JPH0545886A

JPH0545886A - 角形基板の露光装置

Info

Publication number: JPH0545886A
Application number: JP3201629A
Authority: JP
Inventors: Yoshifumi Nakakoji; 佳史中小路; Masamitsu Yanagihara; 政光柳原; Gen Uchida; 玄内田; Yoshihiro Shiraishi; 嘉弘白石; Toshinobu Morioka; 利伸森岡
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1991-08-12
Filing date: 1991-08-12
Publication date: 1993-02-26

Abstract

(57)【要約】【目的】角形の感光プレートの周辺部、又は任意の位
置に、互いに直交する２方向に伸びた帯状の露光領域を
形成する。【構成】角形プレートの搬送路中に、直進移動ユニッ
トと回転機構とを設けるとともに、搬送路中の一部に、
直進移動ユニットの移動方向と直交する方向に可動なス
ポット照射系を配置する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示パネル等を製造
するための角形プレートの露光装置に関し、特に角形プ
レート上の本来のパターン転写と無関係な領域を露光用
照明光で照射して、その部分の感光層を事前に感光させ
る機能を備えた露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、電卓、ワープロ、パソコン、携帯
テレビ等の表示素子として液晶表示パネルが多用される
ようになった。液晶表示パネルは、ガラス基板上に透明
薄膜電極をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパ
ターニングして作られる。このリソグラフィのための装
置として、マスク上に形成された原画パターンを投影光
学系を介してガラス基板上のフォトレジスト層に露光す
るミラープロジェクション方式のアライナーやステッパ
ーが使われている。被露光基板としてのガラス基板は年
々大型化し、最近では５００ｍｍ×５００ｍｍ程度のサ
イズのものが用意されている。

【０００３】アライナーやステッパーは、そのガラス基
板のほぼ全面に同一のマスクパターンの複数を露光する
が、通常、ガラス基板の周辺部は数ｍｍ程度の余白を作
るように各マスクパターンの露光位置が配列される。こ
のためリソグラフィ工程でポジ型のレジストを使うと、
現像処理の後ではガラス基板の周辺部（余白部）には未
露光によってレジストが残存することになる。この残存
レジストはガラス基板の端面にも付着していることもあ
る。以後のプロセスにおいてガラス基板の端面が何らか
のストッパーによって係止される際に、その端面の残存
レジストが剥離してゴミになるといった問題があった。
また、ガラス基板の端面以外のレジスト塗布面上の周辺
部に残ったレジストがプロセス処理中に悪影響を及ぼす
ことがあり、プロセスの都合上で周辺のレジストを除去
したいという要求がある。

【０００４】この問題点は、半導体ウェハを扱うリソグ
ラフィ工程では以前から着目されており、現像処理の前
にウェハの周辺部のみを一定の幅でレジスト除去のため
の露光することでその問題点を解決しようとする試みが
多数提案されている。ウェハの場合は、その外形が円形
であることから、ウェハをほぼ偏心なく回転させつつ、
ウェハ周縁部に露光用照明光を１〜５ｍｍ程度の幅で照
射することによってプリ露光を行っている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、角形のガラ
ス基板等の周辺部のみを一定の幅で露光する方式につい
ての具体的な提案はなく、スループット低下が少なく、
且つガラス基板上の周辺部以外の任意の領域についても
露光ができる実用的な露光装置が望まれていた。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明では、被露光基板
である角形基板（ガラスプレート）を保管する保管部
（プレートキャリア）と露光位置に基板を保持するため
の基板ステージとの間で基板を搬送する自動搬送機構を
設ける。さらにこの自動搬送機構には、基板の互いに対
向する２辺の夫々とほぼ平行な方向に、且つその２辺の
長さとほぼ等しい距離だけ基板を一次元移動させる一次
元移動機構と、基板の向きを９０°だけ回転させる回転
機構とを設ける。

