ラ４６は、画像データ化装置４２及びＸＹテーブル１７
に接続され、ＸＹテーブル１７の動作を制御すると共に
ＸＹテーブル１７の座標データを画像データ化装置４２
に対して出力する。更にまた、オートフォーカスコント
ローラ４８はオートフォーカス用反射光ｂ１を検出した
ポジションセンサ３３からの信号を演算処理する。対物
レンズ高さコントローラ４９はオートフォーカスコント
ローラ４８からの信号が入力されこの信号に基づいて対
物レンズ高さ調整装置１５の動作を制御し対物レンズ１
４の位置を調整する。
４３には、画像データ化装置４２から画像データが入力
され、欠陥抽出装置４３はこの画像データからレチクル
１６の欠陥を抽出する。更に、ＸＹステージコントロー
ラ４６は、画像データ化装置４２及びＸＹテーブル１７
に接続され、ＸＹテーブル１７の動作を制御すると共に
ＸＹテーブル１７の座標データを画像データ化装置４２
に対して出力する。更にまた、オートフォーカスコント
ローラ４８はオートフォーカス用反射光ｂ１を検出した
ポジションセンサ３３からの信号を演算処理する。対物
レンズ高さコントローラ４９はオートフォーカスコント
ローラ４８からの信号が入力されこの信号に基づいて対
物レンズ高さ調整装置１５の動作を制御し対物レンズ１
４の位置を調整する。
【００３１】鮮明度解析装置４４には画像データ化装置
４２から出力された画像データの光強度分布が入力さ
れ、鮮明度解析装置４４はこの光強度分布から画像の鮮
明度を解析する。この鮮明度解析装置４４について詳細
に説明する。鮮明度解析装置４４は、画像データ化装置
４２から出力された画像データの光強度分布（図３参
照）が入力され、この光強度分布から光強度の最大値Ｉ
ｍａｘ及び最小値Ｉｍｉｎを求め、下記数式１によりＭ
ＴＦ（Modulation Transfer Function：空間周波数特
性）を算出する。また、図２に示す周期ｄを求め、１ｍ
ｍ当たりのライン本数Ｌｉｎｅ（ｍｍ−１）を下記数式
２により算出する。
４２から出力された画像データの光強度分布が入力さ
れ、鮮明度解析装置４４はこの光強度分布から画像の鮮
明度を解析する。この鮮明度解析装置４４について詳細
に説明する。鮮明度解析装置４４は、画像データ化装置
４２から出力された画像データの光強度分布（図３参
照）が入力され、この光強度分布から光強度の最大値Ｉ
ｍａｘ及び最小値Ｉｍｉｎを求め、下記数式１によりＭ
ＴＦ（Modulation Transfer Function：空間周波数特
性）を算出する。また、図２に示す周期ｄを求め、１ｍ
ｍ当たりのライン本数Ｌｉｎｅ（ｍｍ−１）を下記数式
２により算出する。
【００３２】
【数１】
【００３３】
【数２】
【００３４】図４は、横軸に１ｍｍ当たりのライン本数
Ｌｉｎｅをとり、縦軸にＭＴＦをとって、ＭＴＦの特性
を示すグラフ図である。鮮明度解析装置４４は、相互に
異なるライン本数Ｌｉｎｅを持つラインアンドスペース
パターンの画像データについてＭＴＦを算出し、図４に
示すようなＭＴＦの特性データを得る。このＭＴＦの特
性データが鮮明度データになる。
Ｌｉｎｅをとり、縦軸にＭＴＦをとって、ＭＴＦの特性
を示すグラフ図である。鮮明度解析装置４４は、相互に
異なるライン本数Ｌｉｎｅを持つラインアンドスペース
パターンの画像データについてＭＴＦを算出し、図４に
示すようなＭＴＦの特性データを得る。このＭＴＦの特
性データが鮮明度データになる。
【００３５】鮮明度判定装置４５は鮮明度解析装置４４
から鮮明度データが入力され、この鮮明度データを予め
入力されている基準データと比較し、画像の鮮明度が所
定の基準範囲に入っているかどうかを判断する。前記基
準範囲は本レチクル検査装置の性能を保証できるような
範囲に設定される。また、ステージコントローラ４７は
鮮明度判定装置４５の出力信号が入力され、ステージコ
ントローラ４７は画像の鮮明度が前記基準範囲を超えた
場合にセンサ位置調整用ステージ３４を作動させポジシ
ョンセンサ３３の位置を修正する。入出力装置４１は画
像データ化装置４２及び欠陥抽出装置４３に接続され、
コントローラ系４０内の各装置に指令を与えると共に検
査結果を出力する。なお、本実施例のレチクル検査装置
におけるオートフォーカス装置は、オートフォーカス光
学系３０並びにオートフォーカスコントローラ４８及び
耐物レンズ高さ調整用コントローラ４９により構成され
る。
から鮮明度データが入力され、この鮮明度データを予め
入力されている基準データと比較し、画像の鮮明度が所
定の基準範囲に入っているかどうかを判断する。前記基
準範囲は本レチクル検査装置の性能を保証できるような
範囲に設定される。また、ステージコントローラ４７は
鮮明度判定装置４５の出力信号が入力され、ステージコ
ントローラ４７は画像の鮮明度が前記基準範囲を超えた
場合にセンサ位置調整用ステージ３４を作動させポジシ
ョンセンサ３３の位置を修正する。入出力装置４１は画
像データ化装置４２及び欠陥抽出装置４３に接続され、
コントローラ系４０内の各装置に指令を与えると共に検
査結果を出力する。なお、本実施例のレチクル検査装置
におけるオートフォーカス装置は、オートフォーカス光
学系３０並びにオートフォーカスコントローラ４８及び
耐物レンズ高さ調整用コントローラ４９により構成され
る。
【００３６】以下、本実施例に係るレチクル検査装置の
動作について説明する。先ず、検査用レーザ光ａ０によ
るレチクル１６の検査及びこの検査に伴う信号処理につ
いて説明する。図１に示すように、検査用レーザ光源１
１から−Ｘ方向に発振された検査用レーザ光ａ０は、テ
レスコープ１２によりビーム径が拡大され、ミラー１３
により下方、即ち−Ｚ方向に反射された後、ビームスプ
リッタ２０を透過し、対物レンズ１４により集光され、
レチクル１６に照射される。このとき、検査用レーザ光
ａ０はそのビームスポット径が最小になる位置の近傍に
てレチクル１６に照射される。なお、レチクル１６の位
置をレチクル１６に照射される検査用レーザ光ａ０のス
ポット径が最小になるように調整するオートフォーカス
動作については後述する。
動作について説明する。先ず、検査用レーザ光ａ０によ
るレチクル１６の検査及びこの検査に伴う信号処理につ
いて説明する。図１に示すように、検査用レーザ光源１
１から−Ｘ方向に発振された検査用レーザ光ａ０は、テ
レスコープ１２によりビーム径が拡大され、ミラー１３
により下方、即ち−Ｚ方向に反射された後、ビームスプ
リッタ２０を透過し、対物レンズ１４により集光され、
レチクル１６に照射される。このとき、検査用レーザ光
ａ０はそのビームスポット径が最小になる位置の近傍に
てレチクル１６に照射される。なお、レチクル１６の位
置をレチクル１６に照射される検査用レーザ光ａ０のス
ポット径が最小になるように調整するオートフォーカス
動作については後述する。
【００３７】レチクル１６はＸＹステージ１７上に搭載
されている。ＸＹステージ１７におけるレチクル１６の
搭載面は、対物レンズ１４の光軸ｃ０に対してほぼ垂直
になっている。ＸＹステージ１７はＸＹステージコント
ローラ４６からの信号を受けてレチクル１６をＸ方向及
びＹ方向に移動させる。これにより、レチクル１６上に
おける検査用レーザ光ａ０の照射スポットがレチクル１
