JP3180133B2 - 投影露光装置 - Google Patents

投影露光装置

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JP3180133B2
JP3180133B2 JP34353992A JP34353992A JP3180133B2 JP 3180133 B2 JP3180133 B2 JP 3180133B2 JP 34353992 A JP34353992 A JP 34353992A JP 34353992 A JP34353992 A JP 34353992A JP 3180133 B2 JP3180133 B2 JP 3180133B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、原図基板上の半導体集
積回路等の微細パターンを、半導体等の被露光基板上に
投影露光して転写する投影露光装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路等の微細パターンを、半
導体ウエハ等の被露光基板上に、安易、高速、低価格で
形成するため、短波長可視光ないし遠紫外線を用いる投
影露光法が用いられている。図5は、株式会社電気書院
発行「LSI設計製作技術」248頁に記載された従来
の投影露光装置の光学系を示す。これを同図に基づいて
概略説明すると、水銀ランプ1から出た光は、楕円凹面
鏡2、コリメータレンズ3によって集光されて、単色化
のためのフィルタ4を通ってフライアイレンズ5に入
る。水銀ランプ1とコリメータレンズ3との間にはラン
プからの光を光源光軸と略直交する方向に変換すると共
に、熱線を裏側へ透過させる第1反射鏡6が配設されて
いる。フライアイレンズ5は、多くの小口径レンズの集
合体からなり、その各レンズから出る光が第2反射鏡7
によって反射され集光レンズ8によって集光されること
により、それぞれ原図基板であるレチクル9を照明し、
これにより照明の均一性を上げることができる。前記水
銀ランプ1が元々の光源(1次光源)であるのに対し、
フライアイレンズ5の射出側は、レチクル9を照明する
光の実質的な射出源となるため、2次光源と呼ばれる。
第2反射鏡7は、再度光線の向きを変えるためのもので
ある。レチクル9は、半導体集積回路等の微細パターン
の図柄が形成されてレチクル保持台10上に設置されて
おり、集光レンズ系8を出た光により照明されると、前
記微細パターンは投影レンズ11を通して被露光基板で
あるレジストを塗布したウエハ12上に転写される。投
影レンズ11は、各種収差を消すため多くの枚数のレン
ズを組合わせて作られているが、基本的にはレチクル9
側とウエハ12側の2ブロックに分けられており、その
間に開口絞り13が設置されている。レチクル9上の任
意の一点から出た光は、レチクル9側のレンズ群を透過
した後、略平行となって開口絞り13を通過し、ウエハ
12側のレンズ群に入る。その後、ウエハ12側のレン
ズ群で集光され、ウエハ12の表面上のレジスト位置で
一点に集光、結像される。ウエハ12は、位置、および
投影レンズ11に対する高さを調整、決定するための、
X移動ステージ14、Y移動ステージ15、Z移動ステ
ージ16、回転ステージ17上に設置されている。ウエ
ハ12に転写されるパターンの解像性は、レチクル9上
に存在するパターンによる回折光が開口絞り13に取り
込めるかどうかで決まり、最高解像度は、レチクル9上
のパターンから出る0次回折光と1次回折光とが、開口
絞り13に取り込めるかどうかで概ね決まる。1次以上
の回折光が進む方向は、パターンの周期、パターンの細
かさによって決まり、細かいパターン程レチクル9の照
明光の進行方向に対して傾いた方向に出る。したがっ
て、レチクル9を垂直に照明した場合、細かいパターン
の時程投影レンズ11の外側方向へ1次以上の回折光が
進むことになる。このため、開口絞り13の開口が大き
