JP2000040659A

JP2000040659A - 露光装置

Info

Publication number: JP2000040659A
Application number: JP11106156A
Authority: JP
Inventors: Tsukasa Ogiwara; 司荻原
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-04-14
Filing date: 1999-04-14
Publication date: 2000-02-08

Abstract

(57)【要約】【課題】床面の占有面積が小さく、メンテナンスその
他の作業性が良好で、制御装置の発生する熱による装置
本体への影響を少なくすることができる露光装置を提供
することである。【解決手段】露光処理を行う装置本体（光学系）が収
容される本体チャンバ１１に内側に陥没する凹部２３を
設け、装置本体の制御を行う制御装置が収容される制御
チャンバ１５を凹部２３に着脱可能となるように本体チ
ャンバ１１に支持装置２７を介して取り付けている。制
御チャンバ１５を手前に引き出し、凹部２３の奥部に形
成された開口を介して装置本体のメンテナンスなどが行
える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マスクのパターン
を感光基板上に転写する露光装置に関し、特に、空調用
のチャンバ内に装置本体を収容してなる露光装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子などのマイクロデバイスを製
造するためのフォトリソグラフィ工程で使用される露光
装置の装置本体は、クリーンルーム内に設置されるが、
特に清浄な環境が要求されるため、エンバイロメンタル
チャンバなどのチャンバ内に設置される。エンバイロメ
ンタルチャンバ内には、空調装置が備えられ、チャンバ
内の温度制御を行うと共に、ＨＥＰＡフィルタ（High E
fficiency Particle AirFilter）やケミカルフィルタ
などのフィルタにより空気の清浄化が図られる。なお、
チャンバは、外部から装置本体へ入り込むノイズを防止
すると共に、装置本体自体が発生するノイズを外部へ放
射することを防止する機能を有するものもある。

【０００３】露光処理を行う装置本体の各部の制御（ス
テージなどの可動部の移動制御、露光条件の制御、マス
クやウエハの搬送系の制御、その他の制御）や電源の供
給などを行う制御装置（コントロールユニット）は、装
置本体を収容するチャンバとは分離独立した別のチャン
バ（筐体）に収容され、装置本体に対してケーブルによ
り接続される。以下、このタイプの構成を分離別置き型
という。

【０００４】また、装置本体が収容されたチャンバの内
部に制御装置を一体的に取り付けるようにしたものもあ
る。以下、このタイプの構成を一体型という。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た分離別置き型では、装置本体と制御装置の間はそれぞ
れのチャンバの外部に露出した部分を有する接続ケーブ
ルにより接続されているので、接続ケーブルの当該露出
部分がオペレータなどの作業の邪魔になり、作業性を低
下させるとともに、装置全体としての占有面積（フット
プリント）が大きいという問題がある。

【０００６】一方、チャンバには、装置本体により処理
されるウエハなどを出し入れする開閉扉が装着され、扉
を開閉したり、メンテナンス時には扉を取り外すなどの
構造とする必要があり、一体型では、装置本体を収容す
るチャンバの側壁が該制御装置によって占有され、その
部分に扉などを設けることができないので、保守作業員
やオペレータなどによる装置本体の各部へのアクセスの
制約となり、作業性を悪化させるという問題がある。ま
た、一体型では、制御装置の発生する熱により装置本体
に悪影響を及ぼす場合があるという問題もある。

【０００７】本発明は、このような実状に鑑みてなされ
たものであり、装置本体を収容するチャンバを有する露
光装置において、床面の占有面積が小さく、メンテナン
スその他の作業性が良好で、制御装置などの周辺装置が
発生する熱による装置本体への影響を少なくすることが
できる露光装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】以下、この項に示す説明
では、本発明を、実施形態を表す図面に示す部材符号に
対応つけて説明するが、本発明の各構成要件は、これら
部材符号を付した図面に示す部材に限定されるものでは
ない。

【０００９】上述した目的を達成するために、本発明の
露光装置は、露光処理を行う装置本体が収容される第１
チャンバ（１１）に内側に陥没する凹部（２１，２２，
２３）を設け、前記装置本体の周辺装置（例えば、空調
装置、温調装置、制御装置など）を前記凹部に設けたこ
とを特徴とする。前記周辺装置は第２チャンバ（１３，
１４，１５）に収容して前記凹部に設けることができ
る。

【００１０】本発明の露光装置によると、装置本体が収
容される第１チャンバの凹部に周辺装置を設けたので、
装置本体と周辺装置とを接続するケーブルや配管などが
チャンバなどの外部に露出しないようにでき、かかる接
続ケーブルなどによる作業性の悪化や電磁的な障害の発
生を防止することができる。また、第１チャンバに設け
る凹部は、いわゆるデッドスペース（有効に利用されて
いない部分）に設けることができるから、装置全体とし
ての床面の占有面積（フットプリント）を小さくするこ
とが可能である。

【００１１】しかも、周辺装置を第１チャンバに対して
独立して構成された第２チャンバ内に収容するようにす
れば、周辺装置の発生する熱の装置本体への伝達が、か
かる第２チャンバの側壁と第１チャンバの側壁の二重の
側壁及びその間に存在する気体（空気など）により阻止
され、当該熱の装置本体への影響を少なくすることがで
き、また、第２チャンバを第１チャンバとは独立に空調
するようにでき、このようにすることで、周辺装置の発
熱による悪影響をさらに低減することができる。

【００１２】加えて、第１チャンバと周辺装置又は第２
チャンバは独立しているので、第１チャンバに対して周
辺装置又は第２チャンバを着脱可能に構成することがで
き、該凹部の奥面に扉などを設けることにより、その部
分から装置本体へのアクセスが可能となり、メンテナン
ス作業などの作業性を向上することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明を、図面に示す実施
形態に基づき説明する。

【００１４】第１実施形態図１は本発明の第１実施形態に係る露光装置の全体構成
を示す外観斜視図、図２は制御チャンバを装着した状態
の平面図、図３は制御チャンバを引き出した状態の平面
図である。

【００１５】本発明の第１実施形態に係る露光装置は、
図示は省略するが、露光処理を行う装置本体（投影光学
系や照明光学系などを含む）、露光対象としてのウエハ
（感光基板）を搬送するウエハ搬送系、転写すべきパタ
ーンが形成されたレチクルを搬送するレチクル搬送系、
チャンバ内の環境（例えば、温度など）の制御及び浄化
を行う空調系、光学系や搬送系の制御を行う制御系（コ
ントロールユニット）、光学系や搬送系のモータその他
のアクチュエータに冷却液を供給する液体温調系、露光
装置の運転状況などを管理するための入出力装置を有す
るエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）な
どからなる操作系、制御系や操作系を冷却する放熱系な
どを備えて構成される。

