JPH03263810A - 半導体露光装置の振動制御方法 - Google Patents
半導体露光装置の振動制御方法Info
- Publication number
- JPH03263810A JPH03263810A JP2061232A JP6123290A JPH03263810A JP H03263810 A JPH03263810 A JP H03263810A JP 2061232 A JP2061232 A JP 2061232A JP 6123290 A JP6123290 A JP 6123290A JP H03263810 A JPH03263810 A JP H03263810A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vibration
- mass
- control device
- semiconductor aligner
- semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
半導体露光装置において、ステージの廓動・停止時には
大きな衝撃力が発生する。そのため装置自体の弾性振動
（固有振動）が励起され、位置決め時間の増加を生じる
。本発明はこのような半導体露光装置の振動制御装置に
関するものである。
大きな衝撃力が発生する。そのため装置自体の弾性振動
（固有振動）が励起され、位置決め時間の増加を生じる
。本発明はこのような半導体露光装置の振動制御装置に
関するものである。
（従来技術）
従来は、ステッパー等のように光源一体力式のため、ス
テージを水平面内に置くことができ、その結果ステージ
を支えるベースを非常に剛性の高い構造とすることがで
きた。従って、装置自体の弾性振動の周波数は非常に高
く、その振動が生じてもすぐに減衰し１位置決め時間を
左右するものではなかった。このため従来の露光装置で
は振動制御装置を設ける必要はなかった。
テージを水平面内に置くことができ、その結果ステージ
を支えるベースを非常に剛性の高い構造とすることがで
きた。従って、装置自体の弾性振動の周波数は非常に高
く、その振動が生じてもすぐに減衰し１位置決め時間を
左右するものではなかった。このため従来の露光装置で
は振動制御装置を設ける必要はなかった。
（発明が解決しようとする課題）
半導体露光装置において、ステージの赴動・停止時に生
しる装置自体の弾性振動を素早く減衰させることのでき
る方法を提供することを目的とする。
しる装置自体の弾性振動を素早く減衰させることのでき
る方法を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
半導体露光装置の支持部に慣性型の振動制御装置を取付
け、これにより半導体露光装置の弾性振動を低減するよ
うにした。
け、これにより半導体露光装置の弾性振動を低減するよ
うにした。
又振動制御装置として通常の動吸振機又はアクティブ制
御される動吸振機を使用し、これを支持部に取付けて弾
性振動を低減可能にした。
御される動吸振機を使用し、これを支持部に取付けて弾
性振動を低減可能にした。
（実施例）
第２図に縦型の半導体露光装置を示す。１と２は微動ス
テージで、工はステージ支持部４に支持され、２は粗動
ステージ３を介してステージ支持部５に支持されている
。このような露光装置では、第３図に示すような振動が
支持部に生じると、微動ステージ１に固定された焼き付
は回路パターンと微動ステージ２に固定されたウェハー
との間で位置ずれが生じ、正確な露光焼き付けができな
くなる。従って例えば第３図に示すような振動を静止さ
せるため、最も大きく振動する部分の近傍に第４図に示
すような支持部の振動吸収装置６を取付けるようにした
。
テージで、工はステージ支持部４に支持され、２は粗動
ステージ３を介してステージ支持部５に支持されている
。このような露光装置では、第３図に示すような振動が
支持部に生じると、微動ステージ１に固定された焼き付
は回路パターンと微動ステージ２に固定されたウェハー
との間で位置ずれが生じ、正確な露光焼き付けができな
くなる。従って例えば第３図に示すような振動を静止さ
せるため、最も大きく振動する部分の近傍に第４図に示
すような支持部の振動吸収装置６を取付けるようにした
。
振動吸収装置６は第１図（ａ）に示す如く、ばね１３を
単独に、或いはばね１３とダンパー１４の並列支持で支
えられる質量９とから構成されるもの、或いは第１図（
ｂ）の如くアクチュエータ１１とそのアクチュエータ１
１で支持される質量９と振動センサー１２と制御装置１
０とから構成されるものがある。
単独に、或いはばね１３とダンパー１４の並列支持で支
えられる質量９とから構成されるもの、或いは第１図（
ｂ）の如くアクチュエータ１１とそのアクチュエータ１
１で支持される質量９と振動センサー１２と制御装置１
０とから構成されるものがある。
さて第３図に示した振動モードは低減すべき振動モード
の一例で、最も位置決め精度に悪影響を及ぼすものであ
る。この振動モードにおいて大きく振動する位置に第４
図のように振動吸収装置６を取り付ける。この振動吸収
装置は、ステージ支持部４，５の振動に対し、それを打
ち消す方向に慣性力を作用させ、その結果振動を低減さ
せるようになっている。
の一例で、最も位置決め精度に悪影響を及ぼすものであ
る。この振動モードにおいて大きく振動する位置に第４
図のように振動吸収装置６を取り付ける。この振動吸収
装置は、ステージ支持部４，５の振動に対し、それを打
ち消す方向に慣性力を作用させ、その結果振動を低減さ
せるようになっている。
第工図は第３図の振動モートにおけるステージ支持部４
，５及び振動吸収装置６をモデル化したもので、ステー
ジ支持部４，５は主振動体質量８及びばね減衰要素７で
示し、振動吸収装置６は可動質量９及びばね１３−減衰
要素としてダンパー１４の構成（第１図（ａ））と、可