【０００７】そして、基板の一次元移動軌跡中に露光用
照明光の照射領域が配置され、基板上のマスクパターン
転写領域外を局所的に露光する露光手段と、その局所的
な照射領域の位置を一次元移動の方向と直交する方向に
変更するために露光手段の一部を駆動させる照射位置変
更手段とを設けるようにした。上記、一次元移動機構に
よって基板上にはその一次元移動方向に延びた第１の帯
状露光領域が形成され、さらに回転機構によって基板を
回転させてから再び一次元移動させることによって、基
板上には第１の帯状露光領域と直交する方向に延びた第
２の露光領域が形成される。

【０００８】

【作用】本発明では、自動搬送機構の一部（一次元移動
機構）が露光手段からの照明光に対して基板を一次元移
動させるため、その一次元移動を基板のローディング、
又はアンローディングの動作と兼用させることができ、
スループット低下を少なくすることができる。さらに回
転機構を設けたので、基板上には直交する２方向に延び
た帯状露光領域を形成することができる。

【０００９】

【実施例】図１は、本発明の実施例による露光装置に設
けられたプレート搬送機構を模式的に表したものであ
る。図１においてマスクパターンの露光装置本体はステ
ッパーとし、投影光学系の光軸ＡＸとプレートステージ
ＳＴのみを図示する。本実施例ではプレートステージＳ
Ｔはステップアンドリピート方式でＸＹ座標系内で二次
元移動する。

【００１０】表面にレジスト層が塗布された角形のガラ
スプレートの複数枚は保管部としてのプレートキャリア
ＰＣ１及びＰＣ２内にＺ方向に積載される。本実施例の
プレート搬送機構は、プレートＰＧの裏面を保持するフ
ォーク状のアーム１０と、このアーム１０を一次元にス
ライドさせるためのアームガイド部１２と、アームガイ
ド部１２を最大１８０°回転させるターンテーブル１４
と、このターンテーブル１４を載置して図１中のＹ方向
に矢印Ｋ１のように一次元移動させるためのベース移動
ユニット１６と、このユニット１６の一次元移動をガイ
ドするガイド部１８とで構成される。プレートＰＧが図
１のような状態でアーム１０上に保持された位置を引き
出し位置と呼び、この位置からアーム１０がＹ方向に矢
印Ｋ２のように繰り出されると、プレートＰＧはローダ
センターアップ２０の直上に位置する。センターアップ
２０は矢印Ｋ３のようにＺ方向に上下動することによっ
て、プレートＰＧをアーム１０から受け取る。またセン
ターアップ２０は回転機構を備え、ステージＳＴ上へ載
置されるプレートの向きを変えることができる。スライ
ダーアーム２２Ａ，２２Ｂは矢印Ｋ４のようにＹ方向に
一次元移動し、センターアップ２０上のプレートＰＧを
受け渡す。こうしてステージＳＴ上に載置されたプレー
トＰＧは、光軸ＡＸに対して二次元移動され、マスクの
パターンがステップアンドリピート方式で露光される。

【００１１】マスクパターンの露光が終了したプレート
ＰＧは、アーム１０を介して、再び図１の引き出し位置
まで戻される。この引き出し位置にプレートＰＧがきた
とき、ターンテーブル１４の回転中心はプレートＰＧの
ほぼ中央にくる。そこでターンテーブル１４は図１の状
態から時計回りに９０°だけ回転し、アーム１０がキャ
リアＰＣ１又はＰＣ２に向けてＸ方向に繰り出され、プ
レートＰＧはキャリアＰＣ１又はＰＣ２内の元のスロッ
トに収納される。

【００１２】ところで本実施例では、図１の引き出し位
置とセンターアップ２０との間のＹ方向搬送路中に、局
所的な露光手段として２つのスポット照射ユニット２４
Ａ，２４Ｂを設け、プレートＰＧ上に矩形の照射領域Ｓ
Ｐを投影するようにしてある。この照射ユニット２４
Ａ，２４Ｂの一部は図１中でＸ方向に独立に移動可能に
構成される。また照射ユニット２４Ａ，２４Ｂにはフォ
ーカスセンサーが組み込まれ、ユニット２４Ａ，２４Ｂ
の投影対物レンズの先端からプレートＰＧまでのＺ方向
の間隔を常に一定に保つように投影対物レンズをＺ方向
に移動させるオートフォーカス機構が設けられている。