６に対して相対的に移動する。ＸＹステージコントロー
ラ４６はＸＹステージ１７の座標データを画像データ化
装置４２に対して出力する。レチクル１６に集光照射さ
れた検査用レーザ光ａ０のうち、レチクル１６を透過し
た成分（検査用透過光ａ１）は、レンズ１８により検査
用センサ１９上に集光され、その光強度が透過光検査用
センサ１９により測定される。レチクル１６に集光照射
された検査用レーザ光ａ０のうち、レチクル１６により
反射された成分（検査用反射光ａ２）は、ビームスプリ
ッタ２０にて光路を−Ｘ方向に偏向された後、レンズ２
１により反射光検査用センサ２２上に集光され、その光
強度が検査用センサ２２により測定される。
されている。ＸＹステージ１７におけるレチクル１６の
搭載面は、対物レンズ１４の光軸ｃ０に対してほぼ垂直
になっている。ＸＹステージ１７はＸＹステージコント
ローラ４６からの信号を受けてレチクル１６をＸ方向及
びＹ方向に移動させる。これにより、レチクル１６上に
おける検査用レーザ光ａ０の照射スポットがレチクル１
６に対して相対的に移動する。ＸＹステージコントロー
ラ４６はＸＹステージ１７の座標データを画像データ化
装置４２に対して出力する。レチクル１６に集光照射さ
れた検査用レーザ光ａ０のうち、レチクル１６を透過し
た成分（検査用透過光ａ１）は、レンズ１８により検査
用センサ１９上に集光され、その光強度が透過光検査用
センサ１９により測定される。レチクル１６に集光照射
された検査用レーザ光ａ０のうち、レチクル１６により
反射された成分（検査用反射光ａ２）は、ビームスプリ
ッタ２０にて光路を−Ｘ方向に偏向された後、レンズ２
１により反射光検査用センサ２２上に集光され、その光
強度が検査用センサ２２により測定される。
【００３８】透過光検査用センサ１９及び反射光検査用
センサ２２により得られた光強度信号は画像データ化装
置４２に入力される。画像データ化装置４２は、透過光
検査用センサ１９及び反射光検査用センサ２２からの光
強度信号並びにＸＹステージコントローラ４６からのレ
チクル１６の座標データを処理し、レチクル１６の画像
データを作成し、この画像データから光強度分布を求め
る。例えば、レチクル１６に図２に示すようなラインア
ンドスペースパターンが形成されている場合は、レチク
ル１６の画像データの光強度分布は図３に示すようにな
る。この画像データを欠陥抽出装置４３に出力し、光強
度分布データを鮮明度解析装置４４に対して出力する。
欠陥抽出装置４３は、この画像データをレチクル１６の
設計データ等と比較処理し、レチクル１６の欠陥を抽出
する。このように作成されたレチクル１６の画像データ
及び欠陥のデータは、入出力装置４１を介して出力され
る。
センサ２２により得られた光強度信号は画像データ化装
置４２に入力される。画像データ化装置４２は、透過光
検査用センサ１９及び反射光検査用センサ２２からの光
強度信号並びにＸＹステージコントローラ４６からのレ
チクル１６の座標データを処理し、レチクル１６の画像
データを作成し、この画像データから光強度分布を求め
る。例えば、レチクル１６に図２に示すようなラインア
ンドスペースパターンが形成されている場合は、レチク
ル１６の画像データの光強度分布は図３に示すようにな
る。この画像データを欠陥抽出装置４３に出力し、光強
度分布データを鮮明度解析装置４４に対して出力する。
欠陥抽出装置４３は、この画像データをレチクル１６の
設計データ等と比較処理し、レチクル１６の欠陥を抽出
する。このように作成されたレチクル１６の画像データ
及び欠陥のデータは、入出力装置４１を介して出力され
る。
【００３９】次に、レチクル１６を対物レンズ１４に対
して最適距離に保持するためのオートフォーカス動作に
ついて説明する。Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源３１から−Ｘ方
向に発振されたオートフォーカス用レーザ光ｂ０は、ミ
ラー３２により対物レンズ１４の光軸ｃ０と平行で且つ
光軸ｃ０から＋Ｘ方向に離れた経路、即ち光軸ｃ０に対
してオフセットを持つ経路に反射される。その後、オー
トフォーカス用レーザ光ｂ０はミラー１３及びビームス
プリッタ２０を透過し、対物レンズ１４により集光さ
れ、レチクル１６上に光軸ｃ０に対して傾斜した方向か
ら照射される。オートフォーカス用レーザ光ｂ０はレチ
クル１６にて反射して再び対物レンズ１４を通り、光軸
ｃ０に平行且つ光軸ｃ０から−Ｘ方向に離れた経路を＋
Ｚ方向に進むオートフォーカス用反射光ｂ１となり、ビ
ームスプリッタ２０及びミラー１３を透過し、ポジショ
ンセンサ３３に入射する。ポジションセンサ３３はオー
トフォーカス用反射光ｂ１の入射位置を測定する。
して最適距離に保持するためのオートフォーカス動作に
ついて説明する。Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源３１から−Ｘ方
向に発振されたオートフォーカス用レーザ光ｂ０は、ミ
ラー３２により対物レンズ１４の光軸ｃ０と平行で且つ
光軸ｃ０から＋Ｘ方向に離れた経路、即ち光軸ｃ０に対
してオフセットを持つ経路に反射される。その後、オー
トフォーカス用レーザ光ｂ０はミラー１３及びビームス
プリッタ２０を透過し、対物レンズ１４により集光さ
れ、レチクル１６上に光軸ｃ０に対して傾斜した方向か
ら照射される。オートフォーカス用レーザ光ｂ０はレチ
クル１６にて反射して再び対物レンズ１４を通り、光軸
ｃ０に平行且つ光軸ｃ０から−Ｘ方向に離れた経路を＋
Ｚ方向に進むオートフォーカス用反射光ｂ１となり、ビ
ームスプリッタ２０及びミラー１３を透過し、ポジショ
ンセンサ３３に入射する。ポジションセンサ３３はオー
トフォーカス用反射光ｂ１の入射位置を測定する。
【００４０】本実施例のレチクル検査装置においては、
ポジションセンサ３３により測定されたオートフォーカ
ス用反射光ｂ１の入射位置と対物レンズ１４の高さとの
関係が一意的に決まる。即ち、対物レンズ１４の高さが
最適値であり、検査用レーザ光ａ０の焦点がレチクル１
６に合っている場合、ポジションセンサ３３におけるオ
ートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置は所定の位置に
なる。これに対して、レチクル１６の位置が＋Ｚ方向に
ずれるか又は対物レンズ１４の位置が−Ｚ方向にずれた
場合、即ち、レチクル１６と対物レンズ１４とが相互に
近づく方向に位置ずれを起こした場合、ポジションセン
サ３３においてオートフォーカス用反射光ｂ１が入射す
る位置は＋Ｘ方向に移動する。逆に、レチクル１６の位
置が−Ｚ方向にずれるか対物レンズ１４の位置が＋Ｚ方
向にずれた場合、即ち、レチクル１６と対物レンズ１４
とが相互に遠ざかる方向に位置ずれを起こした場合は、
ポジションセンサ３３においてオートフォーカス用反射
光ｂ１が入射する位置は−Ｘ方向に移動する。このた
め、ポジションセンサ３３においてオートフォーカス用
反射光ｂ１が入射する位置を測定することにより、レチ
クル１６と対物レンズ１４との間の距離が最適値である
かどうかを検知することができる。
ポジションセンサ３３により測定されたオートフォーカ
