JPWO2008090975A1 - 支持構造体及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
支持構造体(30)は、支持対象物(12,14,16,20)を支持する。支持構造体(30)は、外部から伝達される空気振動と共振して、上記空気振動を減衰させる共振装置(1)を備える。
Description
本発明は、支持構造体及び露光装置に関するものである。
本願は、2007年1月26日に出願された特願2007−016194号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
本願は、2007年1月26日に出願された特願2007−016194号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
半導体素子、液晶表示素子、撮像装置(CCD(Charge Coupled Device)等)、薄膜磁気ヘッド等のデバイスの製造工程の一つであるリソグラフィ工程においては、マスクとしてのレチクル(又はフォトマスク等)に形成されているパターンを基板としてのフォトレジストが塗布されたウエハ(又はガラスプレート等)上に転写露光するために、露光装置が使用されている。露光装置としては、ステッパ等の一括露光型(静止露光型)の投影露光装置、又はスキャニングステッパ等の走査露光型の投影露光装置(走査型露光装置)等が使用されている。
これらの露光装置では、半導体素子等の高集積化に伴って、ウエハ上に形成する回路パターンの微細化が要請されている。近年においては、回路パターンの線幅が40〜50nmのものもある。
回路パターンの微細化を実現するためには、露光精度を向上させるため、振動の影響を極力排除する必要がある。従来の露光装置においては、例えば、投影光学系を支持する支持構造体等を防振台を介して設置することによって、外部の振動が投影光学系等に伝達されることを抑制している(例えば、特許文献1参照)。
特開2006−70928号公報
国際公開第02/101804号パンフレット
回路パターンの微細化を実現するためには、露光精度を向上させるため、振動の影響を極力排除する必要がある。従来の露光装置においては、例えば、投影光学系を支持する支持構造体等を防振台を介して設置することによって、外部の振動が投影光学系等に伝達されることを抑制している(例えば、特許文献1参照)。
近年においては回路パターンの線幅が上述のように40〜50nmのオーダで要請され、今後は更なる回路パターンの微細化が進む。このため、さらなる振動の影響の排除を行う必要が生じる。
従来の露光装置は、筐体や支持構造体を介して伝達される振動に対しては、対策が施されているが、空間を伝搬してくる騒音等の空気振動に対しての対策は施されていない。騒音等の空気振動の周波数が、設置部材の固有振動数に合致した場合には、当該部材が共振して振動し、露光精度が悪化する虞がある。
例えば、特許文献2には、露光装置本体をチャンバ内に収容し、そのチャンバ内部に空調空間を形成する露光装置が記載されている。このような露光装置では、上記空調空間を形成するための空気の循環経路が備えられており、当該循環経路の途中に送風機が設置されている。この送風機から発生した騒音は、循環経路等を伝搬する間に特定周波数の振動が増強される可能性がある。例えば、増強された特定周波数が干渉計を構成する部材の固有振動数と合致した場合には、当該部材が共振することによって振動し、測定誤差が生じる虞がある。
このため、今後はこのような空気振動に対する対策を施す必要が生じるものと考えられる。
従来の露光装置は、筐体や支持構造体を介して伝達される振動に対しては、対策が施されているが、空間を伝搬してくる騒音等の空気振動に対しての対策は施されていない。騒音等の空気振動の周波数が、設置部材の固有振動数に合致した場合には、当該部材が共振して振動し、露光精度が悪化する虞がある。
例えば、特許文献2には、露光装置本体をチャンバ内に収容し、そのチャンバ内部に空調空間を形成する露光装置が記載されている。このような露光装置では、上記空調空間を形成するための空気の循環経路が備えられており、当該循環経路の途中に送風機が設置されている。この送風機から発生した騒音は、循環経路等を伝搬する間に特定周波数の振動が増強される可能性がある。例えば、増強された特定周波数が干渉計を構成する部材の固有振動数と合致した場合には、当該部材が共振することによって振動し、測定誤差が生じる虞がある。
このため、今後はこのような空気振動に対する対策を施す必要が生じるものと考えられる。
本発明は、空気振動に起因して生じる振動を抑制可能な支持構造体及び露光装置を提供することを目的とする。
本発明は、実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。ただし、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
本発明の第1態様に従えば、支持対象物(14,16,20)を支持する支持構造体であって、外部から伝達される空気振動と共振して、上記空気振動を減衰させる共振装置(1)を備える支持構造体(30)が提供される。
第1態様によれば、共振装置(1)が外部から伝達される空気振動と共振することによって、当該空気振動が減衰される。
第1態様によれば、共振装置(1)が外部から伝達される空気振動と共振することによって、当該空気振動が減衰される。
本発明の第2態様に従えば、支持構造体によって支持される支持対象物(12,14,16,20)を用いて基板(W)にパターンの像を露光する露光装置であって、上記支持構造体として、本発明の支持構造体(30)を用いる露光装置(EX)が提供される。
本発明の態様によれば、共振装置が外部から伝達される空気振動と共振することによって、当該空気振動が減衰されるため、空気振動の周波数が特定の部材の固有振動周波数と合致する場合であっても、特定の部材の振動を抑制することができる。
したがって、本発明の態様によれば、空気振動に起因して生じる振動を抑制することができる。
したがって、本発明の態様によれば、空気振動に起因して生じる振動を抑制することができる。
EX……露光装置、W……ウエハ(基板)、A……空間、1……共振装置、2……コラム本体部、3……凹部、4,41……蓋部、5,51,5b〜5e……オリフィス(ネック部)、5a……隘路、6……調整部材、7……間仕切り板(調整部材)、8……挿し込み部材、12……照明光学系(支持対象物)、14……レチクルステージ(支持対象物)、16……投影光学系(支持対象物)、20……ウエハステージ(支持対象物)、30……コラム(支持構造体)
以下、図面を参照して、本発明に係る支持構造体及び露光装置の一実施形態について説明する。なお、以下の図面においては、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。また、以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する場合がある。そして、水平面内の所定方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれと直交する方向(すなわち鉛直方向)をZ軸方向とする。
(第1実施形態)
図1は、本第1実施形態の露光装置EXの構成を示す模式図である。
露光装置EXは、レチクルRとウエハWとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルRに形成されたパターンを投影光学系16を介してウエハW上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわち、いわゆるスキャニング・ステッパである。
露光装置EXは、露光装置本体10と、クリーンルーム内の床面F上に設置されると共に露光装置本体10を収容する本体チャンバ40と、本体チャンバ40に隣接して配置された機械室70とを備える。
図1は、本第1実施形態の露光装置EXの構成を示す模式図である。
