JPH08151220A - 石英ガラスの成形方法 - Google Patents
石英ガラスの成形方法Info
- Publication number
- JPH08151220A JPH08151220A JP31905094A JP31905094A JPH08151220A JP H08151220 A JPH08151220 A JP H08151220A JP 31905094 A JP31905094 A JP 31905094A JP 31905094 A JP31905094 A JP 31905094A JP H08151220 A JPH08151220 A JP H08151220A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- molding
- temperature
- mold
- carbon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/063—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction by hot-pressing powders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
Abstract
(57)【要約】
【目的】 石英ガラスを高温で任意の形状に成形する
際、型材に使用する高純度のカーボン材料との化学反応
を抑制し、歪み及びランダム方向の脈理が少なく、ま
た、離型剤を必要とすることなく、かつ泡の少ない高品
質石英ガラスの成形方法を提供する。 【構成】 石英ガラス素材を成形しようとする形状のカ
ーボン分割型へ装着し、該カーボン型をオートクレーブ
中で１００〜３００℃での昇温速度を５０〜２００℃／
時間として昇温し、１６００〜２２００℃の温度範囲で
５００〜１５００バールの範囲内で等方圧の加圧を行う
ことを特徴とする石英ガラスの成形方法。
際、型材に使用する高純度のカーボン材料との化学反応
を抑制し、歪み及びランダム方向の脈理が少なく、ま
た、離型剤を必要とすることなく、かつ泡の少ない高品
質石英ガラスの成形方法を提供する。 【構成】 石英ガラス素材を成形しようとする形状のカ
ーボン分割型へ装着し、該カーボン型をオートクレーブ
中で１００〜３００℃での昇温速度を５０〜２００℃／
時間として昇温し、１６００〜２２００℃の温度範囲で
５００〜１５００バールの範囲内で等方圧の加圧を行う
ことを特徴とする石英ガラスの成形方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、粘性の低い高温領域
で、気泡を生じさせずに、歪み、脈理、クラック、失透
のない高純度品質の石英ガラスを所望の形状に成形する
方法に関する。
で、気泡を生じさせずに、歪み、脈理、クラック、失透
のない高純度品質の石英ガラスを所望の形状に成形する
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から石英ガラスの成形法としては、
石英ガラスインゴットをグラファイト質又は黒鉛質の成
形型内に設置し、これを１６００〜１７００℃に加熱し
て押し棒等で加圧することによって所定形状に成形する
方法が用いられている（特開昭６１−８３６３８号公
報）。
石英ガラスインゴットをグラファイト質又は黒鉛質の成
形型内に設置し、これを１６００〜１７００℃に加熱し
て押し棒等で加圧することによって所定形状に成形する
方法が用いられている（特開昭６１−８３６３８号公
報）。
【０００３】また、加圧方式としては、大気圧でプレス
する方法、油圧プレス機等での局部強制荷重による負荷
をかけてのホットプレス等、外部から局部的に加圧する
方法がとられている。
する方法、油圧プレス機等での局部強制荷重による負荷
をかけてのホットプレス等、外部から局部的に加圧する
方法がとられている。
【０００４】石英ガラスの成形加工温度は、通常１６０
０〜２２００℃の範囲である。それは石英ガラスは１０
００℃以上の高温では粘性が急激に低下し、上記温度範
囲では１０4〜１０8ポアズの成形作業に適した粘性を保
つことができるからである。
０〜２２００℃の範囲である。それは石英ガラスは１０
００℃以上の高温では粘性が急激に低下し、上記温度範
囲では１０4〜１０8ポアズの成形作業に適した粘性を保
つことができるからである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、石英ガラスと
グラファイト質又は黒鉛質の成形型を加熱すると、両者
間でＳｉＯ2 とＣが反応してＳｉＯガスとＣＯガスが発
生し、特に１７００℃以上の温度になるとＳｉＯガスと
ＣＯガスが多量に発生して、これらのガスが石英ガラス
中に入り込み、石英ガラス中に気泡を発生させ、石英ガ
ラスの表面を荒して、品質の低下を来す。
グラファイト質又は黒鉛質の成形型を加熱すると、両者
間でＳｉＯ2 とＣが反応してＳｉＯガスとＣＯガスが発
生し、特に１７００℃以上の温度になるとＳｉＯガスと
ＣＯガスが多量に発生して、これらのガスが石英ガラス
中に入り込み、石英ガラス中に気泡を発生させ、石英ガ
ラスの表面を荒して、品質の低下を来す。
【０００６】さらに、加熱温度が１８００℃を超えると
ＳｉＯ2 の蒸気圧が高くなり、ＳｉＯ2 の気化による加
工ロスが増加し、かつＳｉＯ2 蒸気がさらにＳｉＯとＯ
2 に熱解離し、これらとグラファイト質又は黒鉛質の成
形型、ヒーター、断熱材、炉内壁等との反応が加速的に
増加し、これらの消耗を著しく増大させる。
ＳｉＯ2 の蒸気圧が高くなり、ＳｉＯ2 の気化による加
工ロスが増加し、かつＳｉＯ2 蒸気がさらにＳｉＯとＯ
2 に熱解離し、これらとグラファイト質又は黒鉛質の成
形型、ヒーター、断熱材、炉内壁等との反応が加速的に
増加し、これらの消耗を著しく増大させる。
【０００７】そしてまた、熱解離により生成したＯ2 が
黒鉛を酸化し、ＣＯ2 を生成、気化して軟化している石
英ガラス中に浸入して気泡を形成したり、ＳｉＯ2 とＣ
