JP2006216663A - 露光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 分割予定ラインの間隔が異なるウエーハに対してもマスク部材をその都度製作することなく露光することができる露光装置を提供する。
【解決手段】 表面に格子状の分割予定ラインが形成されたウエーハの裏面または表面に被覆されたレジスト膜を、分割予定ラインに沿って露光する露光装置であって、ウエーハを保持するチャックテーブルと、アライメント手段と、ライン光を露光するライン露光手段と、チャックテーブルとライン露光手段とを相対的に移動するインデックス手段とを具備し、ライン露光手段は透明板に遮光層とライン状の光透過部が形成されたレチクルマスクを備えたマスク手段と、レチクルマスクの該ライン状の光透過部を通してライン光を露光する発光手段とからなっている。
【選択図】 図1

Description

本発明は、表面に格子状の分割予定ラインによって区画された領域に機能素子が形成されたウエーハの裏面または表面に被覆されたレジスト膜を、分割予定ラインに沿って露光する露光装置に関する。
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に形成されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等の機能素子を形成する。そして、半導体ウエーハを分割予定ラインに沿って切断することにより機能素子が形成された領域を分割して個々の半導体チップを製造している。また、サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等の発光素子(機能素子)が積層された光デバイスウエーハも所定の分割予定ラインに沿って切断することにより個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。
上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等の分割予定ラインに沿った切断は、通常、ダイサーと称されている切削装置によって行われている。この切削装置は、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削するための切削ブレードを備えた切削手段と、チャックテーブルと切削手段とを相対的に移動せしめる加工送り手段とを具備し、切削ブレードを回転しつつ被加工物を保持したチャックテーブルを加工送りすることにより、ウエーハをストリートに沿って切断する。(例えば、特許文献1参照。)
特開2001−85365号公報
しかるに、上述した切削装置の切削ブレードによってウエーハを切断すると、分割された個々のチップの外周に細かな欠けが生じやすく、チップの抗折強度を低下させる原因となっている。このような問題を解消するために、ウエーハの裏面にレジスト膜を被覆し、該レジスト膜の分割予定ラインに対応する領域を露光することにより現像して除去し、その後、ウエーハをレジスト膜側からプラズマエッチング等によって分割予定ラインに沿ってエッチングすることにより、ウエーハを分割予定ラインに沿って分割する方法が提案されている。
而して、ウエーハの裏面に被覆されたレジスト膜の分割予定ラインに対応する領域を露光する露光工程においては、ウエーハに形成された分割予定ラインに対応したマスク部材を準備する必要があり、このマスク部材は分割予定ラインの間隔が異なるウエーハに対してその都度製作しなければならず、生産性の面で必ずしも満足し得るものではない。
本発明は上記事実に鑑みてなされたもので、その主たる技術課題は、分割予定ラインの間隔が異なるウエーハに対してもマスク部材をその都度製作することなく露光することができる露光装置を提供することにある。
上記主たる技術課題を解決するために、本発明によれば、表面に格子状の分割予定ラインによって区画された領域に機能素子が形成されたウエーハの裏面または表面に被覆されたレジスト膜を、分割予定ラインに沿って露光する露光装置であって、
ウエーハを保持するチャックテーブルと、
該チャックテーブルに保持されたウエーハに形成された分割予定ラインを検出するアライメント手段と、
該チャックテーブルに保持されたウエーハの裏面または表面に被覆されたレジスト膜に、分割予定ラインに対応したライン光を露光するライン露光手段と、