露光装置EXは、レチクルRとウエハWとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルRに形成されたパターンを投影光学系16を介してウエハW上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわち、いわゆるスキャニング・ステッパである。
露光装置EXは、露光装置本体10と、クリーンルーム内の床面F上に設置されると共に露光装置本体10を収容する本体チャンバ40と、本体チャンバ40に隣接して配置された機械室70とを備える。
露光装置本体10は、露光光ELによりレチクルRを照明する照明光学系12、レチクルRを保持して移動可能なレチクルステージ14、レチクルRから射出される露光光ELをウエハW上に投射する投影光学系16、ウエハWを保持して移動可能なウエハステージ20、投影光学系16や照明光学系12等を保持すると共にレチクルステージ14及びウエハステージ20が搭載されるコラム30(支持構造体)、露光装置EXを統括的に制御する不図示の制御装置等を備える。
図2は、コラム30の断面図である。なお、図2においては、説明の便宜上、コラム30、照明光学系12、レチクルステージ14、投影光学系16、ウエハステージ20、防振台36及び床面F以外の要素が省略されている。
コラム30は、床面F上に設置されたベースプレート38に防振台36を介して支持されると共に投影光学系16(支持対象物)及びウエハステージ20等を支持するメインコラム31と、該メインコラム31上に設置されると共にレチクルステージ14(支持対象物)を支持する第1サポートコラム32と、該第1サポートコラム32上に設置されると共に照明光学系12(支持対象物)を支持する第2サポートコラム33とによって構成されている。
コラム30は、床面F上に設置されたベースプレート38に防振台36を介して支持されると共に投影光学系16(支持対象物)及びウエハステージ20等を支持するメインコラム31と、該メインコラム31上に設置されると共にレチクルステージ14(支持対象物)を支持する第1サポートコラム32と、該第1サポートコラム32上に設置されると共に照明光学系12(支持対象物)を支持する第2サポートコラム33とによって構成されている。
メインコラム31、第1サポートコラム32及び第2サポートコラム33すなわちコラム30は、複数の共振装置1を備えている。共振装置1は、図3の断面図に示すように、ヘルムホルツ共鳴により、外部から伝達される空気振動と共振して、空気振動を減衰させるものである。この共振装置1は、鋳物部材であるコラム本体2に形成された凹部3と、該凹部3を塞ぐ蓋部4と、蓋部4によって塞がれた空間Sと外部空間とを接続する隘路5aを有するオリフィス5(ネック部)とによって構成されている。
なお、隘路は、通路を意味する。本実施形態において、隘路は、空間Sと外部空間との間において空気が出入りするための流路として機能する。
なお、隘路は、通路を意味する。本実施形態において、隘路は、空間Sと外部空間との間において空気が出入りするための流路として機能する。
図4に示すように、蓋部4は、板形状の部材であり、雌ネジ4bが形成された貫通孔4aを有する。そして、蓋部4は、ネジ4cによってコラム本体2に締結されている。
オリフィス5は、管形状の部材であり、一端部側5gに雄ネジ5hが形成されている。そして、オリフィス5は、雄ネジ5hが蓋部4の貫通孔4aに形成された雌ネジ4bと螺合されることによって、蓋部4に固定されている。
オリフィス5は、管形状の部材であり、一端部側5gに雄ネジ5hが形成されている。そして、オリフィス5は、雄ネジ5hが蓋部4の貫通孔4aに形成された雌ネジ4bと螺合されることによって、蓋部4に固定されている。
図5は、ヘルムホルツ共鳴を説明するための説明図であり、ヘルムホルツ共鳴器を示す模式図である。
空間部にネック部が接続されたヘルムホルツ共鳴器であって、空間部の空気がバネ、ネック部の空気が質量として作用するバネマス系を考える。音速をc、空間部の容量をV、ネック部の長さをL、ネック部の断面積をSとすると、ヘルムホルツ共鳴の共振周波数fは、下式(1)によって表される。
空間部にネック部が接続されたヘルムホルツ共鳴器であって、空間部の空気がバネ、ネック部の空気が質量として作用するバネマス系を考える。音速をc、空間部の容量をV、ネック部の長さをL、ネック部の断面積をSとすると、ヘルムホルツ共鳴の共振周波数fは、下式(1)によって表される。
すなわち、式(1)に示されるように、ヘルムホルツ共鳴器において、外部から周波数fと同一の周期的外力が加えられた場合、つまり周波数fの空気振動が伝達された場合に、内部の空気が振動する。
これがヘルムホルツ共鳴の原理である。ヘルムホルツ共鳴器の内部の空気が振動することによって生じる摩擦力等によって周波数fの空気振動のエネルギが消費され、この結果空気振動の振幅が減少する。つまり、ヘルムホルツ共鳴器によって、共振周波数fと同じ周波数の空気振動が減衰される。
これがヘルムホルツ共鳴の原理である。ヘルムホルツ共鳴器の内部の空気が振動することによって生じる摩擦力等によって周波数fの空気振動のエネルギが消費され、この結果空気振動の振幅が減少する。つまり、ヘルムホルツ共鳴器によって、共振周波数fと同じ周波数の空気振動が減衰される。
本実施形態の露光装置EXにおいては、コラム本体2に形成された凹部3が蓋部4によって塞がれることによって形成された空間Sがヘルムホルツ共鳴器の空間部として機能し、オリフィス5が有する隘路5aがヘルムホルツ共鳴器のネック部として機能することによって共振装置1が機能する(図3参照)。
上記式(1)は、ヘルムホルツ共鳴器の空間部の容量V、ネック部の長さL、及びネック部の断面積Sを変数として構成されている。このため、これらの変数を調整することによって、任意の共振周波数fを有するヘルムホルツ共鳴器を構成することができる。
つまり、本実施形態においては、減衰させたい空気振動の周波数Fに応じた諸元にて、空間S(容量V)と、隘路5a(長さL,断面積S)との少なくとも一方を形成することによって、共振装置1は上記空気振動の周波数Fに合致する共振周波数を有するものとなる。
なお、本実施形態において共振装置1の共振周波数fは、例えば、後述するレーザ干渉計28(図1参照)の固有振動数に設定されることが好ましい。
つまり、本実施形態においては、減衰させたい空気振動の周波数Fに応じた諸元にて、空間S(容量V)と、隘路5a(長さL,断面積S)との少なくとも一方を形成することによって、共振装置1は上記空気振動の周波数Fに合致する共振周波数を有するものとなる。
なお、本実施形態において共振装置1の共振周波数fは、例えば、後述するレーザ干渉計28(図1参照)の固有振動数に設定されることが好ましい。
ここで、図6〜図9を参照して、空間Sの容量を調整する具体的な方法について説明する。
例えば、図6に示すように、空間Sの容量を調整するための調整部材6によって、空間Sの一部を満たすことで空間Sの容量を調整することができる。このような調整部材6としては、グラスウール等を用いることができる。なお、調整部材6は、蓋部4によって凹部3を塞ぐ前に凹部3内に配置されることによって、空間Sの内部に配置される。
また、図7に示すように、間仕切り板7(調整部材)によって、空間Sの一部を区画することで空間Sの容量を調整することができる。このような間仕切り板7は、蓋部4によって凹部3を塞ぐ前に凹部3内に固定されることによって、空間Sの内部に配置される。
また、図8に示すように、空間Sへの挿し込み量を調整可能な挿し込み部材8によって空間Sの容量を調整することができる。挿し込み部材8は、全体あるいは一端部側(図8において全体)に雄ネジ8bが形成されており、貫通孔4aとは別に蓋部4に形成された貫通孔4dに螺合されている。なお、貫通孔4dには、雌ネジ4eが形成されている。挿し込み部材8が右回転あるいは左回転されることによって、挿し込み部材8が出し入れされ、これによって空間Sの容量が調整される。
