JP2009246361A - リソグラフィ装置及び真空チャンバ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システム、及びパターニングデバイスを支持する支持体を含む。パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成する。基板テーブルは基板を保持し、投影システムは、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する。投影システムは真空チャンバ、及び真空チャンバ内に配置された光学デバイスのアクチュエータを制御する制御装置を含む。真空チャンバ1は、制御装置5を収容する気密封止型ハウジング4を含む。ハウジング4は、制御装置5を光学デバイス9に電気的に接続する電気接続部6を備え、制御装置5を冷却する流体冷却路16を介して真空チャンバ1の外壁2に接続される。
【選択図】図2
Description
Claims (20)
- 放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射の断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、を備え、前記投影システムが、
真空チャンバと、
前記真空チャンバ内に配置された光学デバイスのアクチュエータを制御する制御装置と、を備え、前記アクチュエータが、前記パターン付き放射ビームを誘導、成形及び/又は制御するように構成され、
前記制御装置を収容し、前記真空チャンバ内に配置され、前記制御装置を前記光学デバイスの前記アクチュエータに電気的に接続する電気接続部を備え、前記制御装置を冷却する流体冷却路を介して前記真空チャンバの外壁に接続されている気密封止型ハウジングと、を備える
リソグラフィ装置。 - 前記ハウジングが、前記密封ハウジング内に少なくとも部分大気圧を維持する空気圧路を介して前記真空チャンバの前記外壁にさらに接続される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ハウジングが、前記制御装置を前記真空チャンバの前記外壁に接続するさらなる電気接続部を備える、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記電気接続部が、前記ハウジングに対して気密封止されたプリント回路基板を備え、前記プリント回路基板に埋め込まれた電気導体が、電気接点を介して前記プリント回路基板の対向する平坦な側からそれぞれ電気的に接続可能である、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記埋め込まれた電気導体が前記プリント回路基板の前記平坦な側に実質的に平行に延在する、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御装置又はそのコンポーネントが前記プリント回路基板に装着される、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記プリント回路基板が繊維強化材料及び/又は軟質箔材料を備える、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御装置又はそのコンポーネントがヒートシンクに熱力学的に接続する、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 前記ヒートシンクが前記流体冷却路に結合され、前記流体冷却路によって能動的に冷却される、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- プリント回路基板積層材料の低温流れドローが、前記プリント回路基板との気密封止部を形成する、前記請求項のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 真空チャンバと、前記真空チャンバ内に配置された光学デバイスのアクチュエータを制御する制御装置とであって、前記真空チャンバが、制御装置を収容する気密封止型ハウジングを含み、前記ハウジングが、前記制御装置を前記光学デバイスに電気的に接続する電気接続部を備え、前記ハウジングが、前記制御装置を冷却する流体冷却路を介して前記真空チャンバの外壁に接続される真空チャンバ。
- 前記ハウジングが、前記密封ハウジング内の少なくとも部分大気圧を維持する空気圧路を介して前記真空チャンバの前記外壁にさらに接続される、請求項11に記載の真空チャンバ。
- 前記ハウジングが、前記制御装置を前記真空チャンバの前記外壁に接続するさらなる電気接続部を備える、請求項11に記載の真空チャンバ。
- 前記電気接続部が、前記ハウジングに対して気密封止されたプリント回路基板を備え、前記プリント回路基板に埋め込まれた電気導体が、電気接点を介して前記プリント回路基板の対向する平坦な側からそれぞれ電気的に接続可能である、請求項11に記載の真空チャンバ。
- 前記埋め込まれた電気導体が前記プリント回路基板の前記平坦な側に実質的に平行に延在する、請求項14に記載の真空チャンバ。
- 前記制御装置又はそのコンポーネントが前記プリント回路基板に装着される、請求項14に記載の真空チャンバ。
- 前記プリント回路基板が繊維強化材料及び/又は軟質箔材料を備える、請求項14に記載の真空チャンバ。
- プリント回路基板積層材料の低温流れドローが、前記プリント回路基板との気密封止部を形成する、請求項14に記載の真空チャンバ。
- 前記制御装置又はそのコンポーネントがヒートシンクに熱力学的に接続する、請求項11に記載の真空チャンバ。
- 前記ヒートシンクが前記流体冷却路に結合され、前記流体冷却路によって能動的に冷却される、請求項19に記載の真空チャンバ。
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CN112485978A (zh) * | 2020-12-24 | 2021-03-12 | 清华大学 | 用于光刻设备的真空释气装置 |
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11315933A (ja) * | 1998-03-09 | 1999-11-16 | Bal Seal Eng Co Inc | リテ―ナ付きカ―トリッジ式のロ―タリシ―ル |
JP2000040659A (ja) * | 1998-04-14 | 2000-02-08 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2003264390A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-09-19 | Nikon Corp | 電子装置 |
JP2006179930A (ja) * | 2004-12-23 | 2006-07-06 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
WO2007053442A2 (en) * | 2005-10-28 | 2007-05-10 | Fei Company | Hermetically sealed housing with electrical feed-in |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2770960B2 (ja) * | 1988-10-06 | 1998-07-02 | キヤノン株式会社 | Sor−x線露光装置 |
KR20020006670A (ko) * | 1999-03-12 | 2002-01-24 | 시마무라 테루오 | 노광장치 및 노광방법, 그리고 디바이스 제조방법 |
JP2001345263A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-14 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
CN1440512A (zh) * | 2000-03-31 | 2003-09-03 | 株式会社尼康 | 固定光学元件的方法和装置、光学装置、曝光设备以及装置的制造方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11315933A (ja) * | 1998-03-09 | 1999-11-16 | Bal Seal Eng Co Inc | リテ―ナ付きカ―トリッジ式のロ―タリシ―ル |
JP2000040659A (ja) * | 1998-04-14 | 2000-02-08 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2003264390A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-09-19 | Nikon Corp | 電子装置 |
JP2006179930A (ja) * | 2004-12-23 | 2006-07-06 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
WO2007053442A2 (en) * | 2005-10-28 | 2007-05-10 | Fei Company | Hermetically sealed housing with electrical feed-in |
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