い程細かいパターンからなる回折光まで取り込めること
になり、高解像となる。
【0003】ところで、同一出願人によって既に出願さ
れた特願平3−99822号、特願平3−157401
号等には、レチクルを斜めに照明して、レチクル上に存
在するパターンの0次回折光が、斜め照明光進行方向の
開口絞り外周付近を通るようにし、片側の1次回折光が
開口絞りの反対側の外周付近を通るようにすれば、レチ
クルを垂直に照明してレチクル上に存在するパターンの
両側の1次回折光が開口絞りを通るようにした場合に比
べて、入射光の方向に対して約2倍の角度で外側に広が
る1次回折光迄取り込めるため、非常に高解像になるこ
とが開示されている。また、このようにレチクルを斜め
に照明する方式をとると、0次回折光と片側の1次回折
光だけで転写像が形成されるため、2光束だけの干渉と
なり、従来の0次回折光と両側の1次回折光の合計3光
束の場合より、微細パターン転写時の焦点深度が大幅に
改善される利点も生じる。レチクルを斜めに照明するに
は、特願平59−211269号に開示されているよう
に、フライアイレンズ5の射出側の中心部からの光をカ
ットして周辺部からの光で照明すればよい。すなわち、
円環状や多点状の2次光源により照明すればよい。しか
し、レチクル9を単に斜めに照明する場合、レチクル9
上に依存するパターンによる1次回折光は、片側分だけ
しか開口絞りに取り込めないのに対し、直進する0次回
折光が全て開口絞りを通過するため、1次回折光と0次
回折光とのバランスが崩れて0次回折光が多過ぎる状態
となり、レジスト位置にできる微細パターンの像のコン
トラストが低下してしまう。この欠点を補う目的で、特
願平3−135317号、特願平3−157401号等
には、斜め照明時に0次回折光の量を適切な量に調整す
るため、開口絞り13の位置に、「開口部周辺の透過率
を調整した投影レンズ開口を有する」ようにした投影露
光装置および方法が開示されている。
【0004】従来、上記の「透過率を調整した投影レン
ズ開口」である「瞳フィルタ」は、露光光線をよく透過
する平面板上に、所望の透過率を有する薄膜を付したも
のを使用していた。図6は、斜め照明と瞳フィルタとを
併用した、従来の投影露光光学系の例であり、図7は図
6に示したような投影露光装置において使用される従来
の瞳フィルタの断面模式図である。図5に示した従来の
一般的な投影露光光学系に対し、図6では斜め照明を得
るための円環状や多点状の2次光源射出開口20と、単
なる開口絞り13に替えて透過率を調整する瞳フィルタ
21とを付け加えたものである。また、以上に示した図
5および図6においては、露光の1次光源を水銀ランプ
1としている。これに対し、「光技術コンタクト」Vo
l.28.No.3(1990)のP172〜P174
に開示されているように、エキシマレーザを1次側光源
としても、同様の露光ができる。2次光源を作るまでの
光源系が異なるだけで、2次光源入射口から後は、図
5、図6と同様である。透過率を調整する瞳フィルタ2
1は、波長436nmの水銀ランプg線、波長365n
mの水銀ランプi線、波長249nmのKrFエキシマ
レーザ光、波長193nmのArFエキシマレーザ光、
等の短波長可視光ないし遠紫外光を露光光線とする場合
には、合成石英、溶融石英、合成蛍石、溶融蛍石等ガラ
ス材料からなる平面板22の表面または裏面に、薄いク
ロム、酸化クロム、フッ化マグネシウム等の透過率調整
膜23および開口を決定する遮光膜24を形成して構成
されている。透過率調整膜23を付ける開口内での位置
および形状は、照明2次光源の位置および形状と対応す
るようになされている。照明2次光源の射出側の像が瞳
フィルタ21の位置にできるので、2次光源像の位置、
寸法、形状に略合わせて透過率調整膜23を形成してあ
る。なお図7では透過率調整膜23および遮光膜24の