ス用反射光ｂ１の入射位置と対物レンズ１４の高さとの
関係が一意的に決まる。即ち、対物レンズ１４の高さが
最適値であり、検査用レーザ光ａ０の焦点がレチクル１
６に合っている場合、ポジションセンサ３３におけるオ
ートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置は所定の位置に
なる。これに対して、レチクル１６の位置が＋Ｚ方向に
ずれるか又は対物レンズ１４の位置が−Ｚ方向にずれた
場合、即ち、レチクル１６と対物レンズ１４とが相互に
近づく方向に位置ずれを起こした場合、ポジションセン
サ３３においてオートフォーカス用反射光ｂ１が入射す
る位置は＋Ｘ方向に移動する。逆に、レチクル１６の位
置が−Ｚ方向にずれるか対物レンズ１４の位置が＋Ｚ方
向にずれた場合、即ち、レチクル１６と対物レンズ１４
とが相互に遠ざかる方向に位置ずれを起こした場合は、
ポジションセンサ３３においてオートフォーカス用反射
光ｂ１が入射する位置は−Ｘ方向に移動する。このた
め、ポジションセンサ３３においてオートフォーカス用
反射光ｂ１が入射する位置を測定することにより、レチ
クル１６と対物レンズ１４との間の距離が最適値である
かどうかを検知することができる。
【００４１】ポジションセンサ３３において検出された
オートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置を示す信号
は、オートフォーカスコントローラ４８に入力されて処
理され、レチクル１６と対物レンズ１４との間の距離が
最適値からずれた場合、このずれを元に戻す信号が作成
されて対物レンズ高さ調整用コントローラ４９へ出力さ
れる。対物レンズ高さコントローラ４９は、入力された
信号に従って対物レンズ高さ調整装置１５の動作を制御
し、ポジションセンサ３３においてオートフォーカス用
反射光ｂ１が入射する位置が前記所定の位置になるよう
に対物レンズ１４の高さを調整する。これにより、対物
レンズ１４がレチクル１６に対して常に一定の距離を維
持するように調整される。この結果、レチクル１６の位
置が検査用レーザ光ａ０の最小スポット近傍に保持され
る。
オートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置を示す信号
は、オートフォーカスコントローラ４８に入力されて処
理され、レチクル１６と対物レンズ１４との間の距離が
最適値からずれた場合、このずれを元に戻す信号が作成
されて対物レンズ高さ調整用コントローラ４９へ出力さ
れる。対物レンズ高さコントローラ４９は、入力された
信号に従って対物レンズ高さ調整装置１５の動作を制御
し、ポジションセンサ３３においてオートフォーカス用
反射光ｂ１が入射する位置が前記所定の位置になるよう
に対物レンズ１４の高さを調整する。これにより、対物
レンズ１４がレチクル１６に対して常に一定の距離を維
持するように調整される。この結果、レチクル１６の位
置が検査用レーザ光ａ０の最小スポット近傍に保持され
る。
【００４２】次に、前述のポジションセンサ３３におけ
るオートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置と、対物レ
ンズ１４とレチクル１６との間の距離との関係が、長期
的に発生するレチクル検査装置の歪み等によってずれて
いないかどうかを診断する動作について説明する。鮮明
度解析装置４４が画像データ化処理装置４２より入力さ
れたレチクル１６の画像データの光強度分布データを処
理し、鮮明度データを得る。鮮明度データは、例えばレ
チクル１６上における種々の間隔のラインアンドスペー
スパターン（図２参照）から得られるＭＴＦデータで示
すことができる。
るオートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置と、対物レ
ンズ１４とレチクル１６との間の距離との関係が、長期
的に発生するレチクル検査装置の歪み等によってずれて
いないかどうかを診断する動作について説明する。鮮明
度解析装置４４が画像データ化処理装置４２より入力さ
れたレチクル１６の画像データの光強度分布データを処
理し、鮮明度データを得る。鮮明度データは、例えばレ
チクル１６上における種々の間隔のラインアンドスペー
スパターン（図２参照）から得られるＭＴＦデータで示
すことができる。
【００４３】以下、鮮明度データの作成方法を説明す
る。画像データ化装置４２から出力されたラインアンド
スペースパターン（図２参照）の画像データの光強度分
布データが鮮明度解析装置４４に入力される。この画像
データの光強度分布は図３に示すようなものになる。鮮
明度解析装置４４は、図３に示す光強度の最大値Ｉｍａ
ｘ及び最小値Ｉｍｉｎを求め、前記数式１によりＭＴＦ
を算出する。また、ラインアンドスペースパターンの周
期ｄ（図２参照）を求め、１ｍｍ当たりのライン本数Ｌ
ｉｎｅ（ｍｍ−１）を前記数式２により算出する。これ
により、前記ＭＴＦ及び１ｍｍ当たりのライン本数Ｌｉ
ｎｅから、図４に示すようなＭＴＦの特性データを得
る。このＭＴＦの特性データが鮮明度データになる。
る。画像データ化装置４２から出力されたラインアンド
スペースパターン（図２参照）の画像データの光強度分
布データが鮮明度解析装置４４に入力される。この画像
データの光強度分布は図３に示すようなものになる。鮮
明度解析装置４４は、図３に示す光強度の最大値Ｉｍａ
ｘ及び最小値Ｉｍｉｎを求め、前記数式１によりＭＴＦ
を算出する。また、ラインアンドスペースパターンの周
期ｄ（図２参照）を求め、１ｍｍ当たりのライン本数Ｌ
ｉｎｅ（ｍｍ−１）を前記数式２により算出する。これ
により、前記ＭＴＦ及び１ｍｍ当たりのライン本数Ｌｉ
ｎｅから、図４に示すようなＭＴＦの特性データを得
る。このＭＴＦの特性データが鮮明度データになる。
【００４４】次に、鮮明度解析装置４４（図１参照）が
前記鮮明度データを鮮明度判定装置４５に対して出力す
る。鮮明度判定装置４５はこの鮮明度データを予め設定
された基準データと比較し、許容範囲内かどうかを判断
する。鮮明度データが許容範囲内である場合は、オート
フォーカス装置が正常に作動していることになる。鮮明
度データが許容範囲外である場合は、オートフォーカス
装置が正常に作動していないことになる。判断結果は、
鮮明度判定装置４５等に記憶されると共に、入出力装置
４１を介して装置外部に出力される。このようにして、
前述のポジションセンサ３３におけるオートフォーカス
用反射光ｂ１の入射位置と、対物レンズ１４とレチクル
１６との間の距離との関係が初期の関係からずれていな
いかどうかを判定し、これにより、レチクル検査装置の
オートフォーカス機能が正常に作動しているかどうかを
診断する。
前記鮮明度データを鮮明度判定装置４５に対して出力す
る。鮮明度判定装置４５はこの鮮明度データを予め設定
された基準データと比較し、許容範囲内かどうかを判断
する。鮮明度データが許容範囲内である場合は、オート
フォーカス装置が正常に作動していることになる。鮮明
度データが許容範囲外である場合は、オートフォーカス
装置が正常に作動していないことになる。判断結果は、
鮮明度判定装置４５等に記憶されると共に、入出力装置
