JP2697014B2

JP2697014B2 - 露光装置及び露光方法

Info

Publication number: JP2697014B2
Application number: JP63270314A
Authority: JP
Inventors: 健爾西
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1988-10-26
Filing date: 1988-10-26
Publication date: 1998-01-14
Anticipated expiration: 2013-01-14
Also published as: JPH02116115A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、マスクのパターンを感光基板へ露光するた
めのプロキシミティ、コンタクトアライナー、あるいは
マスクのパターンを投影光学系により露光するミラープ
ロジェクション、又はステッパー等の露光装置に関する
ものである。

〔従来の技術〕

従来この種の露光装置では、例えば特開昭61−19129
号公報に開示されているように、露光用の照明光を照明
視野絞りによって制限してマスク（レチクル）に照射し
ている。第５図は従来の装置で使われている照明視野絞
り（レチクルブラインド）の構造を示す斜視図であり、
４枚の可動ブレードBX₁、BX₂、BY₁、BY₂で構成される。
この４枚のうちブレードBY₁、BY₂は互いに独立にｙ方向
に水平移動し、ブレードBX₁、BX₂はブレードBY₁、BY₂の
裏面側を互いに独立してｘ方向に水平移動する。４枚の
ブレードBX₁、BX₂、BY₁、BY₂の４辺で規定された矩形開
口が照明光の通過部分であって、照明光学系等の光軸AX
と垂直に配置されている。また各ブレードBX₁、BX₂、BY
₁、BY₂の開口を規定する各辺は、ナイフエッジになって
いる。一方、レチクルＲは、第６図に示すように、回路
パターン等の露光すべきパターンを形成したパターン領
域PAと、このパターン領域PAを囲んで一定の幅で形成さ
れた遮光体SBとで構成され、通常は光軸AXがレチクル中
心RCを通るように位置決めされる。

露光の際は、４枚のブレードBX₁、BX₂、BY₁、BY₂の各
ナイフエッジ先端がレチクルＲの遮光体SBの各辺の上方
に位置するように設定される。また第５図、第６図には
図示していないが、４枚のブレードで規定された矩形開
口の像は、レチクルＲと照明視野絞りとの間に設けられ
た結像光学系によってレチクルＲ上に結像する。従っ
て、レチクルＲ上での照明領域は遮光帯SBの内側だけに
制限され、パターン領域PAの透明部を通って露光光は半
導体ウェハ等の感光基板へ達する。ミラープロジェクシ
ョンやステッパー等の場合は、レチクルＲとウェハの間
に投影光学系が設けられ、パターン領域PAの像がウェハ
上に投影露光される。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来のように、照明視野絞り（レチクルブラインド）
はレチクルＲの遮光帯SBの幅を狭くする目的で使われて
いる。すなわち、遮光帯SBは露光したくない部分をクロ
ム等の金属層で覆うのであるが、その遮光帯の領域（面
積）が大きいと、ピンホール等の欠陥が発生しやすく、
レチクルとしての不良が増大する。このため、遮光帯SB
の幅はできるだけ少なくし、その代りに遮光帯SBの外側
の透明部はブラインド（ブレード）で覆うようにしたの
である。

そこで問題となるのが、ブラインドの４枚のブレード
の位置設定精度である。各ブレードのｘ、ｙ方向の位置
設定精度が悪いと、その分を見込んで遮光帯SBの幅を広
めにしておかねばならない。このため、各ブレードの位
置決め精度は、かなりきびしいものになる。

ところでレチクルブラインドとレチクルＲとの間には
結像光学系が設けられ、ブラインドの開口像には、ある
倍率がかけられているのが普通である。例えばレチクル
ブラインドの開口寸法がレチクルＲのパターン領域PAの
寸法の1/5のとき、すなわち倍率が５倍のときを考えて
みると、ブラインドの４枚のブレードの大きさ、及び移
動ストロークは実用上それほど大きなものとはならな
い。