動質量９及びアクチュエータ１１．振動センサー１２．
制御装置１ｏの構成（第１図（ｂ））よりなっている。
，５及び振動吸収装置６をモデル化したもので、ステー
ジ支持部４，５は主振動体質量８及びばね減衰要素７で
示し、振動吸収装置６は可動質量９及びばね１３−減衰
要素としてダンパー１４の構成（第１図（ａ））と、可
動質量９及びアクチュエータ１１．振動センサー１２．
制御装置１ｏの構成（第１図（ｂ））よりなっている。
第１図（ａ）の構成では主振動体質量８の振動が可動質
量９に伝わり振動する。その振動によって発生する可動
質量９の慣性力は、可動質量９の質ｉｔｍとばね１３の
ばね定数にで表わされる角振動数看Ｅ７ンが、主振動体
単独の固有角振動数に一致するようにＫとｍを選択すれ
ば、主振動体質量８に対しそれが動こうとする方向と反
対方向に作用する。
量９に伝わり振動する。その振動によって発生する可動
質量９の慣性力は、可動質量９の質ｉｔｍとばね１３の
ばね定数にで表わされる角振動数看Ｅ７ンが、主振動体
単独の固有角振動数に一致するようにＫとｍを選択すれ
ば、主振動体質量８に対しそれが動こうとする方向と反
対方向に作用する。
また、第１図（ｂ）の構成では、主振動体質量８の振動
を振動センサー１２で検知し、主振動体質量８が動こう
とする方向と反対方向に可動質量９の慣性力が作用する
ようにアクチュエータ１１を駆動して振動を低減するよ
うになっている。
を振動センサー１２で検知し、主振動体質量８が動こう
とする方向と反対方向に可動質量９の慣性力が作用する
ようにアクチュエータ１１を駆動して振動を低減するよ
うになっている。
（効果）
半導体露光装置の支持部に慣性型の振動制御装置を取付
け、これにより半導体露光装置の弾性振動を低減するよ
うにしたので、半導体露光装置の弾性振動が効果的に低
減され、位置決め時間を短縮でき、半導体の生産性を向
上させることができるようになった。
け、これにより半導体露光装置の弾性振動を低減するよ
うにしたので、半導体露光装置の弾性振動が効果的に低
減され、位置決め時間を短縮でき、半導体の生産性を向
上させることができるようになった。
又使用する振動吸収装置は慣性型の振動制御装置である
ため、露光装置に取付けるだけで良く、それ以外に特別
な反力支持部を設ける必要が無いので、比較的小型で取
り扱い易いという利点がある。
ため、露光装置に取付けるだけで良く、それ以外に特別
な反力支持部を設ける必要が無いので、比較的小型で取
り扱い易いという利点がある。
第１図（ａ）及び（ｂ）は本発明に係る振動吸収装置を
モデル化した図。 第２図は半導体露光装置の概略図。 第３図は半導体露光装置の支持部の振動モードを示す。 第４図は支持部の吸振装置の取付位置を示す図。 図において； １．２ 微動ステージ ３ 粗動ステージ４．５ ステ
ージ支持部 ６ 振動吸収装置 ７ 減衰要素 ８ 主振動体質量 ９ 可動質量 １０ 制御装置 １］ アクチュエータ１２
振動センサー １３ ばね１４ ダンパー 以上
モデル化した図。 第２図は半導体露光装置の概略図。 第３図は半導体露光装置の支持部の振動モードを示す。 第４図は支持部の吸振装置の取付位置を示す図。 図において； １．２ 微動ステージ ３ 粗動ステージ４．５ ステ
ージ支持部 ６ 振動吸収装置 ７ 減衰要素 ８ 主振動体質量 ９ 可動質量 １０ 制御装置 １］ アクチュエータ１２
振動センサー １３ ばね１４ ダンパー 以上
Claims (2)
- （１）半導体露光装置の支持部に慣性型の振動制御装置
を取付け、これにより半導体露光装置の弾性振動を低減
するようにしたことを特徴とする半導体露光装置の振動
制御方法。 - （２）振動制御装置として動吸振機又はアクティブ制御
される動吸振機を使用することを特徴とする請求項（１
）記載の半導体露光装置の振動制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2061232A JPH03263810A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 半導体露光装置の振動制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2061232A JPH03263810A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 半導体露光装置の振動制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03263810A true JPH03263810A (ja) | 1991-11-25 |
Family
ID=13165272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2061232A Pending JPH03263810A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | 半導体露光装置の振動制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03263810A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006120927A1 (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-16 | Nikon Corporation | 光学要素駆動装置、投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
| US7168553B2 (en) | 2003-11-13 | 2007-01-30 | Applied Materials, Inc. | Dynamically balanced substrate carrier handler |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
