JPH02116115A

JPH02116115A - 露光装置及び露光方法

Info

Publication number: JPH02116115A
Application number: JP63270314A
Authority: JP
Inventors: Takechika Nishi; 健爾西
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1988-10-26
Filing date: 1988-10-26
Publication date: 1990-04-27
Anticipated expiration: 2013-01-14
Also published as: JP2697014B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野〕本発明は、マスクのパターンを感光基板へ露光するため
のプロキシミティ、コンタクトアライナ−１あるいはマ
スクのパターンを投影光学系により露光するミラープロ
ジェクション、又はステンパー等の露光装置に関するも
のである。

〔従来の技術〕

従来この種の露光装置では、例えば特開昭６１−１９１
２９号公報に開示されているように、露光用の照明光を
照明視野絞りによって制限してマスク（レチクル）に照
射している。第５図は従来の装置で使われている照明視
野絞り（レチクルブラインド）の構造を示す斜視図であ
り、４枚の可動ブレードＢＸ１、ＢＸｉ　、ＢＹｌ、Ｂ
Ｙｔで構成される。この４枚のうちブレードＢＹ、　、
ＢＹ２は互いに独立にＸ方向に水平移動し、ブレードＢ
Ｘ、、ＢＸＩはブレードＢＹ、、ＢＹ、の裏面側を互い
に独立してＸ方向に水平移動する。４枚のプレ　ＦＢＸ
＋　、ＢＸ！　、ＢＹｌ　、ＢＹｚ　（０４辺で規定さ
れた矩形開口が照明光の通過部分であって、照明光学系
等の光軸ＡＸと垂直に配置されている。また各ブレード
ＢＸ、、ＢＸ、　、ＢＹ。

、ＢＹ、の開口を規定する各辺は、ナイフェツジになっ
ている。一方、レチクルＲは、第６図に示すように、回
路パターン等の露光すべきパターンを形成したパターン
領域ＰＡと、このパターン領域ＰＡを囲んで一定の幅で
形成された遮光体ＳＢとで構成され、通常は光軸ＡＸが
レチクル中心ＲＣを通るように位置決めされる。

露光の際は、４枚のブレードＢＸ、　、ＢＸ２、ＢＹ、
　、［３Ｙ、の各ナイフェツジ先端がレチクルＲの遮光
体ＳＢの各辺の上方に位置するように設定される。また
第５図、第６図には図示していないが、４枚のブレード
で規定された矩形開口の像は、レチクルＲと照明視野絞
りとの間に設けられた結像光学系によってレチクルＲ上
に結像する。

従って、レチクルＲ上での照明領域は遮光帯ＳＢの内側
だけに制限され、パターン領域ＰＡの透明部を通った露
光光は半導体ウェハ等の感光基板へ達する。ミラープロ
ジェクションやステッパー等の場合は、レチクルＲとウ
ェハの間に投影光学系が設けられ、パターン領域ＰＡの
像がウェハ上に投影露光される。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来のように、照明視野絞り（レチクルブラインド）は
レチクルＲの遮光帯ＳＢの幅を狭くする目的で使われて
いる。すなわち、遮光帯ＳＢは露光したくない部分をク
ロム等の金属層で覆うのであるが、その遮光帯の領域（
面積）が大きいと、ピンホール等の欠陥が発生しやすく
、レチクルとしての不良が増大する。このため、遮光帯
ＳＢの幅はできるだけ少なくし、その代りに遮光帯ＳＢ
の外側の透明部はブラインド（ブレード）で覆うように
したのである。

そこで問題となるのが、ブラインドの４枚のブレードの
位置設定精度である。各ブレードのＸ、Ｘ方向の位置設
定精度が１悪いと、その分を見込んで遮光帯ＳＢの幅を
広めにしておかねばならない。

