JP3816627B2 - パターン検査装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明はパターン検査装置、更に詳しくは検査対象位置における合焦方式の部分に特徴のあるパターン検査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年半導体技術の発達に伴い、シリコンウエーハや液晶用石英基板上に作成されるパターンはますます微細化している。これに伴い、デバイス検査工程において、その微細構造を確実、高精度に検出することが重要になっている。
【0003】
半導体製造の検査工程では、顕微鏡の撮像部にて取り込まれた画像を画像処理し、微小寸法を測定するパターン検査装置が広く用いられている。上記微細構造を確実、高精度に検出するためには、検査対象位置,検査が寸法測定である場合には測定部位における確実な合焦が必要である。
【0004】
一般的に、このような検査装置では、標本との距離を調整する手段及び結像手段が画像処理部に接続され、画像処理部の処理に基づき、画像内の全面又は固定された一部範囲内のコントラストが最大になるように標本と結像手段との距離が調整される。また、他の合焦方法では、レーザを用い、画像内の特定スポットに対しピント合わせをすることも行われている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記画像内の全面もしくは所定範囲のコントラストを最大にする合焦手段やレーザを用いた合焦手段では、特に微小寸法の測定対象となる測定部位自体を合焦するわけではない。
【0006】
従来の合焦方法でも画像全体もしくは所定範囲付近での合焦が確保されるので、測定部位においてもある程度の合焦はなされている。しかしながら、画像全体の合焦によってその画像内の測定部位の合焦が完全になされるとは限らず、また、上述したように、パターンの更なる微細化に対応し、測定部位における確実かつ高精度な合焦を実現するには、従来の方法では合焦の程度が必ずしも十分とはいえない場合もある。
【0007】
すなわち、多くの場合、合焦時のコントラストの評価部分が測定したい部位に1対1で対応しないため、微小パターンでの寸法測定において測定部位で十分に合焦していない場合があり、誤差を発生させる原因となっている。
【0008】
本発明は、このような実情を考慮してなされたもので、検査対象位置における合焦を確実に確保し、微小パターンでの寸法測定誤差等,検査誤差の少ないパターン検査装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、標本に対する合焦を行って検査対象位置を検査するパターン検査装置において、標本を撮像する撮像手段と、標本像を前記撮像手段に投影する結像手段と、結像手段と標本との距離を調整する位置調整手段と、撮像手段により、取り込まれた画像の内での位置特定形状を検出する画像処理手段と、画像処理手段により検出された位置特定形状の位置に基づき、検査対象位置を特定する検査対象特定手段と、位置調整手段により結像手段,標本間の距離を変更し、前記検査対象位置で合焦検出を行う合焦位置検出手段とを備えたパターン検査装置である。
【0010】
また本発明は、標本に対する合焦を行って検査対象位置を検査するパターン検査装置において、標本を撮像する撮像手段と、標本像を前記撮像手段に投影する結像手段と、結像手段と標本との距離を調整する位置調整手段と、撮像手段により、取り込まれた画像の内での位置特定形状を検出する画像処理手段と、画像処理手段により検出された位置特定形状の位置に基づき、検査対象位置を特定する検査対象特定手段と、位置調整手段により結像手段,標本間の距離を変更し、各距離における検査対象位置での画像コントラストを評価し、この画像コントラストが最大となる位置を合焦位置とする合焦位置検出手段とを備えたパターン検査装置である。
【0011】