【００１６】図１及び図２に示されているように、装置
本体は空調系によって内部の環境が制御される本体チャ
ンバ１１内に収容されている。レチクル搬送系は空調系
によって内部の環境が制御される搬送チャンバ１２の上
下に二段に分割された室の上段に収容され、ウエハ搬送
系はその下段に収容されている。空調系を構成する空調
装置は空調チャンバ（筐体）１３内に収容され、液体温
調系を構成する液体温調装置は温調チャンバ（筐体）１
４内に収容されている。制御系を構成する制御装置は制
御チャンバ（筐体）１５内に収容されている。

【００１７】操作系を構成するエンジニアリング・ワー
クステーション１６は操作部チャンバ（筐体）１７内に
収容され、入出力装置１８，１９は操作部チャンバ１７
に取り付けられている。この実施形態では、各チャンバ
１１〜１５，１７は、ステンレス、鋼鉄、アルミニウ
ム、銅、真鍮などの金属、その他の電磁シールド機能を
有する素材で構成されている。

【００１８】（１）光学系（装置本体）この第１実施形態では、本体チャンバ１１内に収容され
る装置本体は、図示は省略するが、ステップ・アンド・
スキャン方式の縮小投影露光装置である。この縮小投影
露光装置は、マスクとしてのレチクル上のパターンの一
部を投影光学系を介して感光基板としてのレジストが塗
布されたウエハ上に縮小投影露光した状態で、レチクル
とウエハとを、投影光学系に対して同期移動させること
により、レチクル上のパターンの縮小像を逐次ウエハ上
の各ショット領域に転写し、ウエハ上に半導体装置を形
成するものである。

【００１９】ＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）
を発振する露光用光源からパルス発光されたレーザビー
ムは、ビーム整形・変調光学系、オプチカルインテグレ
ータ、開口絞り、リレーレンズ、コンデンサレンズなど
を介して、レチクルステージ上に保持されたレチクル上
の矩形の照明領域を均一な照度分布で照明する。レチク
ル上の照明領域内のパターンを投影光学系を介して投影
倍率α（αは例えば１／４，１／５等）で縮小した像
が、フォトレジストが塗布されたウエハ上に投影露光さ
れる。ウエハはウエハホルダを介してウエハステージ上
に吸着保持されており、制御装置（１５）による制御に
基づき、レチクルステージ及びウエハステージが駆動さ
れ、ウエハとレチクルが同一又は逆方向に所定の速度比
で同期移動されることにより、レチクル上のパターンが
ウエハのショット領域に転写される。装置本体は設置面
上に防振装置などを介して設置されている。なお、露光
光としては、水銀ランプのｉ線（波長３６５ｎｍ）等の
輝線、又はＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎ
ｍ）、Ｆ_２レーザ光（波長１５７ｎｍ）、Ａｒ_２レ
ーザ光（波長１２６ｎｍ）、あるいはＹＡＧレーザなど
の高調波等が使用できる。

【００２０】このような装置本体が収容される本体チャ
ンバ１１の背面側（搬送チャンバ１２側を正面とする）
の左端部には第１凹部２１が、同じく背面側の右端部に
は第２凹部２２がそれぞれ形成されている。第１凹部２
１は、本体チャンバ１１の左側面と背面の交差部近傍を
上下に渡ってほぼ直方体状に内側に陥没させたような形
状を有している。第２凹部２２は、本体チャンバ１１の
右側面と背面の交差部近傍を上下に渡ってほぼ直方体状
に内側に陥没させたような形状を有している。さらに、
本体チャンバ１１の右側面の中間部分には第２凹部２２
に隣接して上下に渡ってほぼ直方体状に内側に陥没させ
たような形状の第３凹部２３が形成されている。

【００２１】第３凹部２３の奥面（制御チャンバ１５の
左側面に対向する面）には、本体チャンバ１１の内外に
貫通する開口が形成されており、この開口は開閉可能な
扉（着脱可能な蓋を含む）により閉塞されるようになっ
ている。扉（蓋）はネジ止めその他の手段により固定さ
れる。この開口は、本体チャンバ１１内の装置本体など
のメンテナンスなどのために保守作業員やオペレータが
装置本体などにアクセスするためのものである。

【００２２】（２）空調系（光学系及び搬送系の空調）本体チャンバ１１の第１凹部２１には、空調装置が収容
された空調チャンバ１３が配置される。空調装置で温度
調整された空気は、ダクト及び本体チャンバ１１の内部
に設置された塵除去用のＨＥＰＡフィルタ、及び硫酸イ
オン、アンモニウムイオン、シリコン系有機物などを除
去するケミカルフィルタを介してその本体チャンバ１１
内に吹き出す。本体チャンバ１１内の吹出口の反対側に
は、吸引口が配置されており、本体チャンバ１１内に吹
き出した清浄な空気は、この吸引口及びダクトを介し
て、空調装置に戻るようになっている。

【００２３】また、空調装置で温度調整された空気は、
ダクト及び搬送チャンバ１２の上段の内部に設置された
塵除去用のＨＥＰＡフィルタ、及び硫酸イオン、アンモ
ニウムイオン、シリコン系有機物などを除去するケミカ
ルフィルタを介してその搬送チャンバ１２の上段内に吹
き出す。搬送チャンバ１２の上段内の吹出口の反対側に
は、吸引口が配置されており、搬送チャンバ１２の上段
内に吹き出した清浄な空気は、この吸引口及びダクトを
介して、空調装置に戻るようになっている。

【００２４】さらに、空調装置で温度調整された空気
は、ダクト及び搬送チャンバ１２の下段の内部に設置さ
れた塵除去用のＨＥＰＡフィルタ、及び硫酸イオン、ア
ンモニウムイオン、シリコン系有機物などを除去するケ
ミカルフィルタを介してその搬送チャンバ１２の下段内
に吹き出す。搬送チャンバ１２の下段の吹出口の反対側
には、吸引口が配置されており、搬送チャンバ１２の下
段内に吹き出した清浄な空気は、この吸引口及びダクト
を介して、空調装置に戻るようになっている。