該チャックテーブルと該ライン露光手段とを相対的に移動し、該チャックテーブルに保持されたウエーハに形成された分割予定ラインを該ライン光の露光位置に位置付けるインデックス手段と、を具備し、
該ライン露光手段は、透明板に遮光層とライン状の光透過部が形成されたレチクルマスクを備えたマスク手段と、該レチクルマスクの該ライン状の光透過部を通してライン光を露光する発光手段とからなっている、
ことを特徴とする露光装置が提供される。
上記マスク手段は上記レチクルマスクを複数備えており、該複数のレチクルマスク間隔を調整する間隔調整手段を具備している。上記インデックス手段は、チャックテーブルをレチクルマスクのライン状の光透過部と直交する方向に移動しチャックテーブルに保持されたウエーハに形成されている所定方向に延びる分割予定ラインをライン光の露光位置に位置付ける割り出し送り手段と、チャックテーブルを回動してチャックテーブルに保持されたウエーハに形成されている所定方向に延びる分割予定ラインと直交する方向の分割予定ラインをライン状の光透過部と平行に位置付ける回動手段とからなっている。チャックテーブルは複数からなり、ライン露光手段は複数のチャックテーブルにそれぞれ載置されたウエーハを同時に露光する。
本発明による露光装置おいては、インデックス手段によってチャックテーブルを移動し、チャックテーブルにそれぞれ保持されたウエーハに形成されている分割予定ラインを、レチクルマスクのライン状の光透過部を通して露光するライン光の露光位置に位置付けるので、マスク手段を分割予定ラインの間隔が異なるウエーハに対応してその都度製作する必要がない。
以下、本発明に従って構成された露光装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1には本発明に従って構成された露光装置の斜視図が示されている。図示の実施形態における露光装置は、基台2と、後述するウエーハを保持する複数(図示の実施形態においては2個)のチャックテーブル3、3と、基台2上に配設され2個のチャックテーブルをそれぞれ支持する2個のインデックス手段4、4と、2個のチャックテーブル3、3にそれぞれ保持された後述するウエーハに形成された分割予定ラインを検出するアライメント手段5と、2個のチャックテーブル3、3に保持されたウエーハにライン光を露光するライン露光手段6とを具備している。
上記2個のチャックテーブル3、3および2個のインデックス手段4、4について、図2を参照して説明する。なお、2個のチャックテーブル3、3および2個のインデックス手段4、4は同一構成であるため、以下一方の符号のみを記載する。
チャックテーブル3は、それぞれ多孔質材料から形成された吸着チャック31を具備しており、吸着チャック31上に後述するウエーハを図示しない吸引手段によって保持するようになっている。このチャックテーブル3は、インデックス手段4によって図1および図2において矢印Yで示す割り出し送り方向に移動せしめられるようになっているとともに、回動可能に構成されている。
インデックス手段4は、基台2(図1参照)上に矢印Yで示す割り出し送り方向に沿って平行に配設された一対の案内レール41、41と、該案内レール41、41上に矢印Yで示す割り出し送り方向に移動可能に配設された支持台42と、該支持台42上に配設され上記チャックテーブル3を回転可能に支持する円筒部材43と、該円筒部材43内に配設されチャックテーブル3を回動する回動手段としてのパルスモータ44と、支持台42を一対の案内レール41、41に沿って矢印Yで示す割り出し送り方向に移動させるための割り出し送り手段45を具備している。
上記支持台42は、その下面に上記一対の案内レール41、41と嵌合する一対の被案内溝421、421が設けられており、被案内溝421、421を一対の案内レール41、41に嵌合することにより、一対の案内レール41、41に沿って矢印Yで示す割り出し送り方向に移動可能に構成される。上記回動手段としてのパルスモータ44は、チャックテーブル3を所定角度毎に回動することができる。上記割り出し送り手段45は、上記一対の案内レール41と41の間に平行に配設された雄ネジロッド451と、該雄ネジロッド451を回転駆動するためのパルスモータ452等の駆動源を含んでいる。雄ネジロッド451は、その一端が上記基台2に固定された軸受ブロック453に回転自在に支持されており、その他端が上記パルスモータ452の出力軸に伝動連結されている。なお、雄ネジロッド451は、支持台42の中央部下面に突出して設けられた雌ネジブロック423に形成された貫通雌ネジ穴423aに螺合されている。従って、パルスモータ452によって雄ネジロッド451を正転および逆転駆動することにより、支持台42は案内レール41、41に沿って矢印Yで示す割り出し送り方向に移動せしめられる。
