JPH07220989A - 露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法Info
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- JPH07220989A JPH07220989A JP761894A JP761894A JPH07220989A JP H07220989 A JPH07220989 A JP H07220989A JP 761894 A JP761894 A JP 761894A JP 761894 A JP761894 A JP 761894A JP H07220989 A JPH07220989 A JP H07220989A
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- JP
- Japan
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- illuminance
- light
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- wafer
- reticle
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Abstract
(57)【要約】
【目的】 照度むらの異常をすぐに検出できる装置を提
供すること。 【構成】 スリット状露光光７に対してレチクル８とウ
エハー１３を走査することにより露光光７によりレチク
ル８のパターンを介してウエハー１６を露光する露光装
置において、レチクルステージ９上に前記露光光７の両
端部の光を一対の受光する光検出器１０を設け、光検出
器１０によりウエハー９への実露光動作中に露光光７の
強度分布（レチクル８上の照度分布）を走査方向と当該
走査方向に直交する方向とに関して計測し、その結果を
基準と比較して照度むらの異常の有無を検出する。
供すること。 【構成】 スリット状露光光７に対してレチクル８とウ
エハー１３を走査することにより露光光７によりレチク
ル８のパターンを介してウエハー１６を露光する露光装
置において、レチクルステージ９上に前記露光光７の両
端部の光を一対の受光する光検出器１０を設け、光検出
器１０によりウエハー９への実露光動作中に露光光７の
強度分布（レチクル８上の照度分布）を走査方向と当該
走査方向に直交する方向とに関して計測し、その結果を
基準と比較して照度むらの異常の有無を検出する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は例えば集積回路等のデバ
イスを製造するためにウエハ上に回路パターンを焼き付
ける時に用いられる露光装置及びこれを用いたデバイス
製造方法に関するものである。
イスを製造するためにウエハ上に回路パターンを焼き付
ける時に用いられる露光装置及びこれを用いたデバイス
製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、露光装置の露光光の照度ムラを計
測する方法として、ウエハー移動手段側に照度測定器を
配置して、あらかじめ実露光工程とは別に一定の期間、
前記照度測定器を含むウエハー移動手段がウエハーの露
光領域内を移動することによりウエハー面の複数点の照
度を検出して照度むらを計測する時間を設けていた。
測する方法として、ウエハー移動手段側に照度測定器を
配置して、あらかじめ実露光工程とは別に一定の期間、
前記照度測定器を含むウエハー移動手段がウエハーの露
光領域内を移動することによりウエハー面の複数点の照
度を検出して照度むらを計測する時間を設けていた。
【０００３】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、従
来の照度むら計測時間が実露光動作期間とは別の一定期
間に行う計測であるために、実露光動作期間中に照度む
らに異常が生じても直ちに検出ができない。
来の照度むら計測時間が実露光動作期間とは別の一定期
間に行う計測であるために、実露光動作期間中に照度む
らに異常が生じても直ちに検出ができない。
【０００４】また、従来の照度むら計測が実露光動作と
は別に一定の長時間を要するために、装置のスループッ
トが低下する。
は別に一定の長時間を要するために、装置のスループッ
トが低下する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は上記従来
の問題点を解決する露光装置及びこれを用いたデバイス
製造方法を提供することにある。
の問題点を解決する露光装置及びこれを用いたデバイス
製造方法を提供することにある。
【０００６】上記目的を達成するため、本発明の露光装
置及びこれを用いたデバイス製造方法は、露光光により
