JPH06186025A - 三次元測定装置 - Google Patents

三次元測定装置

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JPH06186025A
JPH06186025A JP4355088A JP35508892A JPH06186025A JP H06186025 A JPH06186025 A JP H06186025A JP 4355088 A JP4355088 A JP 4355088A JP 35508892 A JP35508892 A JP 35508892A JP H06186025 A JPH06186025 A JP H06186025A
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unit
coordinate
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axis
coordinate system
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JP4355088A
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Inventor
Hiroshi Sukunami
博史 宿南
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YUNISUN KK
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YUNISUN KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 使用者が任意に指定した座標のもとで、非接
触走査により得られる多くのデータを取り扱えるように
して、三次元モデル上の任意の断面や特定部分の形状修
正の近似処理などに有効に活用できる測定データを得ら
れるようにする。 【構成】 測定対象物4にレーザ光を投射する投光部2
および測定対象物4上の光像を入力してビデオ信号とし
て出力する撮像部3を、X軸、Y軸およびZ軸方向に移
動させて、非接触走査により測定対象物4の第1の座標
系の座標位置を求める非接触型の装置に加えて、使用者
が指定する点位置を測定する接触式測定ヘッド6を搭載
したもので、非接触走査により得られた第1の座標系の
座標データを、点位置に基づき第2の座標系の座標デー
タに変換する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、測定対象物に、たと
えばレーザ光などのスポット光やスリット光を投射し
て、その光像をCCDカメラ等の撮像部で撮像すること
により、測定対象物の位置を3角測量法の原理に基づい
て検出する非接触型、あるいは、接触プローブなどの接
触子を測定対象物に接触させて、その位置を検出する接
触型の三次元測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】接触プローブなどの接触子を用いた接触
型の三次元測定装置は、三次元測定の標準として既に多
くの産業分野で使用されており、昨今では、コンピュー
タによる制御機能を付加したCNC装置が主流になつて
いる。また、レーザ光などのスポット光やスリット光を
使用した非接触型の三次元測定装置も、現在までに種々
開発されて自動車や家電などの分野で利用されており、
今後なお一層需要が高まる方向にある。
【0003】上記のような三次元測定装置のうち、非接
触型の測定装置は、スリット光などを瞬時にカメラやセ
ンサで捕らえてデータ処理を行なうものが多く、高速測
定が可能であり、数万から数十万点におよぶ多くのデー
タを短時間で入力できるために、測定対象物の形状を測
定する用途には非常に好適である。しかしながら、この
非接触型の測定装置は、測定精度の面において、接触型
の測定装置が数μmの測定誤差であるのに対し、数十μ
m程度に止まっているのが実状であり、測定精度の向上
が大きな課題である。一方、接触型の測定装置は、個々
の測定点に対して高い測定精度を発揮するが、測定対象
物の形状が複雑になると、必要測定点数が増加するため
に、測定操作が面倒で多大な時間を要するものであり、
せいぜい数百点程度の測定に止まっているのが実状であ
る。
【0004】上記のように、接触型および非接触型それ
ぞれが長所、短所を有しているが、両者の大きな相違点
の1つに、接触型の測定装置では、使用者により直接あ
るいは間接的に測定点が指定されるのに対して、非接触
型の測定装置では、1走査について何点といった具合
に、装置自身が測定点を決定することにある。そのた
め、非接触型の測定装置においては、使用者が測定した
い幾つかの測定点を、測定データとして直接的に抽出す
ることができず、したがって、例えば特定の2点間距離