図1に戻って説明を続けると、上記アライメント手段5は、上記インデックス手段4を構成する一対の案内レール41、41の一端部上方に配設されている。このアライメント手段5は、図示の実施形態においては可視光線によって撮像する通常の撮像素子(CCD)の外に、被加工物に赤外線を照射する赤外線照明手段と、該赤外線照明手段によって照射された赤外線を捕らえる光学系と、該光学系によって捕らえられた赤外線に対応した電気信号を出力する撮像素子(赤外線CCD)等で構成された撮像手段51を具備しており、撮像手段51は撮像した画像信号を図示しない制御手段に送る。撮像手段51は、基台2に立設された支持柱52に装着された支持部材53に支持アーム54を介して支持されている。なお、撮像手段51が取付けられた支持アーム54は、支持部材内に配設された図示しない移動手段によって図1において矢印Xで示す方向、即ち上記矢印Yで示す割り出し送り方向と直交する方向に移動せしめられるように構成されている。
次に、ライン露光手段6について説明する。図示の実施形態におけるライン露光手段6は、マスク手段61と発光手段62とからなっている。マスク手段61は、上壁611と左側壁612と右側壁613と前端壁614によって形成されており、上記アライメント手段5の上方を覆うように基台2上に配設されている。このマスク手段61の上壁611には矩形状の開口611aが形成されており、この開口611aにレチクルマスク615が配設されている。レチクルマスク615は、図1および図3に示すように透明な合成石英ガラス板やソーダライム板材からなる透明板615aの表面にクロム膜等の金属膜によって形成された遮光層615bと、該遮光層615bに上記矢印Yで示す割り出し送り方向と直交する方向に電子ビーム描画等の手法によって形成された1本のライン状の光透過部615cとによって構成されている。なお、レチクルマスク615を形成する方法としては、透明板615aの表面にライン状の光透過部615cに相当にする線状のマスク部材を貼着して遮光層615bを形成し、その後マスク部材を剥離してライン状の光透過部615cを形成してもよい。このように構成されたレチクルマスク615を備えたマスク手段61内を上記チャックテーブル3が一対の案内レール41、41に沿って移動できるようになっている。ライン露光手段6を構成する発光手段62は、基台2に立設された支持柱63によって支持され、上記マスク手段61の上壁611に配設されたレチクルマスク615の上方位置に配設されており、ライン状の光透過部615cに向けて所定の光を照射する。
図示の実施形態における露光装置は以上のように構成されており、以下その作用について説明する。
ここで、上記露光装置によって露光される被加工物としてのウエーハについて、図7を参照して説明する。図7に示すウエーハ10は、シリコンウエーハからなっており、表面10aには互いに平行な複数の分割予定ライン101によって格子状に形成されている。そして、ウエーハ10の表面10aには、複数の分割予定ライン101によって区画された複数の領域に機能素子としての回路102が形成されている。このように構成されたウエーハ10は、裏面が研削されその厚さが例えば100μmに形成されている。このウエーハ10を分割予定ライン101に沿ってエッチングして個々のチップに分割するには、図8に示すようにウエーハ10の裏面10bに感光性レジスト膜11を形成する(レジスト膜形成工程)。
次に、上述したレジスト膜形成工程によってウエーハ10の裏面10bに形成された感光性レジスト膜11を分割予定ライン101に沿って露光し、分割予定ライン101と対応する領域を除去する露光工程を実施する。