このため、各ブレードの位置決め精度は、かなりきびし
いものになる。

ところでレチクルブラインドとレチクルＲとの間には結
像光学系が設けられ、ブラインドの開口像には、ある倍
率がかけられているのが普通である０例えばレチクルブ
ラインドの開口寸法がレチクルＲのパターン領域ＰＡの
寸法の１１５のとき、すなわち倍率が５倍のときを考え
てみると、ブラインドの４枚のブレードの大きさ、及び
移動ストロークは実用上それほど大きなものとはならな
い。

しかしながら、各ブレードの機械的な位置決め精度には
限界があり、仮りに位置決め精度を８０μｍとすると、
レチクルＲ上の照明領域を規定するナイフェツジ像の設
定精度は４００μｍになる。

またそのナイフェツジ像もレチクルＲ上で精密に合焦し
ないこともあり、例えば１２００μｍ程度のボケ幅がレ
チクル上で生じる。

このため、レチクル上の遮光帯ＳＢの幅は２８００μｍ
以上にする必要がある。

そこでレチクルブラインドの像の結像光学系の倍率を１
．２５倍にして位置決め精度、ボケ幅を見積ってみると
、位置決め精度（８０μｍ）によるレチクル上でのナイ
フェツジ像の設定精度は１００μｍになり、ボケ幅は倍
率比の２乗（（１，２５１５）”）で変化するため、約
７５μｍになる。

これにより、レチクルＲ上の遮光帯ＳＢの幅は、約２５
０μｍ程度になり、先の場合にくらべて格段に狭くでき
る。

このように遮光帯ＳＢの幅が２５０μｍ以下に狭くなる
と、１１５縮小投影のステッパー等では最早遮光帯ＳＢ
そのものも不用にすることができる。この場合、２５Ｏ
ｔＩｍ幅の遮光帯はウェハ上では丁度５０μｍ幅のスト
リートラインに相当することになるからである。

一方、結像光学系の倍率を１．２５倍に低下させたこと
によって、レチクルブラインド自体の寸法は４倍にする
必要がある。

このことはレチクルブラインドの全体構造を大型化する
こともさることながら、４枚のブレードの寸法や各ブレ
ードのにげ空間を増大させることになる。例えば第５図
において、１枚のブレードＢＸ、によりレチクルＲ全体
を覆うことができるものとすると、ブレードＢＸ、の大
きさは約３倍の大きさにする必要がある。他の３枚のブ
レードについても同じである。このため、レチクルＲの
Ｘ方向の照明領域幅を１００＋ｕｓとすると、ブレード
ＢＸ、のＸ方向の寸法は１００ＸＩ／１．２５Ｘ３＝２
４０ｍｓとなり、露光装置に組み込んだときの装置大型
化はさけられないといった問題が生じる。

本発明は、この様な従来の問題点に鑑みてなされたもの
で、照明視野絞りの構造を大きくすることなく、設定精
度を高めた露光装置を得ることを目的とする。

〔問題点を解決する為の手段〕

そこで本発明では、照明光源とマスク（レチクル）との
間に、マスクと共役な像面を作る結像光学系を設け、こ
の共役像面に、マスク上の照明領域を規定するエツジを
持った幅の狭い複数のブレード（第１遮光部材）を設け
、この複数のブレードの外側で露光用照明光が通過する
部分は、別の遮光部材（第２遮光部材）で覆うように構
成し、複数のブレードの移動と別の遮光部材の移動とを
連動させるようにした。

〔作　用〕

本発明においては、マスク上の照明すべき部分と遮光す
べき部分との境界を規定する第１遮光部材は、マスクと
共役な像面に配置し、第１遮光部材よりも外側の光透過
領域は、他の第２遮光部材により遮光するようにしたの
で、結像光学系の倍率が低くても、第１遮光部材は従来
のように大きくする必要がない、このため、倍率が低い
ことによって、位置決め精度に応じた照明視野エツジの
マスク上での設定精度を向上させつつ、照明視野絞り機
構の構造をコンパクトにすることかで寺る。