【００１３】この照射ユニット２４Ａ，２４Ｂを用いた
プレートＰＧの周辺露光は、基本的にはベース移動ユニ
ット１６の一次元（Ｙ方向）移動によって行われる。勿
論、図１のようにアーム１０がＹ方向に移動するような
状態では、アーム１０のＹ方向移動によっても周辺露光
が可能である。ところが、図１の位置からターンテーブ
ル１４を９０°回転させた状態では、最早アーム１０単
体の移動によってはプレートＰＧをＹ方向へ移動させる
ことができないので、そのときにはベース移動ユニット
１６のＹ方向移動のみで周辺露光が行われる。照射ユニ
ット２４Ａ，２４Ｂによる照射領域ＳＰはＹ方向に関し
て数ｍｍ程度の寸法しかない。そのため、プレートＰＧ
の一辺の全長を露光する場合を考慮して、ベース移動ユ
ニット１６のＹ方向の移動ストロークは、プレートＰＧ
の最大の辺の長さ以上に定められる。

【００１４】以上、図１の概略構成において、各部の駆
動モータやシーケンス制御用のプロセッサー及び真空吸
着の配管系は省略したが、それらは周知の方法で設けら
れている。尚、真空吸着は、アーム１０、センターアッ
プ２０、スライダーアーム２２Ａ，２２Ｂ、及びステー
ジＳＴのプレート保持面で行われ、搬送機構側での駆動
モータとしては、キャリアＰＣ１、ＰＣ２の夫々の上下
動用に２個、アーム１０のガイド部１２に対する移動用
に１個、ターンテーブル１４の旋回用に１個、ベース移
動ユニット１６のＹ方向移動用に１個、センターアップ
２０の上下動用に１個、そしてスライダーアーム２２
Ａ、２２Ｂの移動用に１個の計７個が設けられる。また
スライダーアーム２２Ａ、２２Ｂを２個用意してダブル
スライダーにする場合は、さらにもう１個のモータが必
要である。

【００１５】次に照射ユニット２４Ａ、２４Ｂの具体的
な構成を、図２〜図６を参照して説明する。図２は照射
ユニット２４Ａ、２４Ｂの全体構成を示す斜視図であ
る。照射ユニット２４Ａ、２４Ｂの夫々はＸ方向に伸び
たコラム３０内のガイドレールに沿って、互いに独立に
Ｘ方向に移動する。そして照射ユニット２４Ａには光フ
ァイバー３２Ａ、シャッター３４Ａを介して光源（水銀
ランプ等）からの露光光が導かれる。照射ユニット２４
Ｂについても同様に光ファイバー３２Ｂを介して露光光
が導かれる。また照射ユニット２４Ａ、２４Ｂはそれぞ
れオートフォーカスのためにＺ方向に移動される。その
ためのモータはコラム３０内に設けられている。ここで
２つの照射ユニット２４Ａ、２４Ｂは、いずれもその照
射領域ＳＰがローダーセンターラインＣＬ上に位置する
ようにＸ方向へ移動可能とされる。ただし、２つの照射
ユニット２４Ａ、２４Ｂを同時にセンターラインＣＬ上
にもってくることはできない。そして図２のようにプレ
ートＰＧのＹ方向に延びた２辺の夫々を一定の幅で露光
するときは、照射ユニット２４Ａ、２４Ｂの各照射領域
ＳＰが破線で示したプレートＰＧの移動軌跡Ｌ１、Ｌ２
上に位置するようにユニット２４Ａ、２４Ｂを位置決め
する。尚、図２中のセンターラインＣＬの延長線上には
ターンテーブル１４の回転中心とセンターアップ２０の
中心とが位置する。