レチクルのパターンを介してウエハを露光する露光装置
において、ウエハーへの実露光動作中に露光光の強度分
布（照度分布）を計測する手段を備える事を特徴として
おり、実露光動作中に照度むらの計測を行なうので、ス
ループットが上がり、照度むらの異常をすぐに感知でき
る。
置及びこれを用いたデバイス製造方法は、露光光により
レチクルのパターンを介してウエハを露光する露光装置
において、ウエハーへの実露光動作中に露光光の強度分
布（照度分布）を計測する手段を備える事を特徴として
おり、実露光動作中に照度むらの計測を行なうので、ス
ループットが上がり、照度むらの異常をすぐに感知でき
る。
【０００７】上記目的を達成するため、本発明の露光装
置及びこれを用いたデバイス製造方法の好ましい形態
は、前記実露光が前記露光光に対して前記レチクルとウ
エハを走査することにより行なわれ、前記計測手段は、
前記レチクルを移動する手段に設けられることを特徴と
する。これにより、上記効果に加え、構成が簡単である
という効果が生じる。
置及びこれを用いたデバイス製造方法の好ましい形態
は、前記実露光が前記露光光に対して前記レチクルとウ
エハを走査することにより行なわれ、前記計測手段は、
前記レチクルを移動する手段に設けられることを特徴と
する。これにより、上記効果に加え、構成が簡単である
という効果が生じる。
【０００８】また、更に好ましい形態は、前記レチクル
の移動方向と交差する方向に前記露光光の両端部の光を
受光する受光素子を複数備えることを特徴としており、
前記レチクルの移動方向と交差する方向の照度むらが計
測できる。
の移動方向と交差する方向に前記露光光の両端部の光を
受光する受光素子を複数備えることを特徴としており、
前記レチクルの移動方向と交差する方向の照度むらが計
測できる。
【０００９】また、より好ましい形態は、前記計測手段
は計測される各点の光強度（照度）を前記露光光の予め
決めた部分の光強度と比較する手段を備え、これにより
露光光の強度変動による計測誤差を無くすことが可能に
なる。
は計測される各点の光強度（照度）を前記露光光の予め
決めた部分の光強度と比較する手段を備え、これにより
露光光の強度変動による計測誤差を無くすことが可能に
なる。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明の実施例の露光装置の概略図
である。同図において１は露光用の照明光源、２は照明
光源１からの照明光をその断面が所定の大きさの長方形
をしたスリット形状にする光学変換器、３は光学変換器
２から出力される長方形をしたスリット形状の照明光で
照度データの基準光となる。４は照明光３を折り曲げる
ためのミラー、５は照明光３の照度領域のうち、中心付
近の１点の照度を検出する位置に配置してある照度計で
照度データの基準値を得る。
である。同図において１は露光用の照明光源、２は照明
光源１からの照明光をその断面が所定の大きさの長方形
をしたスリット形状にする光学変換器、３は光学変換器
２から出力される長方形をしたスリット形状の照明光で
照度データの基準光となる。４は照明光３を折り曲げる
ためのミラー、５は照明光３の照度領域のうち、中心付
近の１点の照度を検出する位置に配置してある照度計で
照度データの基準値を得る。
【００１１】６は照明系内光学素子、７は照明光３が照
明系内光学素子６を通過後、レチクル８に照射される断
面が長方形をしたスリット形状の照明光である。８はレ
チクル、９はレチクル８を保持するレチクルステージ
で、露光時には照明光７の照射方向に対して垂直方向に
動作することにより照明光７がレチクル上を走査する。
明系内光学素子６を通過後、レチクル８に照射される断
面が長方形をしたスリット形状の照明光である。８はレ
チクル、９はレチクル８を保持するレチクルステージ
で、露光時には照明光７の照射方向に対して垂直方向に
動作することにより照明光７がレチクル上を走査する。
【００１２】１０はレチクルステージ９上に固定したホ
トセンサーで、露光時にレチクル面を走査して照射する
照明光７の照度領域外部に配置してあり、実露光動作時
にレチクルステージ９の移動（走査）に伴い走査方向に
関して照明光７の照度を複数時点で検出する。本実施例
では、レチクルとウエハーの移動方向と同方向の走査方
向に対して垂直の方向に１対（合計２個）配置してあ
る。
トセンサーで、露光時にレチクル面を走査して照射する
照明光７の照度領域外部に配置してあり、実露光動作時
にレチクルステージ９の移動（走査）に伴い走査方向に
関して照明光７の照度を複数時点で検出する。本実施例
では、レチクルとウエハーの移動方向と同方向の走査方
向に対して垂直の方向に１対（合計２個）配置してあ
る。
【００１３】１１は照明光７の光束をホトセンサーに導
くためのレチクルステージ９上に固定したミラーであ