厚みは、平面板22の厚さに対して誇張して描いてあ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の瞳フィルタ21にあっては、瞳フィルタ21の
入った投影レンズ11を長く使用すると、露光光線の長
時間照射によって、瞳フィルタ21の透過率調整膜23
が劣化し、飛散したり、剥離したりするという問題があ
った。また、1次光源としてエキシマレーザ光を使用す
る場合は、光がパルス的に発生し、断続的に繰り返して
強いエネルギの光が瞳フィルタ21に照明されるため、
特に劣化し易い。透過率調整膜23が劣化して飛散した
り、剥離したりすると、透過率調整膜23の付いた部分
の全域または一部の領域で、透過率が変化して適正に調
整された透過率でなくなる。この結果、瞳フィルタ21
は本来の機能を発揮しなくなり、解像度の劣化、適正露
光量の変化、パターン形状の劣化、露光強度むら等を生
じる。また、透過率調整膜23が飛散したり、剥離した
りすると、瞳フィルタ21の上下の投影レンズ部材に、
飛散したり、剥離した膜材料の微細な飛散粒子や剥離片
が付着する。微細な飛散粒子が投影レンズ部材に付く
と、投影レンズの透過率の低下を生じ、また剥離片が投
影レンズ部材に付くと、局部的に光路長が変わって解像
度の悪い部分を生じたり、露光強度むらを生じたりす
る。さらに、最悪の場合には、これらの付着物は露光時
に転写欠陥を発生する原因となる。したがって、透過率
調整膜23が劣化して飛散したり、剥離したりしないよ
うにすることが必要である。投影レンズ部材に一旦この
ような飛散粒子や剥離片が付着した場合、投影レンズを
分解してオーバーホールしない限り除去することができ
ない。しかし、投影レンズの各レンズ部材には、反射防
止コーティングを施してあるので、飛散粒子や剥離片の
みを除去することはきわめて困難であり、一旦透過率調
整膜23の飛散粒子や剥離片が付くと、投影レンズ各レ
ンズ部材のコーティング迄やり直したり、最悪、投影レ
ンズ全体の寿命にもなりかねない。
【0006】したがって、本発明は上記したような従来
の問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするとこ
ろは、透過率調整膜の劣化に伴う飛散、剥離等を防止
し、投影レンズに微細な飛散粒子や剥離片が付着しない
ようにした投影露光装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、原図基板上のパターンを投影レンズを介して
被露光基板上に投影露光、転写する投影露光装置におい
て、前記投影レンズの開口絞り位置に、前記原図基板を
照明する2次光源の形状に対応させた瞳フィルタを配置
してなり、この瞳フィルタは任意の透過率分布を有する
透過率調整膜を透光性を有する2枚の平面板で挟んで形
成されているものである。
【0008】
【作用】透光性を有する2枚の平面板は透過率調整膜を
挾み込んでいるので、たとえ調整膜が劣化しても、飛散
したり、剥離することがない。
【0009】
【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて
詳細に説明する。図1は瞳フィルタの断面模式図であ
る。なお、図中図5〜図7に示した従来装置の構成部材
と同一のものに対しては同一符号をもって示す。同図に
おいて、ガラス材料からなり透光性を有する平面板22
の上面に透過率調整膜23と遮光膜24を形成し、更に
平面板22の上に別の透光性を有する平面板25を載置
して透過率調整膜23および遮光膜24を覆い、これら
により瞳フィルタ30を構成したものである。すなわ
ち、本実施例は2枚の平面板22,25によって透過率
調整膜23と遮光膜24を挾み込み、サンドウイッチ構
造としたものである。平面板25としては、平面板22
と同様、合成石英、溶融石英、合成蛍石、溶融蛍石等の
ガラス材料からなる。そして、このような瞳フィルタ3
0は図6に示した投影レンズ11の開口絞り位置に取付
けられる。その他の構成は図6に示した従来の投影露光