【００１６】図３は照射ユニット２４Ａ、又は２４Ｂ内
の構造を表し、光ファイバー３２Ａ（３２Ｂ）の射出端
の断面はスリット状に成形され、そのスリット状断面の
長手方向は固定ブラインド４０のエッジと、可動ブライ
ンド４１のエッジとによって規定される。光ファイバー
３２Ａ（３２Ｂ）からの露光光はミラー４３で直角に折
り曲げられ、投影対物レンズ４４によって集光され、所
定の結像面内に光ファイバー３２Ａ（３２Ｂ）の端面の
像が照射領域ＳＰとして結像される。投影対物レンズ４
４の先端には光学式斜入射フォーカスセンサーとしての
投光系４６と受光系４７とが一体に取り付けられてい
る。投光系４６は投影対物レンズ４４によって投影され
たスリット状（又はピンホール状）の照射領域ＳＰ内に
向けて、レジストに対する感度の低い光でスリット（ピ
ンホール）像を形成するための光束ＢＭをプレートＰＧ
へ斜めに照射する。受光系４７は光束ＢＭのプレートＰ
Ｇでの反射光束ＢＲを受光し、その受光位置の変化を半
導体素子によるポジションセンサー等で検出する。ここ
で、プレートＰＧの表面が投影対物レンズ４４の最良結
像面（光ファイバー３２Ａ、３２Ｂの射出端と共役な
面）と合致したとすると、プレートＰＧの表面には、投
光系４６から投影されたスリット（又はピンホール）像
が投影対物レンズ４４の最良結像面の位置に最もピント
良く結像し、同時に反射光束ＢＲを受けた受光系４７は
プレートＰＧ上のスリット（又はピンホール）像の再生
像をポジションセンサーの受光面上に形成する。このよ
うな斜入射光式の焦点検出系は、スライドプロジェクタ
ー等で古くから使われている方式と基本的には同じもの
である。また露光光による照射領域ＳＰとフォーカスセ
ンサーの投光系４６で投影されたスリット（又はピンホ
ール）像との平面的な関係は図５に示す通りである。す
なわちスリット像ＳＬの長手方向はＸ方向、Ｙ方向のい
ずれとも交差する方向、例えば４５°方向に設定され、
投光系４６の光軸のＸＹ平面への写影ＢＭ’、及び受光
系４７の光軸のＸＹ平面への写影ＢＲ’の方向はスリッ
ト像ＳＬの長手方向と直交するように設定される。

【００１７】また、図３に示した固定ブラインド４０と
可動ブラインド４１の構造を図４に拡大して示す。図４
は図３中の光ファイバー３２Ａ（３２Ｂ）を光軸ＡＸａ
を含む平面で切断した断面であり、光ファイバー３２Ａ
は図４ではスリット状射出端の長手方向を表している。
光ファイバー３２Ａの射出端は金物５０によって保持さ
れており、この金物５０の一部に固定ブラインド４０が
固定され、ファイバー３２Ａの射出端の長手方向の一方
をナイフエッジ４０ａで規定する。可動ブラインド４１
は金物５０に対して矢印方向にスライド可能に設けら
れ、ファイバー３２Ａの射出端の長手方向の他方側から
固定ブラインド４０のエッジ４０ａまでの間を、ナイフ
エッジ４１ａで規定する。この可動ブラインド４１が光
ファイバー３２Ａの射出端を全閉したとき、光ファイバ
ー３２Ａからの露光光の光量（強度）をモニターするた
めの照度センサー６０が射出端と対向するように設けら
れている。照度センサー６０は周辺露光の開始前に光フ
ァイバー３２Ａからの露光光の強度をモニターし、レジ
ストに対する適正露光量に応じて決まるプレートＰＧの
Ｙ方向移動速度を設定するために使われる。また照度セ
ンサー６０は、光ファイバー３２Ａへ露光光を供給する
光源と、光ファイバー３２Ｂへ露光光を供給する光源と
の劣化のチェック、双方の露光光の強度ばらつき等のチ
ェックにも使われる。