る。本実施例では、照明光７の光束領域内の走査方向に
対して垂直方向の左右両端に１対配置して、実露光動作
時に長方形のスリット形状をした照明光７の左右両端の
それぞれの光束を各ホトセンサー１０に導く。１２は縮
小投影光学系、１３は照明光７によるレチクル８のパタ
ーン像が転写されるウエハー、１４はウエハー１２を保
持するウエハーステージである。
くためのレチクルステージ９上に固定したミラーであ
る。本実施例では、照明光７の光束領域内の走査方向に
対して垂直方向の左右両端に１対配置して、実露光動作
時に長方形のスリット形状をした照明光７の左右両端の
それぞれの光束を各ホトセンサー１０に導く。１２は縮
小投影光学系、１３は照明光７によるレチクル８のパタ
ーン像が転写されるウエハー、１４はウエハー１２を保
持するウエハーステージである。
【００１４】図２は、照明光３の照度分布曲線である。
同図において、照度分布曲線１０１は前記照明光３の照
明領域内のある１点の時間経過における照度変化曲線を
表わし、実際には図のように照明光源のちらつきや照度
の経時変化によって照度値は逐時変化する。照度分布曲
線１０２は前記照明光７の走査方向側における照度分布
の断面形状である。また照度分布曲線１０３は照明光７
の走査方向と垂直な方向における照度分布の断面形状で
ある。
同図において、照度分布曲線１０１は前記照明光３の照
明領域内のある１点の時間経過における照度変化曲線を
表わし、実際には図のように照明光源のちらつきや照度
の経時変化によって照度値は逐時変化する。照度分布曲
線１０２は前記照明光７の走査方向側における照度分布
の断面形状である。また照度分布曲線１０３は照明光７
の走査方向と垂直な方向における照度分布の断面形状で
ある。
【００１５】レチクルステージ９上の左右２個のホトセ
ンサー１０は、露光動作開始後レチクルステージ９が照
明光７を走査していくと、照明光７の走査方向側に対し
ては図２の照度分布曲線１０２のような照度を検出して
いく。また、照明光７の走査方向と垂直な方向に対して
は図２の照度分布曲線１０３のうち左右両端の２点の照
度を繰り返し検出する。
ンサー１０は、露光動作開始後レチクルステージ９が照
明光７を走査していくと、照明光７の走査方向側に対し
ては図２の照度分布曲線１０２のような照度を検出して
いく。また、照明光７の走査方向と垂直な方向に対して
は図２の照度分布曲線１０３のうち左右両端の２点の照
度を繰り返し検出する。
【００１６】このとき照度むらがあると照度分布曲線１
０２および１０３は歪んだ曲線になる。すなわち図２の
照度分布曲線１０３を例にとると、光学機構が正しく調
整されていれば左右対称である。しかし調整が不良の場
合、左右非対称となる。２個のホトセンサー１０で光束
の左右両端の照度を検出することにより照明光７の走査
方向に垂直な方向側の照度差による照度むらを検出でき
る。精度を上げるために、さらに多数のホトセンサーを
配置してもよい。
０２および１０３は歪んだ曲線になる。すなわち図２の
照度分布曲線１０３を例にとると、光学機構が正しく調
整されていれば左右対称である。しかし調整が不良の場
合、左右非対称となる。２個のホトセンサー１０で光束
の左右両端の照度を検出することにより照明光７の走査
方向に垂直な方向側の照度差による照度むらを検出でき
る。精度を上げるために、さらに多数のホトセンサーを
配置してもよい。
【００１７】本実施例では照度むらを計測する手順とし
てまず、ウエハー１３上の１チップ露光領域分の露光動
作が始まるとレチクルステージ９とウエハーステージ１
４が照明光７の照射方向に対して垂直方向に連動して動
きだし、照明光７の光束上を走査してレチクル８上のパ
ターンをウエハー１３面上に転写しはじめる。転写中の
一時期にホトセンサー１０が照明光７の光束を検出でき
るタイミングがあり、所定のサンプリング時間間隔ｔご
とに逐時各位置に対応する照度を計測する。このときの
露光動作による各照度データをＵｉとする。また、ホト
センサー１０が照度を検出する時間と同時刻に逐時照度
計５で照明光３の照度を検出する。このときの各照度デ
ータをＬｉとする。
てまず、ウエハー１３上の１チップ露光領域分の露光動
作が始まるとレチクルステージ９とウエハーステージ１
４が照明光７の照射方向に対して垂直方向に連動して動
きだし、照明光７の光束上を走査してレチクル８上のパ
ターンをウエハー１３面上に転写しはじめる。転写中の
一時期にホトセンサー１０が照明光７の光束を検出でき
るタイミングがあり、所定のサンプリング時間間隔ｔご
とに逐時各位置に対応する照度を計測する。このときの
露光動作による各照度データをＵｉとする。また、ホト
センサー１０が照度を検出する時間と同時刻に逐時照度
計５で照明光３の照度を検出する。このときの各照度デ
ータをＬｉとする。
【００１８】照明光源に起因する光源のちらつきや照度