露光工程は、先ず上記露光装置の2個のチャックテーブル3、3上にそれぞれウエーハ10の表面10a側を載置し、図示しない吸引手段を作動することにより2個のチャックテーブル3、3上にそれぞれウエーハ10、10を吸引保持する。従って、ウエーハ10、10はそれぞれ裏面10bに形成された感光性レジスト膜11が上側となる。このようにして、2個のチャックテーブル3、3上にそれぞれウエーハ10、10を保持したならば、チャックテーブル3、3を矢印Yで示す方向に作動してウエーハ10、10をアライメント手段5を構成する撮像手段51の撮像領域に位置付ける。チャックテーブル3、3が撮像手段51の撮像領域に位置付けられると、撮像手段51および図示しない制御手段によってウエーハ10、10の裏面10bに形成された感光性レジスト膜11における露光領域を検出するアライメント作業を実行する。即ち、先ず一方のチャックテーブル3に保持されたウエーハ10の直上に撮像手段51を位置付け、ウエーハ10の所定方向に形成されている分割予定ライン101を検出し、この分割予定ライン101が上記マスク手段61を構成するレチクルマスク615のライン状の光透過部615cと平行に位置付けられようにアライメントを遂行する。もし、所定方向に形成されている分割予定ライン101とライン状の光透過部615cが平行に位置付けられていない場合には、上記インデックス手段4のパルスモータ44を作動してチャックテーブル3従ってウエーハ10を回動させることによって分割予定ライン101とライン状の光透過部615cが平行になるようにアライメントする。また、ウエーハ10に形成されている所定方向と直交する方向に形成されている分割予定ライン101に対しても、同様にアライメントが遂行される。このとき、ウエーハ10の分割予定ライン101が形成されている表面10aは下側に位置しているが、撮像手段51が上述したように赤外線照明手段と赤外線を捕らえる光学系および赤外線に対応した電気信号を出力する撮像素子(赤外線CCD)等で構成されているので、ウエーハ10の裏面bに形成されたレジスト膜11側から透かしてウエーハ10を撮像することができる。このようにして、一方のチャックテーブル3に保持されたウエーハ10の裏面10bに形成された感光性レジスト膜11における露光領域を検出するアライメント作業を実施したならば、撮像手段51を図1において矢印Xで示す方向に移動して他方のチャックテーブル3に保持されたウエーハ10の直上に位置付け、他方のチャックテーブル3に保持されたウエーハ10に対して上述したアライメント作業を実行する。
以上のようにしてチャックテーブル3、3上に保持されているウエーハ10、10に形成されている分割予定ライン101を検出し、露光領域のアライメントが行われたならば、図3に示すようにウエーハ10、10を保持したチャックテーブル3、3を矢印Y1で示す方向、即ち上記スリット611aと直交する方向に移動し、ウエーハ10、10に形成されている分割予定ライン101における図において最右端の分割予定ライン101をマスク手段61を構成するレチクルマスク615のライン状の光透過部615cの直下に位置付ける。次に、発光手段62を附勢し上記ライン状の光透過部615cを通してウエーハ10、10の裏面10bに形成された感光性レジスト膜11にライン光を露光する(露光工程)。このライン光は、ウエーハ10、10に形成されている分割予定ライン101における図3において最右端の分割予定ライン101に対応した領域を露光する。このライン光による露光を1秒程度実施することにより、感光性レジスト膜11は分割予定ライン101に沿って露光され除去される。
上述したようにウエーハ10、10の裏面10bに形成された感光性レジスト膜11における図3において最右端の分割予定ライン101に対応した領域を除去したならば、インデックス手段4、4の割り出し送り手段45、45を構成するパルスモータ452、452を作動して、上記分割予定ラインの間隔分だけチャックテーブル3、3を矢印Y1で示す方向に移動する(割り出し工程)。この結果、チャックテーブル3、3に保持されたウエーハ10、10に形成された分割予定ライン101における図3において最右端から2番目の分割予定ライン101がマスク手段61を構成するレチクルマスク615のライン状の光透過部615cの直下に位置付けられる。そして、上記露光工程を実施する。このようにして、割り出し工程と露光工程を順次実施することにより、ウエーハ10、10の裏面10bに形成された感光性レジスト膜11における所定方向の分割予定ライン101と対応する領域を除去することができる。次に、インデックス手段4、4のパルスモータ44、44を作動してチャックテーブル3、3を90度回動せしめる。この結果、チャックテーブル3、3に保持されたウエーハ10、10は、上記所定方向に対して直角に形成された分割予定ライン101がマスク手段61を構成するレチクルマスク615のライン状の光透過部615cと平行に位置付けられる。そして、上述した割り出し工程と露光工程を順次実施することにより、ウエーハ10、10の裏面10bに形成された感光性レジスト膜11における上記所定方向と直角に形成された分割予定ラインと対応する領域が露光されて除去される。
