JPH05190448A - 周辺露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】角形基板上の周辺部だけではなく、本来のマス
クパターン露光領域以外の任意の領域についても周辺露
光することが可能であり、しかも、スループットの低下
が少ない角型基板用の周辺露光装置を提供する。 【構成】本来のマスクパターンの露光を行なう露光装置
のステージに向けて角型基板の搬送を行なう搬送手段
（１０、１２、１４、１６、１８）と、その搬送手段に
よる角型基板の搬送路の途中に、角型基板へ任意の形状
のパターンを露光できる周辺露光光学系（２４、３０〜
３３、４０〜４３）とを設けた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示パネル等を製
造するための矩形状の大型基板、いわゆる角形基板（角
形プレート）の露光装置において、本来、角形プレート
上に露光される所定のマスクパターンの露光領域とは無
関係な特定の領域を露光用照明光で照射することでその
部分の感光層を事前に感光させる機能を備えた周辺露光
装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、電卓、ワープロ、パソコン、携帯
テレビ等の表示素子として、液晶表示パネルが多用され
るようになった。液晶表示パネルは、角形プレートとし
てのガラス基板上に透明薄膜電極をフォトリソグラフィ
の手法で所望の形状にパターニングして作られる。この
ための装置として、マスク上に形成された原画パターン
を投影光学系を介してガラス基板上のフォトレジスト層
に露光する、ミラープロジェクション方式のアライナー
やステップアンドリピート方式のステッパーが使われて
いる。被露光手段としてのガラス基板は年々大型化し、
最近では５００ｍｍ×５００ｍｍ程度のサイズのものが
使われている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ガラス基板上に原画パ
ターンを投影露光する前述のようなアライナーやステッ
パーは、そのガラス基板のほぼ全面に複数の同一なマス
クパターンを露光する。通常、各マスクパターンの露光
領域は、ガラス基板の周辺部において、大きいもので数
十ｍｍ程度の余白を作るように配列される。このため、
ポジ型レジストを用いてリソグラフィ工程を行うと、ガ
ラス基板の周辺部（余白部）は未露光であるので、現像
処理後にレジストが残存することになる。この残存レジ
ストは、ガラス基板の上面ばかりでなく、ガラス基板の
端面にも付着していることもある。従って、上述したプ
ロセスの後、ガラス基板の端面が何らかのストッパーに
よって係止される際に、その端面の残存レジストが剥離
してゴミになるといった問題があった。

【０００４】また、プロセスの都合上で、ガラス基板以
外のレジスト塗布面上の周辺部に残ったレジストを除去
したいという要求がある。この問題点は半導体ウェハを
扱うリソグラフィ工程では以前から着目されており、現
像処理の前にウェハの周辺部のみを一定の幅でレジスト
除去のための露光をすることでその問題点を解決しよう
とする試みが多数提案されている。ウェハの場合は、そ
の外形が円形であることから、ウェハをほぼ偏心なく回
転させつつ、ウェハ周辺部に露光用照明光を１〜５ｍｍ
程度の幅で照射することによってプリ露光を行なってい
る。

【０００５】ところが、角形プレートとしてのガラス基
板に関して、その周辺部のみを一定の幅で露光する方式
についての具体的な提案は存在しなかった。そこで、本
発明は、スループットの低下を招くことなく、かつガラ
ス基板上の周辺部だけではなく、本来のマスクパターン
露光領域以外の任意の領域についても周辺露光すること
が可能な周辺露光装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の周辺露光装置
は、上記の目的を達成するために以下に述べる構成を有
している。例えば、図１、図３に示す如く、露光装置に
より角形基板上に形成される所定のマスクパターンの露
光領域外を露光する周辺露光装置は、基板保管部（ＰＣ
１、ＰＣ２）から露光装置の露光用ステージ（ＳＴ）に
向けて角形基板（ＰＧ）を１次元的に搬送する１次元搬
送機構を含む搬送手段（１０、１２、１４、１６、１
８）と、この搬送手段（１０、１２、１４、１６、１
８）により角形基板（ＰＧ）が１次元的に搬送される搬
送路中に、角形基板（ＰＧ）へ周辺露光パターンを露光
する周辺露光光学系（２４、３０、３１、３２、３３、
４０、４１Ａ、４１Ｂ、４２、４３〔以下、３０、３
１、３２、３３は、３０〜３３と略記し、４０、４１
Ａ、４１Ｂ、４２、４３は、４０〜４３と略記する〕）
とを有するように構成したものである。

【０００７】そして、この周辺露光光学系（２４、３０
〜３３、４０〜４３）は、スリット状の光束断面を有す
るほぼ平行光束を供給する光束供給手段（２４）と、光
束供給手段（２４）からの光束によって角形基板（Ｐ
Ｇ）上に形状変更可能な周辺露光パターンを形成するパ
ターン形成手段（３０〜３３、４０〜４３）と、このパ
ターン形成手段により形成される周辺露光パターンの形
状を制御する制御手段（制御部５１）とを有するように
構成したものである。

【０００８】

【作用】本発明の周辺露光装置による周辺露光は、搬送
手段による角形基板の一次元的な搬送と、周辺露光光学
系による周辺露光パターンの基板への露光との組み合わ
せで行なわれる。具体的には、角形基板が搬送手段によ
り周辺露光光学系の露光領域内に搬送されると、周辺露
光が開始される。すると、基板上には所定の周辺露光パ
ターンが形成され、基板がそのまま搬送されると、その
角形基板上には周辺露光パターンが搬送方向に延びた第
１の周辺露光領域が形成される。

【０００９】一方、第１の周辺露光領域とは別形状の周
辺露光領域を角形基板上に形成するときには、周辺露光
光学系内に設けられたパターン形成手段自身のパターン
形状を変更することによって、角形基板上には変更され
た周辺露光パターンの形状が形成される。そして、角形
基板が搬送手段により１次元的に搬送されると、この変
更パターンが搬送方向に延びた第２の周辺露光領域が形
成される。

【００１０】従って、本発明の周辺露光装置では、１枚
の角形基板上において、スループットの低下を招くこと
なく、複数の異なる任意の形状の周辺露光領域の形成が
可能となる。なお、この角形基板の所定のマスクパター
ン領域外の周辺部分への露光を行なう動作と、基板を露
光用ステージに載置するローディング、及び露光用ステ
ージから基板保管部に搬送するアンローディングの動作
とを兼用させることができる。即ち、周辺露光に要する
時間は、本来の動作であるローディング、及びアンロー
ディングの動作に要する時間のみであるので、スループ
ット低下を少なくすることが可能となる。