〔実施例〕

第１図は本発明を縮小投影露光装置（ステッパー）に適
用したときに好適な実施例による露光装置全体の構成を
示し、第２図はレチクルブラインド（照明視野絞り）機
構の構造を示す、第１図において、水銀ランプ等の光源
２からの照明光は楕円鏡４で第２焦点に１次光源像とし
て焦光され、第２慎点に出し入り可能に設けられたシャ
ッター６を通り、レンズ系８でほぼ平行光束とされる。

レンズ系８から射出したほぼ平行な照明光はｇ線（波長
４３６ｎ曽）又はｉ線（３６５ｎａ）のみを通す干渉フ
ィルターｌＯを透過し、円錐状の光学プリズム１２に入
射する。光学プリズム１２は楕円鏡４で生した照明光の
中ぬけ状態を注密状態に変換した後、その照明光をフラ
イアイレンズ１４に入射する。フライアイレンズ１４の
射出端は１次光源像とほぼ共役に配置され、複数の２次
光源像が形成される。各２次光源像からの照明光はミラ
ー１６で反射された後、レンズ系１８によって共役像面
に配置されたレチクルブラインド機構ＲＢ上に重畳され
、均一な照度分布になる。レチクルブラインド機構ＲＢ
の矩形開口を通過した照明光は、レンズ系３８、ミラー
４２、及びコンデンサーレンズ４４を介してレチクルＲ
へ達する。ここでレンズ系３８とコンデンサーレンズ４
４とによって、ブラインドの開口像はレチクルＲのパタ
ーン面に結像される。またレチクルブラインド機構ＲＢ
の各ブレードは駆動装置４０によってｘ、　Ｘ方向に移
動される。レチクルＲはレチクルステージ４６に周辺で
保持され、レチクルＲのパターンは投影レンズＰＬを介
してウェハＷ表面のレジスト層に結像される。この投影
レンズＰＬは、本実施例では両側テレセントリックとし
たが、像側（ウェハＷ側）のみがテレセンドリンクであ
ってもよい。ウェハＷはｘ、Ｘ方向に移動するウェハス
テージ４８上にＲ置され、ステップアンドリピート方式
で露光される。

さて、フライアイレンズ１４の射出端にできる２次光源
像はレンズ系１８．３８によりコンデンサーレンズ４４
とレンズ系３８との間にリレーされ、さらにコンデンサ
ーレンズ４４と投影レンズＰＬの一部とによって、投影
レンズＰＬの瞳（入射瞳）ＥＰに再結像され、所謂ケー
ラー照明系となっている。またレチクルブラインド機構
ＲＢにおける結像光束ＩＬの主光線２ｅは、光軸ＡＸと
ほぼ平行になるように、すなわちテレセントリックな系
になるように定められている。第１図に示した結像光束
ＩＬは、レチクルブラインド機構ＲＢの開ロエンジを通
る光線の様子を表わしている。

次に第２図も参照してレチクルブラインド機構ＲＢの構
造を説明する。照明光学系、投影レンズＰＬの光軸ＡＸ
を中心として、第２図に示すようにｘ、Ｘ方向に伸びた
４本の支持部材２２Ａ、２２Ｂ、２４Ａ、２４Ｂが井桁
状に組み合わされる。

Ｘ方向に伸びる支持部材２２Ａ、２２Ｂは光軸ＡＸをは
さんで互いに平行に配置され、Ｘ方向に伸びる支持部材
２４Ａ、２４Ｂは光軸ＡＸをはさんで互いに平行に配置
され、各支持部材の端部は直角に組み合わされる。この
４本の支持部材２２Ａ、２２Ｂ、２４Ａ、２４Ｂで規定
された内側の開口寸法はレチクルＲの寸法と同等か、そ
れよりは少し大きく設定される。そして支持部材２２Ａ
、２２Ｂの裏面には、Ｘ方向に伸びたガイドレール面が
形成され、これに沿ってＸ方向に移動する２枚の遮光板
２０Ａ、２０Ｂが設けられる。遮光板２０Ａ、２０Ｂは
左右の支持部材２２Ａ、２２Ｂに渡ってＸ方向に互いに
平行に伸びた角柱状のものであり、内側には照明領域の
Ｘ方向の境界を規定するナイフェツジＥ、　、Ｅ、が形
成されている。