の経時変化の影響を排除するためにこの露光動作におけ
る各照度比率値をＬｉを基準値にして Ｉｉ＝Ｕｉ／Ｌｉ ・・・（１） で表す。
の経時変化の影響を排除するためにこの露光動作におけ
る各照度比率値をＬｉを基準値にして Ｉｉ＝Ｕｉ／Ｌｉ ・・・（１） で表す。
【００１９】１回の露光動作を実行することにより、サ
ンプリング数をＮとするとＮ個の照度比率値Ｉｉからな
る前記図２の照度分布曲線１０２に相当するような照明
光７の走査方向側における照度分布曲線が得られる。
ンプリング数をＮとするとＮ個の照度比率値Ｉｉからな
る前記図２の照度分布曲線１０２に相当するような照明
光７の走査方向側における照度分布曲線が得られる。
【００２０】ここで、この照度分布曲線のうち、照度む
らのない基準照度分布曲線をあらかじめ設定しておく。
そしてこの基準照度分布曲線のうち、前記Ｉｉと同時刻
の各照度比率値をＳＩｉとする。このときの照明光７の
各計測位置における照度むらの値を Ｄｉ＝（｜Ｉｉ−ＳＩｉ｜）／ＳＩｉ ・・・（２） とする。
らのない基準照度分布曲線をあらかじめ設定しておく。
そしてこの基準照度分布曲線のうち、前記Ｉｉと同時刻
の各照度比率値をＳＩｉとする。このときの照明光７の
各計測位置における照度むらの値を Ｄｉ＝（｜Ｉｉ−ＳＩｉ｜）／ＳＩｉ ・・・（２） とする。
【００２１】実際のＤｉの値は照度むらに加えて照明光
７を生成する光学素子６に起因する照度劣化分が加味さ
れる。仮にＩｉに照度むら且つ照度劣化分がないとする
とＩｉとＳＩｉの値は同じになり、Ｄｉ＝０となる。
７を生成する光学素子６に起因する照度劣化分が加味さ
れる。仮にＩｉに照度むら且つ照度劣化分がないとする
とＩｉとＳＩｉの値は同じになり、Ｄｉ＝０となる。
【００２２】また、露光装置にはあらかじめ実際の露光
動作に影響する各照度むらの許容値ＭＡＸ（Ｄｉ）を設
定しておく。一般に照度むら値は急激に変化するわけで
はなく、長時間露光動作を繰り返し実行していくうちに
次第に変化していく。
動作に影響する各照度むらの許容値ＭＡＸ（Ｄｉ）を設
定しておく。一般に照度むら値は急激に変化するわけで
はなく、長時間露光動作を繰り返し実行していくうちに
次第に変化していく。
【００２３】ここで、 Ｄｉ＞｜ＭＡＸ（Ｄｉ）−Ｋｉ−Ｊｉ｜ （Ｋｉは各計測位置における一定値） （Ｊｉは前記の各計測位置における照度劣化分） になると照度むらが許容値に近づいたものと予測して、
露光動作中直ちに露光装置にその旨を知らせる。
露光動作中直ちに露光装置にその旨を知らせる。
【００２４】また、１回の露光動作で左右１対２個のホ
トセンサーによって光束７の左右両端の２ケ所の照明光
７の照度値が同時に求められる。このときの露光動作に
よる左右の各照度データをそれぞれＵｌｉ、Ｕｒｉとす
る。このとき前記図２の照度分布曲線１０３に相当する
ような、照明光７の走査方向と垂直な方向における照度
分布曲線のうち、左右２端の照度値が得られる。
トセンサーによって光束７の左右両端の２ケ所の照明光
７の照度値が同時に求められる。このときの露光動作に
よる左右の各照度データをそれぞれＵｌｉ、Ｕｒｉとす
る。このとき前記図２の照度分布曲線１０３に相当する
ような、照明光７の走査方向と垂直な方向における照度
分布曲線のうち、左右２端の照度値が得られる。
【００２５】次に、前記の式（１）と同様にＬｉを基準
値にして左右２端の照度比率値をそれぞれ、 Ｉｌｉ＝Ｕｌｉ／Ｌｉ ・・・（３） Ｉｒｉ＝Ｕｒｉ／Ｌｉ ・・・（４） で表す。
値にして左右２端の照度比率値をそれぞれ、 Ｉｌｉ＝Ｕｌｉ／Ｌｉ ・・・（３） Ｉｒｉ＝Ｕｒｉ／Ｌｉ ・・・（４） で表す。
【００２６】ここで、両者の差分Ｅｉをとって、 Ｅｉ＝｜Ｉｌｉ−Ｉｒｉ｜ ・・・（５） として、この値を照度むらの値とする。仮に照度むらが
ないとするとホトセンサー１０による左右の照度比率値
の差分ＥｉはＥｉ＝０となる。
ないとするとホトセンサー１０による左右の照度比率値
の差分ＥｉはＥｉ＝０となる。
【００２７】ここで露光装置に、あらかじめ実際の露光
動作に影響する許容値ＭＡＸ（Ｅｉ）を設定しておく。
即ち、 Ｅｉ＞｜ＭＡＸ（Ｅｉ）−Ｍｉ｜ ・・・（６） （Ｍｉは各計測位置における一定値）であると照明光７
の照度値が許容値に近づいたものと予測して、露光動作
中直ちに露光装置にその旨を知らせる。露光装置は前記
各照度むらの値ＤｉもしくはＥｉが許容値外にあるとい
う通知を受けると、この状況をオペレータに通知して露
光動作を中断するようになっている。また、本発明の露
光装置はあらかじめオペレーションコンソール（図示せ
ず）から特定の設定を行うことにより、上記露光動作の
中断はせずにオペレータに通知をするだけの機能にして
用いる事も可能となっている。
動作に影響する許容値ＭＡＸ（Ｅｉ）を設定しておく。