しかしながら、各ブレードの機械的な位置決め精度に
は限界があり、仮りに位置決め精度を80μｍとすると、
レチクルＲ上の照明領域を規定するナイフエッジ像の設
定精度は400μｍになる。またそのナイフエッジ像もレ
チクルＲ上で精密に合焦しないこともあり、例えば1200
μｍ程度のボケ幅がレチクル上で生じる。

このため、レチクル上の遮光帯SBの幅は2800μｍ以上
にする必要がある。

そこでレチクルブラインドの像の結像光学系の倍率を
1.25倍にして位置決め精度、ボケ幅を見積ってみると、
位置決め精度（80μｍ）によるレチクル上でのナイフエ
ッジ像の設定精度は100μｍになり、ボケ幅は倍率比の
２乗〔（1.25/5）^２〕で変化するため、約75μｍにな
る。これにより、レチクルＲ上の遮光帯SBの幅は、約25
0μｍ程度になり、先の場合にくらべて格段に狭くでき
る。

このように遮光帯SBの幅が250μｍ以下に狭くなる
と、1/5縮小投影のステッパー等では最早遮光帯SBその
ものも不用にすることができる。この場合、250μｍ幅
の遮光帯はウェハ上では丁度50μｍ幅のストリートライ
ンに相当することになるからである。

一方、結像光学系の倍率を1.25倍に低下させたことに
よって、レチクルブラインド自体の寸法は４倍にする必
要がある。

このことはレチクルブラインドの全体構造を大型化す
ることもさることながら、４枚のブレードの寸法や各ブ
レードのにげ空間を増大させることになる。例えば第５
図において、１枚のブレードBX₁によりレチクルＲ全体
を覆うことができるものとすると、ブレードBX₁の大き
さは約３倍の大きさにする必要がる。他の３枚のブレー
ドについても同じである。このため、レチクルＲのｘ方
向の照明領域幅を100mmとすると、ブレードBX₁のｘ方向
の寸法は100×1/1.25×３＝240mmとなり、露光装置に組
み込んだときの装置大型化はさけられないといった問題
が生じる。

本発明は、この様な従来の問題点に鑑みてなされたも
ので、照明視野絞りの構造を大きくすることなく、設定
精度を高めた露光装置を得ることを目的とする。

〔問題点を解決する為の手段〕

そこで請求項１に記載の発明は、マスク上のパターン
（PA）を感光基板（Ｗ）へ露光する装置において、照明
光源（２）とマスク（Ｒ）との間にマスクと共役な像面
を形成するための結像光学系（18、38、44、60等）と、
共役像面とほぼ一致して配置されマスク上での照明領域
を矩形に制限する照明視野絞り部材に関するものであ
る。そして照明視野絞り部材は、マスク上で矩形の照明
領域の各辺を規定する４つのエッジ（E₁、E₂、E₃、E₄）
を有し該４つのエッジが可動な複数の第１遮光部材（2
0、30）と、第１遮光部材と連動して移動し第１遮光部
材の外側を通る照明光を遮光する複数の第２遮光部材
（26、32、50、52、54、55、RBS₁、RBS₂）とを設けるも
のである。

請求項４に記載の発明は、パターン領域（PA）と該パ
ターン領域の外縁に形成された遮光帯（SB）とを有する
マスク（Ｒ）に照明光を照射する照明光源（２）と、該
照明光源とマスクとの間にマスクと共役な像面を形成す
るための結像光学系（18、38、44、60等）とを有し、マ
スク上のパターンを感光基板（Ｗ）へ露光する装置に関
するものである。そして、共役像面とほぼ一致して配置
されマスク上での照明領域を所定形状に制限する視野絞
り部材（20、30）と、視野絞り部材に連動して移動し遮
光帯の外側のマスク上の領域を通って感光基板上に到達
し得る光を遮光する遮光部材（26、32、50、52、54、5
5、RBS₁、RBS₂）とを設けるものである。