【００２５】空調装置につながるそれぞれのダクト（往
路及び復路）は、空調チャンバ１３の壁面及び本体チャ
ンバ１１の壁面を気密的に貫通して配管されている。搬
送チャンバ１２へ空気を送るダクトは、本体チャンバ１
１内を通過し、搬送チャンバ１２の上段まで配管され、
そこから分岐したダクトが搬送チャンバ１２の下段まで
配管される。なお、ケミカルフィルタは露光装置が設置
されるクリーンルーム内の環境（清浄度など）によって
は必須のものではない。また、空調装置は各チャンバに
送出する空気の圧力や湿度などを制御するようにしても
よい。

【００２６】空調装置を収容した空調チャンバ１３は、
本体チャンバ１１の第１凹部２１に沿って配置できるよ
うに、ほぼ直方体状に形成された箱体であり、同図で
は、第１凹部２１から左側面側及び背面側に突き出すよ
うにやや大きめに構成されているが、これは大きめの空
調装置を収容できるようにしたものであり、第１凹部２
１を補間するような外形、即ち、空調チャンバ１３の左
側面と本体チャンバ１１の左側面とがほぼ同一平面を形
成するように、空調チャンバ１３の背面と本体チャンバ
１１の背面とがほぼ同一平面を形成するように、及び空
調チャンバ１３の天井面が本体チャンバ１１の天井面と
ほぼ同一平面を形成するように構成することができる。

【００２７】なお、本体チャンバ１１内に配置される配
管、配線、ケーブルなどはその表面に、例えば、テフロ
ンコートが施されており、それにより脱ガスの発生が防
止されるようになっている。また、搬送チャンバ１２な
どでも同様にテフロンコートによって脱ガスの発生を防
止するようにしてもよい。コート材はテフロンに限られ
るものではなく、他の材料であってもよい。また、コー
トの代わりに、例えば大日本印刷（株）製のハイバリア
シート（商品名）を配管などに巻き付けるようにしても
よいし、あるいはステンレスケースに配管、配線、ケー
ブルなどを一括して収納するようにしてもよい。

【００２８】（３）液体温調系本体チャンバ１１の第２凹部２２には、液体温調装置が
収容された温調チャンバ１４が配置される。この液体温
調装置は、レチクルあるいはウエハ搬送系のモータ、投
影光学系（鏡筒）やその保持部（架台）、その他のアク
チュエータなどを冷却するための冷却液を冷却して循環
させるための装置である。冷却液の循環系を構成する配
管は、本体チャンバ１１の側壁を貫通し、装置本体や搬
送系の該当するアクチュエータなどに供給されている。

【００２９】液体温調装置はそれほど大きくないので、
温調チャンバ１４内には、液体温調装置以外にプリント
基板パッケージやその他の装置を収容することができる
ように構成してもよい。また、この実施形態では、温調
チャンバ１４内には、排熱用の排熱ファン２４が設けら
れており、温調チャンバ１４の内部の空気を温調チャン
バ１４の側面に形成された排熱口２５を介して外部に排
出するようにしている。この排熱ファン２４は、温調チ
ャンバ１４の内部の熱の排熱の他、後述する制御装置が
収容される制御チャンバ１５の内部及び操作部チャンバ
１７の内部の冷却をも行う。

【００３０】液体温調装置などを収容した温調チャンバ
１４は、本体チャンバ１１の第２凹部２２に沿って配置
できるように、ほぼ直方体状に形成された箱体であり、
第２凹部２２を補間するような外形、即ち、温調チャン
バ１４の右側面と本体チャンバ１１の右側面（制御チャ
ンバ１５の右側面）とがほぼ同一平面を形成するよう
に、温調チャンバ１４の背面と本体チャンバ１１の背面
とがほぼ同一平面を形成するように、及び温調チャンバ
１４の天井面と本体チャンバ１１の天井面とがほぼ同一
平面を形成するように構成されている。温調チャンバ１
４の上部には正面側に突出する第１ダクト２６が一体的
に取り付けられている。この第１ダクト２６の右側面に
は開口が形成されている。

【００３１】（４）制御系本体チャンバ１１の第３凹部２３には、制御装置を制御
チャンバ１５内に収容してなるコントロールユニットが
配置される。制御装置は、装置本体のレチクルステージ
やウエハステージの移動、照明系による露光条件の変
更、搬送系によるレチクルやウエハの搬送、その他の制
御、電源の供給などを行うための複数のプリント基板パ
ッケージ（ドータボード）をマザーボードにプラグイン
実装などすることにより構成され、マザーボードと制御
・電力供給対象やエンジニアリング・ワークステーショ
ン１６との間の電気的な接続は接続ケーブル（ＬＡＮな
ど）を介して行われている。これらの接続ケーブルは制
御チャンバ１５の壁面、本体チャンバ１１の壁面、操作
部チャンバ１７の壁面などを貫通して配線されている。
プリント基板パッケージは、複数の発熱部品（ＩＣ，Ｌ
ＳＩなど）を含む電子部品がプリント基板に実装されて
構成される。

【００３２】制御装置を収容した制御チャンバ１５は、
本体チャンバ１１の第３凹部２３に沿って配置できるよ
うに、ほぼ直方体状に形成された箱体であり、第３凹部
２３を補間するような外形、即ち、制御チャンバ１５の
右側面と本体チャンバ１１の右側面（温調チャンバ１４
の右側面）とがほぼ同一平面を形成するように、制御チ
ャンバ１５の天井面と本体チャンバ１１の天井面がほぼ
同一平面を形成するように構成されている。

【００３３】制御チャンバ１５は複数の支持装置２７を
介して本体チャンバ１１に支持されており、図２に示さ
れているように、制御チャンバ１５を第３凹部２３内に
装着（配置）した状態の第１の位置と、図３に示されて
いるように、制御チャンバ１５を第３凹部２３から引き
出した状態の第２の位置に選択的に位置できるようにな
っている。この実施形態における支持装置２７は、一対
の略Ｌ字状に形成された拘束アーム（アーム部材）２７
Ａ，２７Ａの一端を本体チャンバ１１にそれぞれ回動自
在に軸支し、他端を制御チャンバ１５にそれぞれ回動自
在に軸支して構成されている。この実施形態では、支持
装置２７は上下方向に複数箇所（３箇所）に配置されて
いる。支持装置２７を一対の拘束アーム２７Ａ，２７Ａ
で構成したのは、制御チャンバ１５をほぼ平行な状態を
保ちつつ第１の位置と第２の位置に移動できるようにす
るためである。

【００３４】なお、接続ケーブルは制御チャンバ１５の
装着及び引き出しの支障とならないように、ある程度の
遊びを有する状態で支持装置２７の近傍を通過するよう
に配線されている。また、制御チャンバ１５は、拘束ア
ーム２７Ａの一端あるいは他端の支持部で本体チャンバ
１１から取り外すことができるようになっており、制御
チャンバ１５は必要に応じて本体チャンバ１１から独立
して取り扱うことができるようになっている。