など測定したい部分的な数値を得ることができない難点
がある。さらに、光の走査方向を可変にすることは可能
であっても、測定テーブルまたは光学系撮像部の移動方
向までも柔軟に可変制御することは非常に難しく、一般
的には、測定テーブルまたは光学系撮像部の特定な移動
方向に対して光を垂直方向に走査させているのが現状で
ある。
【0005】そのため、測定対象物のテーブルへの取り
付けの際、テーブルの移動方向に対して測定対象物の取
り付け方向が所望の方向からずれたとしても、光の走査
はあくまでもテーブルの移動方向であるから、例えば測
定したい断面形状に狂いが生じるなどの問題がある。図
4は、その一例を説明する図であり、同図の破線で示す
長方形は、テーブルの移動方向Xに対して使用者が取り
付けたい方向の長方形状の測定対象物100であり、ま
た、同図の実線は、その長方形状の測定対象物100の
取り付け方向がずれたものを示している。同図から明ら
かなように、光の走査方向Lは、辺A−Bに垂直で、辺
A−Cに平行なままであるため、取り付け方向にずれが
ある測定対象物100の辺A1−B1に対して垂直で、
辺A1−C1に平行な方向L1の断面データを得たいに
もかかわらず、実際には、上記走査方向Lに沿った断面
データが得られることになつてしまう。これを解決する
方法として、空間座標をずれ角θだけZ軸に対し回転変
換することが考えられるが、上述したように、非接触型
の測定装置では、使用者が点位置指定などできないため
に、ずれ角θの量を確認することもできない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、三次元モデ
ルの設計においては、二次元と同様に、図面などでモデ
ル上の特定の基準点あるいは基準線をベースに寸法など
が規定されている。したがって、製作されたモデルの寸
法測定や形状の検証を測定装置で行なう場合、上記した
モデルの特定の基準点あるいは基準線をもとに測定しな
ければならない。ところが、従来の非接触型の三次元測
定装置においては、上述したように、使用者が点位置を
指定することができないこと、および、測定値が測定装
置の測定対象物の空間内にある点を原点として決められ
た特定の座標系の座標値としてしか得られないものであ
ること、などの制約を受けるので、測定データは形状の
定義を行なえるだけに止まり、使用者がベースを基準と
して指定するモデル上の任意の断面の測定や特定部分の
形状の検証、形状修正の近似処理などに活用できる測定
データを得ることはできないものであった。
【0007】この発明は上記実情に鑑みてなされたもの
で、光の走査による非接触で得られる第1の座標系の測
定データを、使用者が任意に指定する第2の空間座標の
もとでも扱えるようにして、任意の断面の測定や特定部
分の形状修正の近似処理などの三次元測定に有効に活用
することができる三次元測定装置を提供することを目的
とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明に係る三次元測定装置は、測定対象物に光
を投射する投光部と、一次元もしくは二次元上に配列さ
れた検出素子を持ち、上記投光部からの光投射による測
定対象物上の光像を入力しアナログビデオ信号として出
力する撮像部と、上記投光部および撮像部を保持し第1
軸方向に移動させて、その移動量を出力する第1軸駆動
制御部と、この第1軸駆動制御部を保持し第2軸方向に
移動させて、その移動量を出力する第2軸駆動制御部
と、この第2軸駆動制御部を保持し第3軸方向に移動さ
せて、その移動量を出力する第3軸駆動制御部と、上記
アナログビデオ信号をデジタル信号に変換して一次元も
しくは二次元上の最輝度位置を求める光点検出部と、求
められた最輝度位置から測定物空間の第1の座標系にお
ける座標位置を求めるデータ生成部と、測定対象物に接
触する接触子を有し、該接触子が測定対象物に接触した
時点でトリガ信号を出力する接触測定ヘッドと、上記ト
リガ信号により上記第1軸,第2軸および第3軸駆動制
御部から移動量を入力して第1の座標系の座標として格
納する位置検出部と、この位置検出部に格納された3点
以上の座標データから平面を決定することで第2の座標
系を定義する座標生成部と、上記データ生成部および位
置検出部のデータを第2の座標データに変換する座標変
換部とを有するものである。
【0009】
【作用】この発明によれば、測定対象物に光を投射する
投光部および該投光部からの光投射による測定対象物上
の光像を入力しアナログビデオ信号として出力する撮像
部を、第1軸方向、第2軸方向および第3軸方向へ移動
させることにより、各軸方向の移動量を出力する一方、
光点検出部において、一次元もしくは二次元上の最輝度
位置を求め、その求めた最輝度位置から測定物空間の第
1の座標系における座標データを求める。ここで、測定
対象物に接触子を接触させて、そのトリガ信号を接触測