４１を介して装置外部に出力される。このようにして、
前述のポジションセンサ３３におけるオートフォーカス
用反射光ｂ１の入射位置と、対物レンズ１４とレチクル
１６との間の距離との関係が初期の関係からずれていな
いかどうかを判定し、これにより、レチクル検査装置の
オートフォーカス機能が正常に作動しているかどうかを
診断する。
【００４５】次に、ポジションセンサ３３におけるオー
トフォーカス用反射光ｂ１の入射位置と、対物レンズ１
４とレチクル１６との間の距離との関係が、レチクル検
査装置の構造において長期的に発生する歪み等によって
ずれた場合に、前述の関係を自動修正する動作ついて説
明する。図５（ａ）及び（ｂ）は、ポジションセンサ３
３におけるオートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置と
対物レンズ１４の高さとの関係を自動修正する動作を示
す模式図であり、（ａ）は前記関係が初期調整状態にあ
りレチクル検査装置が正常である場合を示し、（ｂ）は
長期的な構造物の歪み等によって前記関係がずれを起こ
し画像データの鮮明度が許容範囲外になった状態の一例
を示す。
トフォーカス用反射光ｂ１の入射位置と、対物レンズ１
４とレチクル１６との間の距離との関係が、レチクル検
査装置の構造において長期的に発生する歪み等によって
ずれた場合に、前述の関係を自動修正する動作ついて説
明する。図５（ａ）及び（ｂ）は、ポジションセンサ３
３におけるオートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置と
対物レンズ１４の高さとの関係を自動修正する動作を示
す模式図であり、（ａ）は前記関係が初期調整状態にあ
りレチクル検査装置が正常である場合を示し、（ｂ）は
長期的な構造物の歪み等によって前記関係がずれを起こ
し画像データの鮮明度が許容範囲外になった状態の一例
を示す。
【００４６】先ず、図５（ａ）に示すように、ポジショ
ンセンサ３３におけるオートフォーカス用反射光ｂ１の
入射位置と対物レンズ１４の高さとの関係が初期調整状
態にあり、レチクル検査装置が正常である場合について
説明する。対物レンズ１４が位置１４ａにあり、レチク
ル１６上において検査用レーザ光ａ０のビームスポット
が最小であるとき、即ち、検査用レーザ光ａ０の焦点が
レチクル１６に合っているとき、ポジションセンサ３３
におけるオートフォーカス用反射光ｂ１ａの入射位置は
位置ｐａになる。この状態を基準として、レチクル１６
の位置が＋Ｚ方向にずれると、ポジションセンサ３３に
おけるオートフォーカス用反射光ｂ１ａの入射位置は位
置ｐａから＋Ｘ方向にずれ、レチクル１６の位置が−Ｚ
方向にずれると、オートフォーカス用反射光ｂ１ａの入
射位置は位置ｐａから−Ｘ方向にずれる。このずれをポ
ジションセンサ３３が検知することによって、対物レン
ズ１４の位置を自動的に調整し、この結果、検査用レー
ザ光ａ０の焦点は常にレチクル１６に合致する。
ンセンサ３３におけるオートフォーカス用反射光ｂ１の
入射位置と対物レンズ１４の高さとの関係が初期調整状
態にあり、レチクル検査装置が正常である場合について
説明する。対物レンズ１４が位置１４ａにあり、レチク
ル１６上において検査用レーザ光ａ０のビームスポット
が最小であるとき、即ち、検査用レーザ光ａ０の焦点が
レチクル１６に合っているとき、ポジションセンサ３３
におけるオートフォーカス用反射光ｂ１ａの入射位置は
位置ｐａになる。この状態を基準として、レチクル１６
の位置が＋Ｚ方向にずれると、ポジションセンサ３３に
おけるオートフォーカス用反射光ｂ１ａの入射位置は位
置ｐａから＋Ｘ方向にずれ、レチクル１６の位置が−Ｚ
方向にずれると、オートフォーカス用反射光ｂ１ａの入
射位置は位置ｐａから−Ｘ方向にずれる。このずれをポ
ジションセンサ３３が検知することによって、対物レン
ズ１４の位置を自動的に調整し、この結果、検査用レー
ザ光ａ０の焦点は常にレチクル１６に合致する。
【００４７】しかしながら、図５（ｂ）に示すように、
レチクル検査装置の長期使用に伴う装置構造の歪み等に
よって、ポジションセンサ３３が−Ｘ方向に距離ｍだけ
ずれると、ポジションセンサ３３におけるオートフォー
カス用反射光１ｂの入射位置が相対的に＋Ｘ方向に距離
ｍだけ移動する。従って、検査用レーザ光ａ０の焦点が
レチクル１６に合っているとき、ポジションセンサ３３
におけるオートフォーカス用反射光１ｂの入射位置は位
置ｐｃになる。ポジションセンサ３３から見ると、位置
ｐｃは図５（ａ）に示す位置ｐａと比較して＋Ｘ方向に
距離ｍだけずれている。
レチクル検査装置の長期使用に伴う装置構造の歪み等に
よって、ポジションセンサ３３が−Ｘ方向に距離ｍだけ
ずれると、ポジションセンサ３３におけるオートフォー
カス用反射光１ｂの入射位置が相対的に＋Ｘ方向に距離
ｍだけ移動する。従って、検査用レーザ光ａ０の焦点が
レチクル１６に合っているとき、ポジションセンサ３３
におけるオートフォーカス用反射光１ｂの入射位置は位
置ｐｃになる。ポジションセンサ３３から見ると、位置
ｐｃは図５（ａ）に示す位置ｐａと比較して＋Ｘ方向に
距離ｍだけずれている。
【００４８】一方、ポジションセンサ３３上の位置ｐａ
及びｐｂは、ポジションセンサ３３から見て同じ位置で
ある。図５（ｂ）に示すように、ポジションセンサ３３
におけるオートフォーカス用反射光１ｂの入射位置が位
置ｐｃであると、オートフォーカスコントローラ４８は
レチクル１６が＋Ｚ方向にずれているか対物レンズ１４
が−Ｚ方向にずれていると判断し、対物レンズ高さコン
トローラ４９が対物レンズ高さ調整装置１５を作動さ
せ、オートフォーカス用反射光ｂ１ｂの入射位置がポジ
ションセンサ３３上の位置ｐｂになるように対物レンズ
１４の高さを＋Ｚ方向に調整する。この結果、対物レン
ズ１４の位置は位置１４ｂになる。対物レンズ１４が位
置１４ｂに位置していると、検査用レーザ光ａ０の最小
スポットがレチクル１６上に位置せず、検査用レーザ光
ａ０の焦点がレチクル１６の位置に合わないため、画像
データ化装置４２（図１参照）が作成するレチクル１６
の画像データの鮮明度が低下する。
及びｐｂは、ポジションセンサ３３から見て同じ位置で
ある。図５（ｂ）に示すように、ポジションセンサ３３
におけるオートフォーカス用反射光１ｂの入射位置が位
置ｐｃであると、オートフォーカスコントローラ４８は
レチクル１６が＋Ｚ方向にずれているか対物レンズ１４
が−Ｚ方向にずれていると判断し、対物レンズ高さコン
トローラ４９が対物レンズ高さ調整装置１５を作動さ
せ、オートフォーカス用反射光ｂ１ｂの入射位置がポジ
ションセンサ３３上の位置ｐｂになるように対物レンズ
１４の高さを＋Ｚ方向に調整する。この結果、対物レン
ズ１４の位置は位置１４ｂになる。対物レンズ１４が位
置１４ｂに位置していると、検査用レーザ光ａ０の最小
スポットがレチクル１６上に位置せず、検査用レーザ光
ａ０の焦点がレチクル１６の位置に合わないため、画像
データ化装置４２（図１参照）が作成するレチクル１６
の画像データの鮮明度が低下する。
【００４９】この結果、鮮明度解析装置４４（図１参
照）が画像データの鮮明度データを作成し、鮮明度判定