【００３５】制御チャンバ１５の上部には背面側（温調
チャンバ１４側）に突出する第２ダクト２８が一体的に
取り付けられている。この第２ダクト２８の左側面（本
体チャンバ１１側の面）には開口が形成されており、制
御チャンバ１５を第１の位置（装着位置）に位置させた
状態で、この開口は温調チャンバ１４の第１ダクト２６
の開口に対峙するようになっており、これらの第１及び
第２ダクト２６，２８の間に第３ダクト２９が配置さ
れ、制御チャンバ１５の内部と温調チャンバ１４の内部
とがこれらのダクト２６，２８，２９を介して連通され
るようになっている。

【００３６】また、制御チャンバ１５の上部には正面側
（搬送チャンバ１２側）に突出する第４ダクト３０が一
体的に取り付けられている。この第４ダクト３０の左側
面（本体チャンバ１１側の面）には開口が形成されてい
る。

【００３７】（５）ウエハ及びレチクルの搬送系搬送チャンバ１２は、上下に二段に分割されており、上
段にはレチクル搬送系が、下段にはウエハ搬送系が収容
されている。これらの搬送系はレチクル又はウエハを自
動搬送する装置である。

【００３８】ウエハ搬送系はウエハを吸着保持するハン
ド部を有するロボットハンドを有しており、このロボッ
トハンドは搬送チャンバ１２内を移動できるようになっ
ている。ロボットハンドは、搬送チャンバ１２内に設置
されたウエハカセットやウエハ載置台からウエハを受け
取り、装置本体との受け渡し位置まで搬送するととも
に、装置本体との受け渡し位置で受け取ったウエハをウ
エハカセットなどに収納することができる。また、搬送
チャンバ１２の左右の側面に形成された内外に貫通する
開口３１を介して、コータ（レジスト塗布装置）やデベ
ロッパ（現像装置）との間でウエハを受け渡すこともで
きる。なお、レチクル搬送系については、ウエハ搬送系
とほぼ同様であるので、その説明は省略する。

【００３９】搬送チャンバ１２の正面の比較的に上側及
び下側には、それぞれ内外に貫通する開口が形成されて
おり、これらの開口には、開閉扉３２，３３が開閉自在
に装着されている。これらの開閉扉３２，３３は透明又
は不透明なアクリル板から構成されている。これらの開
閉扉のうちの上側の開閉扉３２は、搬送チャンバ１２の
上段のレチクル搬送系に対応して設けられており、これ
ら上側の開閉扉３２を介してレチクル（レチクルを収納
するカセット）の交換などを行う。一方、下側の開閉扉
３３は搬送チャンバ１２の下段のウエハ搬送系に対応し
て設けられており、これらの下側の開閉扉３３を介して
ウエハやウエハカセットの交換などを行う。また、これ
らの開閉扉３２，３３を介してメンテナンスを行う場合
もある。また、搬送チャンバ１２の正面には、チャンバ
の空調などに関する指示の入力などを行う操作パネル３
４が取り付けられている。

【００４０】（６）操作系搬送チャンバ１２の右上隅部には、ほぼ立方体状に陥没
させたような形状の第１陥没部と、該第１陥没部の下側
の正面側をほぼ直方体状に陥没させたような形状の第２
陥没部からなる第４凹部３５が形成されている。この第
４凹部３５には、該第４凹部３５を補間するような外形
を有する操作部チャンバ（筐体）１７が取り付けられて
いる。操作部チャンバ１７は、第４凹部３５に取り付け
られた状態で、操作部チャンバ１７の右側面と搬送チャ
ンバ１２の右側面とがほぼ同一平面を形成するように、
操作部チャンバ１７の正面と搬送チャンバ１２の正面と
がほぼ同一平面を形成するように、及び操作部チャンバ
１７の天井面と搬送チャンバ１２の天井面とが同一平面
を形成するように構成されている。換言すれば、搬送チ
ャンバ１２と操作部チャンバ１７の全体でほぼ直方体状
となるような外形をなすようになっている。

【００４１】操作部チャンバ１７の第１陥没部に対応す
る部分１７Ａの内部には、この露光装置を管理するため
のコンピュータであるエンジニアリング・ワークステー
ション（ＥＷＳ）１６が収容されている。また、操作部
チャンバ１７の第２陥没部に対応する部分１７Ｂの正面
側には、出力装置（表示装置）としてのディスプレイ１
８が取り付けられ、その下側には固定的にあるいは開閉
可能に棚３６が取り付けられ、該棚３６上に入力装置と
してのキーボード１９が載置又は取り付けられている。
オペレータや保守作業員などは、このキーボード１９を
用いてデータやその他の指令を入力し、ディスプレイ１
８の表示により露光装置の運転状況などを確認すること
ができる。ディスプレイ１８としては、この実施形態で
は液晶表示装置を使用しているが、ＣＲＴであってもよ
い。

【００４２】操作部チャンバ１７の第１陥没部に対応す
る部分１７Ａの背面（制御チャンバ１１側の面）には開
口が形成されており、この開口に連通する第５ダクト３
７が本体チャンバ１１に取り付けられている。第５ダク
ト３７の右側面には開口が形成されており、制御チャン
バ１５を第１の位置（装着位置）に位置させた状態で、
この開口と制御チャンバ１５の第４ダクト３０の開口が
対面するようになっている。制御チャンバ１５の内部と
操作部チャンバ１７の内部とはこの第５ダクト３７を介
して互いに連通される。また、操作部チャンバ１７には
外気吸入用の吸入口が形成されている。但し、操作部チ
ャンバ１７の隙間などから外気を吸入できる場合には、
この吸入口は必須ではない。

【００４３】操作部チャンバ１７にエンジニアリング・
ワークステーション１６を収容するとともに、ディスプ
レイ１８などを取り付けてなる操作部は、搬送チャンバ
１２の第４凹部３５にネジ止めなどにより着脱可能に取
り付けられるようになっている。これにより、例えば、
この露光装置の製造・組立の途中（搬送チャンバ１２の
第４凹部３５に操作部を取り付けていない状態）におい
て、装置本体のみを単独で調整や試験を行うような場合
には、あるいはその他必要がある場合には、図４に示さ
れているように、実機と同一の操作部をキャスター付き
の仮置き台３８上に設置して、制御チャンバ１５内の制
御装置と接続ケーブル３９を介して接続することによ
り、実機に近い状態で調整などを行うことができるとと
もに、調整や試験のために専用的に準備される工具用操
作部を準備する必要がなくなる。