また本発明は、標本に対する合焦を行って検査対象位置を検査するパターン検査装置において、前記標本を撮像する撮像手段と、標本像を前記撮像手段に投影する結像手段と、前記結像手段と前記標本との距離を調整する位置調整手段と、前記撮像手段によって取り込まれる画像内で、標本における位置を特定する基準となる位置特定形状及びこの位置特定形状と前記検査対象位置との相対位置情報を保存する位置特定情報記憶手段と、前記撮像手段によって取り込まれた画像の内での前記位置特定形状を検出する画像処理手段と、前記画像処理手段により検出された前記位置特定形状の位置及び前記相対位置情報に基づき、前記検査対象位置を特定する検査対象特定手段と、前記位置調整手段により前記結像手段,前記標本間の距離を変更し、各距離における前記検査対象位置での画像コントラストを評価し、この画像コントラストが最大となる位置を合焦位置とする合焦位置検出手段とを備えたことを特徴とするパターン検査装置である。
【0012】
(作用)したがって、本発明のパターン検査装置においては、撮像手段により取り込まれた画像の内において、画像処理手段によって位置特定形状が検出される。この位置特定形状は、標本内の画像認識しやすい形状が予め選択され設定されている。
【0013】
また、検査対象特定手段によって、検出された位置特定形状の位置に基づき、検査対象位置が特定される。合焦位置検出手段による指令により、位置調整手段による結像手段,標本間の距離が変更され、その検査対象位置で合焦が検出される。
【0014】
本発明では、この合焦位置で標本に対する合焦を行って検査対象位置が検査されるため、検査対象位置における合焦が確実に確保され、微小パターンでの寸法測定誤差等,検査誤差の少ないパターン検査装置とすることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
(発明の第1の実施の形態)
図1は本発明の実施の形態に係るパターン検査装置の一例を示す構成図である。
【0018】
このパターン検査装置は、標本16をセット可能に構成された特に図示しない標本セット部、撮像部12、結像手段13及び対物・標本間距離可動部15からなる顕微鏡装置と、撮像結果を処理し、また顕微鏡装置に対する制御を行う画像処理装置1とによって構成されている。ここで画像処理装置1は、例えば磁気ディスク等の記録媒体に記録されたプログラムを読み込み、このプログラムによって動作が制御される計算機によって実現される。
【0019】
標本16の像は、顕微鏡装置の対物レンズ14と各種の光学素子からなる結像手段13によって撮像部12に結像される。撮像部12によって取り込まれた画像信号は、画像処理装置1に送られ、入力段処理部2を経たのち、各処理部3,4,5及び6にわたされる。
【0020】
画像処理装置1には、入出力処理部8を介して入力装置9,記憶装置10及び出力装置11が接続されており、また、検査対象位置の特定、合焦及び寸法測定のために、画像記憶部3、画像検出部4、コントラスト検出部5、寸法測定部6及び対物・標本間距離制御部7が設けられている。この画像処理装置1においては、図示しない制御手段により各処理部の動作が制御され、合焦、寸法測定等の一連の処理が行われるようになっている。
【0021】
図2は本実施形態のパターン検査装置における測定部位検出及び合焦を説明するための図である。図2(A)は撮像部12によって取り込まれたある測定部位設定用の画像例を示し、同図(B)は実際のパターン検査時の画像例を示している。
【0022】
まず、測定部位設定時には、同図(A)の画面19aにおいて、特徴モデル17aに座標を特定するための基準点17bが設けられ、基準点17bに対する画面上の距離x,yを指定することで測定モデル18a上の測定部位18bが特定される。
【0023】
また、パターン検査時には、同図(B)に示す撮像画面19b中の特徴モデル17cが検出され、この特徴モデル17cとの位置関係により測定モデル18cの位置が特定され、合焦され、さらに測定部位18dの寸法測定が行われる。合焦は測定モデル18cに対して行われ、これにより測定対象位置の確実かつ高精度な合焦が実現される。
【0024】
このような処理を実現するために、画像処理装置1の各処理部には以下のような機能が設けられている。
画像記憶部3は、撮像部12からの画像情報を保存する他、測定部位の位置検出情報として、例えば図2(A)の特徴モデル17aの形状及びその基準点17bと、測定モデル18aの形状及びその測定部位18bと、さらに特徴モデル17aの基準点17bからの測定部位18bの位置情報(x,y)とを記憶する。また、画像記憶部3は、図2(A)と同様な測定部位の位置検出情報を複数種類の標本について記憶可能である。
