JP2006179930A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006179930A JP2006179930A JP2005368952A JP2005368952A JP2006179930A JP 2006179930 A JP2006179930 A JP 2006179930A JP 2005368952 A JP2005368952 A JP 2005368952A JP 2005368952 A JP2005368952 A JP 2005368952A JP 2006179930 A JP2006179930 A JP 2006179930A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- projection system
- lithographic apparatus
- substrate
- actuator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 161
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 137
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 86
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 37
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 35
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 34
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 26
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000013519 translation Methods 0.000 claims description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 27
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 11
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 11
- 230000014616 translation Effects 0.000 description 11
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 10
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000001609 comparable effect Effects 0.000 description 1
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
- G03F7/70266—Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control, e.g. for aberration adjustment or correction
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
Abstract
【解決手段】可動光学要素M4は、可動光学要素の変位によって、投射システムによって投射される放射ビームの位置量に影響を与えることが可能である。可動光学要素の位置量に影響を与えるために、光学要素アクチュエータACTを駆動する制御デバイスConが設けられ、それによって、投射システムによって投射される放射ビームの位置量に影響が与えられる。制御デバイスは、投射システムによって投射される放射ビームを基板に対して位置決めするか、又は、投射システムに対する任意のタイプの外乱によって引き起こされる、投射システムによって投射される放射ビームの位置量を補正するために、可動光学要素を移動させるようになっている。
【選択図】図2
Description
従来の投射システムに関連する困難さは、投射システムの出力ビームの位置、したがって、基板に対するイメージの位置は、例えば、リソグラフィ装置の振動、投射システムの光学部品又は他の部品の公差、膨張等の熱作用を引き起こす温度偏差、関係する1つ又は複数のセンサのドリフト、及び他の原因による、裕度を示すことである。投射システムの出力ビームの位置に影響を与えるさらなる因子は、光源の位置決め誤差又はパターニング・デバイスの位置決め誤差を含み、これらの誤差もまた、投射システムの出力ビームの位置決め誤差をもたらす場合がある。
さらに、本明細書において、位置量、位置決め、移動、変位という用語、或いは、関連するか、又は、同様な任意の用語が、例えば、可動光学要素を参照する時か、又は、パターン化放射ビーム又は出力ビームを参照する時に使用される場合、これは、例えば、任意の1つ又は複数の自由度に関連する、位置量、移動として解釈されるべきである。特に、ある実施例では、可動光学要素の位置量は、アクチュエータACTによって6自由度で設定されることになる。即ち、3次元座標系での位置量、並びに、座標系の全ての軸に関する回転位置量である。これを達成するために、アクチュエータACTは、複数のアクチュエータ・デバイス、例えば、6つの独立したアクチュエータを含んでもよい。
IL 照射システム
MA パターニング・デバイス
PS 投射システム
PM 第1ポジショナ
WT 基板テーブル
W 基板
PW 第2ポジショナ
SO 放射源
CO コンデンサ
IN 積分器
C 標的部分
MT マスク・テーブル
IF1、IF2 位置センサ
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
P1、P2 基板アライメント・マーク
M1、M2、M3、M4 ミラー
ACT、ACT2、ACT4 アクチュエータ
Con システム制御デバイス
LOS 照準線センサ
OB パターン化放射ビーム
MF 計量フレーム
DMA、DMB 距離測定システム
S2 センサ
C2 コントローラ
AE 加速度推定器
Claims (27)
- パターン化放射ビームを基板の標的部分上に投射するように構成された投射システムであって、前記投射されたパターン化放射ビームの位置を、可動光学要素の変位によって変更するように構成された可動光学要素を含む投射システムと、
前記光学要素を移動するように構成された光学要素アクチュエータと、