遮光板２０Ａ、２０ＢのナイフェツジＥ３、Ｅ４は、レ
チクルＲのパターン面（遮光帯ＳＢ等の形成面）と共役
になるように配置される。

一方、支持部材２４Ａ、２４Ｂの裏面には、Ｘ方向に伸
びたガイドレール面２００Ｘが形成され、これに沿って
Ｘ方向に移動する２枚の遮光板３０Ａ、３０Ｂが設けら
れる。遮光板３０Ａ、３０Ｂは上下の支持部材２４Ａ、
２４Ｂに渡ってＸ方向に互いに平行に伸びた角柱状のも
のであり、内側には照明領域のＸ方向の境界を規定する
ナイフェツジＥ、　、Ｅ、が形成されている。このナイ
フェツジＥ＋、ＥｘはレチクルＲのパターン面と共役に
なるように、すなわちナイフェツジＥｌ、Ｅ４に極近接
するように配置される。第２図からも明らかなように、
本実施例のレチクルブラインド機構では、２組のブライ
ンド機構を光軸ＡＸを中心に９０’回転させて、背中合
わせにした構造となっている。また４つの遮光板２０Ａ
、２０Ｂ、３０Ａ、３０Ｂも、井桁状に組み合わされ、
駆動装置４０により互いに独立に移動する。遮光板２０
Ａ、２０Ｂ、３０Ａ、３０Ｂの幅は、従来のものと比べ
て格段に狭くしである。このため、各遮光板２０Ａ、２
０Ｂ、３０Ａ、３０Ｂの外側には照明光が通る開口が形
成されてしまう。

そこで本実施例では、第１図、第２図に示すように、各
遮光板２ＯＡ、２０Ｂ、３０Ａ、３０Ｂと支持部材２２
Ａ、２２Ｂ、２４Ａ、２４Ｂとの間に、遮光性の軟質の
シート材（例えばビニール）２６Ａ、２６Ｂ、３．２Ａ
、３２Ｂ　（３２Ｂは第１図では３２Ａの裏側にある）
を設ける。各シート材２６Ａ、２６Ｂ、３２Ａ、３２Ｂ
は、各遮光板２ＯＡ、２０Ｂ、３０Ａ、３０Ｂのナイフ
ェツジＥ＊　、Ｅ、　、Ｅ、　、Ｅ、とほぼ同等の幅を
もつとともに、各遮光板が最も繰り出されたときにわず
かにたるみが残る程度の長さをもつ。各シート材２６Ａ
、２６Ｂ、３２Ａ、３２Ｂは、そのままではたるんでし
まい、照明光束をけることになるので、折り曲げられた
内側にテンションアーム２ＯＡ、２８Ｂ、３４Ａ、３４
Ｂが設けられ、第１図に示すように、バネ３６等で一方
向に弱い力で引っばるようにする。各テンションアーム
には、第２図に示すようにシート材と接触するローラー
２８０が設けられる。従って各遮光板２ＯＡ、２ＯＢ、
３０Ａ、３０Ｂが移動したとき、各シート材２６Ａ、２
６Ｂ、３２Ａ、３２Ｂはテンションアーム２８Ａ、２８
Ｂ、３４Ａ、３４Ｂの働きで、照明光束をけらないよう
に張設される。

本実施例では、４枚のシート材の一端は各遮光板２ＯＡ
、２０Ｂ、３０Ａ、３０Ｂに固設し、他端は支持部材２
２Ａ、２２Ｂ、２４Ａ、２４Ｂに固設したが、他端は装
置本体側に固定されていればよく、支持部材に固設する
ことに限られない。