【００１８】２つの照射ユニット２４Ａ、２４Ｂの夫々
には図４のブラインド機構が組み込まれているが、プレ
ートＰＧ上での各ブラインドは図６に示すように働く。
図６で２ヶ所に投影される照射領域ＳＰの夫々のうち、
センターラインＣＬから離れている方の端部が可動ブラ
インド４１のエッジ４１ａで規定される。従ってエッジ
４１ａを固定ブラインド４０のエッジ４０ａに接近させ
るように設定すれば、プレートＰＧ上にＸ方向の幅が極
めて狭いライン状の露光領域を形成することも可能であ
る。このことから、焦点検出系から投影されたスリット
像ＳＬは、実際は図５のように位置するのではなく、図
６中の固定ブラインド４０ａの投影点近傍に配置するの
が望ましい。

【００１９】以上により、周辺露光手段を有する露光装
置の構成を説明したが、図３に示したフォーカスセンサ
ーは光学式であるため、プレートＰＧのように透明な基
板ではその表面からの反射光束ＢＲの他に裏面からの反
射光束もポジションセンサーで受光され、正確なフォー
カス検出に支障をきたすことがある。このことを図７を
使って説明する。図７において、光束ＢＭによってスリ
ット（又はピンホール）像ＳＬがプレートＰＧの表面側
に正確に結像しているものとする。このとき表面からの
反射光束ＢＲは受光系４７の対物レンズ４７ａによって
集光され、ポジションセンサー４７ｂの受光面上の位置
Ｐａにスリット像として再結像される。ところが光束Ｂ
Ｍの一部はプレートＰＧの内部へ進むため、裏面で反射
してきた光束ＢＧも同時に対物レンズ４７ａによって集
光され、ポジションセンサー４７ｂ上の位置Ｐｂで受光
される。一般にポジションセンサーは受光した全光束の
光量重心の位置を検出するものであるから、図７のよう
に本来の位置Ｐａ以外の横ずれした位置Ｐｂにも反射光
束ＢＧが受光されると、真のフォーカス位置に対して常
に一定のオフセットが含まれた状態でのフォーカス位置
が検出されることになる。

【００２０】そこで本実施例では、図８に示すように１
次元のポジションセンサー４７ｂのスリット状受光面Ｄ
Ａの一部に、裏面反射光束ＢＧを遮光するためのマスク
４７ｃと正常な反射光束ＢＲとノイズとなる光束ＢＧと
の択一受光のためのマスク４７ｄとを貼り付ける。正規
の反射光束ＢＲの受光位置Ｐａと、ノイズとなる裏面反
射光束ＢＧの受光位置Ｐｂとが、ポジションセンサー４
７ｂ上でどれくらいずれるかは、投光ビームＢＭの入射
角とプレートＰＧの厚みによって変化するが、フォーカ
スセンサーとしての検出レンジを確保しつつ有効に裏面
反射光束ＢＧを遮光するためには、フォーカスが合致し
た状態で得られる位置ＰａとＰｂとのほぼ中間に、マス
ク４７ｃのエッジを配置するとよい。またマスク４７ｄ
とマスク４７ｃの間隔ＬＨは、２つの位置Ｐａ，Ｐｂの
間隔よりも狭くしておき、位置Ｐａ，Ｐｂが同時に受光
面ＤＡ上にこないようにする。この図８のように、受光
面ＤＡの長手方向の両端側にマスク４７ｃ，４７ｄを設
けると、例えば正規の表面反射光ＢＲの受光位置Ｐａが
右側のマスク４７ｄのエッジによって遮光されたとき、
代わりに表面反射光ＢＧの受光位置Ｐｂがマスク４７ｃ
上から受光面ＤＡ上に現れる。今、マスク４７ｃと４７
ｄの各エッジの中間点がベストフォーカス位置に対応す
るものとすると、ポジションセンサー４７ｂの出力信号
に基づいて検出されたフォーカスずれ量は、位置Ｐａが
マスク４７ｄのエッジ近傍の受光面上のとき＋ΔＦだっ
たとすると、その後フォーカスずれ量は急激に−ΔＦに
飛ぶことになる。このため、２つのマスク４７ｃ，４７
ｄの間隔ＬＨを位置ＰａとＰｂの間隔よりも若干狭くし
ておき、表面反射光束ＢＲと表面反射光束ＢＧとのいず
れか一方のみが受光面ＤＡで受光されるようにしておけ
ば、焦点の検出レンジからはずれたことが分かりやすく
なる。勿論、ポジションセンサー４７ｂの受光面ＤＡの
長手方向の寸法そのものをＬＨ程度の小さなものとして
おけば、ことさらマスク４７ｃ，４７ｄを設ける必要は
ない。

