JP2001350271A - 周辺露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 発塵源が少なく、角形基板の露光辺を一辺ず
つ一括に露光することが可能で、しかもコンパクトで、
スループットの低下の無い周辺露光装置を提供する。 【解決手段】水平方向に配置した棒状光源を有する露光
ユニットと、角形基板を載置するステージとから成り、
前記ステージは、前記棒状光源の軸方向と直交する方向
と回転方向の２軸のみ移動し得るように構成せしめた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、角形基板の表面に
形成されたレジストのうち、所定のマスクパターンが露
光される領域周辺の不要なレジスト領域を露光する周辺
露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウェハ等の基板、又は液晶表示パ
ネルの基板に配線パターンを形成する際は、先ず基板全
面にレジストを塗布しフォトリソグラフィ法により所望
の形状にパターニングして作られるが、通常、基板周辺
部に幅が数ｍｍ程度の帯状の余白を作るようにマスクパ
ターンの露光位置が決められている。

【０００３】このため、フォトリソグラフィ工程でポジ
型レジストを使用すると、現像処理後、基板周辺部に未
露光のレジストが帯状に残存することになる。かかる残
存レジストは不要であるばかりでなく後の製造工程にお
いてダストとなるため、スループット低下の要因の一つ
として大きな問題になる。そこで、かかる不要なレジス
ト領域を露光・現像して除去する必要がある。

【０００４】従来、角形基板の周辺露光装置として、例
えば、特開平１１−１５４６３９号公報、及び特開平５
−１９０４４８号公報に記載されている装置が知られて
いる。

【０００５】先ず、前者の装置はワークのサイズが大き
くなっても適応して周辺露光ができ、ワークを回転させ
ることがなく周辺露光を行なわんとするもので、ワーク
を載置する載置台５と、この載置台５の少なくとも一辺
側に設けた案内ガイド２と、この案内ガイド２に沿って
移動する移動機構３と、この移動機構３に沿って移動自
在に設けた光源装置４とを有し、前記光源装置４は、ワ
ークの周辺を露光しながら周回する構成にしている。

【０００６】また、後者の装置は、光を供給する光源部
２４と、この光源部２４からの光を制限してプレートＰ
Ｇ上に所望のパターンを形成するために、ＸＹ平面内で
移動する複数のブラインド４０〜４３と、このブライン
ド４０〜４３の位置を変更するブラインド駆動部３０〜
３３と、このブラインド駆動部３０〜３３の駆動を制御
してブラインド４０〜４３の位置を変更させる制御部５
１とで構成され、光源部２４は、光源としてのロングア
ークタイプの棒状ランプ１と、放物面状の反射面２ａを
持つ中空半円筒状の凹面鏡２と、シャッタ３とから構成
される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかるに、前者の装置
では、光源装置から照射される照射光がスポット光であ
り、ワークの周囲を走査して露光する構成をとってい
る。このため、ワーク上に移動機構が必要で、このこと
が発塵の要因となる。また、後者の装置では、光源とし
てロングアークタイプの棒状ランプを用いているが、帯
状の周辺露光パターンを得るために、ブラインド４０、
４１Ａ、４１Ｂ、４２、及び４３が必要であり、構造が
非常に複雑であると共に、周辺露光時のプレートＰＧの
搬送方向は棒状ランプの軸方向と直交する方向（Ｙ方
向）のみであるので、例えば、第２の区画７２、７２’
を露光する際には、Ｙ方向にプレートＰＧを一定速度で
移動させる必要がある。

【０００８】そこで、本発明は、発塵源が少なく、角形
基板の露光辺を一辺ずつ一括に露光することが可能で、
しかもコンパクトで、スループットの低下の無い周辺露
光装置を提供することを目的とするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
め、本発明は、水平方向に配置した棒状光源を有する露
光ユニットと、角形基板を載置するステージとから成
り、前記ステージは、前記棒状光源の軸方向と直交する
方向と回転方向の２軸のみ移動し得るように構成せしめ
たことを特徴とする。

【００１０】そして、露光ユニットは、棒状光源の両端
部及び両側部から夫々下方向に拡開する反射板と該反射
板の下部にマスクプレートを取り付けた構成にするのが
望ましい。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の一形態を図
面に基いて説明する。

【００１２】図１は本発明の周辺露光装置の構成を示す
概略斜視図であって周辺露光装置は、レジスト塗布され
た角形基板１の周辺露光部分を幅広く均一照度で露光さ
せる露光ユニット２と、角形基板１を保持するステージ
３とを備えた構成になっている。

【００１３】露光ユニット２は、紫外線（ＵＶ光線）の
棒状光源４とシャッター５、反射板６、マスクプレート
７などが組み込まれており、装置の架台（図示せず）に
取付されている。

【００１４】図１では１つの露光ユニット２を有してい
るが、複数同様な露光ユニット２を使用する場合もあ
る。ステージ３は角形基板１を保持する面が平坦な構
成、支持用ピンが突設された構成のものを使用するか、
角形基板１の側部を把持する機構を有する構成のものを
使用し、角形基板１を水平な状態または垂直な状態で保
持する。

【００１５】ステージ３は回転（θ方向）機構８と水平
方向の前後方向（Y方向）にのみ移動できる機構９を組
み合わせて、角形基板１を平面上に移動できるようにし
ている。

【００１６】上述のステージ３に対する角形基板１の供
給、露光済み角形基板１の取り出し操作は基板移載ロボ
ット、シャトル搬送移載機構、ローラコンベア等によっ
て行うか作業者の手作業によって行う。

【００１７】ステージ３に供給された角形基板１の位置
がずれている場合は、Ｌ字状位置合わせガイドもしくは
Ｌ字上の３点のみ接触するピン型のガイドを設け、該位
置合わせガイドに角形基板を押し付けて位置を合わせる
ことができる。