また、図9に示すように、オリフィス5全体に雄ネジ4fを形成し、オリフィス5自体の空間Sへの挿し込み量を調整可能とする、すなわち図8に示す挿し込み部材をオリフィス5と一体形成することによって、空間Sの容量を調整するができる。このような場合には、オリフィス5の挿し込み量を変化させることによって空間Sの容量が十分に変化するように、オリフィス5を肉厚に形成することが好ましい。
次に、図10を参照して隘路5aの長さ及び断面積を調整する具体的な方法について説明する。
上述のように、オリフィス5は、貫通孔4aに螺合されることによって蓋部4に対して固定されている(図3参照)。このため、オリフィス5は、容易に取り外し可能とされている。すなわち、オリフィス5は、蓋部4に対して脱着自在に固定されている。よって、図10に示すように、隘路5aの長さ及び断面積が異なるオリフィス5b〜5eを予め用意し、これらのオリフィス5を選択して蓋部4に装着することによって、隘路5aの長さ及び断面積を調整することができる。
なお、隘路5aの長さが長い場合には、オリフィス5d,5eのように、隘路5aを蛇行させても良い。このように隘路5aを蛇行させることによって、蓋部4からのオリフィスの突出量を抑制することができる。
なお、空間Sを共振装置1として機能させたくない場合には、図10に示す栓5fを蓋部4に装着して貫通孔4aを塞げば良い。
上述のように、オリフィス5は、貫通孔4aに螺合されることによって蓋部4に対して固定されている(図3参照)。このため、オリフィス5は、容易に取り外し可能とされている。すなわち、オリフィス5は、蓋部4に対して脱着自在に固定されている。よって、図10に示すように、隘路5aの長さ及び断面積が異なるオリフィス5b〜5eを予め用意し、これらのオリフィス5を選択して蓋部4に装着することによって、隘路5aの長さ及び断面積を調整することができる。
なお、隘路5aの長さが長い場合には、オリフィス5d,5eのように、隘路5aを蛇行させても良い。このように隘路5aを蛇行させることによって、蓋部4からのオリフィスの突出量を抑制することができる。
なお、空間Sを共振装置1として機能させたくない場合には、図10に示す栓5fを蓋部4に装着して貫通孔4aを塞げば良い。
なお、オリフィス5や挿し込み部材8の脱離を防止するために、減衰させたい空気振動の周波数Fに応じた諸元にて空間Sの容量及び隘路5aの長さと断面積が決定した後には、例えばネジロック剤等を用いてオリフィス5及び挿し込み部材8を蓋部4に対して固着させることが好ましい。
なお、オリフィス5の隘路5aは内径が一様であるとしてその長さや断面積を変えることについて例を挙げたが、内径が必ずしも一様である必要はない。例えば、内径を部分的に変えることで、長さや断面積を変える効果を狙ってもよい。
なお、オリフィス5の隘路5aは内径が一様であるとしてその長さや断面積を変えることについて例を挙げたが、内径が必ずしも一様である必要はない。例えば、内径を部分的に変えることで、長さや断面積を変える効果を狙ってもよい。
図1に戻り、照明光学系12は、レチクルステージ14に支持されているレチクルRを露光光ELで照明するものであり、不図示の露光用光源から射出された露光光ELの照度を均一化するオプティカルインテグレータ、コンデンサレンズ、リレーレンズ系、レチクルR上の露光光ELによる照明領域をスリット状に設定する可変視野絞り等(いずれも不図示)を有している。
このような構成により、照明光学系12は、レチクルR上の所定の照明領域を、より均一な照度分布の露光光ELで照明可能となっている。
なお、露光用光源から射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)、KrFエキシマレーザ光(波長248nm)、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)等の紫外光が用いられる。
このような構成により、照明光学系12は、レチクルR上の所定の照明領域を、より均一な照度分布の露光光ELで照明可能となっている。
なお、露光用光源から射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)、KrFエキシマレーザ光(波長248nm)、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)等の紫外光が用いられる。
レチクルステージ14は、レチクルRを支持しつつ、投影光学系16の光軸AXに垂直な平面内の2次元移動及び微小回転を行うものである。なお、レチクルRは、レチクルステージ14に形成された矩形開口の周囲に設けられたレチクル吸着機構により真空吸着等される。
なお、光軸AXの方向あるいはレチクルRに照射される露光光ELの光軸方向にレチクルRが移動できるようにしてもよい。
なお、光軸AXの方向あるいはレチクルRに照射される露光光ELの光軸方向にレチクルRが移動できるようにしてもよい。
レチクルステージ14上のレチクルRの2次元方向の位置及び回転角は、不図示のレーザ干渉計によりリアルタイムで測定され、その測定結果は制御装置に出力される。制御装置がレーザ干渉計の測定結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、レチクルステージ14に支持されているレチクルRの位置決めが行われる。
なお、レチクルステージ14は、第1サポートコラム32により支持される。
なお、レチクルステージ14は、第1サポートコラム32により支持される。
投影光学系16は、レチクルRに形成されたパターンを所定の投影倍率でウエハWに投影露光するものであって、複数の光学素子で構成される。本実施形態において、投影光学系16は、投影倍率βが例えば1/4あるいは1/5の縮小系である。なお、投影光学系16は縮小系、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。
投影光学系16は、メインコラム31の天板に設けられた穴部31aに、センサコラム35を介して挿入、支持される。なお、センサコラム35には、不図示のFAセンサ等が設置される。
投影光学系16は、メインコラム31の天板に設けられた穴部31aに、センサコラム35を介して挿入、支持される。なお、センサコラム35には、不図示のFAセンサ等が設置される。
ウエハステージ20は、ウエハWを保持しつつ、X方向,Y方向,及びθZ方向の3自由度方向に移動可能なXYテーブル22と、XYテーブル22をXY平面内で移動可能に支持するウエハ定盤24とを備えている。更に、XYテーブル22上に載置したウエハWの露光処理中に他のウエハWを載置してアライメント処理等を行う計測テーブル23を備える。
ウエハステージ20上には移動鏡26が設けられ、これに対向する位置にはレーザ干渉計28が設けられる。ウエハステージ20の2次元方向の位置及び回転角は、レーザ干渉計28によりリアルタイムで測定され、測定結果が制御装置に出力される。制御装置がレーザ干渉計28の測定結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、ウエハステージ20に保持されているウエハWの位置、移動速度等が制御される。
なお、ウエハ定盤24には、空気Gを回収し、機械室70に戻すステージ排気部110が形成される。詳細については、後述する。
ウエハステージ20上には移動鏡26が設けられ、これに対向する位置にはレーザ干渉計28が設けられる。ウエハステージ20の2次元方向の位置及び回転角は、レーザ干渉計28によりリアルタイムで測定され、測定結果が制御装置に出力される。制御装置がレーザ干渉計28の測定結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、ウエハステージ20に保持されているウエハWの位置、移動速度等が制御される。
なお、ウエハ定盤24には、空気Gを回収し、機械室70に戻すステージ排気部110が形成される。詳細については、後述する。
本体チャンバ40は、環境条件(清浄度、温度、圧力等)がほぼ一定に維持された露光室42と、この露光室42の側部に配置された不図示のレチクルローダ室及びウエハローダ室とを有するように形成されている。なお、露光室42は、その内部に露光装置本体10が配置される。