【００１１】

【実施例】以下に本発明の実施例について図１を参照し
ながら説明する。図１は、本発明の第１の実施例による
周辺露光装置を模式的に表したものである。図１では、
角形基板であるプレートＰＧの搬送方向をＹ軸、プレー
トＰＧの被露光面の法線方向をＺ軸、Ｙ軸とＺ軸とに直
交する方向をＸ軸とした座標系をとっている。

【００１２】図１において、プレートＰＧにマスクパタ
ーンを露光する露光装置本体はステッパーとして、不図
示の投影光学系の光軸Ａx とプレートステージＳＴのみ
を表示する。このステッパーによる投影露光はステップ
アンドリピート方式であるものとし、露光時にプレート
ＰＧを載置するプレートステージＳＴはＸＹ座標系内で
二次元移動する。表面にレジスト層が塗布された複数枚
の角形のガラスプレートＰＧは、プレートキャリアＰＣ
１及びＰＣ２内にＺ方向に積載される。このプレートキ
ャリアＰＣ１、ＰＣ２からステッパーのプレートステー
ジＳＴに向けてプレートＰＧを搬送するプレート搬送機
構は、プレートＰＧの裏面を保持するフォーク状のアー
ム１０と、このアーム１０を一次元にスライドさせるた
めのアームガイド１２と、このアームガイド１２を矢印
Ｋ５方向に回転させるターンテーブル１４と、このター
ンテーブル１４を載置して図１中の矢印Ｋ１で示される
Ｙ方向に一次元移動させるベース移動ユニット１６と、
このベース移動ユニット１６の一次元移動を案内するガ
イド部１８とで構成される。このベース移動ユニット１
６は、その内部にエンコーダ等のプレート位置検出部５
４を有し、このプレート位置検出部５４によって、プレ
ートＰＧの搬送位置を検出する。

【００１３】図１で示されるようにプレートＰＧがアー
ム１０上に保持された位置を引出し位置と呼ぶ。この位
置からアーム１０が矢印Ｋ２のようにＹ方向に繰り出さ
れると、上記ステッパーによるマスクパターンの領域外
を露光する周辺露光光学系（２４、３０〜３３、４０〜
４３）の下方を通過し、プレートＰＧはセンターアップ
２０の直上に位置する。センターアップ２０は矢印Ｋ３
のようにＺ方向に上下動することによって、プレートＰ
Ｇをアーム１０から受け取る動作を行なう。また、セン
ターアップ２０は回転機構を備えているので、ステージ
ＳＴ上へ載置されるプレートＰＧの向きを変えることが
できる。スライダーアーム２２Ａ、２２Ｂは矢印Ｋ４の
ようにＹ方向に一次元移動し、センターアップ２０上の
プレートＰＧを受け取る。また、スライダーアーム２２
Ａ、２２Ｂは、Ｚ方向の動作が可能であるので、ステー
ジＳＴ上にプレートＰＧを載置できる。

【００１４】不図示の投影光学系の光軸Ａx に対して二
次元移動が可能であるステージＳＴ上に載置されたプレ
ートＰＧは、ステップアンドリピート方式により、マス
クパターンの露光が行われる。マスクパターンの露光が
終了したプレートＰＧは、スライダーアーム２２Ａ、２
２Ｂ、センターアップ２０、アーム１０、周辺露光光学
系（２４、３０〜３３、４０〜４３）を介して、再び図
１に示される引出し位置まで戻される。プレートＰＧが
この引出し位置にきたとき、ターンテーブル１４は、プ
レートＰＧのほぼ中央に位置する。その後、ターンテー
ブル１４が９０°回転することで、アーム１０は、キャ
リアＰＣ１又はＰＣ２に向けてＸ方向に繰り出し可能と
なる。そして、プレートＰＧは、キャリアＰＣ１又はＰ
Ｃ２内の元のスロットに収納される。

【００１５】ところで、第１の実施例では図１に示され
るように、引出し位置とセンターアップ２０との間の搬
送経路中には、周辺露光光学系（２４、３０〜３３、４
０〜４３）が設けられている。この周辺露光光学系（２
４、３０〜３３、４０〜４３）は、光を供給する光源部
２４と、この光源部２４からの光を制限してプレートＰ
Ｇ上に所望のパターンを形成するために、ＸＹ平面内で
移動する複数のブラインド４０〜４３と、このブライン
ド４０〜４３の位置を変更するブラインド駆動部３０〜
３３と、このブラインド駆動部３０〜３３の駆動を制御
してブラインド４０〜４３の位置を変更させる図３に示
す制御部５１とで構成される。

【００１６】ブラインド駆動部３０は、Ｘ方向に長辺を
持つ長方形状のブラインド４０の一端を支持しており、
内部のモーター等でブラインド４０をＹ方向に移動させ
る。ブラインド駆動部３１は、Ｙ方向に長辺を持つブラ
インド４１Ａ、４１Ｂの一端をそれぞれ支持し、内部の
モーター等でブラインド４１Ａ、４１Ｂを独立にＸ方向
に移動させる。ブラインド駆動部３２、３３は、Ｘ方向
において、ブラインド駆動部３１を挟むように設けられ
ており、Ｙ方向に長辺を持つ長方形状の各々のブライン
ド４２、４３の一端を支持し、各内部のモーター等で、
各ブラインド４２、４３をＸ方向に移動させる。

【００１７】また、ベース移動ユニット１６内部に設け
られたプレート位置検出部５４の検出位置とプレートＰ
Ｇの位置との対応付けを行うために、プレート端面検出
部５５Ａ、５５Ｂが、引出し位置とブラインド４０との
間に設けられている。このプレート端面検出部５５Ａ、
５５Ｂは、赤外光をプレートＰＧの搬送路を横切るよう
に投射する投光光学系５５Ａと、プレートＰＧの搬送路
を挟んで投光光学系５５Ａと対向する位置に設けられた
受光光学系５５Ｂとを有している。

【００１８】ここで、周辺露光光学系について具体的に
説明すると、まず、図１のＡ−Ａ’矢視断面図である図
２に示されるように、光源部２４は、光源としてのロン
グアークタイプの棒状ランプ１と、放物面状の反射面２
ａを持つ中空半円筒状の凹面鏡２と、シャッタ３とから
構成されている。この棒状ランプ１は、凹面鏡２の焦点
Ｆの位置に設けられており、凹面鏡２で反射された棒状
ランプ１からの光は、矩形断面を持つ略平行光束となっ
て、シャッタ３を通過する。このシャッタ３は、液晶等
の透過率可変部材で構成されており、後述する制御部５
１にて、電圧が印加されることにより、シャッタ３の透
過率が制御され、平行光束の供給又は停止が行なわれ
る。