前記光学要素アクチュエータに動作可能に接続され、前記投射された放射ビームの前記位置を制御するように、前記光学要素アクチュエータを駆動する構成にされた投射システム・コントローラとを備えるリソグラフィ装置。 - 前記投射された放射ビームの前記位置を示す位置信号を提供するように構成されたセンサをさらに備え、前記センサは、前記投射システム・コントローラに動作可能に接続され、前記投射システム・コントロール・デバイスは、前記センサによって提供される前記位置信号に基づいて前記光学要素アクチュエータを制御するようになされる請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサは、前記投射システムを通る照準線を確定するように構成される照準線センサを備える請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記照準線センサは、計量フレームに対する前記投射された放射ビームの前記位置を示す位置信号を提供するように構成される請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記センサは、前記投射システム、前記基板を保持する基板テーブル、又は計量フレームに対する前記投射された放射ビームの前記位置を示す位置信号を提供するように構成される請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記投射されたパターン化放射ビームの前記位置は、前記可動光学要素を回転させることによって制御される請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記投射システム・コントローラは、
(i)設定点入力から前記光学要素アクチュエータに延び、位置コントローラを備える制御経路と、
(ii)前記可動光学要素の位置を確定するように構成された位置センサから前記設定点入力へ延びる第1フィードバック経路と、
(iii)前記センサから前記設定点入力へ延び、平行移動利得関数を含む第2フィードバック経路とを備える請求項2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1フィードバック経路及び前記第2フィードバック経路はそれぞれ、フィルタを含み、前記第1及び第2フィードバック経路のうちの一方の経路のフィルタのフィルタ伝達関数は、前記第1及び第2フィードバック経路のうちの他の経路の前記フィルタ伝達関数の実質的に相補的なフィルタ特性を有する請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1フィードバック経路及び前記第2フィードバック経路は、第1フィードバック経路入力と第2フィードバック経路入力と共通出力を有する共通フィルタを備え、前記第1及び第2フィードバック経路入力から前記共通出力までのフィルタ伝達関数は、実質的に相補的なフィルタ特性を有する請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板の位置を検出するように構成された位置検出システムをさらに備え、前記投射システム・コントローラは、実質的に所望の位置で前記基板に照射するよう、前記可動光学要素を位置決めするために、前記光学要素アクチュエータを駆動するようになっており、前記可動光学要素を位置決めすることは、前記所望の位置を含む所望の位置情報及び前記位置量検出システムによって検出された前記基板の位置に基づく請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記所望の位置情報は、前記基板テーブルの所望の位置を含み、前記投射システム・コントローラは、前記基板テーブルの位置を制御するように構成された基板テーブル位置制御ループを含み、前記投射システム・コントローラは、前記基板テーブルの前記位置と前記基板テーブルの前記所望の位置の差を補償するために、前記基板テーブル位置制御ループの誤差信号に基づいて前記光学要素アクチュエータを駆動するようになっている請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記投射システム・コントローラは、前記可動光学要素の変位を制御するように構成されたアクチュエータ制御ループ及び前記基板テーブル位置制御ループから前記アクチュエータ制御ループへ延びるアクチュエータ・フィードフォワード経路を含み、前記アクチュエータ・フィードフォワード経路は、前記基板テーブル位置制御ループの位置誤差信号を入力として有する請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コントローラは、前記基板テーブル位置制御ループから前記アクチュエータ制御ループの前記設定点入力へ延びる設定点フィードフォワード経路をさらに含み、前記設定点フィードフォワード経路は、前記基板テーブル位置制御ループの前記位置誤差信号を入力として有する請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- パターニング・デバイスを支持するように構築されたパターニング・デバイス支持部をさらに備え、前記パターニング・デバイスは、前記パターン化放射ビームを形成するための、ある断面パターンを前記放射ビームに与えることが可能であり、前記パターニング・デバイス支持部は、前記投射システム・コントローラによって駆動されるパターニング・デバイス・アクチュエータによって変位可能であり、前記投射システム・コントローラは、前記パターニング・デバイスを前記投射システムのオブジェクト平面に位置決めするために、前記パターニング・デバイス・アクチュエータを駆動するようになされる請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 前記所望の位置情報は、前記投射システムによって投射される、前記パターン化放射ビームの所望の位置を含み、前記投射システム・コントローラは、前記投射システムによって投射される、前記パターン化放射ビームの前記所望の位置に基づいて、前記光学要素アクチュエータを駆動して前記基板の所望の位置に前記放射ビームを位置決めするようになされる請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記可動光学要素は、前記投射システムの光学経路に沿って配設されたミラーを備える請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ミラーは、前記投射システムの投射出力の近くに配置される請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学要素アクチュエータは、空気圧モータ、電気モータ、又は圧電素子を含む請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- パターン化放射ビームを基板の標的部分上に投射するように構成された投射システムであって、前記投射システムの光学経路を少なくとも部分的に確定する2つの光学要素を備え、前記光学要素の第1の光学要素の位置は、制御ループによって制御可能である投射システムと、
前記2つの光学要素の前記第1の光学要素の前記制御ループ内の信号に、動作可能に結合したフィードフォワード制御入力、及び、前記光学要素の前記第1の光学要素の前記制御ループの前記信号に基づいて、前記光学要素の前記第2の光学要素の位置に影響を与えるために、アクチュエータに動作可能に接続されるフィードフォワード制御出力を有するフィードフォワード・コントローラとを備えるリソグラフィ装置。 - 前記光学要素の前記第1の光学要素は、前記光学経路に沿って、前記光学要素の前記第2の光学要素に比べて、投射システム光学出力からさらに遠くに配置される請求項19に記載のリソグラフィ装置。
- 前記信号は、前記光学要素の前記第1の光学要素の前記制御ループの前記アクチュエータに提供される入力信号を含む請求項19に記載のリソグラフィ装置。
- 前記信号は、前記光学要素の前記第1の光学要素の前記制御ループに提供される加速基準信号をさらに含む請求項21に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フィードフォワード・コントローラは、前記光学要素の前記第1の光学要素の質量と前記光学要素の前記第2の光学要素の質量の性能指数(quotient)に実質的に等しいフィードフォワード伝達関数を含む請求項19に記載のリソグラフィ装置。