【0025】
画像検出部4は、入力段処理部2を介して入力された画像及び特徴モデルの形状に基づき、画像処理によって画像中の特徴モデルの検出を行う。具体的には撮像画像を2値化し、これをさらに複数のブロックに分割し、各ブロックを画像記憶部3に記憶された特徴モデル形状と比較することで特徴モデルを検出する。また、特徴モデル17cを検出することで、さらに、位置検出情報より測定モデル18c及び測定部位18dの位置を特定し、コントラスト検出部5及び寸法測定部6に通知する。
【0026】
対物・標本間距離制御部7は、顕微鏡装置の対物・標本間距離可動部15の動作を制御する。また、特徴モデルの検出がされると所定のアルゴリズムに従って、顕微鏡装置の対物・標本間距離可動部15を制御し対物レンズ14の位置を調整する。
【0027】
コントラスト検出部5は、距離テーブルを備え、対物・標本間距離可動部15の合焦動作時に各動作位置におけるコントラスト情報を検出し保存するとともに、コントラストが最大となる対物レンズ位置,すなわち合焦位置を決定する。
【0028】
寸法測定部6は、最終的に対物レンズ14が合焦位置に調整されたときに、測定部位の寸法を測定し、その寸法値を格納する。
入出力処理部8は、画像処理装置1と入力装置9,記憶装置10及び出力装置11間において、測定部位の位置検出情報の設定や保存、測定された寸法の保存、又は位置検出情報の設定時や寸法測定時等の画像出力等についての入出力を処理するようになっている。
【0029】
記憶装置10は、各種の標本についての測定部位の位置検出情報やパターン検査された各測定部位の寸法測定結果等を保存する。
出力装置11は、CRTや液晶ディスプレイ等の表示装置からなる。
【0030】
次に、以上のように構成された本発明の実施の形態に係るパターン検査装置の動作について説明する。
このパターン検査装置は、例えば半導体製造工程における検査工程において使用される。検査対象となるウエーハ上の製品もしくは半製品が順次標本セット部に自動的にセットされ、後述するフローによりデバイス線幅等の測定部位が自動的に測定される。
【0031】
この測定部位の測定にあたり、検査対象となるデバイスの測定部位の位置検出情報が画像記憶部3に設定される。
この設定作業においては、まず、データ設定用の標本についての画像が出力装置11上に例えば図2(A)に示すような状態で表示される。
【0032】
データ設定者は、マウスやトラックボール等のポインティングデバイスにより、ウエーハ内の位置特定を行うための特徴モデル17aを指定する。具体的にはまず、基準点17bを設定し、それから対角となる点17eをトラックボールで特定すると、基準点17bと点17eを対角点とする長方形領域が設定され、これにより特徴モデル17aが特定される。なお、ここで特徴モデルとして選ばれるのは、特徴的な配線パターンなどの画像認識しやすい形状である。
【0033】
次に、測定モデル18a上の測定部位18bの中心点をトラックボールで入力すると、基準点17bと測定部位18bとのx方向距離及びy方向距離が演算され位置情報(x,y)が決定する。
【0034】
このようにして得られた測定部位の位置検出情報は、画像記憶部3に設定されるとともに、2次記憶装置である記憶装置10にも保存され、次回からの設定等に使用される。つまり、測定部位の位置検出情報の設定は以前に行われ、記憶装置10に保存された情報を用いてもよい。
【0035】
このような準備がなされたのち、本装置は、検査工程におけるパターン検査に供される。このときの動作流れを図3に示す。
図3は本実施の形態におけるパターン検査装置の動作を示す流れ図である。
【0036】
この処理動作にあたっては、図示しない制御手段により画像処理装置1の各処理部が制御され一連の処理が実行されている。
まず、標本セット部に標本16がセットされ、パターン検査が開始されると、対物・標本間距離可動部15により対物レンズ14の位置が上限まで移動される(ST1)。
【0037】