【００１９】シャッタ３を通過した平行光束は、ブライ
ンド４０、４１Ａにより制限され、これを通過した光が
プレートＰＧ上に塗布されたレジストＲを感光させる。
このとき、プレートＰＧがＹ方向に搬送されていると、
斜線で示したように搬送方向に延びた周辺露光領域が形
成される。さて、ブラインド駆動部３０〜３３、光源部
２４内のシャッタ３、ベース移動ユニット１６は、図３
のブロック図に示すように、メモリー部５１Ａと演算部
５１Ｂとを有する制御部５１により制御される。

【００２０】具体的には、まず、キーボード等の入力部
５３を介して、プレートＰＧ上に形成すべき周辺露光領
域に関する情報が入力されると、この入力情報はメモリ
ー部５１Ａにメモリーされる。そして、このメモリーさ
れた情報に基づいて、演算部５１Ｂは、プレート上に露
光されるべき周辺露光領域を搬送方向（Ｙ方向）におい
て、複数の区画に分割した後、この分割した全区画数Ｍ
と搬送方向での各区画間の距離ΔＹ_N とを算出する。更
に、プレートＰＧのＸ方向の長さよりも短い周辺露光領
域が存在するときには、各区画をＸ方向に複数の区画に
分割した後、Ｘ方向の各区画間の距離ΔＸ_Niを算出し、
これらの算出結果を再びメモリー部５１Ａにメモリーさ
せる。以上の処理が完了すると、制御部５１は、メモリ
ー内の情報（Ｍ、ΔＹ_N 、ΔＸ_Ni）と、ベース移動ユニ
ット１６内に設けられたエンコーダ等のプレート位置検
出部５４からのプレート位置情報に基づいて、ブライン
ド駆動部３０〜３３、シャッタ３、ベース移動ユニット
１６を制御する。

【００２１】次に、図５（ａ）に示される周辺露光領域
を周辺露光するときの動作について説明する。まず、キ
ーボード等の入力部５３を用いて、プレートＰＧ上のど
の位置に周辺露光を行なうかを設定する。例えば、図５
（ａ）に斜線で示される如く、プレートＰＧの周辺露光
を行う時には、帯状のパターンのＸ、Ｙ方向の長さ（Ｘ
a 、Ｙa ）、幅（Ｘb 、Ｘc 、Ｙb 、Ｙc ）等が入力部
５３を介して制御部５１のメモリー部５１Ａに入力され
る。以下、この図５（ａ）に示す周辺露光領域をプレー
トＰＧに形成する場合についての動作を図３〜図８を参
照しながら説明する。

【００２２】図４は、本実施例の動作の一例を示すフロ
ーチャート図である。 （ステップ１００）ステップ１００では、制御部５１
は、入力部５３による露光すべき周辺露光領域の設定に
基づいて、図５（ｂ）に示すように、周辺露光領域を搬
送方向（Ｙ方向）に沿って第１の区画７１と第２の区画
７２、７２’と第３の区画７３との３つの区画に分割
し、区画の総数Ｍ＝３と、各区画の搬送方向の距離（Δ
Ｙ₁ 、ΔＹ ₂ 、ΔＹ₃ ）とを算出する。また、各区画で
周辺露光を行なうパターンが複数存在するとき、または
プレートＰＧのＸ方向の長さ（Ｘa ）よりも短いパター
ンが存在するときには、その区画をＸ方向に分割する。
このとき、図５（ｂ）に示すように第２の区画７２、７
２’のパターンのＸ方向の幅（ΔＸ₂₁、ΔＸ₂₃）、及び
非露光区画のＸ方向の幅（ΔＸ₂₂）を算出する。そし
て、算出された（Ｍ、ΔＹ₁ 、ΔＹ₂ 、ΔＹ₃ 、Δ
Ｘ₂₁、ΔＸ₂₂、ΔＸ₂₃）をメモリー部５１Ａにメモリー
し、ステップ１０１に移行する。 （ステップ１０１）ステップ１０１では、制御部５１
は、図５（ｂ）に示される第１の区画７１を周辺露光す
るために、区画の初値を表す区画番号Ｎを第１の区画、
即ちＮ＝１とする。そして、ステップ１０２に移行す
る。 （ステップ１０２）ステップ１０２では、プレートＰＧ
がプレートキャリアＰＣ１、ＰＣ２から引出され、プレ
ートステージＳＴへ向けて、プレートＰＧの搬送が開始
される。このとき、プレートＰＧは、常にアーム１０上
の同じ位置に載置されるとは限らないので、プレート端
面検出部５５Ａ、５５ＢでプレートＰＧの最先端の位置
が検出される。つまり、投光光学系５５Ａと受光光学系
５５Ｂとの間にプレートＰＧの先端が通過したときのプ
レート位置検出部５４の位置を基準位置とし、制御部５
１は、この基準位置からのプレート位置検出部５４の移
動量を求めて、プレートＰＧの正確な位置を検出する。
その後、ステップ１０３に移行する。 （ステップ１０３）ステップ１０３では、Ｎ番目の区画
の形状に見合った形状となるブラインド４０〜４３の位
置を設定する。この場合、図５（ｂ）に示す第１の区画
の７１の形状に見合ったブラインド４０〜４３の位置を
設定するために、制御部５１は、ブラインド駆動部３０
〜３３を駆動させて、ブラインド４０〜４３を図６
（ａ）に示される位置に移動させる。このブラインド４
０〜４３の位置の設定が完了すると、ステップ１０４に
移行する。 （ステップ１０４）ステップ１０４では、露光を開始す
る。制御部５１がシャッタ３に電圧を印加すると、シャ
ッタ３の透過率が高められる。そして、楕円鏡を介した
棒状ランプ１からの光は、シャッタ３と、図６（ｂ）に
示される位置に設定されたブラインド４０〜４３とを通
過して、プレートＰＧ上で幅ΔＹ₁ の帯状パターンの露
光を開始する。そして、ステップ１０５へ移行する。 （ステップ１０５）ステップ１０５では、プレートＰＧ
が搬送されている状態であるか否かを判断する。ここで
は、プレートＰＧが搬送されているので、ステップ１０
７に移行する。もし、プレートＰＧが搬送されていなけ
れば、ステップ１０６に移行する。 （ステップ１０６）ステップ１０６では、ブラインド４
０〜４３の位置を変える際に搬送を停止していた搬送機
構５４の搬送を開始させ、ステップ１０７に移行する。 （ステップ１０７）ステップ１０７では、制御部５１
は、露光開始から搬送されているプレートＰＧの移動距
離が第１の区画のＹ方向の距離ΔＹ₁ と等しいか否かを
判断する。プレートＰＧの移動距離が第１の区画のＹ方
向の距離ΔＹ₁ と等しくない場合には、等しくなるま
で、ステップ１０７を繰り返して実行する。そして、プ
レートＰＧの移動距離がΔＹ₁ と等しくなったときに、
次のステップ１０８へ移行する。 （ステップ１０８）ステップ１０８では、制御部５１
は、プレートＰＧの搬送を停止させ、シャッタ３への電
圧の印加を停止して、シャッタ３の透過率を零にする。
その後、ステップ１０９へ移行する。 （ステップ１０９）ステップ１０９では、第２の区画７
２、７２’のパターンの露光を行なうために、区画の初
値を表す区画番号Ｎを１増やし、１から２にする。 （ステップ１１０）ステップ１１０では、全ての区画に
ついて、周辺露光が完了したか否かを判断する。このと
き、条件式Ｎ≦Ｍを用いる。この場合は、総区画数Ｍ＝
３であり、現在、周辺露光が終了した区画は、第１の区
画７１のみであるので、ステップ１０３へ移行する。も
し、分割した区画のパターン７１、７２、７２’、７３
の周辺露光が完了したときは、ステップ１１１へ移行す
る。 （ステップ１１１）ステップ１１１では、周辺露光が完
了したプレートＰＧを本来のマスクパターンの露光を行
なうためのプレートステージＳＴに載置するため、プレ
ートＰＧの搬送を開始する。