- デバイス製造方法であって、
投射システムによって、パターン化放射ビームを基板の標的部分上に投射すること、及び、
前記投射されたパターン化放射ビームの位置を制御するために、前記投射システムの可動光学要素の位置を制御することを含むデバイス製造方法。 - 前記投射されたパターン化放射ビームの位置を示す位置信号を提供すること、及び、
前記位置信号に基づいて前記投射システムの前記可動光学要素の前記位置を制御することを含む請求項24に記載のデバイス製造方法。 - 前記基板の位置を検出すること、
前記投射されたパターン化放射ビームをそこで前記基板に照射する所望の位置を示す所望の位置情報を提供すること、及び、
実質的に前記所望の位置で前記基板に照射するように、前記可動光学要素を位置決めするために、前記所望の位置情報及び前記基板の前記検出された位置量に基づいて前記光学要素アクチュエータを駆動することを含む請求項24に記載のデバイス製造方法。 - デバイス製造方法であって、
投射システムによって、放射ビームを基板の標的部分上に投射することを含み、前記投射システムは、前記投射システムの光学経路を少なくとも部分的に確定する2つの光学要素を備え、前記方法は、さらに
制御ループによって前記光学要素の第1の光学要素の位置を制御すること、
前記制御ループの前記信号に基づいて、前記光学要素の第2の光学要素の位置に影響を与えることを含むデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/019,524 US7307262B2 (en) | 2004-12-23 | 2004-12-23 | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US11/019,524 | 2004-12-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006179930A true JP2006179930A (ja) | 2006-07-06 |
JP4878831B2 JP4878831B2 (ja) | 2012-02-15 |
Family
ID=36611053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005368952A Expired - Fee Related JP4878831B2 (ja) | 2004-12-23 | 2005-12-22 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7307262B2 (ja) |
JP (1) | JP4878831B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008028392A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2008060563A (ja) * | 2006-08-29 | 2008-03-13 | Asml Netherlands Bv | 可動物体の位置を制御するための方法、位置決めシステム、および、リソグラフィ装置 |
JP2009152604A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Asml Netherlands Bv | 位置決めデバイスのためのコントローラ、位置決めデバイスを制御する方法、位置決めデバイスおよび位置決めデバイスを備えるリソグラフィ装置 |
JP2009246361A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及び真空チャンバ |
JP2010519778A (ja) * | 2007-02-28 | 2010-06-03 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 取替可能なダイアフラムを備える結像装置および方法 |
JP2011510494A (ja) * | 2008-01-16 | 2011-03-31 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 測定手段を有するマイクロリソグラフィのための投影露光装置 |
JP2012524988A (ja) * | 2009-04-27 | 2012-10-18 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置および方法 |
CN113126448A (zh) * | 2020-01-15 | 2021-07-16 | 佳能株式会社 | 曝光装置和物品的制造方法 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7460329B2 (en) * | 2006-10-25 | 2008-12-02 | Seagate Technology Llc | Feedforward compensator for induced vibration |
JP5039876B2 (ja) * | 2007-04-09 | 2012-10-03 | セイコーインスツル株式会社 | イオンビーム検査装置、イオンビーム検査方法、及び半導体製造装置 |
DE102008029970A1 (de) * | 2008-06-26 | 2009-12-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie sowie Verfahren zum Überwachen einer lateralen Abbildungsstabilität |
NL2007633A (en) * | 2010-11-22 | 2012-05-23 | Asml Netherlands Bv | A positioning system, a lithographic apparatus and a method for positional control. |
US20140025233A1 (en) | 2012-07-17 | 2014-01-23 | Elwha Llc | Unmanned device utilization methods and systems |
US20140025230A1 (en) | 2012-07-17 | 2014-01-23 | Elwha LLC, a limited liability company of the State of Delaware | Unmanned device interaction methods and systems |
US10248027B2 (en) | 2014-01-12 | 2019-04-02 | Asml Netherlands B.V. | Projection system |
DE102016225707A1 (de) * | 2016-12-21 | 2018-06-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Lithographiesystem sowie verfahern |
DE102018205714A1 (de) * | 2018-04-16 | 2019-10-17 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren, messsystem und lithographieanlage |