装置４５に対して出力すると、鮮明度判定装置４５が前
記鮮明度データと基準データを比較して前記画像データ
の鮮明度が許容範囲外であるとの判定を下し、この判定
結果をセンサ位置調整用ステージコントローラ４７に対
して出力する。センサ位置調整用ステージコントローラ
４７は、この信号に基づいてセンサ位置調整用ステージ
３４を作動させ、ポジションセンサ３３を＋Ｘ方向に距
離ｍだけ移動させる。これにより、ポジションセンサ３
３の位置が図５（ａ）に示す位置に戻り、これに伴って
対物レンズ１４が位置１４ａに戻り、レチクル１６面上
に再び検査光ａ０の最小スポットが照射されるようにな
る。このように、ポジションセンサ３３の位置ずれが自
動的に修正され、オートフォーカス機能が正常に維持さ
れる。なお、センサ位置調整用ステージ３４の制御結果
は鮮明度判定装置４５等に記憶されると共に、入出力装
置４１より装置外部に出力される。
照）が画像データの鮮明度データを作成し、鮮明度判定
装置４５に対して出力すると、鮮明度判定装置４５が前
記鮮明度データと基準データを比較して前記画像データ
の鮮明度が許容範囲外であるとの判定を下し、この判定
結果をセンサ位置調整用ステージコントローラ４７に対
して出力する。センサ位置調整用ステージコントローラ
４７は、この信号に基づいてセンサ位置調整用ステージ
３４を作動させ、ポジションセンサ３３を＋Ｘ方向に距
離ｍだけ移動させる。これにより、ポジションセンサ３
３の位置が図５（ａ）に示す位置に戻り、これに伴って
対物レンズ１４が位置１４ａに戻り、レチクル１６面上
に再び検査光ａ０の最小スポットが照射されるようにな
る。このように、ポジションセンサ３３の位置ずれが自
動的に修正され、オートフォーカス機能が正常に維持さ
れる。なお、センサ位置調整用ステージ３４の制御結果
は鮮明度判定装置４５等に記憶されると共に、入出力装
置４１より装置外部に出力される。
【００５０】このように、本実施例に係るレチクル検査
装置においては、オートフォーカス機能が正常に作動し
ているかどうかを自己診断する機能を有しているため、
検査不良を生じる前に、オートフォーカス機能の不具合
発生の予測が可能となる。また装置のメンテナンス時期
を予測することができるため、予めユーザと相談の上メ
ンテナンス時期を決定できる等の準備が可能となり、メ
ンテナンスによる装置の停止期間を最小限に抑えること
ができる。
装置においては、オートフォーカス機能が正常に作動し
ているかどうかを自己診断する機能を有しているため、
検査不良を生じる前に、オートフォーカス機能の不具合
発生の予測が可能となる。また装置のメンテナンス時期
を予測することができるため、予めユーザと相談の上メ
ンテナンス時期を決定できる等の準備が可能となり、メ
ンテナンスによる装置の停止期間を最小限に抑えること
ができる。
【００５１】更に、本実施例に係るレチクル検査装置に
おいては、自動修正機能も備えているため、レチクル検
査装置の長期の使用に伴う装置構造の歪み等によりポジ
ションセンサ３３の位置がずれを生じてもそのずれを修
正でき、長期に渡ってフォーカスずれの発生を防止する
ことができる。このため、メンテナンスの頻度を減らす
ことができる。
おいては、自動修正機能も備えているため、レチクル検
査装置の長期の使用に伴う装置構造の歪み等によりポジ
ションセンサ３３の位置がずれを生じてもそのずれを修
正でき、長期に渡ってフォーカスずれの発生を防止する
ことができる。このため、メンテナンスの頻度を減らす
ことができる。
【００５２】次に、本発明の第２の実施例について説明
する。図６は本実施例に係るレチクル検査装置の構成を
示す模式図である。なお、本実施例に係るレチクル検査
装置の構成要素について、前述の第１の実施例に係るレ
チクル検査装置（図１参照）の構成要素と同一の構成要
素には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。図６
に示すように、本実施例に係るレチクル検査装置は検査
光学系１０、オートフォーカス光学系３０ａ及びコント
ローラ系４０ａから構成されている。本実施例のレチク
ル検査装置における検査光学系１０は、第１の実施例に
示すレチクル検査装置における検査光学系１０と同一で
ある。また、本実施例のレチクル検査装置におけるオー
トフォーカス光学系３０ａは、第１の実施例に示すレチ
クル検査装置におけるオートフォーカス光学系３０と比
較して、ポジションセンサ３３の位置を調整するための
センサ位置調整用ステージ３４（図１参照）が省略され
ている。更に、本実施例のレチクル検査装置におけるコ
ントローラ系４０ａは、第１の実施例に示すレチクル検
査装置におけるコントローラ系４０と比較して、ステー
ジ３４を制御するためのステージコントローラ４７（図
１参照）が省略されている。その代わり、鮮明度判定装
置４５の判定信号が対物レンズ高さ調整用コントローラ
４９ａに入力されるようになっており、また、高さ調整
用コントローラ４９ａは、鮮明度判定装置４５から入力
された判定信号に基づいて、対物レンズ１４の高さにオ
フセットを追加する機能を有している。本実施例に係る
レチクル検査装置における前記以外の構成は、前述の第
１の実施例に係るレチクル検査装置の構成と同一であ
る。
する。図６は本実施例に係るレチクル検査装置の構成を
示す模式図である。なお、本実施例に係るレチクル検査
装置の構成要素について、前述の第１の実施例に係るレ
チクル検査装置（図１参照）の構成要素と同一の構成要
素には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。図６
に示すように、本実施例に係るレチクル検査装置は検査
光学系１０、オートフォーカス光学系３０ａ及びコント
ローラ系４０ａから構成されている。本実施例のレチク
ル検査装置における検査光学系１０は、第１の実施例に
示すレチクル検査装置における検査光学系１０と同一で
ある。また、本実施例のレチクル検査装置におけるオー
トフォーカス光学系３０ａは、第１の実施例に示すレチ
クル検査装置におけるオートフォーカス光学系３０と比
較して、ポジションセンサ３３の位置を調整するための
センサ位置調整用ステージ３４（図１参照）が省略され
ている。更に、本実施例のレチクル検査装置におけるコ
ントローラ系４０ａは、第１の実施例に示すレチクル検
査装置におけるコントローラ系４０と比較して、ステー
ジ３４を制御するためのステージコントローラ４７（図
１参照）が省略されている。その代わり、鮮明度判定装
置４５の判定信号が対物レンズ高さ調整用コントローラ
４９ａに入力されるようになっており、また、高さ調整
用コントローラ４９ａは、鮮明度判定装置４５から入力
された判定信号に基づいて、対物レンズ１４の高さにオ
フセットを追加する機能を有している。本実施例に係る
レチクル検査装置における前記以外の構成は、前述の第
１の実施例に係るレチクル検査装置の構成と同一であ
る。
【００５３】次に、本実施例に係るレチクル検査装置の
動作について説明する。図５（ｂ）に示すように、レチ
クル検査装置の長期使用に伴う装置構造の歪み等によっ
て、ポジションセンサ３３が−Ｘ方向に距離ｍだけ移動
した場合、オートフォーカス制御の設定が初期設定のま