【００１８】図２、３は本発明の露光ユニット２の構成
を示す概略断面図であり、棒状光源４、シャッター５、
反射板６、マスクプレート７から構成される。

【００１９】棒状光源４は常時発光しておき、シャッタ
ー５の開放時間を制御することにより、露光条件を変化
させることができる。ここで、シャッター５の開放時間
は入力機能、記憶機能、比較演算機能、動作指令機能等
の機能を備えたコンピュータ等の制御装置（図示せず）
にあからじめ品種データとして制御装置に登録してお
く。シャッター５はモータ等のアクチュエータにより任
意に開閉動作可能な機構とする。

【００２０】また、ステージ３等に組み込まれた照度計
１０により、定期的に照度を測定し、照度測定値を制御
装置に入力させ適当なシャッター５の開放時間を演算さ
せることで、光源が経時劣化した場合でも安定した露光
品質を実現できる。

【００２１】ここでは、シャッター５の開放時間を制御
し露光条件を変化させる場合を説明したが、同様に光源
の電圧または、電流を変動させ光量を調整するとか、光
源の発光部にメッシュマスク等の遮光板を設置し光量を
調整するようにしても良い。

【００２２】図２、３に示すように、角形基板１の周辺
露光部よりも短尺の棒状光源４を用いた場合でも、反射
板によりUV光は拡散反射し、さらにマスクプレート７の
開口部を透過することで、均一照度のUV光帯を発生させ
ることができる。これは、さらに大型化した角形基板１
であっても、棒状光源１の対基板距離と、反射板６の拡
開角度、サイズを変更することで、任意の領域に対し均
一照度のUV光帯を発生することができるものである。

【００２３】角形基板１に対する周辺露光部分の位置デ
ータは、制御装置に予め品種データとして登録してお
き、そのデータに基づき、第一の露光辺が露光ユニット
２の直下までステージ３を高速移動させ、静止状態にな
ってから、シャッター５をある一定時間開放することに
より、マスクプレート７の開口部の形状と同一形状のUV
照射光が角形基板１に照射される。これにより、レジス
トが帯状に感光されることになる。

【００２４】この動作を角形基板１の場合であれば４辺
について行うことにより、角形基板１周囲の不要レジス
トが感光され、現像処理によって除去されることにな
る。

【００２５】図４は角形基板１の周囲４辺を周辺露光す
る場合の角形基板１の移動フロー図である。前述したよ
うに、第一辺目の露光位置へY方向移動機構とθ方向移
動機構により高速位置決めし、静止状態で一括に露光す
る。同様に第二、第三、第四辺目の露光を実施する。そ
の後、基板取り出し位置へY方向移動機構とθ方向移動
機構により高速移動され、前述した取り出し操作を実施
する。

【００２６】図１の装置構成はあくまでも一例であり、
処理速度を上げるために露光ユニット２が複数設置して
も良い。

【００２７】上述の実施例においては液晶用の角形基板
の露光について説明したが、本発明の周辺露光装置はあ
る定められた帯状の露光領域が必要な角形基板であれば
対応することができ、材質、形状等について特に限定さ
れないことはいうまでもない。

【００２８】また、マスクプレート７は長方形のものを
説明したが、本発明の周辺露光装置は任意形状の開口部
のマスクプレート７を使用することにより、その開口部
と同様に任意形状の周辺露光を実施できる。

【００２９】

【発明の効果】本発明の周辺露光装置は水平方向に配置
した棒状光源を有する露光ユニットと、角形基板を載置
するステージとから成り、前記ステージは、前記棒状光
源の軸方向と直交する方向と回転方向の２軸のみ移動し
得るように構成せしめたため、棒状光源により露光辺を
各辺毎に一括で露光することができるため、短時間で周
辺露光することができると共に装置全体をコンパクトに
することができる。また、角形基板を保持したステージ
側を移動させることで露光ユニット直下に露光辺を位置
決めするため、対象基板上での発塵源が少なくできると
いう効果を奏する。

【００３０】更に、露光ユニットを棒状光源の両端部及
び両側部から夫々下方向に拡開する反射板と該反射板の
下部にマスクプレートを取り付けた構成にすれば、角形
基板の露光辺より短尺の棒状光源であっても、露光部に
対し均一な照射光で一辺ずつ一括に露光することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の周辺露光装置の構成の実施例を示す概
略斜視図である。

【図２】棒状光源及び、反射板、マスクプレート、シャ
ッターから構成される露光ユニットの正面からの断面図
である。

【図３】棒状光源及び、反射板、マスクプレート、シャ
ッターから構成される露光ユニットの側面からの断面図
である。

【図４】本発明による周辺露光装置で周辺露光する際の
角形基板の移動フロー図である。

【符号の説明】

１ 角形基板 ２ 露光ユニット ３ ステージ ４ 棒状光源 ５ シャッター ６ 反射板 ７ マスクプレート ８ ステージ回転機構 ９ ステージ移動機構 １０ 照度計

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H097 AA08 LA10 LA12 5F046 AA28 CB02 CB05 CB06 CC01 CC06

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】水平方向に配置した棒状光源を有する露光
   ユニットと、角形基板を載置するステージとから成り、
   前記ステージは、前記棒状光源の軸方向と直交する方向
   と回転方向の２軸のみ移動し得るように構成せしめたこ
   とを特徴とする周辺露光装置。
2. 【請求項２】棒状光源の両端部及び両側部から夫々下方
   向に拡開する反射板と該反射板の下部にマスクプレート
   を取り付けた露光ユニットを用いることを特徴とする請
   求項１に記載の周辺露光装置。