次に、対物・標本間距離制御部7からの指令に基づく対物・標本間距離可動部15の動作により、対物レンズ14の位置が1ステップづつ標本16側に接近し(ST2)、これに同期して、画像処理装置1により、1枚づつ画像が取り込まれる(ST3)。
【0038】
この取り込んだ画像と、画像記憶部3に記憶された測定部位の位置検出情報とに基づき、画像検出部5による画像処理によって、図2(B)に示す特徴モデル17cが検出され、基準点17dが求められる。さらに基準点17dを利用することにより、測定モデル18cが検出され、測定部位18dの位置情報がコントラスト検出部5に送出される(ST4)。なお、標本16〜対物レンズ14間の距離を変更する毎に測定モデル18cの検出を行うのは、対物レンズ14の標本直交軸から傾く移動や標本16の傾きがあった場合、また対物レンズ移動軸と光軸が平行でない場合等でも、確実に測定部位18dでのコントラスト検出ができるようにするためである。したがって、例えば対物レンズ14の移動軸が標本16との直交軸に確実に沿っており、かつ対物レンズ移動軸と光軸が平行な場合には、ステップST4の測定部位18d検出は対物レンズ14を上限値に移動させた直後に1度だけ行えばよい。
【0039】
次に、受け取った測定部位18dの位置情報に基づき、コントラスト検出部5によって、当該位置のコントラスト検出が実行され(ST5)、測定部位18dのコントラストの情報が対物・標本間の距離に対応したテーブルに収納される (ST6)。
【0040】
対物レンズ14の位置が最終位置にまで到達した否かが判定され(ST7)、最終ステップでなければステップST2に戻る。
一方、対物・標本間可動部15の全移動範囲内での移動が終了すると(ST7)、コントラスト検出部5により距離テーブルが参照され(ST8)、コントラストが最大となる対物・標本間の距離が求められる(ST9)。
【0041】
求められたその位置に対物レンズ14を移動させるように、対物・標本間距離制御部7から対物・標本間距離可動部15に指令が出力され、対物レンズ14を当該位置に移動させることによって測定部位18dを合焦させる(ST10)。
【0042】
合焦後、パターン検査対象となるデバイスの測定部位18の寸法が寸法測定部6によって測定され、その結果が記憶装置10に保存される(ST11)。
上述したように、本発明の実施の形態に係るパターン検査装置は、撮像部12により取り込まれた画像内において、画像記憶部3に設定された特徴モデル17cを検出し、両者の位置関係に基づき測定部位18cを検出し、さらに、測定部位18dでコントラスト値が最大となる対物・標本間距離を合焦位置として対物レンズ14の位置を決定するようにしたので、測定部位18dにおける合焦を確実かつ高精度なものとし、これにより、微小パターンにおける寸法測定誤差を少なくすることができる。
【0043】
また、本実施形態のパターン検査装置は、測定部位での画像コントラストの評価に際し、対物・標本間距離可動部15による距離変更の度に、特定部位18dの位置特定をおこなうようにしたので、例えば対物・標本間距離可動部15の移動軸に光軸からの傾きがあって、距離変更毎に取り込み画像に若干のずれがあるような場合でも確実に検査対象位置での画像コントラスト評価を行うことができる。
(発明の第2の実施の形態)
第1の実施の形態では、対物・標本間距離可動部15を上限位置から下限位置まで移動させ、全移動ステップごとに、測定部位18dのコントラスト情報つまり明暗差情報を距離テーブルに記憶させ、全移動ステップの中で最大コントラストとなる位置を検出するようにした。これに対し、本実施形態では、移動ステップごとに、コントラスト情報の比較をし、コントラスト値がピークとなる位置を探すことで、対物・標本間距離可動部15を全範囲について移動させる必要なく合焦位置を検出するものである。
【0044】
なお、本実施形態のパターン検査装置は、図1に示す各部は第1の実施形態と同様に構成されており、図1各部の説明は省略する。本実施形態では、図1の各部を制御する図示しない制御手段における動作手順が第1の実施形態と異なっており、以下、図4を用いてその内容を説明する。
【0045】
図4は本発明の実施の形態に係るパターン検査装置の動作を示す流れ図である。