以上のように図示の実施形態における露光装置においては、インデックス手段4、4のパルスモータ452、452を作動してチャックテーブル3、3をウエーハに形成された分割予定ラインの間隔分だけ移動する割り出し工程と、ウエーハ10、10の裏面10bに形成された感光性レジスト膜11に上記ライン状の光透過部615cを通して光を照射する露光工程を順次実施するので、分割予定ラインの間隔が異なるウエーハに対応してマスク手段61をその都度製作する必要がない。また、図示の実施形態においては、2個のチャックテーブル3、3を備えているので、2個のウエーハ10、10を同時に露光することができる。なお、図示の実施形態においては、2個のチャックテーブル3、3を備えた例を示したが、チャックテーブルは3個以上でもよい。
以上のようにして、ウエーハ10、10の裏面10bに形成された感光性レジスト膜11における全ての分割予定ラインと対応する領域が露光され除去されたならば、ウエーハ10、10は次工程である例えばプラズマエッチング工程に搬送される。
次に、マスク手段61の他の実施形態について図4および図5を参照して説明する。図4にはマスク手段61の他の実施形態を備えた露光装置が示されており、図5にはマスク手段61を構成する複数のレチクルマスクおよび複数のレチクルマスクの間隔を調整する間隔調整手段が示されている。なお、図4に示す実施形態においては、マスク手段61以外は上記図1に示す露光装置と実質的に同一であるため、同一部材には同一符号を付して、その説明は省略する。
図4および図5に示すマスク手段61は、上壁611に比較的大きな矩形状の開口611bが形成され、該開口611b部に3個のレチクルマスク71a、71b、71cがその間隔を調整可能に配設されている。3個のレチクルマスク71a、71b、71cは、上記図1および図3に示す実施形態におけるレチクルマスク615と同様に、それぞれ透明な合成石英ガラス板やソーダライム板材からなる透明板711の表面にクロム膜等の金属膜によって形成された遮光層712と、該遮光層712に上記矢印Yで示す割り出し送り方向と直交する方向に電子ビーム描画等の手法によって形成された1本のライン状の光透過部713とによって構成されている。このように構成された3個のレチクルマスク71a、71b、71cの両端には、それぞれL字状に形成された取付け部材714が装着されている。取付け部材714は、装着部714aと連結部714bとからなっており、装着部714aが3個のレチクルマスク71a、71b、71cの両端部にそれぞれ接着剤等によって装着される。
図示の実施形態における露光装置は、レチクルマスク71a、71b、71c従ってライン状の光透過部713の間隔を調整する間隔調整手段72を具備している。間隔調整手段72は、上記レチクルマスク71a、71b、71cの両端に装着された取付け部材714、714の連結部714b、714bにそれぞれ一端が支軸73によって揺動可能に連結されたリンク721、722と、取付け部材714の714b、714bにそれぞれ一端が支軸73によって揺動可能に連結されたリンク723、724と、取付け部材714の714b、714bにそれぞれ一端が支軸73によって揺動可能に連結されたリンク725、726と、上記リンク723の他端に支軸73によって一端が揺動可能に連結されたリンク728と、上記リンク726の他端に支軸73によって一端が揺動可能に連結されたリンク729とからなるリンク機構を備えている。なお、上記リンク722の他端とリンク725の他端は支軸73によって互いに揺動可能に連結され、リンク722とリンク723およびリンク724とリンク725はそれぞれ中間部が支軸73によってそれぞれ揺動可能に連結されている。