露光室42の上部側面には、本体チャンバ40内に温調した空気(気体)Aを供給する機械室70に接続される噴出口50が設けられる。機械室70から送気される温調された空気Gが噴出口50からサイドフローにて露光室42の上部空間44に送り込まれるようになっている。
また、露光室42の底部には、リターン部52が設けられ、このリターン部52の下方には、リターンダクト54の一端が接続される。リターンダクト54の他端は、機械室70に接続される。
また、メインコラム31の下端側面及び底面の複数箇所には、リターンダクト56が接続され、このリターンダクト56の他端は機械室70に接続される。つまり、図示は省略されているが、リターンダクト56は、複数の分岐路を備え、それぞれの分岐路がメインコラム31の下端側面及び底面の複数箇所に接続される。
すなわち、露光室42内の空気Gがリターン部52等からリターンダクト54,56を介して機械室70に戻されるようになっている。
露光室42の上部側面には、本体チャンバ40内に温調した空気(気体)Aを供給する機械室70に接続される噴出口50が設けられる。機械室70から送気される温調された空気Gが噴出口50からサイドフローにて露光室42の上部空間44に送り込まれるようになっている。
また、露光室42の底部には、リターン部52が設けられ、このリターン部52の下方には、リターンダクト54の一端が接続される。リターンダクト54の他端は、機械室70に接続される。
また、メインコラム31の下端側面及び底面の複数箇所には、リターンダクト56が接続され、このリターンダクト56の他端は機械室70に接続される。つまり、図示は省略されているが、リターンダクト56は、複数の分岐路を備え、それぞれの分岐路がメインコラム31の下端側面及び底面の複数箇所に接続される。
すなわち、露光室42内の空気Gがリターン部52等からリターンダクト54,56を介して機械室70に戻されるようになっている。
露光室42の側面には、機械室70に接続された給気管路60が接続され、更に、露光室42内に延設されている。その内部には、ヒータ62、送風機64、ケミカルフィルタCF、フィルタボックスAFが順次配置されている。
更に、給気管路60は、2つの分岐路66a,66bに分岐される。一方の分岐路66aは、温度安定化流路装置80aを介して、メインコラム31の内側空間46に接続されている。他方の分岐路66bは、温度安定化流路装置80bを介して、メインコラム31の内側空間46に接続されている。
なお、温度安定化流路装置80a,80bは、給気管路60から送気された空気Gとの間で熱交換を行うことにより、更に空気Gを高精度に温調する装置である。温度安定化流路装置としては、例えば、特表2002−101804号公報に開示されているものを用いることができる。
温度安定化流路装置80a,80bのそれぞれには、供給管92及び排出管94を介して温調装置90が接続されている。これにより、温調装置90、供給管92、温度安定化流路装置80a,80b、排出管94とからなる温調用媒体Cの循環経路が構成される。
また、温調用媒体Cとしては、例えばフロリナート(登録商標)が用いられ、温調装置90により略一定温度に温度調整される。これにより、温度安定化流路装置80a,80bは、その温度が一定に維持される。温調用媒体Cとしては他に、ハイドロフルオロエーテル(HFE)や水を用いることもできる。
更に、給気管路60は、2つの分岐路66a,66bに分岐される。一方の分岐路66aは、温度安定化流路装置80aを介して、メインコラム31の内側空間46に接続されている。他方の分岐路66bは、温度安定化流路装置80bを介して、メインコラム31の内側空間46に接続されている。
なお、温度安定化流路装置80a,80bは、給気管路60から送気された空気Gとの間で熱交換を行うことにより、更に空気Gを高精度に温調する装置である。温度安定化流路装置としては、例えば、特表2002−101804号公報に開示されているものを用いることができる。
温度安定化流路装置80a,80bのそれぞれには、供給管92及び排出管94を介して温調装置90が接続されている。これにより、温調装置90、供給管92、温度安定化流路装置80a,80b、排出管94とからなる温調用媒体Cの循環経路が構成される。
また、温調用媒体Cとしては、例えばフロリナート(登録商標)が用いられ、温調装置90により略一定温度に温度調整される。これにより、温度安定化流路装置80a,80bは、その温度が一定に維持される。温調用媒体Cとしては他に、ハイドロフルオロエーテル(HFE)や水を用いることもできる。
図11は、ウエハステージ20に設けられたステージ排気部110の構成を示す概念図である。
上述したように、ウエハステージ20は、XYテーブル22とウエハ定盤24を備え、ウエハ定盤24上にXYテーブル22が不図示のエアベアリングを介して非接触に支持される。
XYテーブル22の側面には、Y方向に貫通する開口が設けられ、その開口にはYリニアモータを兼ねるYガイドバー122が延設される。すなわち、XYテーブル22は、Yガイドバー122に沿って、Y方向に案内可能に構成される。
また、ウエハステージ20のY方向の両端には、XYテーブル22をX方向に大きく移動させる一対のリニアモータ124が配置される。リニアモータ124は、Yガイドバー122の両端に配置されてコイル巻き線を収納した可動子124Aと、可動子124AのZ方向の面に対向し、かつX方向に積層配置された板状の永久磁石からなる固定子124Bとを組み合わせて構成される。
上述したように、ウエハステージ20は、XYテーブル22とウエハ定盤24を備え、ウエハ定盤24上にXYテーブル22が不図示のエアベアリングを介して非接触に支持される。
XYテーブル22の側面には、Y方向に貫通する開口が設けられ、その開口にはYリニアモータを兼ねるYガイドバー122が延設される。すなわち、XYテーブル22は、Yガイドバー122に沿って、Y方向に案内可能に構成される。
また、ウエハステージ20のY方向の両端には、XYテーブル22をX方向に大きく移動させる一対のリニアモータ124が配置される。リニアモータ124は、Yガイドバー122の両端に配置されてコイル巻き線を収納した可動子124Aと、可動子124AのZ方向の面に対向し、かつX方向に積層配置された板状の永久磁石からなる固定子124Bとを組み合わせて構成される。
ウエハ定盤24上には、図11に示すように、複数の排気口112を有する一対のステージ排気部110が配置される。
ステージ排気部110は、ウエハ定盤24上のリニアモータ124の内側に、X方向に沿って形成された凹型の溝(不図示)に挿入されるようにして配置されている。すなわち、ステージ排気部110は、ウエハ定盤24上におけるXYテーブル22の移動領域とリニアモータ124の配置領域を除く領域に配置される。
各ステージ排気部110のX方向の側面には、それぞれリターンダクト58が接続される。このリターンダクト58は、リターンダクト56に接続される(図1参照)。これにより、ウエハステージ20の近傍の空気Gは、ウエハ定盤24上に形成された複数の排気口112からステージ排気部110内に送気され、リターンダクト58,56を介して、機械室70に戻されるようになっている。
また、ステージ排気部110における各排気口112は、不図示の電磁弁等により開閉可能に構成されている。このように、排気口112を開閉可能に構成するのは、XYテーブル22の移動に合わせて開口させる排気口112を選択可能とするためである。言い換えれば、XYテーブル22が移動したとしても、周辺の空気Gの流れが乱されないようにするためである。
ステージ排気部110は、ウエハ定盤24上のリニアモータ124の内側に、X方向に沿って形成された凹型の溝(不図示)に挿入されるようにして配置されている。すなわち、ステージ排気部110は、ウエハ定盤24上におけるXYテーブル22の移動領域とリニアモータ124の配置領域を除く領域に配置される。
各ステージ排気部110のX方向の側面には、それぞれリターンダクト58が接続される。このリターンダクト58は、リターンダクト56に接続される(図1参照)。これにより、ウエハステージ20の近傍の空気Gは、ウエハ定盤24上に形成された複数の排気口112からステージ排気部110内に送気され、リターンダクト58,56を介して、機械室70に戻されるようになっている。