【００２３】さて、現在において、露光が完了している
区画は、第１の区画７１のみであるので、次に、第２の
区画７２、７２’の周辺露光を行なうために、再び、ス
テップ１０３に移行し、ブラインド４０〜４３は、メモ
リー部５１Ａにメモリーされた第２の区画のパターン情
報（ΔＹ₂ 、ΔＸ₂₁、ΔＸ₂₂、ΔＸ₂₃）に基づいて、図
７（ａ）に示される位置に設定される。次に、ステップ
１０４として、プレートＰＧに露光を開始し、ステップ
１０５へ移行する。ステップ１０５では、プレートＰＧ
の搬送は現在停止しているので、ステップ１０６へ移行
し、ここで、プレートＰＧの搬送が再開される。そし
て、図７（ｂ）に示すようにプレートＰＧがΔＹ₂ 移動
するまで、ステップ１０７を繰り返して実行する。その
後、ステップ１０８からステップ１０９までを順次実行
する。この結果、プレートＰＧ上では、図５（ｂ）に示
される第２の区画７２、７２’への周辺露光が完了す
る。

【００２４】そして、次に、ステップ１１０に移行す
る。現在において、第３の区画７３への周辺露光が完了
していないので、再び、ステップ１０３へ移行する。こ
のとき、ブラインド４０〜４３は、メモリー部５１Ａに
メモリーされた第３の区画のパターン情報ΔＹ₃ に基づ
いて、図８（ａ）に示される位置に設定される。その
後、ステップ１０４の露光開始を実行する。次に、ステ
ップ１０５からステップ１０６までを実行し、プレート
ＰＧの搬送を再開させる。そして、図８（ｂ）に示すよ
うに、プレートＰＧがΔＹ₃ 移動するまで、ステップ１
０７を繰り返して実行する。その後、ステップ１０８か
らステップ１０９までが順次実行される。この結果、プ
レートＰＧ上には、図８（ｂ）に示される第３の区画７
３の周辺露光が完了する。

【００２５】このステップ１１０では、全ての区画につ
いて、周辺露光が完了しているため、条件式Ｎ≦Ｍは満
たされず、ステップ１１１へ移行する。ステップ１１１
では、周辺露光が完了したプレートＰＧに本来のマスク
パターンを投影露光するために、プレートステージＳＴ
へ向けて搬送が開始される。以上のステップ１００〜１
１１により、プレートＰＧ上には、図５（ｂ）に周辺露
光パターン７１、７２、７２’、７３が形成される。

【００２６】次に、第２の実施例について説明する。図
９は、第２の実施例における周辺露光装置の模式図であ
り、図９において、図１の第１の実施例と同じ機能を持
つ部材には、同じ符号を付してある。上述の第１の実施
例による周辺露光では、ローディング時に、各区画の周
辺露光パターンを順番に露光していたが、第２の実施例
では、プレートＰＧの搬送を停止することなく、より高
いスループットを実現するために、ローディング時に区
画番号が奇数の区画のみに周辺露光を行ない、アンロー
ディング時に区画番号が偶数の区画のみに周辺露光を行
う例を示す。

【００２７】第２の実施例では、ローディング時とアン
ローディング時とにおいて、周辺露光を行っているた
め、プレート位置検出部５４の検出値とプレートの位置
との対応付けをアンローディング時にも行う必要があ
る。このため、第１の実施例と異なる構成は、図９の周
辺露光光学系の模式図に示すように、プレート端面検出
部５６Ａ、５６Ｂを周辺露光光学系とセンターアップ２
０との間に配置している点であり、このプレート端面検
出部５６Ａ、５６Ｂは、図１０のブロック図に示す如
く、制御部５１によって制御されている。

【００２８】次に、ローディング時、アンローディング
時の両方で図１２（ａ）に示される周辺露光領域の露光
を行うときの動作を説明する。まず、キーボード等の入
力部５３を用いて、プレートＰＧ上のどの位置に周辺露
光を行なうかを設定する。例えば、図１２（ａ）に斜線
で示されるように、プレートＰＧの周辺部に露光を行う
時には、帯状のパターンのＸ、Ｙ方向の長さ（Ｘa 、Ｙ
a ）、幅（Ｘb 、Ｘc 、Ｙb 、Ｙc ）等を制御部５１の
メモリー部５１Ａに入力する。以下、この図１２（ａ）
に示す周辺露光パターンをプレートＰＧに形成する場合
についての動作を図１２、図１０〜図１４を参照しなが
ら説明する。