装置と同様である。
【0010】図2(a),(b)はそれぞれ瞳フィルタ
の他の実施例を示す断面模式図である。(a)図は図1
に示した瞳フィルタ30を保持具34と蓋35とで保持
し、投影レンズの開口絞り位置に設置するようにしたも
のである。保持具34と蓋35との固定は、ねじ止め、
はめ込み等任意である。(b)図は平面板25と蓋35
との間にパッキン等の緩衝部材36を介在させ、保持部
材材34と蓋35で瞳フィルタ30を押さえる際、平面
板22,25が割れたり歪んだりしないようにしたもの
である。但し、この場合は透過率調整膜23と、保持具
34または蓋35の投影レンズへの取付面との距離が変
化しない位置に緩衝部材36を挾み、透過率調整膜23
が所望の投影レンズ開口絞り位置に来るようにする。例
えば、図2(b)のように保持具34を投影レンズの基
準となる面に合わせて固定するとし、所定の厚さの平面
板22上に透過率調整膜23を付けて、保持具34の上
に置き、平面板25をその上に重ねた後、緩衝部材36
を置いて蓋35で押さえて固定する。このようにすれ
ば、投影レンズ開口絞り位置への固定の基準となる保持
具34と、透過率調整膜23との相対関係は緩衝部材3
6の有無に関係ない。したがって、透過率調整膜23を
正確に所望の投影レンズ開口絞り位置に設定することが
できる。保持具34の蓋35を投影レンズの基準となる
面に合わせて固定する場合は、蓋35と透過率調整膜2
3とが所望の相対位置関係になるようにする。
【0011】図3はさらに瞳フィルタの他の実施例を示
す断面模式図である。この実施例は平面板22と25の
露光光線が通らない周辺部を接着剤40によって接着固
定したものである。露光光線が通る部分に接着剤を置け
ば、接着剤の厚さによって光路長が変わり、収差を発生
する。また、接着剤40は、露光光線による劣化が早
く、透過率の低下等を引き起こす。したがって、接着剤
40の塗布むらは、露光むらとなる。このため、平面板
22と25とを露光光線が通らない周辺部で接着するこ
とが望ましい。接着は、接着剤40の厚さによって平面
板22,25との間に隙間ができないように行う。図3
のごとく、平面板25の周辺部を薄くしておき、平面板
22の最突出面と平面板25とをぴったり合わせて接着
する時、接着剤40が平面板25の周辺部が薄いことに
よって形成される平面板22と25との隙間に広がるよ
うにする。図3では、接着剤40を入れるための隙間を
平面板25の周辺部に形成した例を示したが、平面板2
2の周辺部あるいは平面板22、25双方の周辺部を接
着剤用に薄く形成してもよい。また、平面板22および
/または平面板25の周辺部の露光光線が通らない部分
の任意位置に、任意の大きさ、任意の深さ、任意の数の
凹みまたは段差を設けてもよい。
【0012】図1〜図3において、透過率調整膜23お
よび遮光膜24とが同じ材料の場合、遮光膜24の方が
透過率調整膜23より厚いので、遮光膜24の面が平面
板25に接している。透過率調整膜23と遮光膜24と
の材料が異なり、透過率調整膜23が遮光膜24より厚
い場合は、透過率調整膜23の面が平面板25に接す
る。また、図には描いていないが、瞳フィルタの開口内
の全ての部分を通る露光光線の位相が透過率調整膜23
の部分を通る露光光線の位相変化と等しい量変化するよ
うに、瞳フィルタの透過部に高透過率の位相調整材料を
付けてもよい。その場合には高透過率の位相調整材料を
付けてある透過部分、透過率調整膜23の部分、遮光膜
24の部分のうち、最も厚い部分の面が平面板25に接
する。
【0013】図4(a)〜(i)は透過率調整膜の分布
形状の各種の例を示す図である。(a)図は開口の中に
円環状の透過率調整膜を設けた例、(b)図は開口の中
に多点状の透過率調整膜を設けた例、(c)図は開口の
中に透過率T1 ,T2 の異なる透過率調整膜を同心円状
に設けた例、(d)図は開口の中に多点状の透過率調整
膜を設け、さらにその外側にも透過率調整膜を設けた