図示の実施形態における間隔調整手段72は、上記リンク機構を作動するための一対の作動手段74、74を具備している。作動手段74、74は、上記基台2(図4参照)上において割り出し送り手段45の一対の案内レール41と41の外側に平行に配設されている。この作動手段74、74は、それぞれ雄ネジロッド741と、該雄ネジロッド741を回転駆動するためのパルスモータ742等の駆動源を含んでいる。雄ネジロッド741は、その一端が上記基台2(図4参照)に固定された軸受ブロック743に回転自在に支持されており、その他端が上記パルスモータ742の出力軸に伝動連結されている。なお、雄ネジロッド741には、雌ネジブロック744に形成された貫通雌ネジ穴744aが螺合されている。このように構成された作動手段74におけるパルスモータ742のケースには上記リンク721、728の他端が支軸73によってそれぞれ揺動可能に連結され、雌ネジブロック744には上記リンク726、729の他端が支軸73によってそれぞれ揺動可能に連結されている。従って、パルスモータ742によって雄ネジロッド741を正転または逆転駆動することにより、雌ネジブロック744に沿って矢印Yで示す割り出し送り方向に移動せしめられる。この結果、リンク機構に取付け部材714を介して連結された3個のレチクルマスク71a、71b、71cは、その間隔が拡大または縮小せしめられる。
図4に戻って説明を続けると、上記レチクルマスク71aと71b間には蛇腹751が配設され、レチクルマスク71bと71c間には蛇腹752が配設されている。また、レチクルマスク71aとマスク手段61の上壁611に形成された開口611bの一方の縁辺との間には蛇腹753が配設され、レチクルマスク71cと開口611bの他方の縁辺との間には蛇腹754が配設されている。このようにマスク手段61の上壁611に形成された開口611b部に配設された蛇腹751、752、753、754は、上記発光手段62からの光を遮断するとともに、上記3個のレチクルマスク71a、71b、71cの移動を許容する機能を有する。
図4および図5に示すマスク手段61は以上のように構成されており、以下このマスク手段61を用いた露光作業について説明する。
まず、マスク手段61のレチクルマスク71a、71b、71cにそれぞれ形成されたライン状の光透過部713と713の間隔を、上述したウエーハ10、10に形成されている分割予定ライン101の間隔の整数倍で且つ最外側の分割予定ライン101と反対側の最外側の分割予定ライン101との間隔の3分の1の間隔になるように調整する。この調整は、上記間隔調整手段72のパルスモータ742を正転または逆転駆動することによって行う。このようにして、マスク手段61のレチクルマスク71a、71b、71cにそれぞれ形成されたライン状の光透過部713と713の間隔を調整したならば、上述したようにチャックテーブル3、3上に保持されているウエーハ10、10に形成された分割予定ライン101を検出し、露光領域のアライメントを実行する。そして、図6に示すようにウエーハ10、10を保持したチャックテーブル3をレチクルマスク71a、71b、71cの下方に移動し、レチクルマスク71aに形成されたライン状の光透過部713の直下にウエーハ10に形成されている分割予定ライン101における図において最右端の分割予定ライン101を位置付ける。この結果、レチクルマスク71bに形成されたライン状の光透過部713の直下にウエーハ10、10に形成されている全分割予定ライン101における図において最右端から3分の1に相当する分割予定ライン101が位置付けられ、レチクルマスク71cに形成されたライン状の光透過部713の直下にウエーハ10、10に形成されている全分割予定ライン101における図において最右端から3分の2に相当する分割予定ライン101が位置付けられる。
次に、発光手段62を附勢し上記レチクルマスク71a、71b、71cに形成されたライン状の光透過部713を通してウエーハ10、10の裏面10bに形成された感光性レジスト膜11にライン光を照射する(露光工程)。この結果、感光性レジスト膜11は、レチクルマスク71a、71b、71cに形成されたライン状の光透過部713の直下に位置するウエーハ10、10の3本の分割予定ライン101に沿って露光され除去される。
上述したように露光工程を実施したならば、上記インデックス手段4、4の割り出し送り手段45、45を構成するパルスモータ452、452を作動して、上記分割予定ライン101の間隔分だけチャックテーブル3、3を矢印Y1で示す方向に移動し(割り出し工程)、上記露光工程を実施することにより、ウエーハ10、10の3本の分割予定ライン101に沿って同時に露光することができる。このように図4乃至図6に示す実施形態においては、感光性レジスト膜11における複数本(図示の実施形態においては3本)の分割予定ライン101に対応した領域を同時に露光し除去することができるので、生産性が向上する。また、レチクルマスク71a、71b、71cに形成されたライン状の光透過部713の間隔は、間隔調整手段72のパルスモータ742を正転または逆転駆動することによって調整することができるので、分割予定ラインの間隔が異なるウエーハに対応することができる。