定ヘッドから出力させることで、上記各軸の移動量が第
1の座標系の座標として位置検出部に入力され格納され
る。この位置検出部に格納された3点以上の座標データ
から平面データが決定されて第2の座標系が定義される
とともに、上記データ生成部および位置検出部のデータ
が第2の座標データに変換される。このように、使用者
の指示する点位置を測定し、その点位置に基づいて第2
の空間座標を生成することにより、測定対象物に対する
走査移動により得られる第1の座標系の測定データを第
2の座標系の座標データに変換することが可能となり、
1つの測定装置が取り扱えるデータ数を増大することが
できる。
【0010】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面にもとづいて
説明する。図1は、この発明の一実施例による三次元測
定装置の本体構成を示す外観斜視図であり、同図におい
て、1は非接触式の測定ヘッドで、投光部を構成するレ
ーザ光源2(図2参照)と、一次元もしくは二次元上に
配列された複数のCCDのような検出素子(図示省略)
を持ち、上記レーザ光源2から測定対象物4に投射され
たスリット光像5を撮像しアナログビデオ信号として出
力するCCDカメラなどの撮像部3(図2参照)とを内
蔵している。6は接触式の測定ヘッドで、測定対象物4
の点位置に接触可能な接触子としての接触プローブ7を
備えている。
【0011】8は上記両測定ヘッド1,6を第3軸方向
(鉛直方向で、以下、Z軸と称する)に移動案内する第
1ガイド、9はその第1ガイド8を第2軸方向(水平面
上の一次元方向で、以下、Y軸と称する)に移動案内す
る第2ガイド、10は第1および第2ガイド8,9を第
1軸方向(水平面上の二次元方向で、以下、X軸と称す
る)に移動案内する第3ガイドであり、これら第1ない
し第3ガイド8,9,10には、各軸方向の移動量を測
定するための測長スケール(図示省略する)が設けられ
ている。11は測定テーブルであり、測定対象物4を固
定するための取付治具(図示省略する)を有しており、
本実施例においては、第1の空間座標のX−Y平面を形
成している。12は原点ゲージで、上記接触プローブ7
の先端を接触させることで、第1の空間座標の原点を決
定するものであり、その取り付け位置は特に限定される
ものでない。
【0012】図2は、上記のような本体構成からなる三
次元測定装置のシステム構成を示すブロック図であり、
同図において、13は上記接触式測定ヘッド6の接触プ
ローブ7の先端が測定対象物4に接触したときにトリガ
信号を出力するトリガ信号検出部、14,15,16は
X,Y,Z各軸の駆動を制御し、上記トリガ信号により
各軸の移動量を出力するX軸駆動制御部,Y軸駆動制御
部,Z軸駆動制御部である。17は光点検出部で、上記
撮像部3から出力されるアナログビデオ信号をデジタル
信号に変換して、各検出素子における配列行毎に最輝度
位置を求め、その求めた最輝度位置を受光面の座標とし
て出力する。18は駆動指令部で、上記X,Y,Zの各
軸駆動制御部14,15,16の駆動または停止の指令
信号およびレーザ光源部2のON・OFF信号を出力す
る。
【0013】19は位置検出部で、上記トリガ信号を受
けて上記各軸駆動制御部14,15,16から移動量を
入力して第1の座標系の座標として格納する。20は座
標生成部で、空間座標の変換の際に上記位置検出部19
から必要な座標データを入力して第2の空間座標を求め
て、第1の空間座標に対する変換マトリクスを生成す
る。21は上記信号制御部17から画面座標を入力して
上記の最輝度位置に対する第1の空間座標の座標位置を
算出するデータ生成部である。
【0014】22は座標変換部であり、上記座標生成部
20で生成された変換マトリクスを用いて、第1の空間
座標系の座標として格納されている位置検出部19のデ
ータまたは上記データ生成部21のデータを第2の座標
データに変換する。23はデータ処理部で、上記座標変
換部22あるいは上記位置検出部19およびデータ生成
部21で得られたデータをもとに、曲線近似、円弧近
似、断面図作成、面テータ変換など使用者からのコマン
ドに従ってデータ加工して、ディスプレイへの表示を行
なう。
【0015】以上の構成において、上記トリガ信号検出
部13および各軸駆動制御部14,15,16は測定装
置本体Aに搭載されているとともに、光点検出部17、
駆動指令部18、位置検出部19およびデータ生成部2
1は、本体Aとは別のコントローラBに搭載され、か
つ、座標生成部20、座標変換部22およびデータ処理
部23はパーソナルコンピュータやワークステーション
Cにおいて、主にソフトウェアの形で存在しており、こ
のような装置の操作は、パーソナルコンピュータまたは
ワークステーションのキーボードを介してマンマシンイ
ンターフェイスにより行なわれるのが一般的である。
【0016】つぎに、上記構成の動作のうち、主要機能