即ち、 Ｅｉ＞｜ＭＡＸ（Ｅｉ）−Ｍｉ｜ ・・・（６） （Ｍｉは各計測位置における一定値）であると照明光７
の照度値が許容値に近づいたものと予測して、露光動作
中直ちに露光装置にその旨を知らせる。露光装置は前記
各照度むらの値ＤｉもしくはＥｉが許容値外にあるとい
う通知を受けると、この状況をオペレータに通知して露
光動作を中断するようになっている。また、本発明の露
光装置はあらかじめオペレーションコンソール（図示せ
ず）から特定の設定を行うことにより、上記露光動作の
中断はせずにオペレータに通知をするだけの機能にして
用いる事も可能となっている。
【００２８】ウェハーステージ１４上のウエハー１３の
外部に走査方向に沿って露光領域長（スリット幅）をカ
バーする照度むら測定用センサー素子アレイを配置し、
実露光前後にウエハー１３を照射する光の走査方向の強
度分布（即ちウエハー１３上に照度分布）を得る際に、
レチクルステージ上のホトセンサー１０を利用できる。
外部に走査方向に沿って露光領域長（スリット幅）をカ
バーする照度むら測定用センサー素子アレイを配置し、
実露光前後にウエハー１３を照射する光の走査方向の強
度分布（即ちウエハー１３上に照度分布）を得る際に、
レチクルステージ上のホトセンサー１０を利用できる。
【００２９】センサー素子アレイで光強度分布を測定す
る場合、各センサー素子間の感度のばらつき補正しなけ
れば正確に照度分布曲線が描けない。そこで前記レチク
ルステージ上のミラー１１をハーフミラーとし、レチク
ルステージ９を移動させることによりホトセンサー１０
を各センサー素子の位置に対応する位置に位置付け、ホ
トセンサー１０でハーフミラーからの反射光を検出しな
がらセンサー素子アレイでハーフミラーからの透過光を
検出することにより、ホトセンサー１０の出力を基準と
して各センサー素子間の感度のばらつきを計測する。
る場合、各センサー素子間の感度のばらつき補正しなけ
れば正確に照度分布曲線が描けない。そこで前記レチク
ルステージ上のミラー１１をハーフミラーとし、レチク
ルステージ９を移動させることによりホトセンサー１０
を各センサー素子の位置に対応する位置に位置付け、ホ
トセンサー１０でハーフミラーからの反射光を検出しな
がらセンサー素子アレイでハーフミラーからの透過光を
検出することにより、ホトセンサー１０の出力を基準と
して各センサー素子間の感度のばらつきを計測する。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、実露光動作中に照度む
らを測定でき、従って直ちに照度むらが許容値を越える
ことを検出できる。従って 続く露光におけるウエハー
上の露光パターンの欠陥を未然に防止することができ
る。さらに実露光工程以外での照度むら計測を省略で
き、装置のスループットを低下させないという効果があ
る。
らを測定でき、従って直ちに照度むらが許容値を越える
ことを検出できる。従って 続く露光におけるウエハー
上の露光パターンの欠陥を未然に防止することができ
る。さらに実露光工程以外での照度むら計測を省略で
き、装置のスループットを低下させないという効果があ
る。
【図１】本発明を実施した露光装置の主要概略図。
【図２】スリット形状をした照明光の照度分布図。
１ 照明光源 ２ 光学変換器 ３ 照明光 ４ ミラー ５ 照度計 ６ 照明系内光学素子 ７ 照明光 ８ レチクル ９ レチクルステージ １０ ホトセンサー １１ ミラー １２ 縮小投影光学系 １３ ウエハー １４ ウエハーステージ
Claims (6)
- 【請求項１】 露光光によりレチクルのパターンを介し
てウエハを露光する露光装置において、ウエハーへの実
露光動作中に露光光の強度分布（照度分布）を計測する
手段を備える事を特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記実露光が前記露光光に対して前記レ
チクルとウエハを走査することにより行なわれることを
特徴とする請求項１の露光装置。 - 【請求項３】 前記計測手段は、前記レチクルを移動す
る手段に設けられることを特徴とする請求項２の露光装
置。 - 【請求項４】 前記計測手段は、前記レチクルの移動方
向と交差する方向に前記露光光の両端部の光を受光する
受光素子を複数備えることを特徴とする請求項２、３の
露光装置。 - 【請求項５】 前記計測手段は計測される各点の光強度
（照度）を前記露光光の予め決めた部分の光強度と比較
する手段を備える請求項１乃至４の露光装置。 - 【請求項６】 請求項１乃至請求項５の露光装置により
デバイスパターンを基板上に転写する段階を有すること