まず、測定部位の位置検出情報の設定及び標本セット部への標本16セットについては、第1の実施形態の場合と同様に処理される。
【0046】
また、図4において、ステップST21からステップST25までは、第1の実施形態における図3のステップST1からステップST5までと同様に処理される。
【0047】
ステップST25において得られたコントラスト情報は、過去1ステップ分及び今回作成分が記憶されている。
次に、今回と前回のコントラスト情報を比較し、今回のコントラスト値の方が大きい場合には(ST26)、ステップST22に戻る。これによりステップST22にて、さらに対物レンズの位置を1ステップ移動させる。なお、初回,すなわち対物位置上限の場合は、無条件にステップST22に戻る。
【0048】
一方、前回のコントラスト値の方が大きい場合には(ST26)、前回の対物レンズ位置にてコントラストのピークが得られることになるので、1ステップ分、対物・標本間の距離をもどす,つまり1ステップ分距離を離すことにより合焦させる(ST27)。
【0049】
合焦後、パターン検査対象となるデバイスの測定部位18の寸法が寸法測定部6によって測定され、その結果が記憶装置10に保存される(ST28)。
上述したように、本発明の実施の形態に係るパターン検査装置は、第1の実施形態の場合と同様な構成を設けた他、合焦位置の検出に際し、対物レンズ14,標本16間の距離変更を最大距離から開始してその距離を順次短くし、画像コントラストが減少した位置の一つ前の位置を合焦位置とするようにしたので、第1の実施形態の場合と同様な効果を奏する他、最小の移動回数で合焦位置を検出することができる。
【0050】
なお、本実施形態では、対物レンズ14,標本16間の距離変更を最大距離から開始したが、逆に、最短距離から開始してその距離を順次長くし、画像コントラストが減少した位置の一つ前の位置を合焦位置とするようにしてもよい。
(発明の第3の実施の形態)
第1及び第2の実施の形態は、測定モデル18a及び測定部位18bを一か所指定し、当該測定部位にて合焦を行うものである。
【0051】
これに対し、本実施形態では、測定モデル18a及び測定部位18bを複数か所指定することを可能とし、一度の検査で複数か所をそれぞれ合焦させてその寸法測定を精度よく行うものである。
【0052】
本実施形態のパターン検査装置の各部の構成は、図1に示す第1及び第2の実施形態の装置と同様である。
測定部位18bの設定は、第1の実施形態で説明した場合と同様にして行われる。但し、設定箇所が複数であるので、測定部位18bの中心点の入力は複数回行うことになる。
【0053】
本実施形態のパターン検査装置の動作は、第1の実施の形態に対応する装置の場合は、まず、図3のステップST1からST11の処理を測定部位18bの設定数に応じて複数回数繰り返すこととなる。
【0054】
また、第2の実施の形態に対応する装置の場合も同様に、図4のステップST21からST28の処理を設定数に応じて複数回数繰り返す。
上述したように、本発明の実施の形態に係るパターン検査装置は、第1又は第2の実施形態と同様に構成される他、測定部位が複数箇所設けられ、各測定部位の検査毎に各々検出された合焦位置に合焦するようにしたので、第1又は第2の実施形態の場合と同様な効果を奏する他、一度の標本セットで同一画像内の複数か所を確実かつ高精度に寸法測定することができる。
【0055】
なお、本発明は、上記各実施の形態に限定されるものでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。
例えば上記各実施形態では、ウエーハ上に作成された半導体検査装置の場合で説明したが、本発明はこれに限られるものでなく、液晶パネルやPDP(プラズマディスプレイパネル)用の基板上に形成されたパターン等を検査する場合にも用いることができる。
【0056】
さらに、各実施例では、特定位置のコントラストを対物レンズ〜標本間の各ステップ毎に測定し、最大コントラストの位置で合焦するようにしたが、本発明はこれに限られるものではない。例えば本発明は、レーザを用い、画像内の特定スポットに対しピント合わせをする方法にも適用できる。具体的には、合焦すべき測定部位を合焦用レーザのスポット位置になるように、標本セット部を移動させて、この位置においてレーザを照射しピント合わせをすればよい。