また本実施例では４つの遮光板２ＯＡ、２０Ｂ、３０Ａ
、３０Ｂが本発明の第１遮光部材に相当し、４枚のシー
ト材２６Ａ、２６Ｂ、３２Ａ、３２Ｂが本発明の第２遮
光部材に相当する。

第３図は、Ｘ方向のブラインド機構を横からみた図であ
り、遮光板３０Ａ、３０Ｂには第１図、第２図では示し
ていなかったが、光束回避仮２ＩＡ、２１Ｂが設けられ
る。この光束回避仮２１Ａ、２１Ｂはシート材３２Ａ、
３２Ｂがたるんだときに、ナイフェツジＥ、　、Ｅｔよ
りも内側に入り込まないようにするためのものである。

また、シート材２６Ａ、２６Ｂ、３２Ａ、３２Ｂは、照
明光を完全に遮光するとともに、強力な照明光の射照で
変質することがなく、反射率も極めて小さく、なおかつ
ゴミ（微小粒子）の発生のすくないものが望ましい。

次に、このレチクルブラインド機構ＲＢの動作を、第３
図、第４図を参照して説明する。第４図は一枚のレチク
ルＲ上に３つの異なるパターン６Ｉ域が形成され、それ
ぞれ遮光帯ＳＩ３．　、ＳＢ、、ＳＢ、で区画されたマ
ルチパターンレチクルの例を示す。ＰＣ，、ＰＣ，、Ｐ
Ｃ，は３つのパターン６Ｉ域のそれぞれの中心を表わし
、ＲＣはレチクルＨの中心で光軸ＡＸが通る点を表わす
。この３つのパターン領域を内包する矩形の領域ＩＬＭ
ば、レチクルブラインド機構ＲＢによる最大の照明領域
を表わす。仮りに、第４図のレチクルＲを使って、第２
のパターン領域を露光する場合は、ブラインド機構ＲＢ
のＸ方向の遮光板３０Ａ、３０ＢのエツジＥ、　、Ｅ、
が第３図に示すように遮光帯Ｓ　Ｂ　ｔのＸ方向の間隔
に対応した間隔Ｌｔになるようにし、Ｘ方向についても
同様にエツジＥ３、Ｅ４の位置を調整する。その後、シ
ャッタ−６を開放して所定時間だけ照明光を送ると、ブ
ラインド機構ＲＢのエツジＥ、　、Ｅ、　、Ｅ、　、Ｅ
、の４辺で規定された矩形状の開口像が遮光帯ＳＢ、の
内側のパターン領域に合わせて投影される。

このとき、レンズ系３８、コンデンサーレンズ４４で構
成されるブラインド像の結像光学系の倍率を、先にも説
明したように、例えば１〜１．５倍程度に低くしておく
と、遮光帯ＳＢｔを省略することもできる。省略できる
かどうかの判断は、ブラインド像の結像光学系（３８，
４４）の倍率をＡ、投影レンズＰＬの縮小率を１／Ｍ、
各遮光板２ＯＡ、２０Ｂ、３０Ａ、３０Ｂの位置決め精
度をΔに１従来のＡ＝５のときのレチクル上でのエツジ
像のボケ幅をΔＦ、そしてウェハＷ上のストリートライ
ンの幅をＤｓとしたとき、次式を評価するだけで容易に
わかる。

Δに＋２・ΔＦ・　（Ａ１５）”＞Ｍ−Ｄｓこの式が真
のときは遮光帯ＳＢが必要であり、偽のときは、遮光帯
ＳＢは不要である０例えば、ΔＫＬ：８０μｍ、ΔＦ＃
１２００μｍ、Ａ＝１、Ｍ２＝５、Ｄｓ−５０μｍとす
ると、上記式は偽となり遮光帯ＳＢは不要である。また
同じ条件のもとでは、最小のストリートライン幅Ｄｓは
３５．２μｍになる。逆にストリートライン幅Ｄｓが最
小７５μｍまでとすると、Ａは約１，７５になる。