の反応により生成したＳｉＣやＳｉが石英ガラス表面に
付着、融着して、成形後の製品の透明性を低下させ、汚
染や、膨張係数の差によるクラックの発生の要因ともな
っていた。
黒鉛を酸化し、ＣＯ2 を生成、気化して軟化している石
英ガラス中に浸入して気泡を形成したり、ＳｉＯ2 とＣ
の反応により生成したＳｉＣやＳｉが石英ガラス表面に
付着、融着して、成形後の製品の透明性を低下させ、汚
染や、膨張係数の差によるクラックの発生の要因ともな
っていた。
【０００８】このように、本来は、石英ガラスの粘性は
高温になる程低下するので、加工性の点から高温での処
理が望ましいが、上記のような欠点から、石英ガラスの
品質を損わずに高温処理を行うことはできなかった。
高温になる程低下するので、加工性の点から高温での処
理が望ましいが、上記のような欠点から、石英ガラスの
品質を損わずに高温処理を行うことはできなかった。
【０００９】他方、１６００℃以下の温度では、ガスが
石英ガラス中に入り込むことは少なくなるが、粘性が比
較的大きいため、加圧を行っても成形に時間を要し、ま
た失透温度域になるため、失透が生じ易いなどの欠点が
ある。このため、特開昭６１−８３６３８号公報のよう
に、粘性が比較的小さくなる１６００〜１７００℃の温
度範囲で、押し棒等による加圧装置を用いて成形が行わ
れてきた。しかし、１７００℃以下の温度においても長
時間放置した場合は、インゴットの外表面で結晶化が始
まり、結晶化は次第にインゴット内部にまで進行してし
まう。
石英ガラス中に入り込むことは少なくなるが、粘性が比
較的大きいため、加圧を行っても成形に時間を要し、ま
た失透温度域になるため、失透が生じ易いなどの欠点が
ある。このため、特開昭６１−８３６３８号公報のよう
に、粘性が比較的小さくなる１６００〜１７００℃の温
度範囲で、押し棒等による加圧装置を用いて成形が行わ
れてきた。しかし、１７００℃以下の温度においても長
時間放置した場合は、インゴットの外表面で結晶化が始
まり、結晶化は次第にインゴット内部にまで進行してし
まう。
【００１０】さらに、加圧において、大気中でのプレス
による装置は、こうした粘性が比較的小さくなるといっ
た程度の温度域で短時間に成形するには、油圧プレス機
を使用したホットプレスのような外部から局部的に大き
な力を加える必要があり、型枠に強度を持たせるため、
成形型を厚くしたり、金属製の型やケースを取り付けた
り、また、熱的に保護するために冷却装置を必要とし、
作業上及び製造上のコストがかかる。
による装置は、こうした粘性が比較的小さくなるといっ
た程度の温度域で短時間に成形するには、油圧プレス機
を使用したホットプレスのような外部から局部的に大き
な力を加える必要があり、型枠に強度を持たせるため、
成形型を厚くしたり、金属製の型やケースを取り付けた
り、また、熱的に保護するために冷却装置を必要とし、
作業上及び製造上のコストがかかる。
【００１１】また、従来のこうした強制的局部荷重型の
ホットプレスでの成形の場合は、組織に歪みが生じ易く
なり、このため成形した石英ガラスにアニール処理を施
し、歪みを出来る限り取り除いて製品化していた。また
加圧に際して側壁方向への変形が大きく石英ガラスイン
ゴットの側壁付近においてランダム方向の脈理が発生し
て不良品となることが多かった。
ホットプレスでの成形の場合は、組織に歪みが生じ易く
なり、このため成形した石英ガラスにアニール処理を施
し、歪みを出来る限り取り除いて製品化していた。また
加圧に際して側壁方向への変形が大きく石英ガラスイン
ゴットの側壁付近においてランダム方向の脈理が発生し
て不良品となることが多かった。
【００１２】しかし、最近は石英ガラス製の光学部材や
半導体部材の大型化及び高品質化が要求されており、ア
ニール処理でも取り除けない歪みや脈理が問題となって
おり、また、成形後のアニール処理は、製造上のコスト
的にもマイナスである。
半導体部材の大型化及び高品質化が要求されており、ア
ニール処理でも取り除けない歪みや脈理が問題となって
おり、また、成形後のアニール処理は、製造上のコスト
的にもマイナスである。
【００１３】他方、黒鉛等の成形容器を用いて高温下で
加圧成形すると、グラファイトまたは黒鉛製の成形型面
に、熱間成形で石英ガラスが融着し、冷却時における熱
収縮の差によって石英ガラスと成形型の接触面が割れた
り、石英ガラス成形品にクラックの入ることがあり、場
合によっては成形型が破壊されることがある。
加圧成形すると、グラファイトまたは黒鉛製の成形型面
に、熱間成形で石英ガラスが融着し、冷却時における熱
収縮の差によって石英ガラスと成形型の接触面が割れた
り、石英ガラス成形品にクラックの入ることがあり、場
合によっては成形型が破壊されることがある。
【００１４】このため、石英ガラスと黒鉛等の成形容器
の接触面に煤状炭素やシリカゾルー炭化珪素スラリーを
容器表面に塗布し、粒状炭化珪素が石英ガラスと成形容
器面の界面に分散され、直接接触が妨げられて石英ガラ
ス成形品の剥離を容易とする技術が開示されている（特
開昭６２−１４８３３１号公報）。
の接触面に煤状炭素やシリカゾルー炭化珪素スラリーを
容器表面に塗布し、粒状炭化珪素が石英ガラスと成形容
器面の界面に分散され、直接接触が妨げられて石英ガラ
ス成形品の剥離を容易とする技術が開示されている（特
開昭６２−１４８３３１号公報）。
【００１５】しかし、１７００℃の高温時や塗布面にム
ラがあると、煤状炭素ではＳｉＯ2＋Ｃ→ＳｉＯ＋Ｃ
Ｏ，ＳｉＯ＋２Ｃ→ＳｉＣ＋ＣＯの反応が起こり、成形
型面にＳｉＯ蒸気が浸透して成形型の基材であるグラフ
ァイトまたは黒鉛と反応して炭化珪素となるため、これ
をそのまま再度使用すると、すす層が極めて剥離しやす
くなって融着が起る。
ラがあると、煤状炭素ではＳｉＯ2＋Ｃ→ＳｉＯ＋Ｃ
Ｏ，ＳｉＯ＋２Ｃ→ＳｉＣ＋ＣＯの反応が起こり、成形
型面にＳｉＯ蒸気が浸透して成形型の基材であるグラフ
ァイトまたは黒鉛と反応して炭化珪素となるため、これ
をそのまま再度使用すると、すす層が極めて剥離しやす