【００２１】次に本実施例における代表的な周辺露光動
作の一例を図９を参照して説明する。図９においてプレ
ートＰＧは長方形をしており、まずその長辺側を露光す
るものとする。２つの照射ユニット２４Ａ、２４Ｂの夫
々によるスポット照射領域をＳＰａ、ＳＰｂとすると、
まず２つの照射領域ＳＰａ、ＳＰｂのＸ方向の間隔を設
定する。さらに露光帯ＥＸ₁、ＥＸ₂の幅に応じて照射
領域ＳＰａ、ＳＰｂの露光幅（Ｘ方向の寸法）が設定さ
れるように可動ブラインド４１を自動調整する。その
後、プレートＰＧのＹ方向の端部でオートフォーカスを
かけてから、シャッター３４Ａ（３４Ｂ）を開き、ベー
ス移動ユニット１６をＹ方向に所定速度で移動させ、露
光帯ＥＸ₁、ＥＸ₂の露光を行う。

【００２２】次にターンテーブル１４によってプレート
ＰＧを９０°回転させた後、プレートＰＧの短辺側の露
光帯ＥＸ₃、ＥＸ₄について同様のシーケンスで露光す
る。以上のシーケンスから明らかなように、プレートＰ
Ｇ上に形成される露光帯の位置や幅、及び方向は、照射
ユニット２４Ａ、２４ＢのＸ方向の位置設定、可動ブラ
インド４１の設定、及びターンテーブル１４の９０°回
転の各組み合せによって意図したものにできる。またプ
レートＰＧのＹ方向のスキャンと９０°回転との組み合
わせ動作、或いはＹ方向のスキャンのみの動作は、原理
的には何度でも繰り返すことができる。

【００２３】また、プレートによってはその中央付近に
露光帯を入れることもある。その場合は照射ユニット２
４Ａ、２４Ｂのいずれか一方をローダーセンターライン
ＣＬ近傍に移動させればよい。以上、本発明の実施例を
説明したが、周辺露光のタイミングは、ステッパーによ
ってマスクパターンが露光された後、キャリア２（ある
いはキャリア１）にプレートＰＧを戻す過程で行っても
よいし、またはステッパーによるマスクパターンの露光
の直前に行ってもよい。また周辺露光によって形成され
る露光帯は、プレートの各辺の長さよりも短くすること
もある。その場合、露光帯の長さや、プレート上での配
置を正確に管理する必要があるので、ベース移動ユニッ
ト１６にはリニアエンコーダ（又はロータリーエンコー
ダ）等の測長器を設けることが望ましい。このようにす
ると、例えば図１０に斜線で示すように、一方向に並ん
だ露光帯を分断したり、露光帯の交差部を排除したりす
ることができる。

【００２４】またベース移動ユニット１６のＹ方向移動
による周辺露光は、正方向又は負方向のどちらの移動に
よってもよい。さらに２つの照射ユニット２４Ａ，２４
Ｂの夫々からの露光光の照度をセンサー６０で計測して
プレートＰＧのＹ方向移動速度を決定する際、照射ユニ
ット２４Ａ，２４Ｂのうち低い照度値が得られた方を基
準として速度を決めるものとする。

【００２５】さらに周辺露光中は、フォーカスセンサー
によって常にプレートＰＧ上の照射領域ＳＰのＺ方向の
変位（デフォーカス量）をモニターできるので、その変
位量が所定の許容範囲内に追い込まれるように、照射ユ
ニット２４Ａ，２４Ｂの夫々をフォーカスサーボさせて
もよい。勿論、プレートＰＧの周辺露光時の移動がＸＹ
平面に対して平行性よく行われるなら、照射ユニット２
４Ａ，２４Ｂのオートフォーカスは周辺露光の直前に一
度だけ行い、周辺露光時はそのフォーカス状態にロック
しておいてもよい。