【００４４】（７）放熱系制御チャンバ１５に収容された制御装置、及び操作部チ
ャンバ１７に収容されたエンジニアリング・ワークステ
ーション１６は、温調チャンバ１４内に設けられた排熱
ファン２４が作動されることにより冷却される。即ち、
排熱ファン２４が作動されることにより、操作部ユニッ
ト１７に外気が流入され、第５ダクト３７、第４ダクト
３０を介して制御チャンバ１５に導かれるとともに、制
御チャンバ１５の下部の吸入口から外気が流入され、第
４ダクト３０からの流気とともに第２ダクト２８、第３
ダクト２９及び第１ダクト２６を介して温調チャンバ１
４内に導かれ、排熱口２５を介して外部に流出される。
このような空気の循環を行うことにより、それぞれの装
置からの熱が外部に放出されるようになっている。な
お、露光装置が設置されるのはクリーンルーム内である
が、かかる排熱口２５からの排気はダクトなどによりク
リーンルームの外に排出することが望ましい。

【００４５】（８）作用及び効果上述した第１実施形態によると、装置本体が収容される
本体チャンバ１１に第１乃至第３凹部２１，２２，２３
を形成して、各凹部２１，２２，２３をそれぞれ補間す
るような外形を有する空調チャンバ１３、温調チャンバ
１４及び制御チャンバ１５を対応する凹部２１，２２，
２３に配置するとともに、搬送チャンバ１２に第４凹部
３５を形成して、この第４凹部３５を補間するような外
形を有する操作部チャンバ１７を該第４凹部３５に配置
して、全体としてほぼ直方体状に構成している。これら
の凹部２１，２２，２３，３５は、本体チャンバ１１又
は搬送チャンバ１２の端部、隅部あるいは側部などのい
わゆるデッドスペース（有効に利用されていない部分）
に設けられているから、露光装置全体をコンパクトに構
成することができ、床面の専有面積（フットプリント）
を小さくすることができる。また、全体として一体感が
あり、デザイン的に優れているとともに、外部に露出す
る配線や配管類を最小限にすることができ、低コストを
図ることができる。

【００４６】さらに、装置本体、レチクル搬送系及びウ
エハ搬送系は、製造されるマイクロデバイスの特性劣化
を防止するため温度管理は極めて厳密になされる必要が
あり、空調装置にはそのために十分な能力が要求される
から、該空調装置によって制御系をも冷却するとすれ
ば、その分だけ空調装置の負担が重くなり、空調装置の
大型化、高コスト化を招くことになるが、本実施形態で
は、空調系とは別の放熱系により、制御装置及びエンジ
ニアリング・ワークステーション１６を空冷するように
しているから、空調装置の小型化、低コスト化が図れ
る。

【００４７】また、制御装置などの冷却は単に高温にな
ることを防止する程度でよく、排熱ファン２４などによ
り空気の循環を行う程度の簡単なものでよいから、その
分だけ露光装置全体として構成の簡略化、低コスト化を
図ることができる。特に、この実施形態では、制御装置
及びエンジニアリング・ワークステーション１６を単一
の放熱系で冷却するようにしているから高効率的であ
る。

【００４８】加えて、各チャンバ１１，１２，１３，１
４，１５，１７はそれぞれ独立的に構成されているの
で、各チャンバの側壁及びその間に存在する気体（空気
など）による断熱効果により、互いに熱的に影響し合う
ことが少なくなり、特に、制御装置による熱が装置本体
に伝達されることが防止され、本体装置の温度管理を厳
密に行うことができるようになり、ひいては高精度なマ
イクロデバイスを製造することができるようになる。な
お、各チャンバの接触部に断熱材を設けるようにしても
よい。

【００４９】また、制御装置が収容された制御チャンバ
１５を本体チャンバ１１の第３凹部２３に設けたので、
従来の分離別置き型のように、装置本体と制御装置とを
接続するケーブルがチャンバの外部に露出するようなこ
とがなく、かかる接続ケーブルによる作業性の悪化を防
止できるとともに、接続ケーブルに電気的なノイズがの
って回路の誤動作の原因になることを少なくすることが
できる。

【００５０】さらに、制御装置を収容した制御チャンバ
１５を本体チャンバ１１に支持装置２７を介して取り付
けることにより、制御チャンバ１５を第３凹部２３に対
して着脱自在にしたので、通常運転時には制御チャンバ
１５を第３凹部２３に装着した状態（図２に示すような
状態）としておき、装置本体のメンテナンスなどのため
に、装置本体に右側面からアクセスする必要が生じた場
合には、制御チャンバ１５を第３凹部２３から引き出し
た状態（図３に示すような状態）とすることにより、第
３凹部２３と制御チャンバ１５との間の部分に形成され
る空間に進入することができるようになり、その状態
で、第３凹部２３の奥部の扉（蓋）を開くことにより、
きわめて容易に装置本体にアクセスすることができ、メ
ンテナンス作業などが容易となる。また、制御チャンバ
１５は支持装置２７によりその動きが制限されているか
ら、制御装置と装置本体やエンジニアリング・ワークス
テーション１６などとの間の接続ケーブルに過度の張力
が加えられることが少なく、ケーブルの切断などの障害
も少なくすることができる。

【００５１】第２実施形態図５は本発明の第２実施形態に係る露光装置の全体構成
を示す外観斜視図である。上述した第１実施形態の構成
と実質的に同一の構成部分については同一の番号を付し
て、その説明は省略することにする。

【００５２】上述した第１実施形態では、排熱ファン２
４は温調チャンバ１４内に設け、排熱口２５も温調チャ
ンバ１４の側面に設けて構成されているが、この第２実
施形態では、排熱ファン２４は制御チャンバ１５内に設
け、排熱口２５は制御チャンバ１５の側面に設けて構成
されている。温調チャンバ１４の第１ダクト２６、制御
チャンバ１５の第２ダクト２８及びこれらを連通する第
３ダクト２９、並びに制御チャンバ１５の下部に設けた
外気吸入用の吸入口は、この実施形態では設けられてお
らず、該当部分は閉塞されている。