を特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP761894A JPH07220989A (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP761894A JPH07220989A (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07220989A true JPH07220989A (ja) | 1995-08-18 |
Family
ID=11670808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP761894A Withdrawn JPH07220989A (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | 露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07220989A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2303928A (en) * | 1995-07-28 | 1997-03-05 | Nec Corp | Exposure method and exposure system |
| EP0875790A2 (en) * | 1997-04-30 | 1998-11-04 | Svg Lithography Systems, Inc. | Lamp instability detecting system |
| US6235438B1 (en) | 1997-10-07 | 2001-05-22 | Nikon Corporation | Projection exposure method and apparatus |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| JP2018531412A (ja) * | 2015-09-23 | 2018-10-25 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影装置を動作させる方法およびそのような装置の照明システム |
-
1994
- 1994-01-27 JP JP761894A patent/JPH07220989A/ja not_active Withdrawn
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2303928B (en) * | 1995-07-28 | 1998-10-28 | Nec Corp | Exposure method and exposure system |
| US5999247A (en) * | 1995-07-28 | 1999-12-07 | Nec Corporation | Exposure method and exposure system |
| GB2303928A (en) * | 1995-07-28 | 1997-03-05 | Nec Corp | Exposure method and exposure system |
| EP0875790A2 (en) * | 1997-04-30 | 1998-11-04 | Svg Lithography Systems, Inc. | Lamp instability detecting system |
| EP0875790A3 (en) * | 1997-04-30 | 2000-09-13 | Svg Lithography Systems, Inc. | Lamp instability detecting system |
| US6235438B1 (en) | 1997-10-07 | 2001-05-22 | Nikon Corporation | Projection exposure method and apparatus |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| JP2018531412A (ja) * | 2015-09-23 | 2018-10-25 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影装置を動作させる方法およびそのような装置の照明システム |
| US10444631B2 (en) | 2015-09-23 | 2019-10-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method of operating a microlithographic projection apparatus and illumination system of such an apparatus |
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