部の動作処理を図3のフローチャートに基づいて説明す
る。第1の空間座標系は、装置自身がデフォルト座標系
として予め保持しているか、もしくは、使用者が動作開
始前に、図1の接触式測定ヘッド6の接触プローブ7を
介して指定したテーブル11面上の複数の点位置と原点
ゲージ12の一点位置とにより作成されている。
【0017】この状態で、図3のスッテプS30におい
てコマンドが入力されると、そのコマンドが座標変換コ
マンドであるか否かが判定される(ステツプS31)。
座標変換コマンドの入力が確認されると、使用者が指定
した3点以上の位置が位置検出部19に格納される(ス
テップS32)。ついで、指定終了コマンドにより、座
標変換コマンドによる処理中であることの確認に基づい
て、上記位置検出部の格納データが座標生成部20に転
送されて第2の空間座標系の平面(X−Y平面)を決定
するデータとして認識される(ステップS33,S3
4,S35)。
【0018】次に、X軸指定コマンドの入力が確認され
る(ステップS36)と、上記と同様にして、使用者が
指定した2点の位置が位置検出部19から座標生成部2
0に転送されてX軸を決定するデータとして認識される
(ステツプS37)。ついで、原点指定コマンドが入力
される(ステップS38)ことにより、続く1指定点が
位置検出部19から座標生成部20へ転送される(ステ
ツプS39)。指定終了後、座標生成部20は、X−Y
平面を決定するデータを用いて平面方程式を求めて、第
1の空間座標系の原点とX軸を基にそのX−Y平面に対
する変換マトリクスZ1 を求める。次に、X軸指定に用
いた2点で決定される直線の方程式を求めて、X−Y座
標を回転変換するマトリクスZ2 を求める。最後に、指
定の原点へ直線移動させるマトリクスZ3 を求めて、第
1の空間座標から第2の空間座標に変換するマトリクス
Z=Z2 +Z1 +Z3 を得る(ステップS40)。な
お、平面は3点で決定できるが、指定データが4点以上
の場合は、最小2乗法による補正により近似平面を求め
る。
【0019】そして、実際の測定を行なう場合の動作
は、つぎの通りである。まず、使用者により接触式の測
定か、もしくは、非接触式の測定かのいずれかのコマン
ドが入力されて、それら入力コマンドが判定される(ス
テップS41,S42)。接触式の測定の場合は、上記
と同様に、接触式測定ヘッド6の接触プローブ7による
指定位置データの指定が終了するまで逐一、位置検出部
19にその位置データが格納され(ステップS32)、
指定終了(ステップS33)後は座標変換コマンドによ
る処理中でないことの確認(ステップS34)にもとづ
いて、それら位置データを位置検出部19から座標変換
部22へ転送する(ステップS43)。この座標変換部
22では、上記指定位置データを使用者が指定した第2
の空間座標系の座標値に変換した上(ステップS4
4)、データ処理部23のリクエストにより、その変換
データをデータ処理部23に転送し(ステップS4
5)、データ加工して、ディスプレイへの表示を行な
う。
【0020】また、非接触式の測定の場合は、スタート
信号の入力(ステップS46)に基づいて駆動指令部1
8からX軸駆動制御部14へ駆動信号が出力されて、測
定ヘツド1がX軸方向へ移動するとともに、レーザスリ
ツト光の測定対象物4への投射による走査が行なわれる
(ステツプS47)。このレーザスリツト光の投射によ
る走査は、X軸方向に指定ピツチで行なわれるように、
位置検出部19が走査指令信号を光点検出部17へ出力
し、光点検出部17はその走査指令信号に同期して走査
する。なお、Y軸およびZ軸方向については、本実施例
では、撮像部3として二次元CCDカメラを使用するこ
とで、そのカメラ座標を第1の空間座標に変換するデー
タ生成部21においてY軸およびZ軸方向の座標を同時
に算出するようにしており、したがって、Y軸およびZ
軸については、スタート前の位置合わせを行なうのみ
で、実際の走査は行なわない。
【0021】上記信号制御部17では、撮像部3の複数
の検出素子が配列された一次元もしくは二次元上の最輝
度位置を求め、その求めた最輝度位置をデータ生成部2
1へ転送している。このデータ生成部21では、上記光
点検出部17から画面座標を入力して上記の最輝度位置
から第1の空間座標系におけるX−Y座標を算出し、か
つ、光点検出部17でそれらの位置が検出された時点の
X位置を合わせて三次元位置データ(X,Y,Z)を生
成する。このような走査を終了信号が入力されるまで繰
り返し、終了信号の入力(ステップS48)にともなつ
て、駆動指令部18からX軸駆動制御部14に停止信号
が出力される(ステップS49)。その後、測定データ
がデータ生成部21から座標変換部22に転送されて
(ステップS50)、以後は接触式の測定の場合と同様
に、第2の空間座標の座標値に変換され(ステップS4
4)、かつ、その変換データをデータ処理部23に転送