請求項７に記載の発明は、マスク（Ｒ）上のパターン
（PA）を感光基板（Ｗ）へ露光する装置において、マス
ク上の照明領域を規定するための視野絞り（20、30）
と、マスクの近傍に配置され照明領域の外側を通って感
光基板上に到達し得る光を遮光する遮光部材（RBS₂）と
を備えるものである。

請求項９に記載の発明は、視野絞り（20、30）で規定
された照明光でマスク（Ｒ）を照明することにより、マ
スク上に形成されたパターン領域（PA）を感光基板
（Ｗ）に露光する装置において、照明光で照明されるパ
ターン領域の変化に運動して移動し照明光で証明される
パターン領域以外を通って感光基板上に到達し得る光を
遮光する遮光部材（26、32、50、52、54、55、RBS₁、RB
S₂）を備えたものである。

請求項12に記載の発明は、マスク（Ｒ）上のパターン
（PA）で感光基板（Ｗ）を露光する装置において、マス
ク上の照明領域を規定する第１視野絞り（20、30）と、
マスクに近接して配置される第２視野絞り（RBS₂）とを
備えるものである。

請求項14に記載の発明は、マスク（Ｒ）に形成された
パターン（PA）を照明して感光基板（Ｗ）を露光する露
光装置において、マスク上の照明領域を規定するための
視野絞り（20、30）と、視野絞りを通過した照明光で照
明される前記マスク上のパターン領域の位置に応じて移
動し、照明光で照明されるパターン領域の外側を通って
感光基板へ到達し得る光を遮光する遮光部材（26、32、
50、52、54、55、RBS₁、RBS₂）とを有するものである。

さらに、請求項15に記載の発明は、視野絞り（20、3
0）で規定された照明光でマスク（Ｒ）を照明し、マス
クに形成されたパターン領域（PA）を感光基板に露光す
る露光方法において、視野絞りを通過した照明光で照明
されるマスク上のパターン領域の位置に応じて移動可能
な遮光部材（26、32、50、52、54、55、RBS₁、RBS₂）を
用いて、照明光で照明される前記パターン領域の外側を
通って感光基板へ到達し得る光を遮光するものである。

〔作用〕

本発明においては、マスク上の照明すべき部分と遮光
すべき部分との境界を規定する第１遮光部材（視野絞り
を含む）を配置するとともに、第１遮光部材よりも外側
を通る光は、第１遮光部材に連動して移動可能な第２遮
光部材（遮光部材を含む）により遮光するようにしたの
で、第１遮光部材は従来のように大きくする必要がな
い。このため、照明視野絞り機構の構造をコンパクトに
することができる。また、第１遮光部材よりも外側を通
る光を、マスク近傍に配置した遮光部材（第２視野絞り
を含む）で遮光するようにしたので照明視野絞り機構の
構造をコンパクトにすることができる。

〔実施例〕

第１図は本発明を縮小投影露光装置（ステッパー）に
適用したときに好適な実施例による露光装置全体の構成
を示し、第２図はレチクルブラインド（照明視野絞り）
機構の構造を示す。第１図において、水銀ランプ等の光
源２からの照明光は楕円鏡４で第２焦点に１次光源像と
して焦光され、第２焦点に出し入り可能に設けられたシ
ャッター６を通り、レンズ系８でほぼ平行光束とされ
る。レンズ系８から射出したほぼ平行な照明光はｇ線
（波長436nm）又はｉ線（365nm）のみを通す干渉フィル
ター10を透過し、円錐状の光学プリズム12に入射する。
光学プリズム12は楕円鏡４で生じた照明光の中ぬけ状態
を注密状態に変換した後、その照明光をフライアイレン
ズ14に入射する。フライアイレンズ14の射出端は１次光
源像とほぼ共役に配置され、複数の２次光源像が形成さ
れる。各２次光源像からの照明光はミラー16で反射され
た後、レンズ系18によって共役像面に配置されたレチク
ルブラインド機構RB上に重畳され、均一な照度分布にな
る。レチクルブラインド機構RBの矩形開口を通過した照
明光は、レンズ系38、ミラー42、及びコンデンサーレン
ズ44を介してレチクルＲへ達する。ここでレンズ系38と
コンデンサーレンズ44とによって、ブラインドの開口像
はレチクルＲのパターン面に結像される。またレチクル
ブラインド機構RBの各ブレードは駆動装置40によって
ｘ、ｙ方向に移動される。レチクルＲはレチクルステー
ジ46に周辺で保持され、レチクルＲのパターンは投影レ
ンズPLを介してウェハＷ表面のレジスト層に結像され
る。この投影レンズPLは、本実施例では両側テレセント
リックとしたが、像側（ウェハＷ側）のみがテレセント
リックであってもよい。ウェハＷはｘ、ｙ方向に移動す
るウェハステージ48上に載置され、ステップアンドリピ
ート方式で露光される。