まであれば、前述の第１の実施例と同様に、対物レンズ
１４の位置は位置１４ｂに調整される。このため、レチ
クル１６上に検査用レーザ光ａ０の最小スポットが位置
しないため、画像データの鮮明度が低下する。このと
き、鮮明度判定装置４５が画像データの鮮明度が許容範
囲外であるとの判定を下し、この判定信号が対物レンズ
高さ調整用コントローラ４９ａへ送られる。対物レンズ
高さ調整用コントローラ４９ａは、この判定信号に基づ
いて対物レンズ１４の位置にオフセットを追加し、対物
レンズ１４が位置１４ｂから位置１４ａへ移動するよう
に対物レンズ高さ調整装置１５を作動させる。これによ
り、レチクル１６面上に再び検査光ａ０の最小スポット
が照射されるようになる。この対物レンズ高さ調整装置
１５の制御結果は、鮮明度判定装置４５等に記憶される
と共に、入出力装置４１より装置外部に出力される。
動作について説明する。図５（ｂ）に示すように、レチ
クル検査装置の長期使用に伴う装置構造の歪み等によっ
て、ポジションセンサ３３が−Ｘ方向に距離ｍだけ移動
した場合、オートフォーカス制御の設定が初期設定のま
まであれば、前述の第１の実施例と同様に、対物レンズ
１４の位置は位置１４ｂに調整される。このため、レチ
クル１６上に検査用レーザ光ａ０の最小スポットが位置
しないため、画像データの鮮明度が低下する。このと
き、鮮明度判定装置４５が画像データの鮮明度が許容範
囲外であるとの判定を下し、この判定信号が対物レンズ
高さ調整用コントローラ４９ａへ送られる。対物レンズ
高さ調整用コントローラ４９ａは、この判定信号に基づ
いて対物レンズ１４の位置にオフセットを追加し、対物
レンズ１４が位置１４ｂから位置１４ａへ移動するよう
に対物レンズ高さ調整装置１５を作動させる。これによ
り、レチクル１６面上に再び検査光ａ０の最小スポット
が照射されるようになる。この対物レンズ高さ調整装置
１５の制御結果は、鮮明度判定装置４５等に記憶される
と共に、入出力装置４１より装置外部に出力される。
【００５４】なお、対物レンズ１４の高さに加えるオフ
セット量を決定する手段には、例えば次のような方法が
ある。図７は横軸に対物レンズ１４の高さをとり、縦軸
にレチクル１６の画像データの鮮明度の指標値をとっ
て、対物レンズ高さと鮮明度との関係を示すグラフ図で
ある。修正前のオートフォーカス位置に相当する対物レ
ンズ１４の高さを中心とした上下数点の高さにおいて、
レチクル１６のパターンを測定し、その鮮明度データを
求める。得られた鮮明度データより、この対物レンズの
位置と鮮明度との関係を求める。この関係は図７のよう
に示される。図７において、鮮明度が最も高くなる対物
レンズの位置Ａと、修正前のオートフォーカス位置に相
当する対物レンズの位置Ｂとの差Ｘをオフセット量とす
る。
セット量を決定する手段には、例えば次のような方法が
ある。図７は横軸に対物レンズ１４の高さをとり、縦軸
にレチクル１６の画像データの鮮明度の指標値をとっ
て、対物レンズ高さと鮮明度との関係を示すグラフ図で
ある。修正前のオートフォーカス位置に相当する対物レ
ンズ１４の高さを中心とした上下数点の高さにおいて、
レチクル１６のパターンを測定し、その鮮明度データを
求める。得られた鮮明度データより、この対物レンズの
位置と鮮明度との関係を求める。この関係は図７のよう
に示される。図７において、鮮明度が最も高くなる対物
レンズの位置Ａと、修正前のオートフォーカス位置に相
当する対物レンズの位置Ｂとの差Ｘをオフセット量とす
る。
【００５５】このように、本実施例においては、前述の
第１の実施例のように、センサ位置調整用ステージ３４
（図１参照）によりポジションセンサ３３を移動させる
代わりに、対物レンズ高さ調整用コントローラ４９ａが
対物レンズ１４の高さにオフセット量を付与することに
より、オートフォーカス動作を補正する。これにより、
装置構造の歪み等によってオートフォーカス光学系に狂
いが生じても、その狂いが自動的に修正される。このた
め、本実施例においては、前述の第１の実施例の効果に
加えて、ポジションセンサ３３の位置を調整するセンサ
位置調整用ステージ３４及びステージコントローラ４７
を省略できるため、装置の構造を簡略化できるという効
果が得られる。
第１の実施例のように、センサ位置調整用ステージ３４
（図１参照）によりポジションセンサ３３を移動させる
代わりに、対物レンズ高さ調整用コントローラ４９ａが
対物レンズ１４の高さにオフセット量を付与することに
より、オートフォーカス動作を補正する。これにより、
装置構造の歪み等によってオートフォーカス光学系に狂
いが生じても、その狂いが自動的に修正される。このた
め、本実施例においては、前述の第１の実施例の効果に
加えて、ポジションセンサ３３の位置を調整するセンサ
位置調整用ステージ３４及びステージコントローラ４７
を省略できるため、装置の構造を簡略化できるという効
果が得られる。
【００５６】なお、本実施例においては、鮮明度判定装
置４５の判定信号が対物レンズ高さ調整用コントローラ
４９ａに入力され、対物レンズ高さ調整用コントローラ
４９ａが対物レンズ１４の高さにオフセットを加える例
を示したが、本発明においては、鮮明度判定装置４５の
判定信号がオートフォーカスコントローラ４８に入力さ
れるような構成とし、オートフォーカスコントローラ４
８に対物レンズ１４の高さにオフセットを加える機能を
持たせてもよい。
置４５の判定信号が対物レンズ高さ調整用コントローラ
４９ａに入力され、対物レンズ高さ調整用コントローラ
４９ａが対物レンズ１４の高さにオフセットを加える例
を示したが、本発明においては、鮮明度判定装置４５の
判定信号がオートフォーカスコントローラ４８に入力さ
れるような構成とし、オートフォーカスコントローラ４
８に対物レンズ１４の高さにオフセットを加える機能を
持たせてもよい。
【００５７】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
装置の歪み等によるオートフォーカス機能の誤差の発生
を自動的に診断することができ、信頼性が高いレチクル
検査装置を得ることができる。また、前記オートフォー
カス機能の誤差を自動的に修正することができ、長期間
に亘って安定的に動作することができるレチクル検査装
置を得ることができる。
装置の歪み等によるオートフォーカス機能の誤差の発生
を自動的に診断することができ、信頼性が高いレチクル
検査装置を得ることができる。また、前記オートフォー
カス機能の誤差を自動的に修正することができ、長期間
に亘って安定的に動作することができるレチクル検査装
置を得ることができる。
【図１】本発明の第１の実施例に係るレチクル検査装置
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図２】レチクル１６におけるラインアンドスペースパ
ターンの形状を示す断面図である。
ターンの形状を示す断面図である。
【図３】横軸にレチクル基板１６ａ上のラインアンドス
ペースパターンの配列方向における位置をとり、縦軸に
このラインアンドスペースパターンを本実施例のレチク
ル検査装置により検査して得られた画像の光強度をとっ
て、レチクル１６の画像データにおける光強度分布を示