また、ステージ排気部110における各排気口112は、不図示の電磁弁等により開閉可能に構成されている。このように、排気口112を開閉可能に構成するのは、XYテーブル22の移動に合わせて開口させる排気口112を選択可能とするためである。言い換えれば、XYテーブル22が移動したとしても、周辺の空気Gの流れが乱されないようにするためである。
次に、露光装置EXの作用について説明する。
まず、制御装置により機械室70が作動され、温調された空気Gが、露光室42に向けて送気される。これにより、露光室42内では、噴出口50から露光室42の上部空間44に、温調された空気Gが均一なサイドフローにて送り込まれる。
また、制御装置により送風機64が作動され、温調された空気Gが、分岐路66a,66bを介して、メインコラム31の内側空間46に送り込まれる。
そして、ステージ空間46bに送り込まれた空気Gは、ステージ排気部110からリターンダクト58に排気され、また、メインコラム31の下端側面等からリターンダクト56に排気され、機械室70に戻される。
また、露光室42に送り込まれた空気Gは、リターンダクト54に排気され、機械室70に戻される。
これによって、露光室42及びメインコラム31の内側空間46が空調される。
まず、制御装置により機械室70が作動され、温調された空気Gが、露光室42に向けて送気される。これにより、露光室42内では、噴出口50から露光室42の上部空間44に、温調された空気Gが均一なサイドフローにて送り込まれる。
また、制御装置により送風機64が作動され、温調された空気Gが、分岐路66a,66bを介して、メインコラム31の内側空間46に送り込まれる。
そして、ステージ空間46bに送り込まれた空気Gは、ステージ排気部110からリターンダクト58に排気され、また、メインコラム31の下端側面等からリターンダクト56に排気され、機械室70に戻される。
また、露光室42に送り込まれた空気Gは、リターンダクト54に排気され、機械室70に戻される。
これによって、露光室42及びメインコラム31の内側空間46が空調される。
このような露光室42及びメインコラム31の内側空間46が空調される場合には、上述のように機械室70及び送風機64が作動される。機械室70及び送風機64の作動によってブロードな周波数帯域の騒音すなわち空気振動が発生する。
本実施形態においては、機械室70及び送風機64において発生した空気振動は、共振周波数が周波数fとされた共振装置1によって周波数fが減衰される。具体的には、空気振動が共振装置1に到達した際に、空気振動に含まれる周波数fの成分によって、共振装置1の内部の空気が共振することによって振動し、これによって生じる摩擦力等によって周波数fの空気振動のエネルギが消費され、この結果、空気振動に含まれる周波数fの振幅が減少して減衰する。
つまり、共振装置1の共振周波数fが、例えば、レーザ干渉計28の固有振動数に設定されている場合には、周波数fが減衰された空気振動がメインコラム31の内側空間46に伝達される。このため、機械室70及び送風機64の作動によって生じた騒音がメインコラム31の内側空間46に伝達された場合であっても、レーザ干渉計28が振動することを抑制することができる。
本実施形態においては、機械室70及び送風機64において発生した空気振動は、共振周波数が周波数fとされた共振装置1によって周波数fが減衰される。具体的には、空気振動が共振装置1に到達した際に、空気振動に含まれる周波数fの成分によって、共振装置1の内部の空気が共振することによって振動し、これによって生じる摩擦力等によって周波数fの空気振動のエネルギが消費され、この結果、空気振動に含まれる周波数fの振幅が減少して減衰する。
つまり、共振装置1の共振周波数fが、例えば、レーザ干渉計28の固有振動数に設定されている場合には、周波数fが減衰された空気振動がメインコラム31の内側空間46に伝達される。このため、機械室70及び送風機64の作動によって生じた騒音がメインコラム31の内側空間46に伝達された場合であっても、レーザ干渉計28が振動することを抑制することができる。
このような空気振動に対する対策及び温調が行われた環境で、露光装置本体10による露光処理が行われる。具体的には、不図示の露光用光源から射出された露光光ELが、各種レンズやミラー等からなる照明光学系12において、必要な大きさ及び照度均一性に整形された後にパターンが形成されたレチクルRを照明し、このレチクルRに形成されたパターンが投影光学系16を介して、ウエハステージ20上に保持されたウエハW上の各ショット領域に、縮小転写される。これにより、微細なパターンがウエハW上に高精度に形成される。
以上、説明したように、本実施形態の露光装置EXによれば、コラム30が、外部から伝達される空気振動と共振して、空気振動を減衰させる共振装置1を備えるので、当該空気振動が減衰される。このため、空気振動の周波数が特定の部材(本実施形態においては例えばレーザ干渉計28)の固有振動周波数と合致する場合であっても、特定の部材の振動を抑制することができる。したがって、本実施形態の露光装置EXによれば、空気振動に起因して生じる振動を抑制することができる。
また、共振装置1が複数備えられているため、複数方向から伝達される空気振動を減衰させることができる。
また、コラム本体2が鋳物部材であり、コラム本体2に形成された凹部3が共振装置1の一部を構成している。鋳物部材は、製造工程の都合上、製造された時点において一般的に多数の凹部を有している。本実施形態においては、予め鋳物部材に形成された凹部を共振装置1の一部として用いているため、別途凹部を形成する工程を行う必要がなく、共振装置1を容易に形成することができる。
また、共振装置1において、オリフィス5が蓋部4に対して脱着自在に固定されているため、図10に示すような種々のオリフィス5を容易に取り替えて装着することができるため、共振装置1の共振周波数を減衰させたい所望の空気振動数の周波数に容易に対応させることができる。
また、上述のように凹部3が蓋部4によって塞がれることによって形成される空間Sの容量を調整可能とすることによって、同様に共振装置1の共振周波数を減衰させたい所望の空気振動数の周波数に容易に対応させることができる。
また、共振装置1が複数備えられているため、複数方向から伝達される空気振動を減衰させることができる。
また、コラム本体2が鋳物部材であり、コラム本体2に形成された凹部3が共振装置1の一部を構成している。鋳物部材は、製造工程の都合上、製造された時点において一般的に多数の凹部を有している。本実施形態においては、予め鋳物部材に形成された凹部を共振装置1の一部として用いているため、別途凹部を形成する工程を行う必要がなく、共振装置1を容易に形成することができる。
また、共振装置1において、オリフィス5が蓋部4に対して脱着自在に固定されているため、図10に示すような種々のオリフィス5を容易に取り替えて装着することができるため、共振装置1の共振周波数を減衰させたい所望の空気振動数の周波数に容易に対応させることができる。
また、上述のように凹部3が蓋部4によって塞がれることによって形成される空間Sの容量を調整可能とすることによって、同様に共振装置1の共振周波数を減衰させたい所望の空気振動数の周波数に容易に対応させることができる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について説明する。なお、上記第1実施形態が、図2に示すように、コラム30が有する全ての共振装置1が同一種類の周波数fに対応したオリフィス5を備えているのに対して、本第2実施形態は、図12に示すように、コラム30が異なる種類の周波数に対応したオリフィス5を備える共振装置1を有している点において上記第1実施形態と異なる。このため、本実施形態の説明においては、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化し、相違点を主として説明する。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。なお、上記第1実施形態が、図2に示すように、コラム30が有する全ての共振装置1が同一種類の周波数fに対応したオリフィス5を備えているのに対して、本第2実施形態は、図12に示すように、コラム30が異なる種類の周波数に対応したオリフィス5を備える共振装置1を有している点において上記第1実施形態と異なる。このため、本実施形態の説明においては、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化し、相違点を主として説明する。