【００２９】図１１は、このときの制御部５１の動作を
示すフローチャート図である。 （ステップ２００）ステップ２００では、制御部５１
は、入力部５３による露光すべき周辺露光パターンの設
定に基づいて、図１２（ｂ）に示すように、周辺露光領
域を搬送方向（Ｙ方向）に沿って第１の区画７１と第２
の区画７２、７２’と第３の区画７３との３つの区画に
分割し、区画の総数Ｍ＝３と、各区画の搬送方向の距離
（ΔＹ₁ 、ΔＹ₂ 、ΔＹ₃ ）とを算出する。また、各区
画で周辺露光を行なうパターンが複数存在するとき、又
はプレートＰＧのＸ方向の長さ（Ｘa ）よりも短いパタ
ーンが存在するときには、その区画をＸ方向に分割す
る。このとき、図１２（ｂ）に示すように第２の区画の
パターンのＸ方向の幅（ΔＸ₂₁、ΔＸ₂₃）、及び非露光
区画のＸ方向の幅である（ΔＸ₂₂）を算出する。そし
て、（Ｍ、ΔＹ₁ 、ΔＹ ₂ 、ΔＹ₃ 、ΔＸ₂₁、ΔＸ₂₂、
ΔＸ₂₃）をメモリー部５１Ａにメモリーし、ステップ２
０１に移行する。 （ステップ２０１）ステップ２０１では、制御部５１
は、図１２（ｂ）に示される第１の区画７１を周辺露光
するために、区画の初値を表す区画番号Ｎを第１の区
画、即ちＮ＝１とする。そして、ステップ２０２に移行
する。 （ステップ２０２）ステップ２０２では、プレートＰＧ
がプレートキャリアＰＣ１、ＰＣ２から引出され、プレ
ートステージＳＴへ向けて、プレートＰＧの搬送（ロー
ディング）が開始される。このとき、プレートステージ
ＳＴと周辺露光光学系との間に設けられたプレート端面
検出部５５Ａ、５５Ｂは、プレートＰＧの先端の位置を
検出し、このときのプレート位置検出部５４の位置を基
準位置とする。以後、ローディング時において、制御部
５１は、この基準位置からのプレート位置検出部５４の
移動量を求めて、プレートＰＧの正確な位置を検出す
る。そして、ステップ２０３へ移行する。 （ステップ２０３）ステップ２０３では、制御部５１
は、Ｎ番目の区画の形状に見合った形状となるブライン
ド４０〜４３の位置を設定する。この場合、第１の区画
の７１の形状に見合ったブラインド４０〜４３の位置を
設定するために、制御部５１は、ブラインド駆動部３０
〜３３を駆動させて、ブラインド４０〜４３を図１３
（ａ）に示される位置に移動させる。このブラインド４
０〜４３の位置の設定が完了すると、ステップ２０４に
移行する。 （ステップ２０４）ステップ２０４では、露光を開始す
る。制御部５１がシャッタ３に電圧を印加すると、シャ
ッタ３の透過率が高められる。そして、楕円鏡２を介し
た棒状ランプ１からの光は、シャッタ３と、図１３
（ｂ）に示される位置に設定されたブラインド４０〜４
３とを通過して、プレートＰＧ上で幅ΔＹ₁ の露光を開
始する。そして、ステップ２０５へ移行する。 （ステップ２０５）ステップ２０５では、露光開始から
搬送されているプレートＰＧの移動距離が第１の区画の
Ｙ方向の距離ΔＹ₁ と等しいか否かを判断する。プレー
トＰＧの移動距離が第１の区画のＹ方向の距離ΔＹ₁ と
等しくない場合には、等しくなるまで、ステップ２０５
を繰り返して実行する。そして、プレートＰＧの移動距
離がΔＹ₁ と等しくなったときに、次のステップ２０６
へ移行する。 （ステップ２０６）ステップ２０６では、制御部５１
は、シャッタ３への電圧の印加を停止し、シャッタ３の
透過率を零にする。その後、ステップ２０７へ移行す
る。 （ステップ２０７）ステップ２０７では、第３の区画７
３のパターンの露光を行なうために、区画の初値を表す
区画番号Ｎを２増やし、１から３にする。 （ステップ２０８）ステップ２０８では、ローディング
時に行なう周辺露光、即ち、区画番号が奇数の区画につ
いて、周辺露光が完了したか否かを判断する。このと
き、条件式Ｎ≦Ｍを用いる。この場合は、総区画数Ｍ＝
３であり、周辺露光が終了した区画は、第１の区画７１
のみであるので、ステップ２０３へ移行する。もし、分
割した区画７１、７２、７２’、７３の区画番号Ｎが奇
数の区画について、全ての周辺露光が完了したときは、
ステップ２０９へ移行する。 （ステップ２０９）ステップ２０９では、プレートＰＧ
は、プレートステージＳＴに向けて搬送され、最終的
に、プレートステージＳＴ上に載置される。

【００３０】さて、現在、プレートＰＧ上では、パター
ンの露光が完了している区画は、第１の区画７１のみで
ある。このため、制御部５１は、第３の区画の周辺露光
を行なうために、ステップ２０３に移行する。ステップ
２０３では、メモリー部５１Ａにメモリーされた第３の
区画のパターン情報に基づいて、ブラインド４０〜４３
が図１３（ａ）に示される位置に設定され、ステップ２
０４に移行する。次に、ステップ２０４では、露光が開
始され、ステップ２０５に移行する。そして、ステップ
２０５において、プレートＰＧの移動距離と第３の区画
のＹ方向の距離ΔＹ₃ とが等しいか否かを判断する。こ
のプレートＰＧの移動距離とΔＹ₃ とが等しくなるま
で、ステップ２０５を繰り返して実行する。このプレー
トＰＧの移動距離とΔＹ₃ とが等しくなったときに、次
のステップ２０６に移行し、ここで、プレートＰＧに対
する露光を終了する。その後、ステップ２０７に移行
し、ここでは、区画の初値を表す区画番号Ｎを２増や
し、３から５にして、ステップ２０８に移行する。ステ
ップ２０８では、このときの総区画数Ｍ＝３、区画の番
号Ｎ＝５であるので、条件式Ｎ≦Ｍを満たさないので、
ステップ２０９へ移行する。ステップ２０９では、図１
３（ｂ）に示すように、第１の区画７１のパターンと第
３の区画７３のパターンとが露光されたプレートＰＧ
は、プレートステージＳＴに向けて搬送され、ステップ
２１０に移行する。 （ステップ２１０）ステップ２１０では、ステッパーに
よって、本来のマスクパターンの露光が行なわれる。そ
して、マスクパターンの露光が完了すると、ステップ２
１１へ移行する。 （ステップ２１１）ステップ２１１では、偶数番目の区
画である第２の区画７２、及び７２’のパターンの露光
を行なうために、区画の初値を表す区画番号Ｎ＝２と
し、ステップ２１２へ移行する。 （ステップ２１２）ステップ２１２では、プレートＰＧ
は、スライダーアーム２２Ａ、２２Ｂ、センターアップ
２０を介して、プレートステージＳＴから引出され、ア
ーム１０上に載置されてプレートキャリアＰＣ１、ＰＣ
２に向けての搬送（アンローディング）が開始される。
このとき、ステップ２０２のときと同様に、プレートＰ
Ｇは、アーム１０上の同じ位置に載置されるわけではな
いので、プレート端面検出部５６Ａ、５６Ｂでプレート
ＰＧの先端（搬送方向に対して）を検出する。そして、
この位置を基準位置とし、プレート位置検出部５４とプ
レートＰＧの位置との対応付けを行う。その後、ステッ
プ２１３へ移行する。 （ステップ２１３）ステップ２１３では、制御部５１
は、Ｎ番目の区画の形状に見合った形状となるブライン
ド４０〜４３の位置を設定する。この場合、第２の区画
７２、７２’の形状に見合ったブラインド４０〜４３の
位置を設定するために、制御部５１は、メモリー部５１
Ａにメモリーされた（ΔＸ₂₁、ΔＸ₂₂、ΔＸ₂₃）に基づ
いて、ブラインド駆動部３０〜３３を駆動させて、ブラ
インド４０〜４３を図１４（ａ）に示される位置に設定
する。このブラインド４０〜４３の位置の設定が完了す
ると、ステップ２１４に移行する。 （ステップ２１４）ステップ２１４では、露光を開始す
る。露光を行う制御部５１は、シャッタ３に電圧を印加
すると、シャッタ３の透過率が高められる。楕円鏡２を
介した棒状ランプ１からの光は、シャッタ３を透過す
る。そして、図１４（ｂ）に示されるように、ブライン
ド４０〜４３を通過して、プレートＰＧ上に幅ΔＸ₂₁と
幅ΔＸ₂₃との帯状のパターンの露光が開始される。そし
て、ステップ２１５へ移行する。 （ステップ２１５）ステップ２１５では、露光開始から
搬送されているプレートＰＧの移動距離が第２の区画の
Ｙ方向の距離ΔＹ₂ と等しいか否かを判断する。プレー
トＰＧの移動距離が第２の区画のＹ方向の距離ΔＹ₂ と
等しくない場合には、等しくなるまで、ステップ２１５
を繰り返して実行する。そして、プレートＰＧの移動距
離がΔＹ₂ と等しくなったときに、次のステップ２１６
へ移行する。 （ステップ２１６）ステップ２１６では、制御部５１
は、シャッタ３への電圧の印加を停止し、シャッタ３の
透過率を零にする。その後、ステップ２１７へ移行す
る。 （ステップ２１７）ステップ２１７では、区画の初値を
表す区画番号Ｎを２増やし、１から３にする。 （ステップ２１８）ステップ２１８では、アンローディ
ング時に行なう周辺露光、即ち、区画番号Ｎが偶数の区
画について、周辺露光が完了したか否かを判断する。こ
のとき、条件式Ｎ−１＜Ｍを用いる。この場合は、総区
画数Ｍ＝３であり、周辺露光が終了した区画番号Ｎが偶
数の区画は、第２の区画７２、７２’であるのでＮ＝４
となる。従って、条件式Ｎ−１＜Ｍは満たされず、ステ
ップ２１９へ移行する。