くなって融着が起る。
【００１６】また、炭化珪素スラリーを塗布する場合
も、石英ガラスと炭化珪素との反応速度は石英ガラスと
グラファイトの反応速度に比べて遅く、石英ガラスとの
反応融着を多少抑える効果が期待できるとは言え、１８
００℃以上の高温ではガスの発生量が増大し、且つ反応
速度が大となり、融着が起り、成形品が不良品となる欠
点がある。
も、石英ガラスと炭化珪素との反応速度は石英ガラスと
グラファイトの反応速度に比べて遅く、石英ガラスとの
反応融着を多少抑える効果が期待できるとは言え、１８
００℃以上の高温ではガスの発生量が増大し、且つ反応
速度が大となり、融着が起り、成形品が不良品となる欠
点がある。
【００１７】本発明は、前述した従来技術の問題点に鑑
み、石英ガラスを高温で任意の形状に成形する際、型材
に使用する高純度のカーボン材料との化学反応を抑制
し、融着によるクラックを防ぎ、歪み及びランダム方向
の脈理が少なく、また、離型剤を必要とすることなく、
かつ泡の少ない高品質石英ガラスの成形方法を提供する
ことを目的とする。
み、石英ガラスを高温で任意の形状に成形する際、型材
に使用する高純度のカーボン材料との化学反応を抑制
し、融着によるクラックを防ぎ、歪み及びランダム方向
の脈理が少なく、また、離型剤を必要とすることなく、
かつ泡の少ない高品質石英ガラスの成形方法を提供する
ことを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
従来よりも高温で、石英ガラスの粘性を低下させても、
泡や脈理の生じない成形方法について鋭意研究を重ねた
結果、石英ガラス素材を成形しようとする形状のカーボ
ン型へ装着し、該カーボン型をオートクレーブ中で、加
熱及びガスによる流体加圧式の等方圧の加圧を行えば、
前記課題が解決できるとの知見を得て本発明を完成し
た。
従来よりも高温で、石英ガラスの粘性を低下させても、
泡や脈理の生じない成形方法について鋭意研究を重ねた
結果、石英ガラス素材を成形しようとする形状のカーボ
ン型へ装着し、該カーボン型をオートクレーブ中で、加
熱及びガスによる流体加圧式の等方圧の加圧を行えば、
前記課題が解決できるとの知見を得て本発明を完成し
た。
【００１９】また、石英ガラス成形時の温度の昇降速度
がクラックの発生に関係することを見出し、高温、高圧
下での石英ガラスの成形においては、昇温、降温を特定
条件下で行えばクラックが発生しないことを見出した。
がクラックの発生に関係することを見出し、高温、高圧
下での石英ガラスの成形においては、昇温、降温を特定
条件下で行えばクラックが発生しないことを見出した。
【００２０】つまり、本発明は、石英ガラス素材を成形
しようとする形状のカーボン型へ装着し、該カーボン型
をオートクレーブ中で１６００〜２２００℃の温度範囲
で５００〜１５００バールの範囲内に等方圧の加圧を行
い、このとき昇降速度を、１００〜３００℃の温度域で
は５０〜２００℃／時間とすることを特徴とする石英ガ
ラスの成形方法である。
しようとする形状のカーボン型へ装着し、該カーボン型
をオートクレーブ中で１６００〜２２００℃の温度範囲
で５００〜１５００バールの範囲内に等方圧の加圧を行
い、このとき昇降速度を、１００〜３００℃の温度域で
は５０〜２００℃／時間とすることを特徴とする石英ガ
ラスの成形方法である。
【００２１】石英ガラス素材としては、天然及び合成さ
れたシリカ原料を、真空炉、雰囲気炉等の電気炉、酸水
素、プロパン／酸素等のガス溶融及び高周波プラズマ、
アークプラズマ等のプラズマを用いて溶融した石英ガラ
ス、或いは四塩化ケイ素及びトリクロールシラン等を用
いて気相合成された石英ガラスを用いる。
れたシリカ原料を、真空炉、雰囲気炉等の電気炉、酸水
素、プロパン／酸素等のガス溶融及び高周波プラズマ、
アークプラズマ等のプラズマを用いて溶融した石英ガラ
ス、或いは四塩化ケイ素及びトリクロールシラン等を用
いて気相合成された石英ガラスを用いる。
【００２２】つまり、真空溶融法、酸水素溶融法、また
はプラズマ溶融法等のいずれかによって作製された円柱
状、角柱状等の石英ガラス素材を、成形しようとする形
状に加工された化学的に高純度を有するカーボン型の中
に入れ、この型を、加熱装置を有し、等方圧で加圧する
オートクレーブ（工業的装置としてはホット アイソス
タテック プレス：以下、ＨＩＰという）に入れ、加熱
しアルゴン或いは窒素ガスにより等方圧加圧する。
はプラズマ溶融法等のいずれかによって作製された円柱
状、角柱状等の石英ガラス素材を、成形しようとする形
状に加工された化学的に高純度を有するカーボン型の中
に入れ、この型を、加熱装置を有し、等方圧で加圧する
オートクレーブ（工業的装置としてはホット アイソス
タテック プレス：以下、ＨＩＰという）に入れ、加熱
しアルゴン或いは窒素ガスにより等方圧加圧する。
【００２３】このとき、ガスによる加圧は流体を媒体と
した加圧であり、ガラス固体の全面から均等にかかる圧
力であり、このため等方圧の加圧ゆえガラスの成形には
直接効果を及ぼさず、成形はガラスを加工領域まで加熱
することにより重力の作用とガラスの粘性流動によっ
て、ガラスは所望の形状に成形される。なお、カーボン
型は、ガラスの成形に用いるのと同じ材質のカーボン材
の重量を利用した押し型を用いれば、より効果を増すこ
とができる。
した加圧であり、ガラス固体の全面から均等にかかる圧
力であり、このため等方圧の加圧ゆえガラスの成形には
直接効果を及ぼさず、成形はガラスを加工領域まで加熱
することにより重力の作用とガラスの粘性流動によっ
て、ガラスは所望の形状に成形される。なお、カーボン
型は、ガラスの成形に用いるのと同じ材質のカーボン材
の重量を利用した押し型を用いれば、より効果を増すこ
とができる。
【００２４】また、ＨＩＰを用いて石英ガラスの全面に
均等の高圧をかけているので石英ガラスとグラファイト
との反応によるＳｉＯガス、ＣＯガスの発生や石英ガラ
スの蒸発を、周囲の蒸気圧の高さから抑制することがで
き、ガスの発生による石英ガラス成形品への悪影響（表