尚、ステップアンドリピート方式の露光時に、レチクル
Ｒのパターン領域ＰＡとウェハＷ上のショット領域とを
アライメントするために、レチクルＲ（レチクルステー
ジ４６）をＸＳＸ方向に微動（最大数μｍ程度）させる
場合は、その微動量に応じて遮光帯ＳＢを少し太めにし
ておくか、あるいは４つの遮光板２０Ａ、２０Ｂ、３０
Ａ、３０Ｂをｘ、、Ｘ方向に微動させるようにすればよ
い。

次に本発明の第２の実施例を第７図、第８図、第９図を
参照して説明する。第７図は第２遮光部材として、薄い
金属、ラバー、又は合成樹脂による伸縮自在なジャバラ
状の遮光部材５０Ａ、５０Ｂを設けた場合を示す。第８
図は、第２遮光部材として、薄いたんざく状の金属板５
２Ａ、５２Ｂの複数枚をスライド可能に重ねあわせ、支
持部材２２と遮光板３０との間に設けた場合を示す。第
９図は、第２遮光部材として、２枚の遮光板５４．５５
　（５４Ａと５５Ａ、５４Ｂと５５Ｂ）をヒンジ５６で
連結して、折り曲げられるようにし、さらに遮光板５４
．５５を支持部材２２と遮光板３０とにヒンジを介して
固定し、中央のヒンジ５６Ａ、５６Ｂの裏側（光源２と
反対側）に迷光防止のための遮光性のシート５７Ａ、５
７Ｂを設けた場合を示す、これらのうち、構成上量もコ
ンパクトにできるのは第７図、又は第８図のものであり
、機構上は第７図のものが最も簡単である。また照明光
のパワー（照度）が強力である場合（例えばエキシマレ
ーザ光を露光光とする場合等）は、紫外域の光に対する
耐久性も重視されるので、第８図、又は第９図の方式が
よい。

次に本発明の第３の実施例を第１０図を参照して説明す
る。第１θ図において第１図と同じものは同一の符号を
つけである。レチクルブラインド機構ＲＢは第２図に示
したものと同しであるが、４枚のシート材２６Ａ、２６
Ｂ、３２Ａ、３２Ｂは取りのぞかれている。そしてその
代りに、ブラインド機構Ｒ，Ｂの開口面と共役な像面を
作るための結像光学系６０を、ブラインド機構ＲＲとフ
ライアイレンズ１４との間に設け、結像光学系６０とフ
ライアイレンズ１４との間の共役像面に第２遮光部材と
してのＪｕｌ助ブラインド機横ＲＢＳ、を設ける。

この補助ブラインド機構ＲＢＳ＋　も開口エツジの４辺
を独立に移動させることができ、主ブラインド機構ＲＢ
の遮光板２０Ａ、２０Ｂ、３０Ａ、３０Ｂの外側の開口
領域に照明光が到達しないように制限する。従って、補
助ブラインド機構ＲＢＳ１のエツジの位置決め精度は１
桁以上ラフにすることができ、結像光学系６０の倍率も
大きくとることができる。このため補助ブラインド機構
ＲＢＳ、の可動遮光体は小型にすることができる。

また、別の方法としては、類似した補助ブラインド機構
ＲＢＳ、をコンデンサーレンズ４４とレチクルＲとの間
に設けてもよい。

ここで補助ブラインド機構ＲＢＳ、、ＲＢＳ。

はともに２次元に開口寸法を変えられるものとしたので
、いずれか一方があれば十分である。しかしながら４辺
可動の構造がスペース上の制約のため組み込み困難なと
きは２ケ所に補助ブラインド機構ＲＢＳ、　、ＲＢＳ！
を設け、それぞれにＸ方向とｙ方向を分担させるように
してもよい。いずれにしろ、補助ブラインド機構ＲＢＳ
、　５ＲＢＳ２のエツジの移動は、主ブラインド機構Ｒ
Ｂの各遮光板２０Ａ、２０Ｂ、３０Ａ、３０Ｂの移動と
連動させる必要がある。