図13に示すように、騒音等の空気振動に含まれる特定の周波数f1に着目すると、所定空間内において、振幅が相対的に大きくなる腹部と振幅が相対的に小さくなる節部とが存在する。そして、特定の周波数f1を減衰させる場合には、共振周波数がf1の共振装置1を図13に示すように、振幅が相対的に大きくなる腹部に設置することによって、効率的に特定の周波数f1を減衰させることができる。
また、露光装置EXは、振動による影響を排除することが好ましい部材として、レーザ干渉計28の他にも、投影光学系16、ウエハステージ20のXYテーブル22、同じくウエハステージ20の計測テーブル23、移動鏡26等の部材を備える。そしてこれらの部材は各々が異なる固有振動数を有している。このため、振動による影響を排除することが好ましい部材の固有振動数の各々に対して共振周波数が合致する共振装置1を各々設置することが好ましい。
本実施形態においては、空気振動に含まれる複数の周波数を減衰対象とするともに、減衰対象とされた所定の周波数の空気振動の腹部に、適したオリフィス5を有することによって共振周波数が合致する共振装置1が配置された構成を有している。
このため、本実施形態によれば、騒音等のブロードな周波数帯域の空気振動に含まれる複数の周波数成分を効率的に減衰させることが可能となる。
なお、本実施形態においては、オリフィス5の種類によって共振装置1の共振周波数を空気振動の所定の周波数に合致させるものとして説明したが、これに限定されるものではなく、上記第1実施形態において説明した、共振装置1が備える空間Sの容量を調整する方法によって、共振装置1の共振周波数を空気振動の所定の周波数に合致させても良い。
また、露光装置EXは、振動による影響を排除することが好ましい部材として、レーザ干渉計28の他にも、投影光学系16、ウエハステージ20のXYテーブル22、同じくウエハステージ20の計測テーブル23、移動鏡26等の部材を備える。そしてこれらの部材は各々が異なる固有振動数を有している。このため、振動による影響を排除することが好ましい部材の固有振動数の各々に対して共振周波数が合致する共振装置1を各々設置することが好ましい。
本実施形態においては、空気振動に含まれる複数の周波数を減衰対象とするともに、減衰対象とされた所定の周波数の空気振動の腹部に、適したオリフィス5を有することによって共振周波数が合致する共振装置1が配置された構成を有している。
このため、本実施形態によれば、騒音等のブロードな周波数帯域の空気振動に含まれる複数の周波数成分を効率的に減衰させることが可能となる。
なお、本実施形態においては、オリフィス5の種類によって共振装置1の共振周波数を空気振動の所定の周波数に合致させるものとして説明したが、これに限定されるものではなく、上記第1実施形態において説明した、共振装置1が備える空間Sの容量を調整する方法によって、共振装置1の共振周波数を空気振動の所定の周波数に合致させても良い。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態について説明する。なお、本第3実施形態においては、共振装置1の構成が上記第1実施形態と異なり、他は共通なため、本実施形態の説明においては、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化し、相違点を主として説明する。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。なお、本第3実施形態においては、共振装置1の構成が上記第1実施形態と異なり、他は共通なため、本実施形態の説明においては、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化し、相違点を主として説明する。
図14は、本実施形態の露光装置EXが備える共振装置1の断面図である。この図に示すように、本実施形態の共振装置1は、上記第1実施形態のオリフィス5の替わりに、外形が球形に形状設定されると共に回転自在に蓋部4に嵌合されたオリフィス51を備えている。
共振装置1においては、空気振動によって共振装置1が共振した場合には、内部の空気が振動し、この結果、隘路5aを介して空気が出入りする。この隘路5aを介する空気の移動方向が空気振動の振幅方向と合致する場合には、より効率的に空気振動を減衰させることができる。
このため、図15に示すように、オリフィス51が、隘路5aの方向L(隘路5aが延在する方向(軸方向)であり、空気が移動する方向)を空気振動の振幅方向に沿って設置されることによって、本実施形態の露光装置EXは、より効率的に空気振動を減衰できるものとなる。
このため、図15に示すように、オリフィス51が、隘路5aの方向L(隘路5aが延在する方向(軸方向)であり、空気が移動する方向)を空気振動の振幅方向に沿って設置されることによって、本実施形態の露光装置EXは、より効率的に空気振動を減衰できるものとなる。
本実施形態においては、オリフィス51が回転自在に蓋部4に嵌合されている。すなわち、オリフィス51は、蓋部4に対する隘路5aの方向の角度が変化自在に固定されている。このため、容易に隘路5aの方向Lを変更することができ、容易に空気振動の振幅方向に隘路5aの方向Lを合わせることができる。
なお、隘路5aの方向Lが決定された後は、隘路5aの方向Lがずれないように、接着剤等を用いてオリフィス51を蓋部4に対して固着させてもよい。
なお、隘路5aの方向Lが決定された後は、隘路5aの方向Lがずれないように、接着剤等を用いてオリフィス51を蓋部4に対して固着させてもよい。
(第4実施形態)
次に、本発明の第4実施形態について説明する。なお、本第4実施形態においては、共振装置1の構成が上記第1実施形態と異なり、他は共通なため、本実施形態の説明においては、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化し、相違点を主として説明する。
次に、本発明の第4実施形態について説明する。なお、本第4実施形態においては、共振装置1の構成が上記第1実施形態と異なり、他は共通なため、本実施形態の説明においては、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化し、相違点を主として説明する。
図16は、本実施形態の露光装置EXが備える共振装置1の断面図である。この図に示すように、本実施形態における共振装置1は、上記第1実施形態の蓋部4の替わりに、膜状部材からなる蓋部41を備えている。
図5に示すヘルムホルツ共鳴器において、空間部を形成する壁部の剛性が高い場合には、内部の空気振動に伴う空間部の容量変化が生じない。このためヘルムホルツ共鳴器は、所望の周波数(共振周波数)の空気振動を強く減衰させる。
一方、空間部を形成する壁部が柔らかく減衰性が高い部材によって構成されている場合には、内部の空気振動に伴う空間部の容量変化が生じる。このため、空間部の容量変化に応じてヘルムホルツ共鳴器の共振周波数が変動する。そして、このような場合には、ヘルムホルツ共鳴器は、所望の周波数(共振周波数)を含む広い帯域の周波数の空気振動を減衰させる。なお、この場合の空気振動の減衰は、空間部を形成する壁部の剛性が高い場合と比較して弱くなる。
つまり、ヘルムホルツ共鳴器においては、空間部を形成する壁部の剛性が高い場合には所定の共振周波数に合致する空気振動の周波数成分を強く減衰させ、空間部を形成する壁部が柔らかく減衰性が高い場合には所定の共振周波数を含む広い帯域の周波数成分を弱く減衰させる。