【００５３】制御チャンバ１５に収容された制御装置、
及び操作部チャンバ１７に収容されたエンジニアリング
・ワークステーション１６は、制御チャンバ１５内に設
けられた排熱ファン２４が作動されることにより冷却さ
れる。即ち、排熱ファン２４が作動されることにより、
操作部ユニット１７に外気が流入され、第５ダクト３
７、第４ダクト３０を介して制御チャンバ１５内に導か
れるとともに、制御チャンバ１５の上部から下部に向か
って流れ、排熱口２５を介して外部に流出される。この
ような空気の循環を行うことにより、それぞれの装置か
らの熱が外部に放出されるようになっている。なお、露
光装置が設置されるのはクリーンルーム内であるが、か
かる排熱口２５からの排気はダクトなどによりクリーン
ルームの外に排出することが望ましい。その他の構成及
び作用効果については上述の第１実施形態と同様であ
る。

【００５４】以上の第１及び第２実施形態では、制御装
置を収納する制御チャンバ１５、及びエンジニアリング
・ワークステーション１６を収納する操作部チャンバ１
７はそれぞれ温調チャンバ１４に接続されて排熱ファン
２４により冷却されるものとしたが、温調チャンバ１４
による冷却の代わりに制御装置やワークステーション１
６から発生する熱が本体チャンバ１１（装置本体）に伝
わるのを防止するために、本体チャンバ１１と制御チャ
ンバ１５、又は操作部チャンバ１７との間に断熱材を設
けるようにしてもよい。または、本体チャンバ１１と制
御チャンバ１５（又は操作部チャンバ１７）との少なく
とも一方であって、両チャンバが対向、又は接触する部
分を断熱材で構成してもよい。温調チャンバ１４の排熱
ファン２４による冷却を行わないときは制御装置やワー
クステーション１６などをチャンバに収納しなくてもよ
く、一部に開口が形成された筐体に収納してもよいし、
本体チャンバ１１の凹部に直接ワークステーション１６
などを配置してもよい。なお、この断熱材と温調チャン
バ１４の排熱ファン２４による冷却とを併用してもよ
い。

【００５５】また、本体チャンバ１１内の投影光学系又
は照明光学系の少なくとも一部を密閉した空間内に、例
えば、窒素、ヘリウム、水素、あるいは化学的にクリー
ンなドライエアを供給する気体供給装置などをチャンバ
に収納し、そのチャンバを本体チャンバ１１の凹部に配
置するようにしてもよい。また、気体供給装置などを収
納するチャンバを他のチャンバ、例えば温調チャンバ１
４で兼用する、即ち気体供給装置などを温調チャンバ１
４に収納するようにしてもよい。

【００５６】第３実施形態本発明をインライン方式のリソグラフィシステムにおけ
る露光装置に適用した場合について、以下に説明する。

【００５７】マイクロデバイスを製造するためのフォト
リソグラフィ工程においては、露光装置によりパターン
の像を転写する露光工程の前工程として、コータ（Coat
er：塗布装置）によりウエハ(基板)にフォトレジスト
（感光剤）を塗布する塗布工程が、後工程として、デベ
ロッパ（Developer：現像装置）により露光工程でパタ
ーン像が形成されたフォトレジストを現像する現像工程
が実施される。

【００５８】そして、近時においては、コータ及びデベ
ロッパ又はこれらを一体化したコータ・デベロッパ（基
板処理装置）を、露光装置に隣接して配置して、これら
の装置間でロボットハンド等によりウエハの受け渡しを
自動的に行うようにしたインライン方式のリソグラフィ
システムが主流となりつつある。このようなインライン
方式を採用すると、複数のウエハを収容するウエハカセ
ット（基板キャリア）等を用いてウエハの受け渡しを行
うものと比較して、各装置間でのウエハの受け渡しの効
率化が図れるとともに、塵等のウエハへの付着や装置内
への進入を防止でき、さらに、露光装置やシステム全体
の小型化やスループットを向上できるというメリットが
ある。

【００５９】このようなインライン方式のリソグラフィ
システムを構成する場合においては、図６〜図８に示さ
れているように、コータ・デベロッパＣＤは、例えば、
露光装置の本体チャンバ１１に対して搬送チャンバ１２
が設置してある側を正面に見て、左側面側に設置し（図
６）、右側面側に設置し（図７）、あるいは正面側に設
置（図８）する場合がある。なお、背面側には光源又は
光源から露光装置に照明光を導くためのビームマッチン
グユニット等を含む光学系が設置されるため、あるいは
搬送チャンバ１２との位置関係において効率的でないた
め、Ｃ／Ｄをこの背面側に設置することは通常はない。

【００６０】なお、図６〜図８において、ＷＣはこのリ
ソグラフィシステムに対して複数のウエハを一括的に搬
出入するためのウエハカセット（基板キャリア）であ
り、コータ・デベロッパＣＤの所定の載置台に対してカ
セット搬送システム等（不図示）により搬出入される。

【００６１】このようなインライン方式のリソグラフィ
システムに採用される露光装置としては、コータ・デベ
ロッパＣＤが露光装置のいずれの側に設定されるかは、
マイクロデバイスの製造工場における製造ラインの仕様
（クリーンルームの構造等）に依存しており、予め確定
していないので、なるべく多くの要請に柔軟に対応でき
ることが望ましい。

【００６２】例えば、オペレータが入出力操作を行うた
めの操作装置（操作パネル、キーボード、表示装置等）
は、コータ・デベロッパＣＤが隣接される部分には必然
的に設置することはできないし、また、必ずしも設置で
きないことはない場合でも、操作性等の人間工学的な観
点等からコータ・デベロッパＣＤの位置に応じて、ある
いは他の理由（複数の露光装置がクリーンルーム内に設
置される場合における互いの位置関係や配列等）に応じ
て、柔軟に変更できることが望ましい。

【００６３】そこで、本第３実施形態においては、露光
装置の操作系について、以下のように構成している。な
お、上述した第１実施形態と実質的に同一の構成部分に
ついては同一の番号を付してその説明は省略することに
し、異なる部分についてのみ説明することにする。

【００６４】図９は、本発明の第３実施形態の露光装置
の外観構成の概略を示す図であり、（Ａ）は平面図、
（Ｂ）は正面図である。

【００６５】上述の第１実施形態においては、搬送チャ
ンバ１２の右上隅部に、ほぼ立方体状に陥没させたよう
な形状の第１陥没部と、該第１陥没部の下側の正面側を
ほぼ直方体状に陥没させたような形状の第２陥没部から
なる第４凹部３５が形成されており、この第４凹部３５
に、該第４凹部３５を補間するような外形を有する操作
部チャンバ（筐体）１７を取り付けるようにしている。