さて、フライアイレンズ14の射出端にできる２次光源
像はレンズ系18、38によりコンデンサーレンズ44とレン
ズ系38との間にリレーされ、さらにコンデンサーレンズ
44と投影レンズPLの一部とによって、投影レンズPLの瞳
（入射瞳）EPに再結像され、所謂ケーラー照明系となっ
ている。またレチクルブラインド機構RBにおける結像光
束ILの主光線leは、光軸AXとほぼ平行になるように、す
なわちテレセントリックな系になるように定められてい
る。第１図に示した結像光束ILは、レチクルブラインド
機構RBの開口エッジを通る光線の様子を表わしている。

次に第２図も参照してレチクルブラインド機構RBの構
造を説明する。照明光学系、投影レンズPLの光軸AXを中
心として、第２図に示すようにｘ、ｙ方向に伸びた４本
の支持部材22A、22B、24A、24Bが井桁状に組み合わされ
る。ｙ方向に伸びる支持部材22A、22Bは光軸AXをはさん
で互いに平行に配置され、ｘ方向に伸びる支持部材24
A、24Bは光軸AXをはさんで互いに平行に配置され、各支
持部材の端部は直角に組み合わされる。この４本の支持
部材22A、22B、24A、24Bで規定された内側の開口寸法は
レチクルＲの寸法と同等か、それよりは少し大きく設定
される。そして支持部材22A、22Bの裏面には、ｙ方向に
伸びたガイドレール面が形成され、これに沿ってｙ方向
に移動する２枚の遮光板20A、20Bが設けられる。遮光板
20A、20Bは左右の支持部材22A、22Bに渡ってｘ方向に互
いに平行に伸びた角柱状のものであり、内側には照明領
域のｙ方向の境界を規定するナイフエッジE₃、E₄が形成
されている。遮光板20A、20BのナイフエッジE₃、E₄は、
レチクルＲのパターン面（遮光帯SB等の形成面）と共役
になるように配置される。

一方、支持部材24A、24Bの裏面には、ｘ方向に伸びた
ガイドレール面200Xが形成され、これに沿ってｘ方向に
移動する２枚の遮光板30A、30Bが設けられる。遮光板30
A、30Bは上下の支持部材24A、24Bに渡ってｙ方向は互い
に平行に伸びた角柱状のものであり、内側には照明領域
のｘ方向の境界を規定するナイフエッジE₁、E₂が形成さ
れている。このナイフエッジE₁、E₂はレチクルＲのパタ
ーン面と共役になるように、すなわちナイフエッジE₃、
E₄に極近接するように配置される。第２図からも明らか
なように、本実施例のレチクルブラインド機構では、２
組のブラインド機構を光軸AXを中心に90゜回転させて、
背中合わせにした構造となっている。また４つの遮光板
20A、20B、30A、30Bも、井桁状に組み合わされ、駆動装
置40により互いに独立に移動する。遮光板20A、20B、30
A、30Bの幅は、従来のものと比べて格段に狭くしてあ
る。このため、各遮光板20A、20B、30A、30Bの外側には
照明光が通る開口が形成されてしまう。