して(ステップS45)、データ加工されディスプレイ
への表示が行なわれる。
【0022】なお、上記実施例では、撮像部3として、
二次元CCDを使用した場合について説明したが、一次
元CCDを使用してもよく、この場合は、レーザスリツ
ト光の投射による走査をX軸だけでなく、Y軸およびZ
軸について順次各別に行なうことで、上記と同様に動作
させることが可能である。
【0023】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、非接
触型の装置本体に、使用者が指示するする点位置を測定
する接触測定ヘツドを装着して、使用者が指定する点位
置に基づいて生成される第2の空間座標のもとで、非接
触走査により得られた第1の空間座標系における多くの
測定データを取り扱うことが可能となる。したがって、
同一の測定点間で見た場合、従来の接触型の測定装置に
比べて、非常に多くの測定データを得ることができて、
三次元モデル上の任意の断面の測定や特定部分の形状の
修正の近似処理などの三次元測定に有効に活用すること
ができる。また、近似処理である場合においても、デー
タ数が豊富であるから、その近似処理精度の大幅な向上
を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例による三次元測定装置の本
体構成を示す外観斜視図である。
【図2】同上三次元測定装置のシステム構成を示すブロ
ック図である。
【図3】要部の動作処理フローを説明する図である。
【図4】従来の非接触型の測定装置における問題点を説
明するための説明図である。
【符号の説明】
2…レーザ光源(投光部)、3…撮像部、4…測定対象
物、6…接触測定ヘッド、7…接触プローブ(接触
子)、13…トリガ信号検出部、14…X軸駆動制御部
(第1軸駆動制御部)、15…Y軸駆動制御部(第2軸
駆動制御部)、16…Z軸駆動制御部(第3軸駆動制御
部)、17…光点検出部、19…位置検出部、20…座
標生成部、21…データ生成部、22…座標変換部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 測定対象物に光を投射する投光部と、一
    次元もしくは二次元上に配列された検出素子を持ち、上
    記投光部からの光投射による測定対象物上の光像を入力
    しアナログビデオ信号として出力する撮像部と、上記投
    光部および撮像部を保持し第1軸方向に移動させて、そ
    の移動量を出力する第1軸駆動制御部と、この第1軸駆
    動制御部を保持し第2軸方向に移動させて、その移動量
    を出力する第2軸駆動制御部と、この第2軸駆動制御部
    を保持し第3軸方向に移動させて、その移動量を出力す
    る第3軸駆動制御部と、上記アナログビデオ信号をデジ
    タル信号に変換して一次元もしくは二次元上の最輝度位
    置を求める光点検出部と、求められた最輝度位置から測
    定物空間の第1の座標系における座標位置を求めるデー
    タ生成部と、測定対象物に接触する接触子を有し、該接
    触子が測定対象物に接触した時点でトリガ信号を出力す
    る接触測定ヘッドと、上記トリガ信号により上記第1
    軸,第2軸および第3軸駆動制御部から移動量を入力し
    て第1の座標系の座標として格納する位置検出部と、こ
    の位置検出部に格納された3点以上の座標データから平
    面を決定することで第2の座標系を定義する座標生成部
    と、上記データ生成部および位置検出部のデータを第2
    の座標データに変換する座標変換部とを有する三次元測
    定装置。
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR960031966A (ko) * 1995-02-28 1996-09-17 경주현 3차원측정기
JPH09126738A (ja) * 1995-10-27 1997-05-16 Nec Corp 3次元形状計測装置及びその方法
JP2004535580A (ja) * 2001-07-16 2004-11-25 ベルス・メステヒニーク・ゲーエムベーハー 表面特性の測定方法及び座標測定装置
JP2005517914A (ja) * 2002-02-14 2005-06-16 ファロ テクノロジーズ インコーポレーテッド 内蔵ラインレーザスキャナを備えた携帯可能な座標測定装置
JP2006349547A (ja) * 2005-06-17 2006-12-28 Kanto Auto Works Ltd 非接触式三次元形状計測方法及び計測機
USRE43895E1 (en) 1995-07-26 2013-01-01 3D Scanners Limited Scanning apparatus and method