【００２６】本実施例の照射ユニット２４Ａ，２４Ｂ
は、Ｘ方向に独立に可動であるため、ユニット２４Ａ，
２４ＢのＸ方向移動機構を速度制御可能なものとしてお
くと、ユニット２４Ａ，２４ＢのＸ方向移動によっても
周辺露光が可能である。また照射ユニット２４Ａ，２４
Ｂは必ずしも同時に使う必要はない。さらに２つの照射
ユニットによるスポット照射領域ＳＰａ，ＳＰｂのＹ方
向位置は必ずしも一致している必要はなく、Ｙ方向にず
れていてもよい。

【００２７】また図１の構成からも明らかであるが、タ
ーンテーブル１４を図１の状態から９０°以外の任意の
角度だけ回転させてから、ベース移動ユニット１６によ
って周辺露光を行うと、プレートＰＧ上に露光帯を斜め
に形成することができる。

【００２８】

【発明の効果】以上、本発明によれば、角形基板の任意
の位置に、互いに直交する方向に延びた複数の露光帯を
形成することができるので、角形基板上に形成される本
来のマスクパターン露光領域の外形や配置がどのような
ものであっても、そのマスクパターン露光領域の周辺の
不要部分を、確実に露光させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例による露光装置におけるプレー
ト搬送装置を示す斜視図

【図２】周辺露光部の全体的な構成を示す斜視図

【図３】スポット照射系と焦点検出系との構成を示す斜
視図

【図４】スポット照射系のブラインド部の構成を示す部
分断面図

【図５】周辺露光用のスポット照射領域と焦点検出系の
スリット投影点との配置を示す図

【図６】周辺露光用の２つのスポット照射領域の配置を
示す図

【図７】斜入射光式の焦点検出系の検出原理を説明する
図

【図８】焦点検出系に使われるポジションセンサーの構
成を示す斜視図

【図９】プレート周辺露光の代表的な動作を説明する図

【図１０】プレート上に、異なる方向、異なる幅で複数
の帯状露光領域を形成する一例を示す図

【符号の説明】

１０アーム１４ターンテーブル１６ベース移動ユニット２４Ａスポット照射系２４Ｂスポット照射系３２Ａ光ファイバー３２Ｂ光ファイバー４０ブラインド機構４１ブラインド機構４４スポット照射用の投影対物レンズＰＧプレートＳＴステージＳＰスポット照射領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者白石嘉弘東京都品川区西大井１丁目６番３号株式会社ニコン大井製作所内 (72)発明者森岡利伸東京都品川区西大井１丁目６番３号株式会社ニコン大井製作所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面に感光層を有する角形基板を自動搬
送機構によって基板保管部から搬送して基板ステージ上
に載置し、該角形基板の感光層にマスクのパターンを転
写露光する露光装置において、前記自動搬送機構は、前記基板保管部と前記基板ステー
ジとの間の搬送路中に、前記角形基板の互いに対向する
２つの辺の夫々とほぼ平行な方向に、且つ該２つの辺の
長さとほぼ等しい距離だけ前記角形基板を一次元移動さ
せる一次元移動機構と、前記角形基板の向きをほぼ９０
°回転させる回転機構とを有し；さらに、前記一次元移
動機構による前記角形基板の移動軌跡中に露光用照明光
の照射領域が配置され、前記角形基板上の前記マスクの
パターンの転写領域外を局所的に露光する露光手段と；
該露光手段による局所的な照射領域を、前記一次元移動
の方向と直交する方向に関して変更するために、前記露
光手段の一部を駆動させる照射位置変更手段と；を備
え、前記一次元移動機構により前記角形基板を移動させつつ
前記露光手段による局所的な露光を行うことによって前
記角形基板上に一方向に延びた第１の帯状露光領域を形
成し、前記回転機構によって前記角形基板を回転させて
から前記一次元移動機構により前記角形基板を移動させ
ることによって前記角形基板上に前記一方向とほぼ直交
する方向に延びた第２の帯状露光領域を形成することを
特徴とする角形基板の露光装置。