なお、上述した実施形態においては、レチクルマスク615および71a、71b、71cの表面(上面)に遮光層615bおよび712を形成した例を示したが、遮光層615bおよび712はレチクルマスク615および71a、71b、71cの裏面(下面)に形成し、ウエーハ10と対面するように構成してもよい。また、上述した実施形態においては、2個のチャックテーブルを備えた例を示したが、チャックテーブルは1個でもよい。また、上述した実施形態においては、ウエーハ10、10の裏面に感光性レジスト膜11を被覆した例を示したが、感光性レジスト膜11はウエーハ10、10の表面に被覆してもよい。
本発明に従って構成された露光装置の一実施形態を示す斜視図。 図1に示す露光装置に装備されるチャックテーブルおよびインデックス手段の一実施形態を示す斜視図。 図1に示す露光装置を構成するマスク手段のスリットの直下にチャックテーブルに保持されたウエーハの分割予定ラインを位置付けた状態を示す説明図。 本発明に従って構成された露光装置の他の実施形態を示す斜視図。 図4に示す露光装置に装備されるマスク手段を構成するスリットプレートおよび間隔調整手段の斜視図。 図4に示す露光装置を構成するマスク手段のスリットプレートに形成されたスリットの直下にチャックテーブルに保持されたウエーハの分割予定ラインを位置付けた状態を示す説明図。 被加工物であるウエーハの斜視図。 図7に示すウエーハの裏面に感光性レジスト膜が被覆された状態を示す斜視図。
符号の説明
2:基台
3:チャックテーブル
4:インデックス手段
41、41:案内レール
42:支持台
44:パルスモータ
45:割り出しし送り手段
451:雄ネジロッド
452:パルスモータ
453:雌ネジブロック
5:アライメント手段
52:撮像手段
6:ライン露光手段
61:マスク手段
615:レチクルマスク
615a:透明板
615b:遮光層
615c:ライン状の光透過部
62:発光手段
71a、71b、71c:レチクルマスク
711:透明板
712:遮光層
713:ライン状の光透過部
72:間隔調整手段
74:作動手段
741:雄ネジロッド
742:パルスモータ
751、752、753、754:蛇腹
10:ウエーハ
101:分割予定ライン
102:回路
11:感光性レジスト膜

Claims (4)

  1. 表面に格子状の分割予定ラインによって区画された領域に機能素子が形成されたウエーハの裏面または表面に被覆されたレジスト膜を、分割予定ラインに沿って露光する露光装置であって、
    ウエーハを保持するチャックテーブルと、
    該チャックテーブルに保持されたウエーハに形成された分割予定ラインを検出するアライメント手段と、
    該チャックテーブルに保持されたウエーハの裏面または表面に被覆されたレジスト膜に、分割予定ラインに対応したライン光を露光するライン露光手段と、
    該チャックテーブルと該ライン露光手段とを相対的に移動し、該チャックテーブルに保持されたウエーハに形成された分割予定ラインを該ライン光の露光位置に位置付けるインデックス手段と、を具備し、
    該ライン露光手段は、透明板に遮光層とライン状の光透過部が形成されたレチクルマスクを備えたマスク手段と、該レチクルマスクの該ライン状の光透過部を通してライン光を露光する発光手段とからなっている、
    ことを特徴とする露光装置。
  2. 該マスク手段は該レチクルマスクを複数備えており、該複数のレチクルマスク間隔を調整する間隔調整手段を具備している、請求項1記載の露光装置。
  3. 該インデックス手段は、該チャックテーブルを該レチクルマスクの該ライン状の光透過部と直交する方向に移動し該チャックテーブルに保持されたウエーハに形成されている所定方向に延びる分割予定ラインをライン光の露光位置に位置付ける割り出し送り手段と、該チャックテーブルを回動して該チャックテーブルに保持されたウエーハに形成されている所定方向に延びる分割予定ラインと直交する方向の分割予定ラインを該スリットと平行に位置付ける回動手段とからなっている、請求項1又は2記載の露光装置。
  4. 該チャックテーブルは複数からなり、該ライン露光手段は該複数のチャックテーブルにそれぞれ載置されたウエーハを同時に露光する、請求項1〜3のいずれかに記載の露光装置。
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