KR101244103B1 (ko) * 2004-01-16 2013-03-25 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광 영상화 시스템의 파면 측정 장치 및 방법 그리고마이크로리소그래피 투사 노출기
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
CN104913737A (zh) * 2015-06-30 2015-09-16 长安大学 基于线激光三维测量的零部件质量检验装置及其检测方法
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
WO2020196063A1 (ja) * 2019-03-28 2020-10-01 ヘキサゴン・メトロジー株式会社 Cnc加工装置のキャリブレーション方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07505958A (ja) * 1992-09-25 1995-06-29 カール−ツアイス−スチフツング ワークにおける座標測定法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07505958A (ja) * 1992-09-25 1995-06-29 カール−ツアイス−スチフツング ワークにおける座標測定法

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR960031966A (ko) * 1995-02-28 1996-09-17 경주현 3차원측정기
USRE43895E1 (en) 1995-07-26 2013-01-01 3D Scanners Limited Scanning apparatus and method
JPH09126738A (ja) * 1995-10-27 1997-05-16 Nec Corp 3次元形状計測装置及びその方法
JP2004535580A (ja) * 2001-07-16 2004-11-25 ベルス・メステヒニーク・ゲーエムベーハー 表面特性の測定方法及び座標測定装置
JP2005517914A (ja) * 2002-02-14 2005-06-16 ファロ テクノロジーズ インコーポレーテッド 内蔵ラインレーザスキャナを備えた携帯可能な座標測定装置
US9885959B2 (en) 2003-04-09 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9760014B2 (en) 2003-10-28 2017-09-12 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US10281632B2 (en) 2003-11-20 2019-05-07 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
KR101244103B1 (ko) * 2004-01-16 2013-03-25 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 광 영상화 시스템의 파면 측정 장치 및 방법 그리고마이크로리소그래피 투사 노출기
US10007194B2 (en) 2004-02-06 2018-06-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10234770B2 (en) 2004-02-06 2019-03-19 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10241417B2 (en) 2004-02-06 2019-03-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
JP2006349547A (ja) * 2005-06-17 2006-12-28 Kanto Auto Works Ltd 非接触式三次元形状計測方法及び計測機
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9857599B2 (en) 2007-10-24 2018-01-02 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
CN104913737A (zh) * 2015-06-30 2015-09-16 长安大学 基于线激光三维测量的零部件质量检验装置及其检测方法
WO2020196063A1 (ja) * 2019-03-28 2020-10-01 ヘキサゴン・メトロジー株式会社 Cnc加工装置のキャリブレーション方法

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