すグラフ図である。
ペースパターンの配列方向における位置をとり、縦軸に
このラインアンドスペースパターンを本実施例のレチク
ル検査装置により検査して得られた画像の光強度をとっ
て、レチクル１６の画像データにおける光強度分布を示
すグラフ図である。
【図４】横軸に１ｍｍ当たりのライン本数Ｌｉｎｅをと
り、縦軸にＭＴＦをとって、ＭＴＦの特性を示すグラフ
図である。
り、縦軸にＭＴＦをとって、ＭＴＦの特性を示すグラフ
図である。
【図５】（ａ）及び（ｂ）は、ポジションセンサ３３に
おけるオートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置と対物
レンズ１４の高さとの関係を自動修正する動作を示す模
式図であり、（ａ）は前記関係が初期調整状態にありレ
チクル検査装置が正常である場合を示し、（ｂ）は長期
的な構造物の歪み等によって前記関係がずれを起こし画
像データの鮮明度が許容範囲外になった場合を示す。
おけるオートフォーカス用反射光ｂ１の入射位置と対物
レンズ１４の高さとの関係を自動修正する動作を示す模
式図であり、（ａ）は前記関係が初期調整状態にありレ
チクル検査装置が正常である場合を示し、（ｂ）は長期
的な構造物の歪み等によって前記関係がずれを起こし画
像データの鮮明度が許容範囲外になった場合を示す。
【図６】本発明の第２の実施例に係るレチクル検査装置
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図７】横軸に対物レンズ１４の高さをとり、縦軸にレ
チクル１６の画像データの鮮明度をとって、対物レンズ
高さと鮮明度との関係を示すグラフ図である。
チクル１６の画像データの鮮明度をとって、対物レンズ
高さと鮮明度との関係を示すグラフ図である。
【図８】従来の斜入射法によるオートフォーカス装置を
示す模式図である。
示す模式図である。
１０；検査光学系
１１；検査用レーザ光源
１２；テレスコープ
１３；ミラー
１４；対物レンズ
１４ａ、１４ｂ；位置
１５；対物レンズ高さ調整装置
１６；レチクル
１７；ＸＹステージ
１８；レンズ
１９；透過光検査用センサ
２０；ビームスプリッタ
２１；レンズ
２２；反射光検査用センサ
３０、３０ａ、３０ｂ；オートフォーカス光学系
３１；Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源
３２；ミラー
３３；ポジションセンサ
３４；センサ位置調整用ステージ
４０、４０ａ、４０ｂ；コントローラ系
４１；入出力装置
４２；画像データ化装置
４３；欠陥抽出装置
４４；鮮明度解析装置
４５；鮮明度判定装置
４６；ＸＹステージコントローラ
４７；ステージコントローラ
４８；オートフォーカスコントローラ
４９；対物レンズ高さ調整用コントローラ
ａ０；検査用レーザ光
ａ１；検査用透過光
ａ２；検査用反射光
ｂ０；オートフォーカス用レーザ光
ｂ１、ｂ１ａ、ｂ１ｂ；オートフォーカス用反射光
ｃ０；対物レンズの光軸
ｐａ、ｐｂ、ｐｃ；位置
ｍ；距離
Ａ；画像の鮮明度が最も高くなる対物レンズの位置
Ｂ；修正前のオートフォーカス位置に相当する対物レン
ズの位置 Ｘ；ＡとＢとの差（オフセット量）
ズの位置 Ｘ；ＡとＢとの差（オフセット量）
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０２Ｂ 7/28 Ｇ０３Ｆ 1/08 Ｓ ２Ｈ０９５
7/32 Ｇ０１Ｂ 11/30 Ａ
7/36 Ｇ０２Ｂ 7/11 Ｎ
21/00 Ｈ
Ｇ０３Ｆ 1/08 Ｐ
// Ｇ０１Ｂ 11/24 Ｂ
11/30 Ｄ
Ｇ０１Ｂ 11/24 Ｆ
Ｆターム(参考） 2F065 AA49 AA56 CC18 GG04 JJ05
JJ16 PP12 QQ25 QQ31 RR08
2G051 AA56 AB07 BA10 BB03 CA01
CB01 CB02 DA07 DA09
2H044 AJ06 DA01 DC01
2H051 AA00 BA41 BB24 BB27 DB10
2H052 AC04 AC05 AC34 AD09 AD19
AF02 AF25
2H095 BD04 BD13 BD20
Claims (4)
- 【請求項１】 レチクルにおける欠陥の有無を検査する
レチクル検査装置において、検査用レーザ光を発振する
検査用レーザ光源と、この検査用レーザ光を集光して前
記レチクルに照射する対物レンズと、前記レチクルによ
り反射された前記検査用レーザ光及び前記レチクルを透
過した前記検査用レーザ光により前記レチクルの画像を
作成し前記レチクルにおける欠陥の有無を検査する画像
作成装置と、前記対物レンズを介して前記対物レンズの
軸に対して傾斜した方向から前記レチクルにオートフォ
ーカス用レーザ光を照射するオートフォーカス用レーザ
光源と、前記レチクルにより反射された前記オートフォ
ーカス用レーザ光が前記対物レンズを介して入射されこ
の入射位置を検出するポジションセンサと、このポジシ
ョンセンサの検出結果に基づいて前記対物レンズと前記
レチクルとの間の距離を算出し前記対物レンズの高さを
調節して前記検査用レーザ光の焦点位置を前記レチクル
の検査位置に一致させる対物レンズ高さ調節装置と、前
記レチクルの画像の鮮明度を解析しこの鮮明度が許容範
囲内にあるかどうかを評価する鮮明度評価装置と、を有
することを特徴とするレチクル検査装置。 - 【請求項２】 前記鮮明度評価装置は、前記鮮明度の評
価結果を予め設定された基準データと比較して前記ポジ
ションセンサの位置が許容範囲内にあるかどうかを評価
することを特徴とする請求項１に記載のレチクル検査装
置。 - 【請求項３】 前記鮮明度評価装置による評価結果に基
づいて前記ポジションセンサの位置を調節するポジショ
ンセンサ位置調節装置を有することを特徴とする請求項
１又は２に記載のレチクル検査装置。 - 【請求項４】 前記鮮明度評価装置による評価結果に基
づいて前記対物レンズ高さ調節装置により前記対物レン
ズの高さを調節することを特徴とする請求項１又は２に
記載のレチクル検査装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001258532A JP2003066341A (ja) | 2001-08-28 | 2001-08-28 | レチクル検査装置 |
| TW091118780A TW548441B (en) | 2001-08-28 | 2002-08-20 | Reticle inspection apparatus |
| US10/224,559 US7065240B2 (en) | 2001-08-28 | 2002-08-21 | Reticle inspection apparatus |
| KR1020020050819A KR20030019142A (ko) | 2001-08-28 | 2002-08-27 | 레티클 검사 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001258532A JP2003066341A (ja) | 2001-08-28 | 2001-08-28 | レチクル検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003066341A true JP2003066341A (ja) | 2003-03-05 |