US20230043353A1 (en) * | 2021-08-04 | 2023-02-09 | Onto Innovation, Inc. | Multiple camera apparatus for photolithographic processing |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03283420A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-13 | Hitachi Ltd | 微細パターン転写方法およびその装置 |
JPH0495908A (ja) * | 1990-08-08 | 1992-03-27 | Toshiba Corp | 投影光学装置 |
JPH05343283A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-24 | Hitachi Ltd | 半導体露光装置 |
JP2001351855A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-12-21 | Asm Lithography Bv | リソグラフィ投影装置およびこれを使ったデバイスの製造方法 |
JP2004119695A (ja) * | 2002-09-26 | 2004-04-15 | Nikon Corp | 投影光学装置及び露光装置 |
JP2004266264A (ja) * | 2003-02-13 | 2004-09-24 | Canon Inc | 光学系、露光装置、デバイス製造方法 |
JP2004343075A (ja) * | 2003-04-14 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | 投影システム及びその使用方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IL132432A0 (en) * | 1997-04-18 | 2001-03-19 | Nikon Corp | An exposure apparatus exposure method using the same and method of manufacture of circuit device |
US6563128B2 (en) * | 2001-03-09 | 2003-05-13 | Cymer, Inc. | Base stabilization system |
JP2002287023A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Nikon Corp | 投影光学系、該投影光学系を備えた投影露光装置及び投影露光方法 |
-
2004
- 2004-12-23 US US11/019,524 patent/US7307262B2/en active Active
-
2005
- 2005-12-22 JP JP2005368952A patent/JP4878831B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03283420A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-13 | Hitachi Ltd | 微細パターン転写方法およびその装置 |
JPH0495908A (ja) * | 1990-08-08 | 1992-03-27 | Toshiba Corp | 投影光学装置 |
JPH05343283A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-24 | Hitachi Ltd | 半導体露光装置 |
JP2001351855A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-12-21 | Asm Lithography Bv | リソグラフィ投影装置およびこれを使ったデバイスの製造方法 |
JP2004119695A (ja) * | 2002-09-26 | 2004-04-15 | Nikon Corp | 投影光学装置及び露光装置 |
JP2004266264A (ja) * | 2003-02-13 | 2004-09-24 | Canon Inc | 光学系、露光装置、デバイス製造方法 |
JP2004343075A (ja) * | 2003-04-14 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | 投影システム及びその使用方法 |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4734298B2 (ja) * | 2006-07-24 | 2011-07-27 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2008028392A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
JP2008060563A (ja) * | 2006-08-29 | 2008-03-13 | Asml Netherlands Bv | 可動物体の位置を制御するための方法、位置決めシステム、および、リソグラフィ装置 |
JP2010519778A (ja) * | 2007-02-28 | 2010-06-03 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 取替可能なダイアフラムを備える結像装置および方法 |
JP2009152604A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Asml Netherlands Bv | 位置決めデバイスのためのコントローラ、位置決めデバイスを制御する方法、位置決めデバイスおよび位置決めデバイスを備えるリソグラフィ装置 |
US10042271B2 (en) | 2008-01-16 | 2018-08-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection exposure system for microlithography with a measurement device |
JP2011510494A (ja) * | 2008-01-16 | 2011-03-31 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 測定手段を有するマイクロリソグラフィのための投影露光装置 |
JP2015029121A (ja) * | 2008-01-16 | 2015-02-12 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ用投影露光装置および方法 |
US9001304B2 (en) | 2008-01-16 | 2015-04-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection exposure system for microlithography with a measurement device |