【００３１】もし、区画番号Ｎが偶数の区画の周辺露光
が完了していない場合、即ち、条件式Ｎ−１＜Ｍが満た
されるときには、ステップ２１２へ移行し、区画番号Ｎ
が偶数の区画の周辺露光が完了するまで、ステップ２１
３からステップ２１８までが繰り返して実行される。 （ステップ２１９）ステップ２１９では、プレートＰＧ
は、プレートキャリアＰＣ１、ＰＣ２に載置される。

【００３２】以上のステップ２００〜２１９により、プ
レートＰＧ上には、ステッパーによる本来のマスクパタ
ーンの露光領域とそのマスクパターン露光領域外の図１
２（ｂ）に示される周辺露光パターン７１、７２、７
２’、７３が形成される。ところで、第１、及び第２の
実施例の周辺露光では、帯状の露光パターンが一定の幅
であった。ここで、周辺露光中にブラインド４０〜４３
の位置を移動させれば、プレートＰＧ上において、斜め
の周辺露光パターンを形成することができる。

【００３３】ここで、第１の実施例において、例えば、
図１５（ａ）に示すようにプレートＰＧ上に斜めの露光
パターンを形成させる場合について、図３に示すブロッ
ク図、図１５（ａ）、図１５（ｂ）、図１６（ａ）、図
１６（ｂ）を参照して説明する。図１５（ａ）に示すよ
うに、プレートＰＧ上に斜めの周辺露光パターンを形成
させるときには、周辺露光パターンのＸ方向の長さ（Ｘ
a ）、幅（Ｘb₁, Ｘb₂）、及び周辺露光パターンのＹ方
向の長さ（Ｙa ）、幅（Ｙb , Ｙc ）を入力部５３を用
いて設定する。この設定した情報は、メモリー部５１Ａ
にメモリーされる。そして、この情報に基づいて、制御
部５１は、周辺露光領域を第１の区画７４と第２の区画
７５と第３の区画７６とに分割する。このとき、制御部
５１は、第２の区画７５の露光開始時のＸ方向の幅であ
る（ΔＸ_21S 、ΔＸ_22S ）と露光終了時のＸ方向の幅で
ある（ΔＸ_21E 、ΔＸ_22E ）とを算出する。

【００３４】以下、プレートＰＧ上の第２の区画７５の
パターンを斜めに露光する場合についてのみ説明する。
ブラインド４０〜４３は、第２の区画７５への周辺露光
中に、図１６（ａ）に示されるプレートＰＧ上に形成さ
れるパターンのＸ方向の幅がΔＸ_22S となる位置から、
図１６（ｂ）に示されるプレートＰＧ上に形成されるパ
ターンのＸ方向の幅がΔＸ_22E となる位置まで移動す
る。つまり、プレートＰＧを搬送させつつ、ブラインド
４０〜４３を通過する光束の幅をΔＸ_22S からΔＸ_22E
まで変化させているので、プレートＰＧ上において、図
１５（ｂ）に示されるようなＸ方向の幅がΔＸ_22S から
ΔＸ_22E まで連続的に変化した斜めの周辺露光パターン
７５を形成する事ができる。

【００３５】次に、本発明の第３の実施例について説明
する。図１７は、第３の実施例による周辺露光装置の模
式図であり、図１７において、上述した図１の第１の実
施例と同じ機能を持つ部材には同じ符号を付してある。
本実施例において、図１の第１の実施例と異なる構成
は、複数の遮光パターンを持つブラインドマスク４４と
ブラインドマスクの位置を変更するブラインドマスク駆
動部３４とを設けた点である。このブラインドマスク駆
動部３４は、ブラインドマスク４４の一端を支持し、内
部のモーター等でブラインドマスク４４をその遮光パタ
ーンの内の一つのパターンが光源部２４の直下に位置す
るように移動させる。例えば、図１９（ａ）に斜線で示
される領域に周辺露光を行う場合には、このブラインド
マスク４４は、図２０に示されるように、Ｘ方向の幅が
ΔＸ ₁₁である矩形状の開口を持ち、Ｘ方向の幅がΔＸ₁₁
である光束だけを通過させる遮光パターン４４Ａと、Ｘ
方向の幅ΔＸ₂₁、ΔＸ₂₃の２つの矩形状の開口を持ち、
Ｘ方向の幅ΔＸ₂₁の光束とＸ方向の幅ΔＸ₂₃の光束とを
通過させる遮光パターン４４Ｂとを有するように構成さ
れる。そして、図１９（ｂ）に示される周辺露光パター
ン７７を形成させるときには、光源部２４の直下に遮光
パターン４４Ａが位置し、周辺露光パターン４４Ｂを形
成させる時には、光源部２４の直下に遮光パターン４４
Ｂが位置する。