Family
ID=19086036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001258532A Pending JP2003066341A (ja) | 2001-08-28 | 2001-08-28 | レチクル検査装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7065240B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003066341A (ja) |
| KR (1) | KR20030019142A (ja) |
| TW (1) | TW548441B (ja) |
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| KR100699899B1 (ko) | 2006-05-08 | 2007-03-28 | 삼성전자주식회사 | 집적회로 장치 제조용 마스크 검사 장치 및 그 검사 방법 |
| KR100701974B1 (ko) | 2005-12-14 | 2007-03-30 | 나노전광 주식회사 | 광위상 간섭계를 이용한 포토마스크 표면의 헤이즈검출장치 및 그 검출방법 |
| JP2008008804A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置 |
| JP2009198403A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Fujinon Corp | スポット特性測定における被検光学系位置調整方法および装置 |
| KR20150088197A (ko) * | 2014-01-23 | 2015-07-31 | 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 | 초점 위치 조정 방법 및 검사 방법 |
| JP2018096766A (ja) * | 2016-12-12 | 2018-06-21 | 株式会社日立製作所 | 異物検査装置 |
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| TW200715833A (en) * | 2005-10-03 | 2007-04-16 | Chroma Ate Inc | Auto-focusing method and application thereof |
| JP2007248086A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置 |
| KR100758198B1 (ko) * | 2006-10-25 | 2007-09-12 | 주식회사 힘스 | 오토포커싱 장치 |
| US7633531B2 (en) * | 2006-12-31 | 2009-12-15 | General Electric Company | Systems and methods for quantitatively assessing the quality of an image produced by an imaging system |
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| JP5525739B2 (ja) | 2008-09-16 | 2014-06-18 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
| WO2012112894A2 (en) * | 2011-02-18 | 2012-08-23 | Applied Materials Israel, Ltd. | Focusing a charged particle imaging system |
| KR101278249B1 (ko) * | 2011-06-01 | 2013-06-24 | 주식회사 나노텍 | 유리기판 에지부의 결함유무 검출을 위한 장치 및 방법 |
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| FR3034868A1 (fr) * | 2015-04-13 | 2016-10-14 | Airbus Defence & Space Sas | Procede et dispositif de controle laser d'une surface |
| WO2017149505A1 (en) * | 2016-03-03 | 2017-09-08 | Guy Davidi | Loupe camera |
| KR102107998B1 (ko) * | 2018-03-27 | 2020-05-08 | 주식회사 이오비스 | 자동 초점 조절 모듈 및 이를 구비한 표면 결함 검출 장치 |
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|---|---|---|---|---|
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| JP2796316B2 (ja) * | 1988-10-24 | 1998-09-10 | 株式会社日立製作所 | 欠陥または異物の検査方法およびその装置 |
| JP2594715B2 (ja) * | 1991-04-12 | 1997-03-26 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 自動焦点合わせ方法 |
| US5539514A (en) * | 1991-06-26 | 1996-07-23 | Hitachi, Ltd. | Foreign particle inspection apparatus and method with front and back illumination |
| DE69208413T2 (de) * | 1991-08-22 | 1996-11-14 | Kla Instr Corp | Gerät zur automatischen Prüfung von Photomaske |
| EP0853856B1 (en) * | 1995-10-02 | 2004-12-22 | KLA-Tencor Corporation | Alignment correction prior to image sampling in inspection systems |
| JPH1030988A (ja) | 1996-07-15 | 1998-02-03 | Hitachi Ltd | 自動焦点補正方法及びその装置 |
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