US9696639B2 (en) | 2008-01-16 | 2017-07-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection exposure system for microlithography with a measurement device |
US8130359B2 (en) | 2008-03-28 | 2012-03-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and a vacuum chamber |
JP2009246361A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及び真空チャンバ |
JP2012524988A (ja) * | 2009-04-27 | 2012-10-18 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置および方法 |
CN113126448A (zh) * | 2020-01-15 | 2021-07-16 | 佳能株式会社 | 曝光装置和物品的制造方法 |
JP2021110905A (ja) * | 2020-01-15 | 2021-08-02 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
JP7453790B2 (ja) | 2020-01-15 | 2024-03-21 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4878831B2 (ja) | 2012-02-15 |
US20060139598A1 (en) | 2006-06-29 |
US7307262B2 (en) | 2007-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4878831B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
US8908144B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
KR100938912B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP5002317B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
US9696638B2 (en) | Lithographic apparatus | |
JP4734298B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4638454B2 (ja) | リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置のコンポーネントを制御する方法 | |
US10416572B2 (en) | Positioning system, method to position, lithographic apparatus and device manufacturing method | |
EP1647861A1 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
US20200050120A1 (en) | Lithographic apparatus, lithographic projection apparatus and device manufacturing method | |
US20110194088A1 (en) | Projection System, Lithographic Apparatus, Method of Projecting a Beam of Radiation onto a Target and Device Manufacturing Method | |
JP6426204B2 (ja) | 対象物位置決めシステム、制御システム、リソグラフィ装置、対象物位置決め方法およびデバイス製造方法 | |
KR101031274B1 (ko) | 리소그래피 장치 및 조정 방법 | |
NL2007606A (en) | Controller, lithographic apparatus, method of controlling the position of an object and device manufacturing method. | |
US9977341B2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP6396483B2 (ja) | リソグラフィにおける対象物の位置決め | |
WO2008147175A1 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
US10962890B2 (en) | Positioning device, lithographic apparatus, method for compensating a balance mass torque and device manufacturing method | |
JP2013222962A (ja) | リソグラフィ装置及び固有モード結合を補償する方法 | |
WO2019134775A1 (en) | Lithographic apparatus and method | |
US20140293251A1 (en) | Projection System, Lithographic Apparatus, Method of Projecting a Beam of Radiation onto a Target and Device Manufacturing Method | |
NL2018131A (en) | Position measurement system, lithographic apparatus and method of determining cross talk of an encoder system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060904 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20070529 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090518 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100312 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110207 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111102 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4878831 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141209 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |