JP2002093686A - ステージ装置及び露光装置 - Google Patents

ステージ装置及び露光装置

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JP2002093686A
JP2002093686A JP2000283103A JP2000283103A JP2002093686A JP 2002093686 A JP2002093686 A JP 2002093686A JP 2000283103 A JP2000283103 A JP 2000283103A JP 2000283103 A JP2000283103 A JP 2000283103A JP 2002093686 A JP2002093686 A JP 2002093686A
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stage
stage device
air
guide
axis
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JP2000283103A
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Keiichi Tanaka
慶一 田中
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Nikon Corp
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Linear Motors (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Motor Or Generator Cooling System (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁場の乱れが少なく、構造が簡単で、制御性
を向上できるステージ装置を提供する。 【解決手段】 ガイドバー5、8、9には、フレーム構
造をしたガイドフレーム10がX方向に摺動可能に嵌合
されている。フレーム部10b及び10cには、段付構
造をしたステージ7が、Y方向に摺動可能に嵌合されて
いる。貫通孔7aには、X方向に延びるガイドバー15
が、X方向に摺動可能に嵌合されている。ガイドバー1
9には、可動軸17がY方向に摺動可能に嵌合されてい
る。それらの摺動面には、エアパッド41が設けられて
いる。ガイドフレーム10の両側の嵌合部10aと摺動
部10dの外側の端面には、リニアモータ30が設けら
れている。また、X方向に延びるガイドバー15及び可
動軸17の外側の端面には、リニアモータ30が設けら
れている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、荷電粒子ビーム露
光装置等に用いられる精密移動・位置決め用のステージ
装置に関する。特には、磁場の乱れが少なく、構造が簡
単で、制御性を向上できるステージ装置に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、精密移動・位置決め用のステージ装置としては、様
々な形態のものが開発されている。
【0003】特開昭62−182692には、ボックス
型のエアベアリング(気体軸受)を有する2軸エアステ
ージ装置が開示されている。図6は、特開昭62−18
2692に開示されたステージ装置140を示す斜視図
である。このステージ装置140は定盤141を備え
る。定盤141上には、2つのボックス型をしたベース
ガイド142が載置されている。ベースガイド142の
内面には、永久磁石板が貼着されており、モータヨーク
142aを形成している。2つのベースガイド142の
上部には、各々ボックス型をしたコイルボビン143が
嵌合されている。これらのモータヨーク142aとコイ
ルボビン143はリニアモータを構成しており、X方向
に移動できる。
【0004】2つのコイルボビン143の間には、ボッ
クス型をした可動ガイド144が掛け渡されている。可
動ガイド144の内面には、永久磁石板が貼着されてお
り、モータヨーク144aを形成している。可動ガイド
144の上部には、ボックス型をしたコイルボビン14
5が嵌合されている。これらのモータヨーク144aと
コイルボビン145はリニアモータを構成しており、Y
方向に移動できる。なお、コイルボビン145上には、
ウェハ等を載置するステージ146が設置されている。
【0005】このステージ装置140のコイルボビン1
43、145の内側の各面には、それぞれモータヨーク
142a、144aに対向した位置に空気噴出し孔(図
示せず)が設けられている。空気噴出し孔からコイルボ
ビン143、145とモータヨーク142a、144a
の隙間に空気を噴出させることにより、空気軸受を構成
している。
【0006】このステージ装置140は、ガイドに沿っ
て動く1つの軸(ベースガイド142及びコイルボビン
143)が在り、その軸上にもう1つの軸(可動ガイド
144及びコイルボビン145)を積み重ねた構造にな
っている。つまり、一方の可動軸の上部に他方の可動軸
を積み重ねるいわゆる積み重ね構造であり、下側の可動
軸が大型になってしまうという問題点がある。また、空
気軸受から噴出した空気を回収する手段がないため真空
中では使用できない。
【0007】さらに、このステージ装置においては、永
久磁石を用いているために、ステージの移動に伴い磁場
変動が相当程度発生する。そのため、荷電粒子ビームが
磁場変動の影響を受けてしまい、数nmの精度を要する荷
電粒子ビーム露光には用いることができない。
【0008】WO99/66221には、移動体側にエ
アベアリングのパッドを設けた一軸の真空エアステージ
装置が開示されている。図7は、WO99/66221
に開示されたステージ装置を示す断面図である。図8
は、同ステージ装置のエアベアリングの構成を示す分解
斜視図である。このステージ装置150は定盤等の設置
面G上に搭載されている。ステージ装置150の左右に
は、固定部材155を介して、コの字型をした2つの可
動軸固定部152が対向するように設置されている。2
つの可動軸固定部152には、可動軸153がある隙間
を持って嵌合されている。詳しくは後述するように、可
動軸固定部152と可動軸153とはエアベアリングを
構成している。可動軸153の上部には、ステージ16
1が設けられており、ウェハ163等が載置される。
【0009】可動軸153の下部には、下向きに凸型を
した可動子156が設けられている。一方、設置面G上
のステージ装置150の中央部には、断面が凹型をした
固定子157が配置されている。可動子156と固定子
157とは、ある隙間を持って嵌合されており、リニア
モータを形成している。可動子153は、図7の紙面の
垂直方向(Y方向)に移動可能である。
【0010】ここで、エアベアリングの構成について図
8を参照しつつ説明する。図8には、図7のステージ装
置のエアベアリングの一部が示されている。エアベアリ
ングは、ステージ装置に固定されている固定部152
と、その間を摺動する可動部153からなる。固定部1
52は、さらに、固定部上面152a、固定部側面15
2b、固定部下面152cとに分割されている。図8に
おいては、固定部152aと152bは、破線で示した
部分から開いた形で示してある。
【0011】可動部153の上面と側面には、多孔性の
部材からなるエアパッド153aが、それぞれ2つずつ
設けられている。エアパッド153aには、チューブ1
53bを介して気体供給源158から気体が供給され
る。2つのエアパッド153aの周りには、ガードリン
グ153cが形成されている。固定部上面152aと固
定部側面152bには、ガードリング153cに対向す
る位置に排気口154aが設けられている。排気口15
4aには、金属製の配管154bを介してロータリー排
気ポンプ159が接続されている。同ポンプ159によ
り、エアパッド153aから噴出した気体を排気する。
【0012】可動部153は、図中に示すY方向に移動
する。このときのガードリング153cの移動範囲の両
端の位置が固定部側面152bに破線で示されている。
図から分るように、ガードリング153cの移動範囲の
両端の位置は常に排気口154aと交わりながら動くの
で、エアパッド153aから噴出した気体は外部にほと
んど洩れることなく排気される。
【0013】このWO99/66221に開示されてい
るステージ装置は、真空中で使用することができる。し
かし、同装置は一軸ステージであって、2軸ステージ装
置に適用するには、この一軸ステージ装置を二段に積み
重ねる必要があり、装置が大型になってしまう。また、
エアパッド153aは、可動部153の上面と側面にそ
れぞれ2つずつ設けられている。そのため、2軸ステー
ジ装置に適用するとエアパッドの数が多くなり、真空中
へのリークが相当な量となる。
【0014】可動部153には、エアパッド153aに
気体を供給するためのチューブ153bが接続されてい
る。そのため、チューブ153bの張力が可動部153
の制御性に悪影響を及ぼす可能性がある。また、リニア
モータのコイルを冷却するための冷却媒体用配管を形成
する必要があり、可動子に冷却媒体の配管を接続しなけ
ればならないので、制御性に悪影響を及ぼす可能性があ
る。
【0015】上記の他に、ガードリングの排気通路が可
動部に形成されており、可動部に真空排気用の太いチュ
ーブを接続する例もある。この場合にも、チューブの張
力が可動部の制御性に悪影響を及ぼす可能性がある。
【0016】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであって、磁場の乱れが少なく、構造が簡単で、
制御性を向上できるステージ装置を提供することを目的
とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明のステージ装置は、 真空中で荷電粒子線ビ
ームによる露光を行う露光装置内において、ステージを
ある平面(XY平面)上で移動・位置決めするステージ
装置であって; X軸方向及びY軸方向に前記ステージ
を駆動する複数の電磁力リニアモータを備え、 各リニ
アモータが、固定子としての磁石ユニット、及び、可動
子としての電機子コイルを備えるとともに、 各リニア
モータの可動子が一軸動作を行うことを特徴とする。
【0018】各々の可動子がX方向又はY方向にしか動
かないので、磁場の乱れが少なく、磁気シールドを簡略
化あるいは不要にできる。
【0019】前記ステージ装置においては、 前記電機
子コイルの極数が4の倍数であることが好ましい。隣り
合う電機子コイルの磁気が打ち消しあって、外部に洩れ
ないので、磁場の乱れを少なくできる。
【0020】前記ステージ装置においては、 前記複数
の電磁力リニアモータの推力配分を調整することによ
り、前記ステージがZ軸の周り(θ方向)に回動可能に
できる。これにより、ステージのθ方向の微調整が可能
となる。
【0021】前記ステージ装置においては、 前記電磁
力リニアモータが、X軸方向及びY軸方向の可動軸の両
端に設けられていることが好ましい。可動軸の両端に力
点があるので、可動軸をより安定して駆動できる。
【0022】本発明のステージ装置は、 ステージをあ
る平面(XY平面)内で移動・位置決めするステージ装
置であって、 X軸又はY軸のいずれか一方の軸がフレ
ーム構造の非接触式ガイド手段を備え、 他方の軸が、
前記フレーム構造のガイド手段の中央部を貫通するガイ
ドバーを備えることを特徴とする。これにより、可動軸
の積み重ね構造を避けることができるので装置を小型・
軽量にできる。また、軸をフレーム構造にしたことによ
り、剛性を高めることができる。さらに、ステージを非
接触式にガイドするので、低摩擦で駆動できる。
【0023】前記ステージ装置においては、 前記ガイ
ドバーが、前記ステージの重心を実質的に通るように配
置されていることが好ましい。これにより、ステージの
重心を駆動できるので、制御性が向上する。
【0024】前記ステージ装置においては、 前記フレ
ーム構造の非接触式ガイド手段の抵抗力の合成抵抗力
が、前記フレーム構造のガイドの重心を実質的に通るよ
うに配置されていることが好ましい。これにより、非接
触式ガイド手段の抵抗力の合成抵抗と駆動力が同一点を
通るので、ステージのガタを軽減することができる。
【0025】前記ステージ装置においては、 前記非接
触式ガイド手段が気体軸受(エアパッド)であることが
好ましい。これにより、低摩擦で軸を駆動できる。
【0026】前記ステージ装置においては、 前記ガイ
ドの内部に、前記気体軸受へのエアの供給・回収・排気
を行うための気体通路が設けられていることが好まし
い。これにより、可動軸にエア供給・回収・排気を行う
配管を設ける必要がなくなり、制御性が向上する。
【0027】前記ステージ装置においては、 前記非接
触式ガイド手段が静電吸着を利用することが好ましい。
これにより、可動軸にエア供給・回収・排気を行う通路
を設ける必要がなくなり、装置が簡単にできる。
【0028】本発明のステージ装置は、 ステージをあ
る平面(XY平面)内で移動・位置決めするステージ装
置であって、 X軸方向及びY軸方向に前記ステージを
駆動する複数の電磁力リニアモータを備え、 各リニア
モータが、固定子としての磁石ユニット、及び、可動子
としての電機子コイルを備えるとともに、 前記電機子
コイルに放熱板が設けられており、 前記放熱板と対向
する位置に排熱板が設けられており、 前記電機子コイ
ルから発生する熱を、熱輻射により逃がすことを特徴と
する。これにより、電機子コイルに冷却液を供給する配
管を接続する必要がなくなり、ステージ装置の制御性が
向上する。
【0029】本発明の露光装置は、 感応基板上にパタ
ーンを転写する露光装置であって、上記いずれかの態様
のステージ装置を備えることを特徴とする。
【0030】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ説明す
る。まず、図5を参照しつつ本発明の実施の形態に係る
ステージ装置を搭載できる荷電粒子ビーム(電子線)露
光装置について説明する。なお、本発明に係るステージ
装置の一部は、大気中で使用することもでき、荷電粒子
ビーム露光装置に限らず、様々な用途に使用できる。
【0031】図5には、電子線露光装置100が模式的
に示されている。電子線露光装置100の上部には、光
学鏡筒101が示されている。光学鏡筒101の図の右
側には、真空ポンプ102が設置されており、光学鏡筒
101内を真空に保っている。
【0032】光学鏡筒101の上部には、電子銃103
が配置されており、下方に向けて電子線を放射する。電
子銃103の下方には、順にコンデンサレンズ104、
電子線偏向器105、マスクMが配置されている。電子
銃103から放射された電子線は、コンデンサレンズ1
04によって収束される。続いて、偏向器105により
図の横方向に順次走査され、光学系の視野内にあるマス
クMの各小領域(サブフィールド)の照明が行われる。
【0033】マスクMは、マスクステージ111の上部
に設けられたチャック110に静電吸着等により固定さ
れている。マスクステージ111は、定盤116に載置
されている。
【0034】マスクステージ111には、図の左方に示
す駆動装置112が接続されている。駆動装置112
は、ドライバ114を介して、制御装置115に接続さ
れている。また、マスクステージ111の図の右方には
レーザ干渉計113が設置されている。レーザ干渉計1
13は、制御装置115に接続されている。レーザ干渉
計113で計測されたマスクステージ111の正確な位
置情報が制御装置115に入力される。それに基づき、
制御装置115からドライバ114に指令が送出され、
駆動装置112が駆動される。このようにして、マスク
ステージ111の位置をリアルタイムで正確にフィード
バック制御することができる。
【0035】定盤116の下方には、ウェハチャンバ1
21が示されている。ウェハチャンバ121の図の右側
には、真空ポンプ122が設置されており、ウェハチャ
ンバ121内を真空に保っている。ウェハチャンバ12
1内には、上方からコンデンサレンズ124、偏向器1
25、ウェハWが配置されている。
【0036】マスクMを通過した電子線は、コンデンサ
レンズ124により収束される。コンデンサレンズ12
4を通過した電子線は、偏向器125により偏向され、
ウェハW上の所定の位置にマスクMの像が結像される。
【0037】ウェハWは、ウェハステージ131の上部
に設けられたチャック130に静電吸着等により固定さ
れている。ウェハステージ131は、定盤136に載置
されている。ウェハステージ131には、図の左方に示
したように駆動装置132が接続されている。駆動装置
132は、ドライバ134を介して、制御装置115に
接続されている。また、ウェハステージ131の図の右
方にはレーザ干渉計133が設置されている。レーザ干
渉計133は、制御装置115に接続されている。レー
ザ干渉計133で計測されたウェハステージ131の正
確な位置情報が制御装置115に入力される。それに基
づき、制御装置115からドライバ134に指令が送出
され、駆動装置132が駆動される。このようにして、
ウェハステージ131の位置をリアルタイムで正確にフ
ィードバック制御することができる。
【0038】次に、本発明の実施の形態に係るステージ
装置について説明する。図1は、本発明の実施の形態に
係るステージ装置の全体構成を示す斜視図である。図2
は、同ステージ装置の平面図である。図3は、図2のA
−A部の側面断面図である。図4は、可動軸に設けられ
た気体軸受の構成を示す分解斜視図である。
【0039】図1には、定盤3上に設置されているステ
ージ装置1が示されている。定盤3の上面には、2本の
柱5aを介して、X方向に延びるガイドバー5が固定さ
れている。ガイドバー5には、フレーム構造をしたガイ
ドフレーム(可動軸)10がX方向に摺動可能に嵌合さ
れている。ガイドフレーム10は、ガイドバー5と嵌合
する嵌合部10aと、同部10aからY方向に延びるフ
レーム部10b、10c、及び、その更に図1の奥側に
ある摺動部10dから構成されている。
【0040】嵌合部10aとガイドバー5との摺動面に
は、気体軸受(エアパッド41、図4参照)が設けられ
ている。気体軸受の詳しい構成については後述するが、
嵌合部10aとガイドバー5とが、非接触で摺動可能と
なっている。なお、この例のステージ装置では、ガイド
側にエアの供給・回収・排気を行う通路が形成されてお
り、可動軸側にエアパッドやガードリング(溝)が形成
されている。
【0041】摺動部10dの上下面には、X方向に延び
る枠状のガイドバー8、9が示されている。ガイドバー
8と9は、2本の柱11を介して、上下に対向するよう
に固定されている。さらに、ガイドバー9は、2本の柱
13を介して定盤3上に固定されている、摺動部10d
とガイドバー8、9の摺動面には、気体軸受が設けられ
ており、X方向に摺動可能となっている。
【0042】フレーム部10b及び10cには、Y方向
に延びるガイド長孔が形成されている。長孔には、段付
構造をしたステージ7が、気体軸受(図2参照)を介し
て、Y方向に摺動可能に嵌合されている。ステージ7の
上部には、図示はしていないが、チャック等を設け、ウ
ェハ等のワークを載置することができる。ステージ7の
重心部には、X方向に貫通した長方形の貫通孔7aが開
けられている。貫通孔7aには、X方向に延びるガイド
バー15が気体軸受を介して、X方向に摺動可能に嵌合
されている。
【0043】ガイドバー15の図1の左方には、Y方向
に延びる可動軸17が固定されている。可動軸17の中
央部には、Y方向に貫通した長方形の貫通孔17aが開
けられている。貫通孔17aには、気体軸受を介して、
Y方向に延びるガイドバー19がY方向に摺動可能に嵌
合されている。ガイドバー19は、2本の柱21を介し
て、定盤3に固定されている。
【0044】図1、2、3を参照しつつ、リニアモータ
の構成について説明する。図1、2に示すように、ガイ
ドフレーム10の両側の嵌合部10aと摺動部10dの
外側の端面には、リニアモータ30が設けられている。
また、X方向に延びるガイドバー15及び可動軸17の
外側の端面には、リニアモータ30が設けられている。
各部10a、10d、15、17の端面には、非磁性、
非導電性で熱伝導率の小さいセラミック等の材料で形成
された張り出し部材31が設けられている。張り出し部
材31の幅は、各部10a、10d、15、17の幅と
ほぼ同じ長さに形成されている。例えば、可動軸17で
あれば、可動軸17とそこに設けられた張り出し部材3
1のY方向の長さが同じである。
【0045】図3に詳しく示すように、張り出し部材3
1の中央付近の側壁には、長方形の平板状をしたコイル
ジョイント31aが外側に向けて突設されている。コイ
ルジョイント31aの先には、長方形の平板状をした電
機子コイル33が設けられている。この実施の形態にお
いては、電機子コイル33の極数は、4の倍数とするこ
とが好ましい。その理由は、隣り合う電機子コイル33
の磁気が打ち消しあって、外部に洩れず、磁場の乱れを
少なくできるからである。張り出し部材31の下端部の
側壁には、長方形の平板状をした放熱板31bが外側に
向けて突設されている。
【0046】各張り出し部材31の外側には、平たいコ
の字型をしたコの字部材35が、中央にその開口側を向
けて配置されている。コの字部材35のX方向の長さ
は、電機子コイル33が移動した時にも外れないよう
に、十分に長くなっている。コの字部材35は、2本の
柱37を介して、定盤3に固定されている。コの字部材
35の上下の内面には、長方形の平板状をした磁石ユニ
ット39a、39bが対向するように設けられている。
磁石ユニット39a、39bの幅は、コの字部材35と
ほぼ同じである。
【0047】電機子コイル33が、磁石ユニット39
a、39bの間にZ方向にある隙間を持って嵌め込まれ
ている。電機子コイル33と磁石ユニット39a、39
bとでリニアモータ30を形成する。リニアモータの駆
動方向は、図3の場合であれば、Y方向となる。なお、
電機子コイル33の端面とコの字部材35のコの字の奥
の面との間は、ある隙間を持って配置されている。この
隙間の分だけ電機子コイル33等は駆動方向以外にも若
干の自由度を持っている。
【0048】ガイドフレーム10の嵌合部10aと摺動
部10dに設けられたリニアモータ30によりステージ
装置1のX軸駆動を行い、ガイドバー15及び可動軸1
7に設けられたリニアモータ30によりY軸駆動を行
う。このように各々の可動部材が、実質的にX方向又は
Y方向にしか動かないので、ステージ7上のウェハに入
射する荷電粒子線の光軸と電機子コイル33との距離を
一定にできる。したがって、光軸上での磁場の乱れが少
なく、磁気シールドが簡便になるかあるいは不要とな
る。また、各リニアモータ30は、各可動部材の重心を
通る軸上に配置されているので、各可動部材の重心部に
駆動力を与えることができ、高精度・高速に位置制御が
できる。
【0049】さらに、本発明においては、対向して設け
られたリニアモータ30の推力バランスを変えることに
より、回転(θ方向)運動が可能である。ただし、回転
角度は、気体軸受のギャップ間隔分だけであるので微小
である。また、リニアモータ30の推力バランスを調整
することにより、ブレ等の少ない正確な駆動を行うこと
ができる。
【0050】図3に示すように、この実施の形態におい
ては、放熱板31bの下方の定盤3上には、長方形の平
板状をした排熱板51が設けられている。排熱板51
は、放熱板31bより幅が大きく、放熱板31bがX方
向又はY方向に動いたときにも外れないようにしてあ
る。排熱板51の内部には、冷却媒体を循環させるため
の通路53が設けられている。この通路53には、冷却
媒体を循環させるための配管(図示せず)が接続されて
いる。電機子コイル33から発生した熱は、張り出し部
材31を介して、放熱板31bに伝わる。放熱板31b
から対向する排熱板51には輻射により熱が伝わり、冷
却媒体を介してステージ装置1の外部に排気される。こ
れにより、電機子コイルに冷却液を供給する配管を接続
する必要がないので、ステージ装置の制御性を向上でき
る。
【0051】図2を参照しつつ、気体軸受の配置につい
て説明する。図2に示すように、嵌合部10aの摺動面
の上下の両端には、各1個ずつ計4個のエアパッド41
が付設されている。なお、図2中で黒くベタ塗りした部
分には、摺動面の上下面に各1個ずつのエアパッド41
がある。嵌合部10aの摺動面の側面(図2の上下)の
中央には、エアパッド41が1個ずつ計2個付設されて
いる。ガイドバー5の内部には、詳しくは後述するが、
エアの供給・回収・排気を行う通路が形成されている。
ガイドバー5には、図示はしないが、エアの供給・回収
・排気を行う配管が接続されている。
【0052】ガイドフレーム10の摺動部10dの上下
面の中央部分には、エアパッド41が1個ずつ計2個付
設されている。ガイドバー8とガイドバー9の内部に
は、エアの供給・回収・排気を行う通路が形成されてい
る。フレーム部10b、10cには、図示はしないが、
エアの供給・回収・排気を行う配管が接続されている。
【0053】ステージ7のフレーム部10b及び10c
との摺動面の上下の両端には、各1個ずつ計8個のエア
パッド41が付設されている。また、ステージ7のフレ
ーム部10b及び10cとの摺動面の側面の両端には、
各1個ずつ計4個のエアパッド41が付設されている。
フレーム部10b及び10cの内部には、エアの供給・
回収・排気を行う通路が形成されている。通路は、図示
は省略してあるが、嵌合部10aまで形成されており、
気体軸受を介して、ガイドバー5の内部のエア通路に連
通している。
【0054】ステージ7の貫通孔7aの上下及び両側面
の中央部分には、各1個ずつ計4個のエアパッド41が
付設されている。ガイドバー15の内部には、エアの供
給・回収・排気を行う通路が形成されている。通路は、
図示は省略してあるが、可動軸17にまで達しており、
気体軸受を介して、ガイドバー19の内部のエア通路に
連通している。
【0055】可動軸17の摺動面の上下の両端には、各
1個ずつ計4個のエアパッド41が付設されている。可
動軸17の摺動面の側面(図2の左右)の中央には、エ
アパッド41が1個ずつ計2個付設されている。ガイド
バー19の内部には、エアの供給・回収・排気を行う通
路が形成されている。ガイドバー19には、図示はしな
いが、エアの供給・回収・排気を行う配管が接続されて
いる。
【0056】図4を参照しつつ、気体軸受の構成につい
て説明する。図4には、ステージ装置1を構成するガイ
ドバー19が示されている。ガイドバー19の周囲に
は、ガイドバー19に嵌合された可動軸17の上面17
bと一方の側面17aが分解されて示されている。な
お、図4においては、気体軸受の構成の一例として、可
動軸17とガイドバー19の気体軸受の構成について説
明するが、他の気体軸受についても同様の構成を用いる
ことができる。ただし、本発明の気体軸受の構成は、こ
れに限定されるものではなく、様々な形態のものを用い
ることができる。
【0057】可動軸上面17bの下面の両端には、多孔
オリフィス性の部材からなるエアパッド41が2個付設
されている。2つのエアパッド41の間には、エア供給
溝41cが長手方向の中央部に直線状に形成されてい
る。各エアパッド41及びエア供給溝41cの外周に
は、大気に開放される大気開放ガードリング(溝)4
2、低真空(Low Vacuum)排気を行う低真空ガードリン
グ43、高真空(High Vacuum)排気を行う高真空ガー
ドリング45が順に形成されている。各ガードリング4
2、43、45の端部は半円状をしており、中央部分は
長手方向に長い直線状をしている。
【0058】可動軸の側面17aの内面の中央には、エ
アパッド41が1個付設されている。エアパッド41を
横切るようにして、エア供給溝41cが長手方向の中央
部に直線状に形成されている。エアパッド41及びエア
供給溝41bの外周には、大気開放ガードリング42、
低真空ガードリング43、高真空ガードリング45が順
に形成されている。各ガードリング42、43、45の
端部は半円状をしており、中央部分は長手方向に長い直
線状をしている。
【0059】ガイドバー19の内部には、各エアパッド
41やガードリング42、43、45にエアの供給・回
収・排気を行う通路が形成されている。ガイドバー19
の断面の図4の左上と右下には、高真空排気通路45a
が長手方向に貫通するように形成されている。高真空排
気通路45aの側方には、L字型をした低真空排気通路
43aが長手方向に貫通するように形成されている。低
真空排気通路43aの側方には、L字型をした大気開放
通路42aが長手方向に貫通するように形成されてい
る。2つの大気開放通路42aに挟まれた中央部分は、
エアパッド41にエアを供給するエア供給通路41aが
長手方向に貫通するように形成されている。
【0060】通路45a、43a、42a、41aのガ
イドバー19の側面の中央部分には、孔45b、43
b、42b、41bが形成されている。各孔は各ガード
リング42、43、45及びエア供給溝41cに連通
し、エアの供給・回収・排気を行う。各ガードリング4
2、43、45及びエア供給溝41cの中央部分は直線
状となっている。したがって、可動軸17がY軸上を動
いても、各孔が各ガードリング42、43、45及びエ
ア供給溝41cから外れることはないので、常に各孔か
らのエア供給・回収・排気を行うことができる。
【0061】エア供給通路41aからエア供給溝41c
にエアが供給され、エアパッド41からエアが噴出され
る。噴出されたエアは、大気開放ガードリング42を介
して、大気開放通路42aから大気に開放される。大気
開放ガードリング42から洩れた気体は、低真空ガード
リング43を介して、低真空排気通路43aから排気さ
れる。さらに高真空ガードリング45を介して、高真空
排気通路45aから排気される。このようにして、エア
パッドの空気が高真空に保たれているウェハチャンバー
内にあまり洩れ出さないようになっている。
【0062】エアパッド41の孔からエアが噴出され
て、ガイドバー19と可動軸17の間に圧力を加えるの
で、各ガイドと可動軸との間に一定の間隔を保つことが
できる。このように、各ガイドと可動軸との間に隙間が
できるので、各軸がθ方向に若干の自由度を持つことが
できる。これにより、上述したように、各軸に対向して
設けられたリニアモータ30の推力バランスを変えるこ
とにより、わずかの回転(θ方向)運動が可能である。
【0063】以上図1〜図8を参照しつつ、本発明の実
施の形態に係るステージ装置等について説明したが、本
発明はこれに限定されるものではなく、様々な変更を加
えることができる。
【0064】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、磁場の乱れが少なく、構造が簡単で、制御性
を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係るステージ装置の全体
構成を示す斜視図である。
【図2】同ステージ装置の平面図である。
【図3】図2のA−A部の側面断面図である。
【図4】可動軸に設けられた気体軸受の構成を示す分解
斜視図である。
【図5】本発明の実施の形態に係るステージ装置を搭載
できる荷電粒子ビーム(電子線)露光装置を示す図であ
る。
【図6】特開昭62−182692に開示されたステー
ジ装置140を示す斜視図である。
【図7】WO99/66221に開示されたステージ装
置を示す断面図である。
【図8】同ステージ装置のエアベアリングの構成を示す
分解斜視図である。
【符号の説明】
1 ステージ装置 3 定盤 5 ガイドバー 5a 柱 7 ステージ 7a 貫通孔 8、9 ガイドバー 10 ガイドフ
レーム 10a 嵌合部 10b、10c
フレーム部 10d 摺動部 11、13 柱 15 ガイドバー 17 可動軸 17a 貫通孔 19 ガイドバ
ー 21 柱 30 リニアモ
ータ 31 張り出し部材 31a コイル
ジョイント 31b 放熱板 33 電機子コ
イル 35 コの字部材 37 柱 39a、39b 磁石ユニット 41 エアパッド 42 大気開放
ガードリング 43 低真空ガードリング 45 高真空ガ
ードリング 51 排熱板 53 循環通路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H02K 41/02 H02K 41/03 A 5H609 41/03 H01L 21/30 503A 5H641 541L Fターム(参考) 2F078 CA02 CA08 CB13 2H097 AA03 BA10 CA16 5F031 CA02 HA38 HA53 KA06 KA08 LA02 LA03 LA08 MA27 PA30 5F046 CC01 CC03 CC18 CC19 5F056 AA22 EA14 5H609 BB08 BB12 PP01 PP02 PP06 PP07 RR63 RR70 RR71 RR73 5H641 BB03 BB06 BB15 BB16 BB18 GG03 GG05 GG06 GG07 HH02 JA06 JB03

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空中で荷電粒子線ビームによる露光を
    行う露光装置内において、ステージをある平面(XY平
    面)上で移動・位置決めするステージ装置であって;X
    軸方向及びY軸方向に前記ステージを駆動する複数の電
    磁力リニアモータを備え、 各リニアモータが、固定子としての磁石ユニット、及
    び、可動子としての電機子コイルを備えるとともに、 各リニアモータの可動子が一軸動作を行うことを特徴と
    するステージ装置。
  2. 【請求項2】 前記電機子コイルの極数が4の倍数であ
    ることを特徴とする請求項1記載のステージ装置。
  3. 【請求項3】 前記複数の電磁力リニアモータの推力配
    分を調整することにより、前記ステージがZ軸の周り
    (θ方向)に回動可能であることを特徴とする請求項1
    記載のステージ装置。
  4. 【請求項4】 前記電磁力リニアモータが、X軸方向及
    びY軸方向の可動軸の両端に設けられていることを特徴
    とする請求項1記載のステージ装置。
  5. 【請求項5】 ステージをある平面(XY平面)内で移
    動・位置決めするステージ装置であって、 X軸又はY軸のいずれか一方の軸がフレーム構造の非接
    触式ガイド手段を備え、 他方の軸が、前記フレーム構造のガイド手段の中央部を
    貫通するガイドバーを備えることを特徴とするステージ
    装置。
  6. 【請求項6】 前記ガイドバーが、前記ステージの重心
    を実質的に通るように配置されていることを特徴とする
    請求項2記載のステージ装置。
  7. 【請求項7】 前記フレーム構造の非接触式ガイド手段
    の抵抗力の合成抵抗力が、前記フレーム構造のガイドの
    重心を実質的に通るように配置されていることを特徴と
    する請求項2記載のステージ装置。
  8. 【請求項8】 前記非接触式ガイド手段が気体軸受(エ
    アパッド)であることを特徴とする請求項2〜4いずれ
    か1項記載のステージ装置。
  9. 【請求項9】 前記ガイドの内部に、前記気体軸受への
    エアの供給・回収・排気を行うための気体通路が設けら
    れていることを特徴とする請求項5記載のステージ装
    置。
  10. 【請求項10】 前記非接触式ガイド手段が静電吸着を
    利用することを特徴とする請求項2〜4いずれか1項記
    載のステージ装置。
  11. 【請求項11】 ステージをある平面(XY平面)内で
    移動・位置決めするステージ装置であって、 X軸方向及びY軸方向に前記ステージを駆動する複数の
    電磁力リニアモータを備え、 各リニアモータが、固定子としての磁石ユニット、及
    び、可動子としての電機子コイルを備えるとともに、 前記電機子コイルに放熱板が設けられており、 前記放熱板と対向する位置に排熱板が設けられており、 前記電機子コイルから発生する熱を、熱輻射により逃が
    すことを特徴とするステージ装置。
  12. 【請求項12】 感応基板上にパターンを転写する露光
    装置であって、請求項1〜11いずれか1項記載のステ
    ージ装置を備えることを特徴とする露光装置。
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