そこで本実施例では、第１図、第２図に示すように、
各遮光板20A、20B、30A、30Bと支持部材22A、22B、24
A、24Bとの間に、遮光性の軟質のシート材（例えばビニ
ール）26A、26B、32A、32B（32Bは第１図では32Aの裏側
にある）を設ける。各シート材26A、26B、32A、32Bは、
各遮光板20A、20B、30A、30BのナイフエッジE₃、E₄、
E₁、E₂とほぼ同等の幅をもつとともに、各遮光板が最も
繰り出されたときにわずかにたるみが残る程度の長さを
もつ。各シート材26A、26B、32A、32Bは、そのままでは
たるんでしまい、照明光束をけることになるので、折り
曲げられた内側にテンションアーム28A、28B、34A、34B
が設けられ、第１図に示すように、バネ36等で一方向に
弱い力で引っぱるようにする。各テンションアームに
は、第２図に示すようにシート材と接触するローラー28
0が設けられる。従って各遮光板20A、20B、30A、30Bが
移動したとき、各シート材26A、26B、32A、32Bはテンシ
ョンアーム28A、28B、34A、34Bの働きで、照明光束をけ
らないように張設される。

本実施例では、４枚のシート材の一端は各遮光板20
A、20B、30A、30Bに固設し、他端は支持部材22A、22B、
24A、24Bに固設したが、他端は装置本体側に固定されて
いればよく、支持部材に固設することに限られない。ま
た本実施例では４つの遮光板20A、20B、30A、30Bが本発
明の第１遮光部材に相当し、４枚のシート材26A、26B、
32A、32Bが本発明の第２遮光部材に相当する。

第３図は、ｘ方向のブラインド機構を横からみた図で
あり、遮光板30A、30Bには第１図、第２図では示してい
なかったが、光束回避板21A、21Bが設けられる。この光
束回避板21A、21Bはシート材32A、32Bがたるんだとき
に、ナイフエッジE₁、E₂よりも内側に入り込まないよう
にするためのものである。また、シート材26A、26B、32
A、32Bは、照明光を完全に遮光するとともに、強力な照
明光の射照で変質することがなく、反射率も極めて小さ
く、なおかつゴミ（微小粒子）の発生のすくないものが
望ましい。

次に、このレチクルブラインド機構RBの動作を、第３
図、第４図を参照して説明する。第４図は一枚のレチク
ルＲ上に３つの異なるパターン領域が形成され、それぞ
れ遮光帯SB₁、SB₂、SB₃で区画されたマルチパターンレ
チクルの例を示す。PC₁、PC₂、PC₃は３つのパターン領
域のそれぞれの中心を表わし、RCはレチクルＲの中心で
光軸AXが通る点を表わす。この３つのパターン領域を内
包する矩形の領域ILMは、レチクルブラインド機構RBに
よる最大の照明領域を表わす。仮りに、第４図のレチク
ルＲを使って、第２のパターン領域を露光する場合は、
ブラインド機構RBのｘ方向の遮光板30A、30Bのエッジ
E₁、E₂が第３図に示すような遮光帯SB₂のｘ方向の間隔
に対応した間隔L₂になるようにし、ｙ方向についても同
様にエッジE₃、E₄の位置を調整する。その後、シャッタ
ー６を開放して所定時間だけ照明光を送ると、ブライン
ド機構RBのエッジE₁、E₂、E₃、E₄の４辺で規定された矩
形状の開口像が遮光帯SB₂の内側のパターン領域に合わ
せて投影される。