【００３６】次に、図１９（ａ）に示す周辺露光領域を
露光するときの動作について、図１８〜図２２を参照し
ながら説明する。まず、図１８に示されるキーボード等
の入力部５３を用いて、プレートＰＧ上のどの位置に周
辺露光を行なうかを設定する。例えば、図１９（ａ）に
斜線で示されるように、プレートＰＧの周辺部に露光を
行う時には、帯状のパターンのＸ、Ｙ方向の長さ（Ｘa
、Ｙa ）、幅（Ｘb 、Ｘc 、Ｙb 、Ｙc ）等を制御部
５１のメモリー部５１Ａに入力する。以下、この図１９
（ａ）に示す周辺露光パターンをプレートＰＧに形成す
る場合についての動作を図１９〜図２２を参照しながら
説明する。

【００３７】図２２は、このときの制御部５１の動作を
示すフローチャート図である。 （ステップ３００）ステップ３００では、制御部５１
は、入力部５３による露光すべき周辺露光パターンの設
定に基づいて、図１９（ｂ）に示すように、周辺露光領
域を搬送方向（Ｙ方向）に沿って第１の区画７７と第２
の区画７８、７８’と第３の区画７９との３つの区画に
分割し、区画の総数Ｍ＝３と、各区画の搬送方向の距離
（ΔＹ₁ 、ΔＹ₂ 、ΔＹ₃ ）とを算出する。そして、各
区画において、周辺露光を行なうパターンが複数存在す
るとき、又は、プレートＰＧのＸ方向の長さ（Ｘa ）よ
りも短いパターンが存在するときには、その区画をＸ方
向に分割する。このとき、図１９（ｂ）に示すように第
２の区画のパターンのＸ方向の幅（ΔＸ₂₁、ΔＸ₂₃）、
及び非露光区画の幅である（ΔＸ₂₂）を算出する。そし
て、（Ｍ、ΔＹ₁ 、ΔＹ₂ 、ΔＹ₃ 、ΔＸ₂₁、ΔＸ₂₂、
ΔＸ₂₃）をメモリー部５１Ａにメモリーし、ステップ３
０１に移行する。 （ステップ３０１）ステップ３０１では、一番目の周辺
露光パターン７７の露光を行うために、周辺露光パター
ンの露光する順番を表す初値ＮをＮ＝１とし、ステップ
３０２へ移行する。 （ステップ３０２）ステップ３０２では、プレートＰＧ
をステージキャリアＳＴに載置するために、プレートＰ
Ｇの搬送を開始する。そして、第１の実施例と同様に、
プレートＰＧの先端を検出し、ベース移動ユニットとプ
レートＰＧとの対応付けを行う。その後、ステップ３０
３へ移行する。 （ステップ３０３）ステップ３０３では、Ｎ番目に露光
する周辺露光パターンを形成させる形状の遮光パターン
が光源部２４の直下に位置するように、ブラインドマス
ク駆動部３４を駆動させる。この場合、１番目に露光す
る周辺露光パターン７７を形成させるので、図２１
（ａ）に示すように、遮光パターン４４Ａが不図示の光
源部２４の直下に位置する。そして、ステップ３０４へ
移行する。 （ステップ３０４）ステップ３０４では、周辺露光を開
始する。制御部５１がシャッタ３に電圧を印加すると、
シャッタ３の透過率が高められる。そして、楕円鏡を介
した棒状ランプ１からの光は、シャッタ３を通過し、図
２１（ａ）に示されるように、遮光パターン４４Ａで制
限される。この制限された光束２４ａは、プレートＰＧ
上に幅ΔＸ₁₁のパターンを露光する。そして、ステップ
３０５へ移行する。 （ステップ３０５）ステップ３０５では、プレートＰＧ
が搬送中であるか否かを判断する。この場合、プレート
ＰＧは、搬送されているので、ステップ３０７へ移行す
る。ただし、プレートＰＧが搬送されていない場合に
は、ステップ３０６へ移行する。 （ステップ３０６）ステップ３０６では、搬送が停止し
ていたプレートＰＧの搬送を再開し、ステップ３０７へ
移行する。 （ステップ３０７）ステップ３０７では、制御部５１
は、露光開始時からのプレートＰＧの移動距離と、メモ
リー部５１Ａにメモリーされている１番目の周辺露光パ
ターン７７のＹ方向の距離ΔＹ₁ とが等しいか否かを判
断する。プレートＰＧの移動距離と１番目の周辺露光パ
ターン７７のＹ方向の距離ΔＹ₁ と等しくない場合に
は、等しくなるまで、ステップ３０７を繰り返して実行
する。そして、プレートＰＧの移動距離がΔＹ₁ と等し
くなったときに、次のステップ３０８へ移行する。 （ステップ３０８）ステップ３０８では、制御部５１
は、プレートＰＧの搬送を停止させ、シャッタ３への電
圧の印加を停止して、シャッタ３の透過率を零にする。
その後、ステップ３０９へ移行する。 （ステップ３０９）ステップ３０９では、２番目の周辺
露光パターン７８、及び７８’の露光を行なうために、
周辺露光パターンの初値Ｎを１増やし、１から２にす
る。 （ステップ３１０）ステップ３１０では、周辺露光パタ
ーンの露光が完了したか否かを判断する。このとき、条
件式Ｎ≦Ｍを用いる。この場合は、周辺露光パターンの
総数Ｍ＝３であり、露光が終了した周辺露光パターン
は、一番目の周辺露光パターン７７のみであるので、ス
テップ３０３へ移行する。もし、周辺露光パターン７７
〜７９の露光が完了したときは、ステップ３１１へ移行
する。 （ステップ３１１）ステップ３１１では、周辺露光が完
了したプレートＰＧを本来のマスクパターンの露光を行
なうためのプレートステージＳＴに載置するため、プレ
ートＰＧの搬送を開始する。

【００３８】さて、現在において、１番目の周辺露光パ
ターン７７の露光のみが終了しているので、次に、２番
目の周辺露光パターン７８、及び７８’の露光を行なう
ために、再び、ステップ３０３に移行し、図２１（ｂ）
に示すように、不図示の光源部２４の直下に遮光パター
ン４４Ｂを位置させる。次に、ステップ３０４として、
図２１（ｂ）に示されるように、不図示の光源部２４か
らの光束は、遮光パターン４４Ｂにより制限され、光束
２４ｂ、２４ｂ’として、プレートＰＧ上に向かい、幅
ΔＸ₂₁のパターンと幅ΔＸ₂₃のパターンとの露光を行
う。そして、ステップ３０５へ移行する。ステップ３０
５では、現在、プレートＰＧの搬送は停止しているの
で、ステップ３０６へ移行し、ここで、プレートＰＧの
搬送が再開される。そして、プレートＰＧの移動距離が
２番目の周辺露光パターン７８、及び７８’のＹ方向の
距離ΔＹ₂ と等しくなるまで、ステップ３０７を繰り返
して実行する。その後、ステップ３０８からステップ３
０９までを順次実行する。この結果、プレートＰＧ上で
は、図１９（ｂ）に示される周辺露光パターン７８、及
び７８’の露光が完了する。