面状態、融着、割れ、泡）を防止できる。
均等の高圧をかけているので石英ガラスとグラファイト
との反応によるＳｉＯガス、ＣＯガスの発生や石英ガラ
スの蒸発を、周囲の蒸気圧の高さから抑制することがで
き、ガスの発生による石英ガラス成形品への悪影響（表
面状態、融着、割れ、泡）を防止できる。
【００２５】このため、粘性の低い１８００〜２０００
℃という領域での成形が可能となり、油圧プレス機等に
よる強制的な荷重をかけることなく、流動変形を利用し
た自重という無荷重に近い状態で成形することができ、
石英ガラスの品質（歪み、脈理、失透、純度）を損なう
ことなく、成形が可能となる。
℃という領域での成形が可能となり、油圧プレス機等に
よる強制的な荷重をかけることなく、流動変形を利用し
た自重という無荷重に近い状態で成形することができ、
石英ガラスの品質（歪み、脈理、失透、純度）を損なう
ことなく、成形が可能となる。
【００２６】加圧はＨＩＰを用いて１６００〜２２００
℃の温度範囲で行う。無荷重に近い状態で成形するには
粘性が低い程有利であり１８００℃以上が好ましく、２
０００℃を超えると成形する上の効果としては大した差
は認められず、このため好ましくは１８００〜２０００
℃の温度範囲で、５００〜１５００バールの範囲に加圧
し、１〜６時間保持する。
℃の温度範囲で行う。無荷重に近い状態で成形するには
粘性が低い程有利であり１８００℃以上が好ましく、２
０００℃を超えると成形する上の効果としては大した差
は認められず、このため好ましくは１８００〜２０００
℃の温度範囲で、５００〜１５００バールの範囲に加圧
し、１〜６時間保持する。
【００２７】また、昇温速度５０〜４００℃／時間、降
温速度５０〜３００℃／時間の範囲で成形し、１００℃
以下の温度に冷却後、成形体を取出す。降温において、
１１００℃までは、１１００℃以上である失透域にあま
りおかず、結晶化を避けるために、１００〜３００℃／
時間で比較的急冷することが好ましく、また、徐冷点で
ある１１００℃から歪点である９００℃までは、５０〜
１００℃／時間以下とすることが好ましい。
温速度５０〜３００℃／時間の範囲で成形し、１００℃
以下の温度に冷却後、成形体を取出す。降温において、
１１００℃までは、１１００℃以上である失透域にあま
りおかず、結晶化を避けるために、１００〜３００℃／
時間で比較的急冷することが好ましく、また、徐冷点で
ある１１００℃から歪点である９００℃までは、５０〜
１００℃／時間以下とすることが好ましい。
【００２８】また、昇降温において重要なことは、１０
０〜３００℃の温度範囲においては昇温速度、降温速度
とも５０〜２００℃／時間とすることである。
０〜３００℃の温度範囲においては昇温速度、降温速度
とも５０〜２００℃／時間とすることである。
【００２９】石英ガラスの線膨張率は極めて小さく（×
１０-7／℃）、１０００℃まで温度を上げても材料１ｍ
の熱膨張は５００μｍにすぎず、その測定が非常に困難
であった。この測定においては、従来は、押棒式、望遠
測定微計法、Ｘ線解析法およびキャパシタンス法によっ
ていたが、いずれも操作が煩雑であったり測定精度上の
問題があり、例えば、押棒式では、治具にアルミナもし
くは石英ガラスをもちいているため測定誤差が大でその
測定も困難であり、適切な測定方法はなく、測定すらお
こなわれていないのが実情であった。
１０-7／℃）、１０００℃まで温度を上げても材料１ｍ
の熱膨張は５００μｍにすぎず、その測定が非常に困難
であった。この測定においては、従来は、押棒式、望遠
測定微計法、Ｘ線解析法およびキャパシタンス法によっ
ていたが、いずれも操作が煩雑であったり測定精度上の
問題があり、例えば、押棒式では、治具にアルミナもし
くは石英ガラスをもちいているため測定誤差が大でその
測定も困難であり、適切な測定方法はなく、測定すらお
こなわれていないのが実情であった。
【００３０】本発明者らは、線膨張測定において、レー
ザー光の干渉を用い精密な長さの測定が可能なレーザー
膨張計を用いて測定したところ、ＳｉＣｌ4 を原料とし
た合成石英ガラスは、図１に示すように、２００℃付近
をピークとするなだらかな曲線を示すが、水晶を原料と
する溶融、電融、不透明石英ガラスには変曲点が見られ
ることを見出した。この変曲点はシリカの変態点と近似
し、これは石英ガラスはＸ線的には、非結晶質である
が、短周期的には水晶やクリストバライトの結合を有す
ることを示唆するものと思われる。
ザー光の干渉を用い精密な長さの測定が可能なレーザー
膨張計を用いて測定したところ、ＳｉＣｌ4 を原料とし
た合成石英ガラスは、図１に示すように、２００℃付近
をピークとするなだらかな曲線を示すが、水晶を原料と
する溶融、電融、不透明石英ガラスには変曲点が見られ
ることを見出した。この変曲点はシリカの変態点と近似
し、これは石英ガラスはＸ線的には、非結晶質である
が、短周期的には水晶やクリストバライトの結合を有す
ることを示唆するものと思われる。
【００３１】このことから、水晶を原料とする溶融、電
融、不透明石英ガラスの成形法においては、２００℃付
近の急熱、急冷を避けて、１００〜３００℃の温度範囲
における昇温・降温速度を５０〜２００℃／時間とすれ
ば、この間においてクラック、割れを防止し安定的な成
形を行うことができることが知見された。
融、不透明石英ガラスの成形法においては、２００℃付
近の急熱、急冷を避けて、１００〜３００℃の温度範囲
における昇温・降温速度を５０〜２００℃／時間とすれ
ば、この間においてクラック、割れを防止し安定的な成
形を行うことができることが知見された。
【００３２】成形型を構成する耐熱材料としては、灰分
２０ｐｐｍ以下、好ましくは不純物含有量が１０ｐｐｍ
以下、望ましくは１ｐｐｍ以下の天然又は人造黒鉛質カ
ーボンを用いる。
２０ｐｐｍ以下、好ましくは不純物含有量が１０ｐｐｍ
以下、望ましくは１ｐｐｍ以下の天然又は人造黒鉛質カ
ーボンを用いる。
【００３３】この時に使用する高純度カーボン材の成形
用の型は、石英ガラスの粘性特性からしても、無荷重に
近い状態での成形という観点からもそう複雑な形状には