【００６６】これに対して、この第３実施形態では、か
かる第４凹部３５とほぼ同一の形状を有する第５凹部４
１を、搬送チャンバ１２の左上隅部にも追加的に形成し
ている。また、かかる第４凹部３５とほぼ同一の形状を
有する第６凹部４２を、本体チャンバ１１の背面側の上
側中央部（空調チャンバ１３と温調チャンバ１４の間の
部分）にも形成している。従って、操作部チャンバ１７
は、これらの第４凹部３５、第５凹部４１、及び第６凹
部４２の任意の一つに選択的に設置することができるよ
うになっている。

【００６７】例えば、図６に示されているように、露光
装置のチャンバ（本体チャンバ１１、搬送チャンバ１
２）の左側面にコータ・デベロッパＣＤを設置する場合
には、操作性やウエハのコータ・デベロッパＣＤとの間
の受け渡し等の観点から、操作部チャンバ１７を第４凹
部３５に設置し、図７に示されているように、露光装置
のチャンバ（本体チャンバ１１、搬送チャンバ１２）の
右側面にコータ・デベロッパＣＤを設置する場合には、
同様に操作部チャンバ１７を第５凹部４１に設置するこ
とができる。

【００６８】また、図８に示されているように、コータ
・デベロッパＣＤを露光装置のチャンバ（本体チャンバ
１１、搬送チャンバ１２）の正面に設置する場合には、
操作部チャンバ１７を第６凹部４２に設置することによ
り対応することができる。なお、操作部チャンバ１７を
第６凹部４２に設置した場合には、操作部が露光装置の
背面側に位置することになり、オペレータによる操作性
の観点からは、望ましくない場合があるが、近時におけ
る露光装置やリソグラフィシステムにおいては、クリー
ンルーム内の複数の露光装置等を通信回線（イーサネッ
トなど）で接続して、中央のコンピュータで集中管理す
る（ここで入出力を実施する）ことが行われることが多
いので、このような場合には、それほど問題とはならな
いと考えられる。

【００６９】このように本第３実施形態によると、操作
部チャンバ１７を設置するための凹部（第４凹部３５、
第５凹部４１、第６凹部４２）をチャンバ（本体チャン
バ１１、搬送チャンバ１２）の３箇所に設け、そのうち
のいずれかに操作部チャンバ１７を選択的に設置できる
ようにしたので、コータ・デベロッパＣＤが隣接設置さ
れる位置との関係で、あるいは操作性等の人間工学的な
観点等から、最も適切な凹部３５，４１，４２に操作部
チャンバ１７を設置することができ、リソグラフィシス
テムの構成や露光装置の設置上の各種の要請に対して柔
軟に対応することができる。

【００７０】なお、操作部チャンバ１７を設置しない第
４〜第６凹部３５，４１，４２については、操作部チャ
ンバ１７とほぼ同じ形状に形成したダミーチャンバを設
置するようにできる。但し、ダミーチャンバといっても
空にしておく必要はなく、プリント基板パッケージや空
調装置等の他の装置を収納するようにするとよい。ま
た、第４〜第６凹部３５，４１，４２を構成する壁面
（内面）の一部又は全部を取り外しできるように構成し
ておき、操作部チャンバ１７を設置しない第４〜第６凹
部３５，４１，４２については、必要に応じてこれを取
り外し、コータ・デベロッパＣＤとのウエハの受け渡し
のための装置やその他の装置の設置スペースとしてもよ
い。

【００７１】また、上述の第３実施形態では、一体型の
コータ・デベロッパＣＤを露光装置に隣接配置する場合
を例示しているが、コータとデベロッパが分離して構成
されて、それぞれが露光装置の同一の面（左側面、右側
面、正面のいずれか）に設置され、あるいはコータが左
側面にデベロッパが右側面に、というように互いに別の
面に設置される場合があるが、このような場合にも本発
明が適用できることは言うまでもない。さらに、このよ
うなインライン型のリソグラフィシステムのみならず、
従来のウエハカセット等を用いて複数のウエハを搬送す
る形式の露光装置に適用できることも言うまでもない。

【００７２】上述の第３実施形態では、操作部チャンバ
１７を設置する凹部として、第４〜第６凹部３５，４
１，４２の三つを設けているが、本発明はこれに限定さ
れず、二つあるいは４つ以上でもよい。また、このよう
な凹部を設ける位置も、かかる第３実施形態の位置に限
定されるものではなく、例えば、本体チャンバ１１の左
右の側面等、別な位置に設けることができる。

【００７３】また、上述の第３実施形態では、操作部チ
ャンバ１７について、複数の凹部３５，４１，４２を形
成しているが、本発明はこれに限定されることはなく、
操作部チャンバ１７以外のチャンバ、例えば、図１にお
ける制御チャンバ１５について、第３凹部２３と同様の
形状を有する凹部を、本体チャンバ１１の左側面（上述
の第１実施形態とは反対側）にも形成して、制御チャン
バ１５をこれらのうちのいずれか一方に選択的に設置す
るようにできる。

【００７４】さらに、操作部チャンバ１７、制御チャン
バ１５、あるいは他の周辺装置を収容するサブチャンバ
を互いに同一の形状として、これらに対応する単一形状
を有する複数（当該サブチャンバの数と同数又はそれよ
りも多い数）の凹部を露光装置のチャンバ（本体チャン
バ１１、搬送チャンバ１２）に形成して、これらの凹部
に任意のサブチャンバを装着するようにしてもよい。ま
た、露光装置のオプション装置（選択的、あるいは追加
的に設置される装置）を当該サブチャンバに収納して、
要求される仕様に応じて、任意の凹部に装着するように
してもよい。

【００７５】また、上述した第１〜第３実施形態では、
本体チャンバ１１や搬送チャンバ１２の凹部に、操作部
などをチャンバ（筐体）に収納した状態で設置するもの
としたが、チャンバ（筐体）に収納することなく操作部
などを直接その凹部に設けるようにしてもよい。

【００７６】その他なお、以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易に
するために記載されたものであって、本発明を限定する
ために記載されたものではない。従って、上記の実施形
態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する
全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。