一方、空間部を形成する壁部が柔らかく減衰性が高い部材によって構成されている場合には、内部の空気振動に伴う空間部の容量変化が生じる。このため、空間部の容量変化に応じてヘルムホルツ共鳴器の共振周波数が変動する。そして、このような場合には、ヘルムホルツ共鳴器は、所望の周波数(共振周波数)を含む広い帯域の周波数の空気振動を減衰させる。なお、この場合の空気振動の減衰は、空間部を形成する壁部の剛性が高い場合と比較して弱くなる。
つまり、ヘルムホルツ共鳴器においては、空間部を形成する壁部の剛性が高い場合には所定の共振周波数に合致する空気振動の周波数成分を強く減衰させ、空間部を形成する壁部が柔らかく減衰性が高い場合には所定の共振周波数を含む広い帯域の周波数成分を弱く減衰させる。
本実施形態の共振装置1は、膜状部材からなる蓋部41を備えている。すなわち空間Sの一部が膜状部材によって構成されているため、ヘルムホルツ共鳴器で言うところの空間部が柔らかく減衰性が高い場合と同じとなる。したがって、本実施形態の共振装置1によれば、所定の共振周波数を含む広い帯域の周波数成分を弱く減衰させることができる。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、上述した実施の形態において示した動作手順、あるいは各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
例えば、上記実施形態では、コラム30が共振装置1を備える構成について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、コラム30に限られない他の支持構造体(ベースプレート38等)が共振装置を備える構成であっても良い。このような場合には、支持構造体が鋳物部材を含まない可能性があるため、支持構造体に凹部を別途形成し、当該凹部と、蓋部4と、オリフィス5とによって共振装置を構成すれば良い。
上記実施形態では、機械室70や送風機64が作動することによって生じる騒音を外部から伝達される空気振動の一例として挙げて説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、コラム30の外部から伝達される全ての音に対して有効なものである。つまり、露光装置EXの外部から露光装置EXの内部に伝達される音に起因する振動を抑制することができる。
上記実施形態では、共振装置1が備える蓋部4,41が、コラム30の凹部3全部を塞ぐ構成について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、蓋部4,41が凹部3の一部を塞ぐ構成であっても良い。
また、上記実施形態において、共振装置1が備える蓋部全体が膜状部材からなる構成について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、蓋部の一部が膜状部材によって構成されていても良い。
また、上記実施形態において、共振装置1が備える蓋部全体が膜状部材からなる構成について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、蓋部の一部が膜状部材によって構成されていても良い。
上記実施形態では、光源としてKrFエキシマレーザ、ArFエキシマレーザ等を用いる場合について説明したが、これに限らず、光源としてF2レーザ、Ar2レーザを用いても良く、あるいは金属蒸気レーザやYAGレーザを用い、これらの高調波を露光用照明光としても良い。あるいは、DFB半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム(Er)(又はエルビウムとイッテルビウム(Yb)の両方)がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を、露光用照明光として用いても良い。
また、上記実施形態ではステップ・アンド・リピート方式の露光装置を例に挙げて説明したが、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置にも本発明を適用することができる。更に、本発明は半導体素子の製造に用いられる露光装置だけではなく、液晶表示素子(LCD)等を含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられてデバイスパターンをセラミックウエハ上へ転写する露光装置、及びCCD等の撮像素子の製造に用いられる露光装置等にも適用することができる。
また、投影光学系16は、屈折系、反射屈折系、及び反射系のいずれでも良いし、縮小系、等倍系、及び拡大系のいずれでも良い。
また、投影光学系16は、屈折系、反射屈折系、及び反射系のいずれでも良いし、縮小系、等倍系、及び拡大系のいずれでも良い。
更には、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、DUV(遠紫外)光やVUV(真空紫外)光などを用いる露光装置では一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、又は水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のX線露光装置、又は電子線露光装置などでは透過型マスク(ステンシルマスク、メンブレンマスク)が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
なお、このような露光装置は、WO99/34255号、WO99/50712号、WO99/66370号、特開平11−194479号、特開2000−12453号、特開2000−29202号等に開示されている。
なお、このような露光装置は、WO99/34255号、WO99/50712号、WO99/66370号、特開平11−194479号、特開2000−12453号、特開2000−29202号等に開示されている。
また、本発明は、投影光学系と基板(ウエハ)との間に供給された液体を介して基板上に所定のパターンを形成する液浸露光装置にも、必要な液体対策を適宜施したうえで適用可能である。液浸露光装置の構造及び露光動作は、例えば、国際公開第99/49504号パンフレット、特開平6−124873号、及び特開平10−303号に開示されている。
本発明は、ツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば、特開平10−163099号、特開平10−214783号、特表2000−505958号或いは米国特許6,208,407号に開示されている。また、本発明は、特開平11−135400号に開示されているように、ウエハ等の被処理基板を保持して移動可能な露光ステージと、各種計測部材やセンサを備えた計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。
また、本発明が適用される露光装置は、光透過性の基板上に所定の遮光パターン(または位相パターン・減光パターン)が形成された光透過型マスク、或いは光反射性の基板上に所定の反射パターンが形成された光反射型マスクを用いるものに限らず、例えば、米国特許第6,778,257号公報に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、或いは発光パターンを形成する電子マスクを用いる露光装置であってもよい。
また、上記実施形態では、本発明の支持構造体を露光装置に適用した構成としたが、露光装置以外にも転写マスクの描画装置、マスクパターンの位置座標測定装置等の精密測定機器にも適用可能である。
レチクルステージの移動により発生する反力は、投影光学系に伝わらないように、特開平8−330224号公報(対応USP5,874,820)に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。
また、ウエハステージの移動により発生する反力は、投影光学系に伝わらないように、特開平8−166475号公報(対応USP5,528,126)に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。