適さない。円柱状或いは角柱状の石英ガラスを寸法的に
拡大し板状に成形する場合、或いは円柱状の石英ガラス
を立方体形状に成形する等比較的単純な形状が適してい
る。
用の型は、石英ガラスの粘性特性からしても、無荷重に
近い状態での成形という観点からもそう複雑な形状には
適さない。円柱状或いは角柱状の石英ガラスを寸法的に
拡大し板状に成形する場合、或いは円柱状の石英ガラス
を立方体形状に成形する等比較的単純な形状が適してい
る。
【００３４】本発明においては、成形型枠においても下
記の構造であることが好ましい。カーボンの成形型は、
冷却時石英ガラスとの熱膨張差から破損する恐れがあ
る。 すなわち、カーボン型は石英ガラスとグラファイ
トの線膨張係数が著しく異なり（グラファイト；８×１
０-6℃-1、石英ガラス；５．５×１０-7℃-1）、成形
後、温度を下げるとともに成形型の圧縮応力を除く工夫
が必要となる。このため、カーボン型は、容器内で成形
された石英ガラスとカーボン成形型との間の型離れを良
くするため、全体として所望の内面形状を有する２分割
以上の割型構造とする。
記の構造であることが好ましい。カーボンの成形型は、
冷却時石英ガラスとの熱膨張差から破損する恐れがあ
る。 すなわち、カーボン型は石英ガラスとグラファイ
トの線膨張係数が著しく異なり（グラファイト；８×１
０-6℃-1、石英ガラス；５．５×１０-7℃-1）、成形
後、温度を下げるとともに成形型の圧縮応力を除く工夫
が必要となる。このため、カーボン型は、容器内で成形
された石英ガラスとカーボン成形型との間の型離れを良
くするため、全体として所望の内面形状を有する２分割
以上の割型構造とする。
【００３５】また予め石英ガラスとの接触面を若干の抜
き勾配に加工するとか、カーボン型の所定の箇所に肉厚
を減ずる細溝を付し、この部分より破壊をお起せしめ、
カーボン型の再利用を考慮しておくことが好ましく、こ
の部分を分割構成面としておくことが、実用上効果的で
ある。また、型枠内に挿入できる落し蓋を押し型として
使用することも効果的である。
き勾配に加工するとか、カーボン型の所定の箇所に肉厚
を減ずる細溝を付し、この部分より破壊をお起せしめ、
カーボン型の再利用を考慮しておくことが好ましく、こ
の部分を分割構成面としておくことが、実用上効果的で
ある。また、型枠内に挿入できる落し蓋を押し型として
使用することも効果的である。
【００３６】さらに、等方圧加圧による高圧下での成形
のため、ガスの発生を防ぎ、石英ガラスとカーボン材の
化学反応を抑制できるので、石英ガラス表面へのＳｉＣ
の付着や、石英ガラスとカーボン成形型との融着に起因
した冷却時の熱膨張率差によるクラックや割れについて
は考慮しなくても良いため、従来のようにカーボン型に
離形剤の塗布を必要としない。
のため、ガスの発生を防ぎ、石英ガラスとカーボン材の
化学反応を抑制できるので、石英ガラス表面へのＳｉＣ
の付着や、石英ガラスとカーボン成形型との融着に起因
した冷却時の熱膨張率差によるクラックや割れについて
は考慮しなくても良いため、従来のようにカーボン型に
離形剤の塗布を必要としない。
【００３７】押し型としては、高純度カーボン材を用
い、成形型内面に挿入できる落し蓋を押し型として使用
する。このとき、石英ガラス素材の上に乗せる押し型を
天板、その上に乗せる重錘、その上に被せる蓋というよ
うに分割構造としても良い。押し型としてのカーボン材
も、成形型として使用するカーボン材と同等の高純度を
有するものが、この場合好ましい。
い、成形型内面に挿入できる落し蓋を押し型として使用
する。このとき、石英ガラス素材の上に乗せる押し型を
天板、その上に乗せる重錘、その上に被せる蓋というよ
うに分割構造としても良い。押し型としてのカーボン材
も、成形型として使用するカーボン材と同等の高純度を
有するものが、この場合好ましい。
【００３８】
【作用】等方圧加圧による高圧下での成形のため、石英
ガラスとカーボン（成形型）との反応ガスであるＳｉＯ
ガス、ＣＯガスの発生や、石英ガラスの蒸発を抑制する
ことにより、石英ガラス中の泡の発生を防ぐと同時に、
石英ガラスの溶融体の表面から均一に加圧されること
で、石英ガラス溶融体の内部に残存している微気泡が次
第に収縮溶解し、あるいは分散して、次第に小さな気泡
となる。そして、小さな気泡になると気泡表面の曲率が
大きくなり、表面張力も極めて大きくなり、さらに圧力
が追加されることにより、最終的には気泡が消滅する。
この場合、気泡内に包含されていた気体成分は、石英ガ
ラス中に溶解し、さらには石英ガラス中を拡散して、最
終的には加圧媒体ガス中に拡散放出され、脱泡作用をも
生じせしめる。
ガラスとカーボン（成形型）との反応ガスであるＳｉＯ
ガス、ＣＯガスの発生や、石英ガラスの蒸発を抑制する
ことにより、石英ガラス中の泡の発生を防ぐと同時に、
石英ガラスの溶融体の表面から均一に加圧されること
で、石英ガラス溶融体の内部に残存している微気泡が次
第に収縮溶解し、あるいは分散して、次第に小さな気泡
となる。そして、小さな気泡になると気泡表面の曲率が
大きくなり、表面張力も極めて大きくなり、さらに圧力
が追加されることにより、最終的には気泡が消滅する。
この場合、気泡内に包含されていた気体成分は、石英ガ
ラス中に溶解し、さらには石英ガラス中を拡散して、最
終的には加圧媒体ガス中に拡散放出され、脱泡作用をも
生じせしめる。
【００３９】さらに、これとともに、１８００〜２００
０℃という高温状態で石英ガラス素材の流動性を高めた
中での高圧効果により、石英ガラスの素材内部で分子の
混合、再配列、脈理、応力の分散効果により、組成的な
不規則性に起因する脈理や局部的な残留応力を除去し、
均質化をも併せて行うことができる。また、昇降温を石
英ガラスの線膨張率の変曲点付近の急熱急冷を避けるこ
とによってクラック等のない高品質の石英ガラス成形体
を得ることができる。
０℃という高温状態で石英ガラス素材の流動性を高めた
中での高圧効果により、石英ガラスの素材内部で分子の
混合、再配列、脈理、応力の分散効果により、組成的な