【００３９】そして、次に、ステップ３１０に移行す
る。現在において、３番目の周辺露光パターン７９の露
光が終了していないため、３番目の周辺露光パターン７
９の周辺露光を行うために、再び、ステップ３０３へ移
行し、遮光パターン４４Ａを光源部２４の直下に位置さ
せる。そして、ステップ３０４の周辺露光開始を行う。
次に、ステップ３０５からステップ３０６までを実行
し、プレートＰＧの搬送を再開させる。その後、プレー
トＰＧの移動距離が３番目の周辺露光パターン７９のＹ
方向の距離ΔＹ₃ と等しくなるまで、ステップ３０７を
繰り返して実行し、その後、ステップ３０８からステッ
プ３０９までを順次実行する。この結果、プレートＰＧ
上には、図１９（ｂ）に示される３番目の周辺露光パタ
ーン７９の露光が完了する。このステップ３１０では、
周辺露光パターン７７、７８、７８’、７９の露光が完
了しているため、条件式Ｎ≦Ｍは満たされず、ステップ
３１１へ移行する。ステップ３１１では、周辺露光が完
了したプレートＰＧに本来のマスクパターンを投影露光
するために、プレートステージＳＴへ向けて、プレート
ＰＧの搬送が開始される。

【００４０】以上のステップ３００〜３１１により、プ
レートＰＧ上には、図１９（ｂ）に示される周辺露光パ
ターン７７、７８、７８’、７９が形成される。

【００４１】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、角形基
板の搬送と周辺露光とを同時に行っているので、スルー
プットの低下を招くことなく、周辺露光を実現できる。
また、角形基板上において、周辺露光パターンを任意の
位置、形状で形成することができるので、露光装置によ
り角形基板上に形成される所定のマスクパターンの露光
領域の形状や配置がどのようなものであっても、そのマ
スクパターン露光領域外で所定の周辺露光パターンを露
光することができる。

【００４２】特に、周辺露光領域を角形基板の搬送方向
に対して、複数の区画に分割して周辺露光を行うとき、
角形基板をプレートステージに載置するローディング時
に奇数番目の区画に周辺露光を行い、プレートステージ
から基板保管部へ搬送するアンローディング時に偶数番
目の区画に周辺露光を行えば、より高いスループットで
周辺露光が実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例による周辺露光装置を模
式的に表した斜視図。

【図２】図１のＡ−Ａ’矢視断面図。

【図３】本発明の第１の実施例におけるブロック図。

【図４】本発明の第１の実施例の動作を示すフローチャ
ート図。

【図５】本発明の第１の実施例の露光領域設定を説明す
る図。

【図６】本発明の第１の実施例における代表的な動作の
一例を説明する図。

【図７】本発明の第１の実施例における代表的な動作の
一例を説明する図。

【図８】本発明の第１の実施例における代表的な動作の
一例を説明する図。

【図９】本発明の第２の実施例の周辺露光装置を模式的
に表した斜視図。

【図１０】本発明の第２の実施例におけるブロック図。

【図１１】本発明の第２の実施例の動作を示すフローチ
ャート図。

【図１２】本発明の第２の実施例の露光領域設定を説明
する図。

【図１３】本発明の第２の実施例における代表的な動作
の一例を説明する図。

【図１４】本発明の第２の実施例における代表的な動作
の一例を説明する図。

【図１５】本発明の第１、及び第２の実施例において、
斜めの周辺露光パターンを形成するときの露光領域設定
の一例を説明する図。

【図１６】本発明の第１、及び第２の実施例において、
斜めの周辺露光パターンを形成するときの代表的な動作
の一例を説明する図。

【図１７】本発明の第３の実施例の周辺露光装置を模式
的に表した斜視図。

【図１８】本発明の第３の実施例におけるブロック図。

【図１９】本発明の第３の実施例の露光領域設定を説明
する図。

【図２０】本発明の第３の実施例におけるブラインドマ
スクの平面図。

【図２１】本発明の第３の実施例におけるブラインドマ
スクの動作の一例を説明する斜視図。

【図２２】本発明の第３の実施例の動作を示すフローチ
ャート図。

【符号の説明】

１０ ‥‥アーム １４ ‥‥ターンテーブル １６ ‥‥ベース移動ユニット ２４ ‥‥光源部 ＰＧ ‥‥プレート ＳＴ ‥‥プレートステージ ３０ ‥‥ブラインド駆動部 ３１ ‥‥ブラインド駆動部 ３２ ‥‥ブラインド駆動部 ３３ ‥‥ブラインド駆動部 ４０ ‥‥ブラインド ４１Ａ‥‥ブラインド ４１Ｂ‥‥ブラインド ４２ ‥‥ブラインド ４３ ‥‥ブラインド ５５Ａ‥‥プレート端面検出部 ５５Ｂ‥‥プレート端面検出部

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】露光装置により角形基板上に形成される所
   定のマスクパターンの露光領域外を露光する周辺露光装
   置において、 該周辺露光装置は、基板保管部から前記露光装置の露光
   用ステージに向けて前記角形基板を１次元的に搬送する
   １次元搬送機構を含む搬送手段と、 該搬送手段により前記角形基板が１次元的に搬送される
   搬送路中に、前記角形基板へ周辺露光パターンを露光す
   る周辺露光光学系とを有し、 該周辺露光光学系は、スリット状の光束断面を有するほ
   ぼ平行光束を供給する光束供給手段と、該光束供給手段
   からの光束によって前記角形基板上に形状変更可能な周
   辺露光パターンを形成するパターン形成手段と、該パタ
   ーン形成手段により形成される前記周辺露光パターンの
   形状を制御する制御手段とを有することを特徴とする周
   辺露光装置。
2. 【請求項２】前記パターン形成手段は、前記角形基板と
   平行な平面内で可動な遮光部材を複数持ち、該各々の遮
   光部材の位置は、前記制御手段によって制御されること
   を特徴とする請求項１記載の周辺露光装置。
3. 【請求項３】前記パターン形成手段は、第１の遮光パタ
   ーンと該第１の遮光パターンと異なる第２の遮光パター
   ンとを少なくとも有し、前記遮光パターンのいずれか一
   方が前記光束供給手段の照明光路内で選択的に設定可能
   に設けられていることを特徴とする請求項１記載の周辺
   露光装置。