またブラインド機構ＲＢの４つの遮光板２０Ａ、２０Ｂ
、３０Ａ、３０Ｂは、第１１図に示すように直角なＬ字
形のブレードＢＬ、、ＢＬ、を互いに逆方向に組み合わ
せ、２つのブレードＢＬ、、ＢＬｔの夫々を独立にｘ、
ｙ方向に２次元移動可能にした構造としてもよい。

〔発明の効果〕

以上、本発明によれば、小型で軽い照明視野絞り（レチ
クルブラインドＲＢ）機構にすることができるので、視
野絞りの開口像をマスク（レチクル）上に結像する光学
系の倍率を小さくして、マスク上での照明領域の設定精
度を向上させることができる。さらに、マスク上に設け
られる遮光帯の幅を従来のものよりも格段に狭くでき、
あるいは遮光帯そのものを省略することもでき、マスク
（レチクル）作成が容易となり製造コストも低くできる
。また第１遮光部材は小型、軽量にできるので設定速度
を早（できるとともに、別の駆動系をもった第２遮光部
材の場合は、設定精度が極めてラフでよいために、これ
についても設定速度を早くできるといった効果が得られ
る。また本発明は投影露光装置以外のプロキシミティ方
式、コンタクト方式の露光装置にも同様に適用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例による露光装置の構成を
示す図、第２図はレチクルブラインド機構の構造を示す
斜視図、第３図はレチクルブラインド機構を横から見た
図、第４図はマルチバターンレチクルのパターン配置を
示す平面図、第５図は従来のレチクルブラインドの構造
を示す斜視図、第６図は通常使われているシングルパタ
ーンレチクルの構成を示す斜視図、第７図、第８図、第
９図は第２の実施例によるレチクルブラインド機構を示
す図、第１０図は第３の実施例によるレチクルブライン
ド機構を示す図、第１１図はブラインドの他の例を示す
平面図である。〔主要部分の符号の説明〕Ｒ・・・・・・レチクル、　Ｗ・・・・・・ウェハ、Ｒ
Ｂ・・・・・・レチクルブラインド機構、２・・・・・
・光源、２ＯＡ、２０Ｂ、３０Ａ、３０Ｂ・・・・・・第１遮光部材としての遮光板、２６Ａ、２
６Ｂ、３２Ａ、３４Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

（１）所定のパターン領域を有するマスクに照明光を照
射する照明光源と、該照明光源と前記マスクとの間に、
前記マスクと共役な像面を形成するための結像光学系と
、該共役像面とほぼ一致して配置され、前記マスク上で
の照明領域を矩形に制限する照明視野絞り部材とを備え
、前記マスク上のパターンを感光基板へ露光する装置に
おいて、前記照明視野絞り部材は、前記マスク上での照
明領域の矩形の各辺を規定する４つのエッジを有し、該
４つのエッジを前記照明領域に合わせて可動にするとと
もに、該エッジよりも外側の幅が、前記可動の最大距離
よりも狭く定められた複数の第１遮光部材から成り；さ
らに、該第１遮光部材と前記照明光源との間、もしくは
該第１遮光部材と前記マスクとの間のうち、少なくとも
一方の位置に設けられ、前記第１遮光部材と連動して移
動し、前記第１遮光部材の外側を通る照明光を遮光する
複数の第２遮光部材を設けたことを特徴とする露光装置
。
（２）前記複数の第１遮光部材は、前記共役像面とほぼ
一致した面内でｘ方向に可動な２つの遮光板とｙ方向に
可動な２つの遮光板とを有し、該４つの遮光板を井桁状
に組み合わせたときに規定される内側の矩形開口部が前
記照明領域に合わされ、前記複数の第２遮光部材は、前
記４つの遮光板の夫々に一端が固定され、他端が装置側
に固定された可撓性の４つの薄板から成り、該４つの薄
板により前記４つの遮光板の井桁状の組み合わせ部の外
側に形成される開口部を遮光することを特徴とする請求
項第１項記載の装置。