不規則性に起因する脈理や局部的な残留応力を除去し、
均質化をも併せて行うことができる。また、昇降温を石
英ガラスの線膨張率の変曲点付近の急熱急冷を避けるこ
とによってクラック等のない高品質の石英ガラス成形体
を得ることができる。
【００４０】
【効果】従来の石英ガラス成形品は表面に不透明層かつ
凹凸が見られたが、本発明による成形品は、表面形状が
全く平滑かつ透明で成形後の仕上面が平滑で寸法上の狂
いが少ない。また、微泡の発生を防ぐと共に微泡のある
石英ガラスでも完全に無泡とすることが出来、カーボン
材料との化学反応もないので、離型剤を塗布する必要が
なく、歪み、脈理の発生を防止することができる。
凹凸が見られたが、本発明による成形品は、表面形状が
全く平滑かつ透明で成形後の仕上面が平滑で寸法上の狂
いが少ない。また、微泡の発生を防ぐと共に微泡のある
石英ガラスでも完全に無泡とすることが出来、カーボン
材料との化学反応もないので、離型剤を塗布する必要が
なく、歪み、脈理の発生を防止することができる。
【００４１】さらに、石英ガラス成形体の成形中におけ
る蒸発損失やカーボン成形型との反応ガスの発生を抑制
できるので、ヒーター、断熱材等のカーボン部材の消耗
を著しく低く抑えられる。
る蒸発損失やカーボン成形型との反応ガスの発生を抑制
できるので、ヒーター、断熱材等のカーボン部材の消耗
を著しく低く抑えられる。
【００４２】また、鋳型が分割されており、所定の箇所
に細溝を付しているので応力の発生方向を自然に移動し
て応力を逃がすため、成形後のインゴットに応力が作用
せず、熱膨張率差に起因するクラックが入ったり、残留
応力による歪みがほとんどなくなる。
に細溝を付しているので応力の発生方向を自然に移動し
て応力を逃がすため、成形後のインゴットに応力が作用
せず、熱膨張率差に起因するクラックが入ったり、残留
応力による歪みがほとんどなくなる。
【００４３】さらにまた、石英ガラスの変曲点付近を時
間をかけて昇降温するので、高温、高圧による成形時に
クラックが入ることがない。
間をかけて昇降温するので、高温、高圧による成形時に
クラックが入ることがない。
【００４４】
実施例１ プラズマベルヌーイ法によって天然水晶粉を溶融した石
英ガラスインゴット（φ１０９×４００ｍｍ）の外表面
を研削し、弗酸で洗浄して得たφ１０５×４００ｍｍの
気泡のない石英ガラスインゴットを図２に示す高純度カ
ーボン型に入れて等方圧加圧装置であるＨＩＰに装入
し、下記の条件で成形を行った。
英ガラスインゴット（φ１０９×４００ｍｍ）の外表面
を研削し、弗酸で洗浄して得たφ１０５×４００ｍｍの
気泡のない石英ガラスインゴットを図２に示す高純度カ
ーボン型に入れて等方圧加圧装置であるＨＩＰに装入
し、下記の条件で成形を行った。
【００４５】ＨＩＰ条件 ガス：アルゴンで同時昇温昇圧（予め炉内にアルゴンガ
スを充填し、昇温、所定圧力までコンプレッサーでアル
ゴンガスを充填） 温度：１８００℃（２時間保持）、圧力：１０００ｋｇ
ｆ／ｃｍ2で石英ガラスインゴット全面から１０００ｋ
ｇｆ／ｃｍ2の等方圧加圧、昇温速度：３００℃まで１
５０℃／時間、３００℃以上は４００℃／時間、冷却時
間：１０時間（取出し温度 ８０℃）、降温条件：１８
００〜１１００℃まで３００℃／時間、１１００〜９０
０℃まで７５℃／時間、９００〜３００℃まで２５０℃
／時間、３００〜１００℃まで１００℃／時間。
スを充填し、昇温、所定圧力までコンプレッサーでアル
ゴンガスを充填） 温度：１８００℃（２時間保持）、圧力：１０００ｋｇ
ｆ／ｃｍ2で石英ガラスインゴット全面から１０００ｋ
ｇｆ／ｃｍ2の等方圧加圧、昇温速度：３００℃まで１
５０℃／時間、３００℃以上は４００℃／時間、冷却時
間：１０時間（取出し温度 ８０℃）、降温条件：１８
００〜１１００℃まで３００℃／時間、１１００〜９０
０℃まで７５℃／時間、９００〜３００℃まで２５０℃
／時間、３００〜１００℃まで１００℃／時間。
【００４６】その結果、得られた角スラブ（寸法（概
略）□１５０×１５０ｍｍ）の成形体はカーボン型との
反応の痕跡は認められず、極めて良好なガラス面を保持
していた。また、使用した石英ガラス素材は成形時に気
泡の発生は認められず、得られた石英ガラス成形体も無
泡であった。
略）□１５０×１５０ｍｍ）の成形体はカーボン型との
反応の痕跡は認められず、極めて良好なガラス面を保持
していた。また、使用した石英ガラス素材は成形時に気
泡の発生は認められず、得られた石英ガラス成形体も無
泡であった。
【００４７】成形体の化学的純度 高純度カーボン型とはいえ、通常の高温成形では、蒸発
ガスや石英ガラスや炉壁等との反応による汚染が発生す
るので、比較のため成形体の外表面を２ｍｍ程研削で削
除して化学分析したところ、当初の石英ガラス素材と同
等の純度を確認した。 カーボン型（人造黒鉛）純度 灰分：２０ｐｐｍ以下、
Ｂ：０．１、Ｍｇ：０．１、Ａｌ：０．１、Ｓｉ：０．
８、Ｐ：０．２、Ｓ：０．１、Ｎｉ：０．１、Ｃａ：
０．１、Ｔｉ：０．１、Ｖ：０．１、Ｃｒ：０．１、Ｆ
ｅ：０．８、（単位：ｐｐｍ）。 成型体（石英ガラス）純度：Ａｌ：７．７、Ｃａ：０．
４、Ｃｕ：〈０．０１、Ｆｅ：０．０７、Ｋ：０．０
９、Ｌｉ：０．２、Ｎａ：０．２（単位：ｐｐｍ）
ガスや石英ガラスや炉壁等との反応による汚染が発生す
るので、比較のため成形体の外表面を２ｍｍ程研削で削
除して化学分析したところ、当初の石英ガラス素材と同
等の純度を確認した。 カーボン型（人造黒鉛）純度 灰分：２０ｐｐｍ以下、
Ｂ：０．１、Ｍｇ：０．１、Ａｌ：０．１、Ｓｉ：０．
８、Ｐ：０．２、Ｓ：０．１、Ｎｉ：０．１、Ｃａ：
０．１、Ｔｉ：０．１、Ｖ：０．１、Ｃｒ：０．１、Ｆ
ｅ：０．８、（単位：ｐｐｍ）。 成型体（石英ガラス）純度：Ａｌ：７．７、Ｃａ：０．
４、Ｃｕ：〈０．０１、Ｆｅ：０．０７、Ｋ：０．０
９、Ｌｉ：０．２、Ｎａ：０．２（単位：ｐｐｍ）
【００４８】実施例２ 実施例１において、気泡のない石英ガラスの代わりに、
あらかじめ気泡のあるものを用いて実施例１に準じて成