【0057】
また、実施形態に記載した手法は、計算機に実行させることができるプログラムとして、例えば磁気ディスク(フロッピーディスク、ハードディスク等)、光ディスク(CD−ROM、DVD等)、半導体メモリ等の記憶媒体に格納し、また通信媒体により伝送して頒布することもできる。本装置を実現する計算機は、記憶媒体に記録されたプログラムを読み込み、このプログラムによって動作が制御されることにより上述した処理を実行する。
【0058】
以上、本発明について実施形態に基づいて説明してきたが、本発明は以下の発明も含む。
(1)前記検査対象位置が複数箇所設けられ、各検査対象位置の検査毎に前記合焦位置検出手段により検出された対応する合焦位置に合焦することを特徴とする請求項1乃至3のうち何れ一項記載のパターン検査装置。
(2)前記検査対象位置における検査は、寸法測定であることを特徴とする請求項1乃至3又は(1)のうち何れ一項記載のパターン検査装置。
(3)標本に対する合焦を行って検査対象位置を検査するパターン検査装置において、前記標本を撮像する撮像手段と、標本像を前記撮像手段に投影する結像手段と、前記結像手段と前記標本との距離を調整する位置調整手段と、前記撮像手段によって取り込まれる画像内で、標本における位置を特定する基準となる位置特定形状及びこの位置特定形状と前記検査対象位置との相対位置情報を保存する位置特定情報記憶手段と、前記撮像手段によって取り込まれた画像の内での前記位置特定形状を検出する画像処理手段と、前記画像処理手段により検出された前記位置特定形状の位置及び前記相対位置情報に基づき、前記検査対象位置を特定する検査対象特定手段と、前記位置調整手段により前記結像手段,前記標本間の距離を変更し、各距離における前記検査対象位置での画像コントラストを評価し、この画像コントラストが最大となる位置を合焦位置とする合焦位置検出手段とを備えたことを特徴とするパターン検査装置。
【0059】
上記(1)〜(3)の作用効果を説明する。
まず、上記(1)に対応する発明のパターン検査装置においては、請求項1〜3の何れかに対応する発明と同様に作用する他、検査対象位置が複数箇所設けられ、各検査対象位置の検査毎に合焦位置検出手段により検出された対応する合焦位置に合焦する。これにより、一度の標本セットで同一画像内の複数か所を確実かつ高精度に寸法測定することができる。
【0060】
次に、上記(2)に対応する発明のパターン検査装置においては、請求項1〜3又は上記(1)の何れかに対応する発明と同様に作用する他、検査対象位置における検査は、寸法測定とする。したがって、確実かつ高精度に寸法測定ができる微小寸法測定装置を提供することができる。
【0061】
また、上記(3)に対応する発明のパターン検査装置においては、請求項1に対応する発明と同様に作用する他、位置特定情報記憶手段により、撮像手段で取り込まれる画像内で、標本における位置を特定する基準となる位置特定形状及びこの位置特定形状と前記検査対象位置との相対位置情報が予め位置特定情報記憶手段に保存されている。そして、画像処理手段と検査対象特定手段はこの保存情報を利用して各部の処理を実行する。
したがって、請求項1に対応する発明の効果を確実に奏することができる。
【0062】
【発明の効果】
以上詳記したように本発明によれば、画像認識しやすい位置特定形状から所定の位置関係にある検査対象位置で最大コントラストとなる光学位置を合焦位置としたので、検査対象位置における合焦を確実に確保し、微小パターンでの寸法測定誤差等,検査誤差の少ないパターン検査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係るパターン検査装置の一例を示す構成図。
【図2】同実施の形態のパターン検査装置における測定部位検出及び合焦を説明するための図。
【図3】同実施の形態におけるパターン検査装置の動作を示す流れ図。
【図4】本発明の実施の形態に係るパターン検査装置の動作を示す流れ図。
【符号の説明】
1…画像処理装置
3…画像記憶部
4…画像検出部
5…コントラスト検出部
6…寸法測定部
7…対物・標本間距離制御部
9…入力装置
10…記憶装置
11…出力装置