このとき、レンズ系38、コンデンサーレンズ44で構成
されるブラインド像の結像光学系の倍率を、先にも説明
したように、例えば１〜1.5倍程度に低くしておくと、
遮光帯SB₂を省略することもできる。省略できるかどう
かの判断は、ブラインド像の結像光学系（38、44）の倍
率をＡ、投影レンズPLの縮小率を1/M、各遮光板20A、20
B、30A、30Bの位置決め精度をΔＫ、従来のＡ＝５のと
きのレチクル上でのエッジ像のボケ幅をΔＦ、そしてウ
ェハＷ上のストリートラインの幅をDsとしたとき、次式
を評価するだけで容易にわかる。

ΔＫ＋２・ΔＦ・（A/5）^２＞Ｍ・Ds この式が真のときは遮光帯SBが必要であり、偽のとき
は、遮光帯SBは不要である。例えば、ΔＫ≒80μｍ、Δ
Ｆ≒1200μｍ、Ａ＝１、Ｍ＝５、Ds＝50μｍとする
と、上記式は偽となり遮光帯SBは不要である。また同じ
条件のもとでは、最小のストリートライン幅Dsは35.2μ
ｍになる。逆にストリートライン幅Dsが最小75μｍまで
とすると、Ａは約1.75になる。

尚、ステップアンドリピート方式の露光時に、レチク
ルＲのパターン領域PAとウェハＷ上のショット領域とを
アライメントするために、レチクルＲ（レチクルステー
ジ46）をｘ、ｙ方向に微動（最大数μｍ程度）させる場
合は、その微動量に応じて遮光帯SBを少し太めにしてお
くか、あるいは４つの遮光板20A、20B、30A、30Bをｘ、
ｙ方向に微動させるようにすればよい。

次に本発明の第２の実施例を第７図、第８図、第９図
を参照して説明する。第７図は第２遮光部材として、薄
い金属、ラバー、又は合成樹脂による伸縮自在なジャバ
ラ状の遮光部材50A、50Bを設けた場合を示す。第８図
は、第２遮光部材として、薄いたんざく状の金属板52
A、52Bの複数枚をスライド可能に重ねあわせ、支持部材
22と遮光板30との間に設けた場合を示す。第９図は、第
２遮光部材として、２枚の遮光板54、55（54Aと55A、54
Bと55B）をヒンジ56で連結して、折り曲げられるように
し、さらに遮光板54、55を支持部材22と遮光板30とにヒ
ンジを介して固定し、中央のヒンジ56A、56Bの裏側（光
源２と反対側）に迷光防止のための遮光性のシート57
A、57Bを設けた場合を示す。これらのうち、構成上最も
コンパクトにできるのは第７図、又は第８図のものであ
り、機構上は第７図のものが最も簡単である。また照明
光のパワー（照度）が強力である場合（例えばエキシマ
レーザ光を露光光とする場合等）は、紫外域の光に対す
る耐久性も重視されるので、第８図、又は第９図の方式
がよい。

次に本発明の第３の実施例を第10図を参照して説明す
る。第10図において第１図と同じものは同一の符号をつ
けてある。レチクルブラインド機構RBは第２図に示した
ものと同じであるが、４枚のシート材26A、26B、32A、3
2Bは取りのぞかれている。そしてその代りに、ブライン
ド機構RBの開口面と共役な像面を作るための結像光学系
60を、ブラインド機構RRとフライアイレンズ14との間に
設け、結像光学系60とフライアイレンズ14との間の共役
像面に第２遮光部材としての補助ブラインド機構RBS₁を
設ける。

この補助ブラインド機構RBS₁も開口エッジの４辺を独
立に移動させることができ、主ブラインド機構RBの遮光
板20A、20B、30A、30Bの外側の開口領域に照明光が到達
しないように制限する。従って、補助ブラインド機構RB
S₁のエッジの位置決め精度は１桁以上ラフにすることが
でき、結像光学系60の倍率も大きくとることができる。
このため補助ブラインド機構RBS₁の可動遮光体は小型に
することができる。また、別の方法としては、類似した
補助ブラインド機構RBS₂をコンデンサーレンズ44とレチ
クルＲとの間に設けてもよい。