形、脱泡を行った。その結果、比較的気泡の多い物であ
ったが、成形することによって顕著な気泡の低減が見ら
れた。その結果を表１に示す。
あらかじめ気泡のあるものを用いて実施例１に準じて成
形、脱泡を行った。その結果、比較的気泡の多い物であ
ったが、成形することによって顕著な気泡の低減が見ら
れた。その結果を表１に示す。
【００４９】
【表１】
【００５０】実施例３ プラズマベルヌーイ法によって天然水晶粉を溶融した石
英ガラスインゴット（φ１５４×２７０ｍｍ）の外表面
を研削し、弗酸で洗浄して得たφ１５０×２７０ｍｍの
気泡を含む石英ガラスインゴットを図３に示す高純度カ
ーボン型に入れ、Ｔ字型の落し蓋を押し型として用い、
等方圧加圧装置であるＨＩＰに装入し、下記の条件で成
形、脱泡を行った。
英ガラスインゴット（φ１５４×２７０ｍｍ）の外表面
を研削し、弗酸で洗浄して得たφ１５０×２７０ｍｍの
気泡を含む石英ガラスインゴットを図３に示す高純度カ
ーボン型に入れ、Ｔ字型の落し蓋を押し型として用い、
等方圧加圧装置であるＨＩＰに装入し、下記の条件で成
形、脱泡を行った。
【００５１】ＨＩＰ条件 ガス：アルゴンで同時昇温昇圧（昇温は部分加熱） 温度：２０００℃（３時間保持）、圧力：１０００ｋｇ
ｆ／ｃｍ2で石英ガラスインゴット全面から１０００ｋ
ｇｆ／ｃｍ2の等方圧加圧、昇温速度：３００℃まで１
５０℃／時間、３００℃〜２０００℃は３５０℃／時
間、冷却時間：１２時間（取出し温度８０℃）、降温条
件：２０００〜１１００℃まで３００℃／時間、１１０
０〜９００℃まで５０℃／時間、９００〜３００℃まで
２５０℃／時間、３００〜１００℃まで１００℃／時
間。
ｆ／ｃｍ2で石英ガラスインゴット全面から１０００ｋ
ｇｆ／ｃｍ2の等方圧加圧、昇温速度：３００℃まで１
５０℃／時間、３００℃〜２０００℃は３５０℃／時
間、冷却時間：１２時間（取出し温度８０℃）、降温条
件：２０００〜１１００℃まで３００℃／時間、１１０
０〜９００℃まで５０℃／時間、９００〜３００℃まで
２５０℃／時間、３００〜１００℃まで１００℃／時
間。
【００５２】その結果、得られた円筒（寸法（概略）φ
２００×φ１００×２００ｍｍ）の表面状態は、実施例
１と同様にカーボン型との反応の痕跡は認められず、極
めて良好なガラス面を保持していた。また、気泡状態も
実施例２に準じて測定したところ、実施例２と同様に使
用した石英素材は比較的気泡の多い物であったが、成形
することによって顕著な気泡の低減が見られた。さら
に、成形体の化学的純度を実施例１に準じておこなった
ところ、実施例１と同様な結果が得られた。
２００×φ１００×２００ｍｍ）の表面状態は、実施例
１と同様にカーボン型との反応の痕跡は認められず、極
めて良好なガラス面を保持していた。また、気泡状態も
実施例２に準じて測定したところ、実施例２と同様に使
用した石英素材は比較的気泡の多い物であったが、成形
することによって顕著な気泡の低減が見られた。さら
に、成形体の化学的純度を実施例１に準じておこなった
ところ、実施例１と同様な結果が得られた。
【図１】石英ガラスの線膨張測定
【図２】実施例１に用いたカーボン型
【図３】実施例２に用いたカーボン型
１ カーボン型 ２ 横溝 ３ 分割線 ４ 円筒状ガラス ５ Ｔ字型の落し蓋
Claims (6)
- 【請求項１】 石英ガラス素材を成形しようとする形状
のカーボン型へ装着し、該カーボン型をオートクレーブ
中で、加熱及びガスによる等方圧の加圧を行うことを特
徴とする石英ガラスの成形方法。 - 【請求項２】 加熱温度が１６００℃〜２２００℃の温
度範囲で、５００〜１５００バールの範囲に加圧し、１
〜６時間保持することを特徴とする請求項１記載の石英
ガラスの成形方法。 - 【請求項３】 アルゴン、窒素ガスを圧力媒体として使
用することを特徴とする請求項１又は２記載の石英ガラ
スの成形方法。 - 【請求項４】 昇温速度５０〜４００℃／時間、降温速
度５０〜３００℃／時間の範囲で成形し、各々１００〜
３００℃の温度範囲における昇・降温速度を５０〜２０
０℃／時間とし、１００℃以下の温度に冷却後、成形体
を取出すことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記
載の石英ガラスの成形方法。 - 【請求項５】 成形用カーボン型を高純度の素材を用い
分割構造とし、石英ガラスと接する内面に若干の抜き勾
配を付し及び／または予め所定の箇所に細溝を付して、
使用することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記
載の石英ガラスの成形方法。 - 【請求項６】 石英ガラスが、天然及び合成されたシリ
カ原料を、真空炉、雰囲気炉等の電気炉、酸水素、プロ
パン／酸素等のガス溶融及び高周波プラズマ、アークプ
ラズマ等のプラズマを用いて溶融した石英ガラス、或い
は四塩化ケイ素及びトリクロールシラン等を用いて気相
合成された石英ガラスを用いることを特徴とする請求項
１〜５のいずれかに記載の石英ガラスの成形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31905094A JPH08151220A (ja) | 1994-11-28 | 1994-11-28 | 石英ガラスの成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31905094A JPH08151220A (ja) | 1994-11-28 | 1994-11-28 | 石英ガラスの成形方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08151220A true JPH08151220A (ja) | 1996-06-11 |
Family