12…撮像部
13…結像手段
14…対物レンズ
15…対物・標本間距離可動部
16…標本
Claims (9)
- 標本に対する合焦を行って検査対象位置を検査するパターン検査装置において、
前記標本を撮像する撮像手段と、
標本像を前記撮像手段に投影する結像手段と、
前記結像手段と前記標本との距離を調整する位置調整手段と、
前記撮像手段により、取り込まれた画像の内での位置特定形状を検出する画像処理手段と、
前記画像処理手段により検出された位置特定形状の位置に基づき、前記検査対象位置を特定する検査対象特定手段と、
前記位置調整手段により前記結像手段,前記標本間の距離を変更し、前記検査対象位置で合焦検出を行う合焦位置検出手段とを備えたことを特徴とするパターン検査装置。 - 標本に対する合焦を行って検査対象位置を検査するパターン検査装置において、
前記標本を撮像する撮像手段と、
標本像を前記撮像手段に投影する結像手段と、
前記結像手段と前記標本との距離を調整する位置調整手段と、
前記撮像手段により、取り込まれた画像の内での位置特定形状を検出する画像処理手段と、
前記画像処理手段により検出された位置特定形状の位置に基づき、前記検査対象位置を特定する検査対象特定手段と、
前記位置調整手段により前記結像手段,前記標本間の距離を変更し、各距離における前記検査対象位置での画像コントラストを評価し、この画像コントラストが最大となる位置を合焦位置とする合焦位置検出手段とを備えたことを特徴とするパターン検査装置。 - 標本に対する合焦を行って検査対象位置を検査するパターン検査装置において、前記標本を撮像する撮像手段と、標本像を前記撮像手段に投影する結像手段と、前記結像手段と前記標本との距離を調整する位置調整手段と、前記撮像手段によって取り込まれる画像内で、標本における位置を特定する基準となる位置特定形状及びこの位置特定形状と前記検査対象位置との相対位置情報を保存する位置特定情報記憶手段と、前記撮像手段によって取り込まれた画像の内での前記位置特定形状を検出する画像処理手段と、前記画像処理手段により検出された前記位置特定形状の位置及び前記相対位置情報に基づき、前記検査対象位置を特定する検査対象特定手段と、前記位置調整手段により前記結像手段,前記標本間の距離を変更し、各距離における前記検査対象位置での画像コントラストを評価し、この画像コントラストが最大となる位置を合焦位置とする合焦位置検出手段とを備えたことを特徴とするパターン検査装置。
- 前記検査対象位置での画像コントラストの評価に際し、前記位置調整手段により前記結像手段,前記標本間の距離を変更する度に、前記検査対象特定手段による前記検査対象位置の特定を行うことを特徴とする請求項2又は3記載のパターン検査装置。
- 前記合焦位置検出手段による合焦位置の検出に際し、前記位置調整手段により前記結像手段,前記標本間の距離変更を最短距離もしくは最大距離から開始して当該距離を順次長くもしくは短くし、前記画像コントラストが減少した位置の一つ前の位置を合焦位置とすることを特徴とする請求項2又は3記載のパターン検査装置。
- 前記合焦位置検出手段は、距離テーブルを有し、前記位置調整手段を上限位置から下限位置まで移動させ、全移動ステップごとに、前記検査対象位置のコントラスト情報を前記距離テーブルに記憶させ、全移動ステップの中で最大コントラストとなる位置を合焦位置として検出するようにしたことを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1つに記載のパターン検査装置。
- 前記検査対象位置が複数箇所設けられ、各検査対象位置の検査毎に前記合焦位置検出手段により検出された対応する合焦位置に合焦することを特徴とする請求項1ないし6のうち何れか一項記載のパターン検査装置。
- 前記検査対象位置における検査は、寸法測定であることを特徴とする請求項1ないし7のうち何れか一項記載のパターン検査装置。
- 前記画像処理手段は画像記憶部を有し、該画像記憶部に記憶された
位置特定形状と比較することで位置特定形状を検出することを特徴とする請求項1ないし8記載のパターン検査装置。
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