ここで補助ブラインド機構RBS₁、RBS₂はともに２次元
に開口寸法を変えられるものとしたので、いずれか一方
があれば十分である。しかしながら４辺可動の構造がス
ペース上の制約のため組み込み困難なときは２ケ所に補
助ブラインド機構RBS₁、RBS₂を設け、それぞれにｘ方向
とｙ方向を分担させるようにしてもよい。いずれにし
ろ、補助ブラインド機構RBS₁、RBS₂のエッジの移動は、
主ブラインド機構RBの各遮光板20A、20B、30A、30Bの移
動と連動させる必要がある。

またブラインド機構RBの４つの遮光板20A、20B、30
A、30Bは、第11図に示すように直角なＬ字形のブレード
BL₁、BL₂を互いに逆方向に組み合わせ、２つのブレード
BL₁、BL₂の夫々を独立にｘ、ｙ方向に２次元移動可能に
した構造としてもよい。

〔発明の効果〕

以上、本発明によれば、小型で軽い照明視野絞り（レ
チクルブラインドRB）機構にすることができるので、視
野絞りの開口像をマスク（レチクル）上に結像する光学
系の倍率を小さくして、マスク上での照明領域の設定精
度を向上させることができる。さらに、マスク上に設け
られる遮光帯の幅を従来のものよりも格段に狭くでき、
あるいは遮光帯そのものを省略することもでき、マスク
（レチクル）作成が容易となり製造コストも低くでき
る。また第１遮光部材は小型、軽量にできるので設定速
度を早くできるとともに、別の駆動系をもった第２遮光
部材の場合は、設定精度が極めてラフでよいために、こ
れについても設定速度を早くできるといった効果が得ら
れる。さらに、マスク上での照明領域を矩形に制限する
照明視野絞り部材に他に、補助的な視野絞りを設けたの
で、感光基板上に不要な光が到達されるのを防止するこ
とができる。従って感光基板上に露光すべきパターンの
みを感光基板上に露光することができ、露光装置の結像
性能が向上するという効果が得られる。また本発明は投
影露光装置以外のプロキシミティ方式、コンタクト方式
の露光装置にも同様に適用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例による露光装置の構成を
示す図、第２図はレチクルブラインド機構の構造を示す
斜視図、第３図はレチクルブラインド機構を横から見た
図、第４図はマルチパターンレチクルのパターン配置を
示す平面図、第５図は従来のレチクルブラインドの構造
を示す斜視図、第６図は通常使われているシングルパタ
ーンレチクルの構成を示す斜視図、第７図、第８図、第
９図は第２の実施例によるレチクルブラインド機構を示
す図、第10図は第３の実施例によるレチクルブラインド
機構を示す図、第11図はブラインドの他の例を示す平面
図である。〔主要部分の符号の説明〕Ｒ……レチクル、Ｗ……ウェハ、 RB……レチクルブラインド機構、２……光源、 20A、20B、30A、30B……第１遮光部材としての遮光板、 26A、26B、32A、34A……第２遮光部材としてのシート
材、 38……レンズ系、44……コンデンサーレンズ