また、ウエハステージの移動により発生する反力は、投影光学系に伝わらないように、特開平8−166475号公報(対応USP5,528,126)に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。
次に、本発明の実施形態による露光装置及び露光方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
図17は、マイクロデバイス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、マイクロマシン、MEMS、DNAチップ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造例のフローチャートを示す図である。
まず、ステップS10(設計ステップ)において、マイクロデバイスの機能・性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップS11(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを形成したマスク(レチクル)を製作する。一方、ステップS12(ウエハ製造ステップ)において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
図17は、マイクロデバイス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、マイクロマシン、MEMS、DNAチップ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造例のフローチャートを示す図である。
まず、ステップS10(設計ステップ)において、マイクロデバイスの機能・性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップS11(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを形成したマスク(レチクル)を製作する。一方、ステップS12(ウエハ製造ステップ)において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
次に、ステップS13(ウエハ処理ステップ)において、ステップS10〜ステップS12で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップS14(デバイス組立ステップ)において、ステップS13で処理されたウエハを用いてデバイス組立を行う。このステップS14には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程(チップ封入)等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップS15(検査ステップ)において、ステップS14で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
図18は、半導体デバイスの場合におけるステップS13の詳細工程の一例を示す図である。
ステップS21(酸化ステップ)おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップS22(CVDステップ)においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップS23(電極形成ステップ)においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS24(イオン打込みステップ)においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップS21〜ステップS24のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップS25(レジスト形成ステップ)において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップS26(露光ステップ)において、上で説明したリソグラフィシステム(露光装置)及び露光方法によってマスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップS27(現像ステップ)においては露光されたウエハを現像し、ステップS28(エッチングステップ)において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップS29(レジスト除去ステップ)において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
また、半導体素子等のマイクロデバイスだけではなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置等で使用されるレチクル又はマスクの製造にも本発明を適用できる。
なお、法令で許容される限りにおいて、上記各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許などの開示を援用して本文の記載の一部とする。
Claims (18)
- 支持対象物を支持する支持構造体であって、
外部から伝達される空気振動と共振して、前記空気振動を減衰させる共振装置を備える支持構造体。 - 前記共振装置は、ヘルムホルツ共鳴により、前記空気振動を減衰させる請求項1記載の支持構造体。
- 前記共振装置は、
前記支持構造体に形成される凹部と、
前記凹部の一部または全部を塞ぐ蓋部と、
前記蓋部によって塞がれた空間と外部空間とを接続する隘路を有するネック部と、
を備える請求項1または2記載の支持構造体。 - 前記支持構造体は鋳物部材を含み、前記凹部の壁面の少なくとも一部または全部が前記鋳物部材により形成されている請求項3記載の支持構造体。
- 前記空間と、前記隘路との少なくとも一方は、前記空気振動の周波数に応じた諸元で形成される請求項4記載の支持構造体。
- 前記ネック部は、前記蓋部に対して脱着自在に固定されている請求項3〜5いずれか一項に記載の支持構造体。
- 前記ネック部は、前記蓋部に対する隘路の方向の角度が変化自在に固定されている請求項3〜6のいずれか一項に記載の支持構造体。
- 前記ネック部は、前記隘路の方向が前記空気振動の振幅方向に向けて設置される請求項3〜7のいずれか一項に記載の支持構造体。
- 前記蓋部によって塞がれた空間の容量は調整可能である請求項3〜8のいずれか一項に記載の支持構造体。
- 前記蓋部によって塞がれた空間の容量を調整するための調整部材を備え、該調整部材によって前記空間の一部を満たす請求項9記載の支持構造体。
- 前記蓋部によって塞がれた空間の容量を調整するための調整部材を備え、該調整部材によって前記空間の一部を区画する間仕切り板である請求項9記載の支持構造体。
- 前記蓋部に支持されるとともに、前記蓋部によって塞がれた空間への挿し込み量を調整可能な挿し込み部材によって前記空間の容量を調整する請求項9記載の支持構造体。
- 前記挿し込み部材と前記ネック部とが一体形成されている請求項12記載の支持構造体。
- 前記蓋部の少なくとも一部が、膜状部材によって形成されている請求項3〜13のいずれか一項に記載の支持構造体。
- 前記共振装置は、前記空気振動の腹部に応じた位置に設置される請求項1〜14のいずれか一項に記載の支持構造体。
- 前記共振装置を複数備える請求項1〜15のいずれか一項に記載の支持構造体。
- 共振周波数の異なる前記共振装置を備える請求項16記載の支持構造体。
- 支持構造体によって支持される支持対象物を用いて基板にパターンの像を露光する露光装置であって、
前記支持構造体として、請求項1〜17のいずれか一項に記載の支持構造体を用いる露光装置。
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