例、(e)図も開口の中に多点状の透過率調整膜を設
け、さらにその外側にも透過率調整膜を設けた例、
(f)図は(d)の中心部にも透過率T3 を有する透過
率調整膜を設けた例、(g)図は(e)の中心部にも透
過率T3 を有する透過率調整膜を設けた例、(h)図は
(f)の中心部にも透過率T3 を有する透過率調整膜を
設けた例、(i)図は図に示すように透過率が任意に連
続的に変化するようにした透過率調整膜を設けた例であ
る。なお、図中、遮光膜の付いている部分を黒色、透過
率調整膜23の付いている部分、すなわち、意図的に透
過率を低下させている部分をハッチングまたはクロスハ
ッチングで示した。透過率調整膜23の形状、分布は、
フライアイレンズ射出口の形状、すなわち2次光源の形
状に合わせて決める。フライアイレンズ射出口が円環状
の場合には、(a)図の円環状の透過率調整部は、フラ
イアイレンズ射出口の円環状の像の大きさに大略合わせ
る。また、(c)、(f)図の場合には、透過率T1
部分の形状をフライアイレンズ射出口の多点状の像の大
きさに大略または完全に合わせる。フライアイレンズ射
出口の形状が多点状の場合に、開口絞り位置にできる多
点状の像を包絡するような円環状の透過率調整膜23を
持つ(a)、(c)、(f)図のような瞳フィルタを用
いてもよい。透過率調整膜23の透過率は任意であり、
特別の場合として、T1 =T2 、T2 =T3 、T1 =T
3 、T1 =T2 =T3 等の条件の瞳フィルタも適用す
ることができる。
【0014】ところで、透過率調整膜23と開口の範囲
を決定する遮光膜24は、必ずしも平面板22に付けな
くてもよく、平面板22または平面板25の互いに接触
し合う何れかの面に付ければよい。さらに、透過率調整
膜23と遮光膜24を平面板22または25に分割して
付けてもよい。以上の(c)〜(h)図のように、透過
率が異なる透過率調整膜23を有する瞳フィルタ30に
おいては、1枚の平面板上に2つ以上の透過率が異なる
透過率調整膜23を付けることは、容易にはできない。
例えば、(e)の場合に多点状の透過率T1 の部分を付
けた後、透過率T1 の部分を保護してその周囲に透過率
2 の部分を付けることはかなり困難である。
【0015】かかる2つ以上の透過率が異なる透過率調
整膜23を有する瞳フィルタが入用の場合に、本発明の
図1〜図3に示した2枚の平面板22,25を用いる瞳
フィルタを用いると、透過率調整膜23の付け方が従来
よりかなり容易になる。例えば、上記の(e)の場合、
先ず透過率T1 、透過率T2 の部分のうち、透過率の高
い方、例えば透過率T2 の透過率調整膜を平面板22の
最終的に透過率T1 、透過率T2 となる部分の全域に付
ける。次に、透過率(T1 /T2 )の透過率調整膜を平
面板25の最終的に透過率T1 となる部分に付ける。平
面板22と平面板25の透過率調整膜が付いて面同士を
内側にして密着させ、瞳フィルタとすれば、平面板22
に透過率T2 の透過率調整膜が付き、平面板25に透過
率(T1 /T2 )の透過率調整膜が付いて互いに重なる
部分は、透過率が、T2 ×(T1 /T2 )=T1 とな
る。また、平面板22に最初に透過率T2 の透過率調整
膜を付けた上記以外の部分の透過率がT2 となる。この
ように、透過率が異なる透過率調整膜は、平面板22、
25に膜付けを振り分けて形成することにより、容易に
製作できるようになる。
【0016】図1〜図4の全ての場合において、平面板
22,25は露光光線に対して透光性を有するガラス材
料であればよく、任意である。また、透過率調整膜23
は露光光線に対して所定の透過率を付与できる材料であ
れば任意であり、例えば、クロムの薄膜、酸化クロムの
薄膜、フッ化マグネシウムと硫化亜鉛の多層薄膜等とす
る。遮光膜24も任意の材料でよいことは言うまでもな
い。
【0017】なお、平面板22,25の外形形状は、図
4では円形としたが、必ずしも円形である必要はなく、