1990
- 1990-03-14 JP JP2061232A patent/JPH03263810A/ja active Pending
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US7168553B2 (en) | 2003-11-13 | 2007-01-30 | Applied Materials, Inc. | Dynamically balanced substrate carrier handler |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| EP1879218A1 (en) * | 2005-05-02 | 2008-01-16 | Nikon Corporation | Optical element driving apparatus, projection optical system, exposure apparatus and device manufacturing method |
| JPWO2006120927A1 (ja) * | 2005-05-02 | 2008-12-18 | 株式会社ニコン | 光学要素駆動装置、投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
| US8400613B2 (en) | 2005-05-02 | 2013-03-19 | Nikon Corporation | Optical element driving apparatus, projection optical system, exposure apparatus and device manufacturing method |
| WO2006120927A1 (ja) * | 2005-05-02 | 2006-11-16 | Nikon Corporation | 光学要素駆動装置、投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
| EP1879218A4 (en) * | 2005-05-02 | 2010-03-17 | Nikon Corp | DEVICE FOR OPERATING AN OPTICAL ELEMENT, OPTICAL PROJECTION SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND COMPONENT MANUFACTURING METHOD |
| JP5125508B2 (ja) * | 2005-05-02 | 2013-01-23 | 株式会社ニコン | 光学要素駆動装置、投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5610686A (en) | Exposure apparatus including an antivibration control system | |
| KR101043356B1 (ko) | 능동 댐핑 서브조립체를 갖는 리소그래피 장치 | |
| KR100478527B1 (ko) | 방진장치 | |
| JPH06216003A (ja) | ステージ装置 | |
| JPH01284793A (ja) | 基板支持装置 | |
| US20070097340A1 (en) | Active damper with counter mass to compensate for structural vibrations of a lithographic system | |
| US6283041B1 (en) | Table support apparatus and exposure apparatus | |
| JPH03263810A (ja) | 半導体露光装置の振動制御方法 | |
| JP2002061703A (ja) | 防振方法及びこの防振方法を用いた防振装置 | |
| JP6681993B2 (ja) | 移動プラットフォーム装置、露光装置およびフォトリソグラフィ装置 | |
| WO1999026120A1 (fr) | Eliminateur de vibrations, dispositif d'alignement et procede d'exposition par projection | |
| JP2008082936A (ja) | 振動試験装置 | |
| JPH037816B2 (ja) | ||
| JP2010080624A (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
| US9689453B2 (en) | Active vibration absorber | |
| JP4223714B2 (ja) | ステージ装置 | |
| US8619361B2 (en) | Direct derivative feedforward vibration compensation system | |
| JPH06167414A (ja) | 加振装置または振動除去装置 | |
| JP2001050334A (ja) | アクティブ型除振装置 | |
| JP2000170827A (ja) | アクティブ型除振装置 | |
| JPH118181A (ja) | 投影型露光装置 | |
| JPH03125048A (ja) | 振動緩衝型ステージ装置 | |
| JPH03265734A (ja) | 精密機械を設置するテーブル等の精密振動制御方法 | |
| JPH09177872A (ja) | 精密除振装置 | |
| JP2007120614A (ja) | 動吸振器及びステージ装置 |