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】所定のパターン領域を有するマスクに照明
光を照射する照明光源と、該照明光源と前記マスクとの
間に前記マスクと共役な像面を形成するための結像光学
系と、該共役像面とほぼ一致して配置され前記マスク上
での照明領域を矩形に制限する照明視野絞り部材とを備
え、前記マスク上のパターンを感光基板へ露光する装置
において、前記照明視野絞り部材は、前記マスク上で矩形の照明領
域の各辺を規定する４つのエッジを有し、該４つのエッ
ジが可動な複数の第１遮光部材と、前記第１遮光部材と連動して移動し、前記第１遮光部材
の外側を通る照明光を遮光する複数の第２遮光部材とを
設けたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】前記第２遮光部材は、前記第１遮光部材と
前記照明光源との間、もしくは前記第１遮光部材と前記
マスクとの間のうち、少なくとも一方の位置に設けられ
ていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】前記第１遮光部材は、前記共役像面とほぼ
一致した面内でｘ方向に可動な２つの遮光板とｙ方向に
可動な２つの遮光板とを有し、該４つの遮光板を井桁状
に組み合わせたときに規定される内側の矩形閉口部が前
記照明領域に合わされ、前記複数の第２遮光部材は、前
記４つの遮光板の夫々に一端が固定され、他端が装置側
に固定された可撓性の４つの薄板から成り、該４つの薄
板により前記井桁状の組み合わせた４つの遮光板の外側
に形成される開口部を遮光することを特徴とする請求項
１記載の装置。
【請求項４】所定のパターン領域と該パターン領域の外
縁に形成された遮光帯とを有するマスクに照明光を照射
する照明光源と、該照明光源と前記マスクとの間に前記
マスクと共役な像面を形成するための結像光学系とを有
し、前記マスク上のパターンを感光基板へ露光する装置
において、前記共役像面とほぼ一致して配置され、前記マスク上で
の照明領域を所定形状に制限する視野絞り部材と；前記視野絞り部材に連動して移動し、前記遮光帯の外側
の前記マスク上の領域を通って前記感光基板上に到達し
得る光を遮光部材とを有することを特徴とする露光装
置。
【請求項５】前記遮光部材は、前記視野絞りと前記照明
光源との間、もしくは前記視野絞りと前記感光基板との
間のうち、少なくとも一方の位置に設けられていること
を特徴とする請求項４記載の装置。
【請求項６】前記遮光部材は、前記マスクの近傍に設け
られていることを特徴とする請求項５記載の装置。
【請求項７】マスク上のパターンで感光基板を露光する
露光装置において、前記マスク上の照明領域を規定するための視野絞りと、前記マスクの近傍に配置され、前記照明領域の外側を通
って前記感光基板上に到達し得る光を遮光する遮光部材
とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項８】前記遮光部材は前記視野絞りと運動して移
動することを特徴とする請求項７記載の装置。
【請求項９】視野絞りで規定された照明光でマスクを照
明することにより、前記マスク上に形成されたパターン
領域を感光基板に露光する装置において、前記照明光で照明される前記パターン領域の変化に運動
して移動し、前記照明光で照明される前記パターン領域
以外を通って前記感光基板上に到達し得る光を遮光する
遮光部材を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１０】前記遮光部材は、伸縮もしくは折り曲げ
自在な遮光部材であり、前記遮光部材は前記視野絞りと
運動して移動されることを特徴とする請求項９記載の装
置。
【請求項１１】前記遮光部材は、前記マスクに近接して
配置されることを特徴とする請求項９記載の装置。
【請求項１２】マスク上のパターンで感光基板を露光す
る装置において、前記マスク上の照明領域を規定する第１視野絞りと、前記マスクに近接して配置される第２視野絞りとを備え
たことを特徴とする露光装置。
【請求項１３】前記第２視野絞りは前記第１視野絞りと
連動して移動することを特徴とする請求項12記載の装
置。
【請求項１４】マスクに形成されたパターンを照明し
て、感光基板に前記パターンを露光する露光装置におい
て、前記マスク上の照明領域を規定するための視野絞りと、前記視野絞りを通過した照明光で照明される前記マスク
上のパターン領域の位置に応じて移動し、前記照明光で
照明される前記パターン領域の外側を通って前記感光基
板へ到達し得る光を遮光する遮光部材とを有することを
特徴とする露光装置。
【請求項１５】視野絞りで規定された照明光でマスクを
照明し、前記マスクに形成されたパターン領域を感光基
板に露光する露光方法において、前記視野絞りを通過した照明光で照明される前記マスク
上のパターン領域の位置に応じて移動可能な遮光部材を
用いて、前記照明光で照明される前記パターン領域の外
側を通って前記感光基板へ到達し得る光を遮光すること
を特徴とする露光方法。