正方形、長方形等任意の形状とすることができ、必要に
応じて両平面板の形状が異なってもよい。また、上記の
説明では、瞳フィルタ30の透過率調整膜23と開口の
範囲を決定する遮光膜24を、正確に開口絞りの位置に
置くとしていたが、透過率調整膜23の境界の段差が露
光光線の方向を変える等の悪影響を生じないように、透
過率調整膜23の投影レンズ光軸方向の位置を2次光源
の結像位置から少しずらし、透過率調整膜23の境界が
2次光源に対してぼけるようにした場合でも、本発明は
有効である。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る投影露
光装置によれば、原図基板を斜め入射照明して、かつ投
影レンズ開口絞り位置に透過率を調整した瞳フィルタを
有する投影露光装置において、透過率調整膜を2枚のガ
ラス材料からなる透光性の平面板で挟み込んでサンドウ
イッチ構造とした瞳フィルタを用いるように構成したの
で、露光の累計により透過率調整膜がたとえ劣化して
も、飛散したり、剥離したりするのを防止することがで
きる。したがって、原図基板を斜め入射照明し、投影露
光装置の投影レンズ開口絞り位置に瞳フィルタを置く、
高解像、大焦点深度の露光を連続して長時間行っても、
透過率調整膜が飛散した微粉末や剥離片が投影レンズ内
のレンズ部材に付着することがなくなり、局部的に光路
長が変わって解像度の悪い部分を生じたり、露光強度む
らを生じたりすることがない。また、投影レンズの透過
率の低下も生じ難くなる。さらに、投影レンズへの付着
物が原因の露光転写欠陥の発生も防止できる。さらに、
瞳フィルタが万一劣化して交換する場合にも、瞳フィル
タの透過率調整膜が投影レンズ内のレンズ部材に転移す
ることがなく、容易に瞳フィルタを交換できる。本発明
は、水銀ランプを光源とする投影露光装置のほか、エキ
シマレーザ等の任意の光源を露光光源とする投影露光装
置に適用可能である。エキシマレーザを光源とする場
合、パルス的に露光エネルギが印加されるため、瞳フィ
ルタには、一瞬に大エネルギが加わる動作が繰り返さ
れ、瞳フィルタ劣化が、水銀ランプを光源とする投影露
光装置の場合より早い。このため、本発明が特に有効で
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】瞳フィルタの断面模式図である。
【図2】(a),(b)はそれぞれ瞳フィルタの他の実
施例を示す断面模式図である。
【図3】さらに瞳フィルタの他の実施例を示す断面模式
図である。
【図4】(a)〜(i)は透過率調整膜の分布形状の各
種の例を示す図である。
【図5】従来の一般的な投影露光装置の光学系を示す図
である。
【図6】斜め照明と瞳フィルタとを併用した従来装置の
光学系を示す図である。
【図7】瞳フィルタの従来例を示す断面模式図である。
【符号の説明】
1 水銀ランプ 9 レチクル 11 投影レンズ 12 ウエハ 13 開口絞り 22 平面板 23 透過率調整膜 24 遮光膜 25 平面板 30 瞳フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027 G02B 5/00 G03B 27/32 G03F 7/20 521

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原図基板上のパターンを投影レンズを介
    して被露光基板上に投影露光、転写する投影露光装置に
    おいて、前記投影レンズの開口絞り位置に、前記原図基
    板を照明する2次光源の形状に対応させた瞳フィルタを
    配置してなり、この瞳フィルタは任意の透過率分布を有
    する透過率調整膜を透光性を有する2枚の平面板で挟ん
    で形成されていることを特徴とする投影露光装置。
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