【００７７】例えば、上述した実施形態では、ステップ
・アンド・スキャン方式の縮小投影型走査露光装置（ス
キャニング・ステッパー）について説明したが、例えば
レチクルとウエハとを静止させた状態でレチクルパター
ンの全面に露光用照明光を照射して、そのレチクルパタ
ーンが転写されるべきウエハ上の１つの区画領域（ショ
ット領域）を一括露光するステップ・アップ・リピート
方式の縮小投影型露光装置（ステッパー）、さらにはミ
ラープロジェクション方式やプロキシミティ方式等の露
光装置にも同様に適用することができる。また、装置本
体の投影光学系は縮小光学系に限られるものではなく、
等倍光学系や拡大光学系であってもよいし、光源として
軟Ｘ線領域に発振スペクトルを有するＥＵＶ（Ｅｘｔｒ
ｅｍｅＵｌｔｒａＶｉｏｌｅｔ）光を発生するＳＯ
Ｒ、又はレーザプラズマ光源等を用いた縮小投影型走査
露光装置、又はプロキシミティー方式のＸ線走査露光装
置にも適用可能である。更に、電子線、イオンビームな
どの荷電粒子線を用いる露光装置にも適用可能である。
なお、ＥＵＶ光、Ｘ線、荷電粒子線などを用いる露光装
置では真空度は異なるものの本体チャンバ内は減圧され
る。

【００７８】

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明による
と、床面の占有面積が小さく、メンテナンスその他の作
業性が良好で、制御装置などの周辺装置が発生する熱に
よる装置本体への影響を少なくすることができる露光装
置が提供されるという効果がある。

【００７９】また、リソグラフィシステムの仕様等から
の各種の要請に柔軟に対応することができる露光装置が
提供されるという効果もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態に係る露光装置の全体
構成を示す外観斜視図である。

【図２】図１に示す露光装置の制御チャンバを装着し
た状態の平面図である。

【図３】図１に示す露光装置の制御チャンバを引き出
した状態の平面図である。

【図４】本発明の第１実施形態の操作部を仮置き台上
に設置して試験などを行う場合の構成を示す斜視図であ
る。

【図５】本発明の第２実施形態に係る露光装置の全体
構成を示す外観斜視図である。

【図６】本発明の第３実施形態に係るリソグラフィシ
ステムの一例を示す平面図である。

【図７】本発明の第３実施形態に係るリソグラフィシ
ステムの他の例を示す平面図である。

【図８】本発明の第３実施形態に係るリソグラフィシ
ステムのさらに他の例を示す平面図である。

【図９】本発明の第３実施形態に係る露光装置の要部
を示す平面図（Ａ）及び正面図（Ｂ）である。

【符号の説明】

１１… 本体チャンバ１２… 搬送チャンバ１３… 空調チャンバ１４… 温調チャンバ１５… 制御チャンバ１６… エンジニアリング・ワークステーション１７… 操作部チャンバ１８… ディスプレイ１９… キーボード２１… 第１凹部２２… 第２凹部２３… 第３凹部２４… 排熱ファン２５… 排熱口２６，２８，２９，３０，３７… ダクト２７… 支持装置２７Ａ… 拘束アーム３２，３３… 開閉扉３５… 第４凹部ＣＤ…コータ・デベロッパ４１…第５凹部４２…第６凹部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】露光処理を行う装置本体が収容される第
１チャンバに内側に陥没する凹部を設け、前記装置本体の周辺装置を前記凹部に設けたことを特徴
とする露光装置。
【請求項２】前記周辺装置が収納される第２チャンバ
を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の露光装
置。
【請求項３】前記周辺装置は、前記本体装置の制御を
行う制御装置であることを特徴とする請求項１又は２に
記載の露光装置。
【請求項４】前記第２チャンバを前記第１チャンバに
対して着脱可能に装着したことを特徴とする請求項２に
記載の露光装置。
【請求項５】前記第２チャンバは、前記凹部を補間す
るような外形を有することを特徴とする請求項２又は４
に記載の露光装置。
【請求項６】前記第１チャンバの内部を空調する空調
系と、前記第２チャンバの内部を冷却する放熱系をそれ
ぞれ備えたことを特徴とする請求項２，４又は５に記載
の露光装置。
【請求項７】前記第２チャンバを前記凹部に装着した
状態の第１の位置、及び該第２チャンバを該凹部から引
き出した状態の第２の位置に選択的に位置するように、
該第２チャンバを支持する支持装置を設けたことを特徴
とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項８】前記支持装置は、アーム部材の一端を前
記第１チャンバに他端を前記第２チャンバにそれぞれ回
動自在に軸支してなることを特徴とする請求項７に記載
の露光装置。
【請求項９】前記凹部の奥面に前記第１チャンバの内
外に貫通する開口及び該開口を閉塞する開閉可能な扉を
設けたことを特徴とする請求項４又は７に記載の露光装
置。
【請求項１０】内部を空調するために外部から隔離さ
れた空間を画成する第１筐体の側壁に内側に陥没する凹
部を設け、前記凹部を補間するような外形を有する第２筐体を前記
凹部に着脱可能に装着したことを特徴とする露光装置。
【請求項１１】前記第２筐体が前記凹部に装着された
状態での該第２筐体の露出部に入出力装置を設けたこと
を特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】露光処理を行う装置本体が収容される
第１チャンバに、内側に陥没する互いに略同一形状の複
数の凹部を設け、前記装置本体の周辺装置を、前記複数の凹部のうちの任
意の一つに設置可能としたことを特徴とする露光装置。
【請求項１３】前記周辺装置は、各種情報の入出力を
行うための操作装置であることを特徴とする請求項１２
に記載の露光装置。
【請求項１４】前記周辺装置は、前記凹部を補間する
ような外形を有する第２チャンバに収納されたことを特
徴とする請求項１２又は１３に記載の露光装置。
【請求項１５】前記第１チャンバに隣接して基板処理
装置が配置される露光装置であって、前記基板処理装置が隣接される位置に応じて、前記周辺
装置が設置される凹部を選択することを特徴とする請求
項１２、１３又は１４に記載の露光装置。
【請求項１６】前記第１チャンバの前記基板処理装置
が隣接する側壁と異なる側壁に設けられた前記凹部に前
記周辺装置を設置することを特徴とする請求項１５に記
載の露光装置。
【請求項１７】前記第１チャンバ内で前記周辺装置と
接続される配線を、脱ガスの少ない物質で覆うことを特
徴とする請求項１〜１６のいずれか一項に記載の露光装
置。
【請求項１８】内部を空調するために外部から隔離さ
れた空間を画成する筐体の側壁の互いに異なる複数の位
置に、内側に陥没する互いに略同一形状の凹部をそれぞ
れ設け、前記凹部を補間するような外形を有する構造物を、前記
複数の凹部のうちの少なくとも一つに着脱可能に装着す
るようにしたことを特徴とする露光装置。
【請求項１９】前記構造物が前記凹部に装着された状
態での該構造物の露出部に入出力装置を設けたことを特
徴とする請求項１８に記載の露光装置。