ID=18105953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31905094A Pending JPH08151220A (ja) | 1994-11-28 | 1994-11-28 | 石英ガラスの成形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08151220A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006003912A1 (ja) * | 2004-07-02 | 2006-01-12 | Nikon Corporation | 石英ガラスの成形方法 |
| JP2009234858A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Tosoh Quartz Corp | 型材および型材を用いたガラス材料の成形方法 |
| JP2010100493A (ja) * | 2008-10-24 | 2010-05-06 | Tosoh Quartz Corp | 型材および型材を用いたガラス材料の成形方法 |
| JP2011037687A (ja) * | 2009-08-17 | 2011-02-24 | Tosoh Quartz Corp | ガラス材料の成形用の型材及びそれを使用したガラス材料の成形方法 |
| JP2012250867A (ja) * | 2011-06-01 | 2012-12-20 | Asahi Glass Co Ltd | 石英ガラスの成形方法 |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| CN115432913A (zh) * | 2020-10-23 | 2022-12-06 | BCnC股份有限公司 | 合成石英的制造方法 |
-
1994
- 1994-11-28 JP JP31905094A patent/JPH08151220A/ja active Pending
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| JP4835998B2 (ja) * | 2004-07-02 | 2011-12-14 | 株式会社ニコン | 石英ガラスの成形方法 |
| WO2006003912A1 (ja) * | 2004-07-02 | 2006-01-12 | Nikon Corporation | 石英ガラスの成形方法 |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| JP2009234858A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Tosoh Quartz Corp | 型材および型材を用いたガラス材料の成形方法 |
| JP2010100493A (ja) * | 2008-10-24 | 2010-05-06 | Tosoh Quartz Corp | 型材および型材を用いたガラス材料の成形方法 |
| JP2011037687A (ja) * | 2009-08-17 | 2011-02-24 | Tosoh Quartz Corp | ガラス材料の成形用の型材及びそれを使用したガラス材料の成形方法 |
| JP2012250867A (ja) * | 2011-06-01 | 2012-12-20 | Asahi Glass Co Ltd | 石英ガラスの成形方法 |
| CN115432913A (zh) * | 2020-10-23 | 2022-12-06 | BCnC股份有限公司 | 合成石英的制造方法 |
| JP2022185594A (ja) * | 2020-10-23 | 2022-12-14 | ビーシーエンシー カンパニー・リミテッド | 合成クォーツ製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08151220A (ja) | 石英ガラスの成形方法 | |
| JP2737191B2 (ja) | 均質な石英ガラス塊の製造方法 | |
| JP5022230B2 (ja) | 石英ガラスルツボとその製造方法および用途 | |
| CN101511744A (zh) | 熔融石英玻璃及其制造方法 | |
| JPWO2008069194A1 (ja) | 合成不透明石英ガラス及びその製造方法 | |
| WO2013140706A1 (ja) | 単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器及びその製造方法 | |
| US4828593A (en) | Process for the production of glass | |
| JP4341277B2 (ja) | 石英ガラスの成形方法 | |
| JP4014724B2 (ja) | シリカガラスの製造方法 | |
| US20090104454A1 (en) | Manufacture of Large Articles in Synthetic Vitreous Silica | |
| JP3988211B2 (ja) | 高純度透明シリカガラスの製造方法 | |
| JP2810941B2 (ja) | 多角柱状シリカガラス棒の製造方法 | |
| JPS62212234A (ja) | ガラスの製造法 | |
| JP2006124235A (ja) | 石英ガラスルツボとその製造方法および用途 | |
| JPS62212235A (ja) | ガラスの製造法 | |
| JP2006327885A (ja) | 石英ガラスの成形方法及び石英ガラス | |
| JP3770566B2 (ja) | シリンダー状石英ガラスの製造方法 | |
| JP4022678B2 (ja) | 高純度透明シリカガラスの製造方法 | |
| JP4270477B2 (ja) | 透明石英ガラスの製造方法 | |
| JPH11343126A (ja) | プレス成形用素材の製造方法及び光学素子の製造方法 | |
| JPS6357367B2 (ja) | ||
| JP2004123439A (ja) | 光学ガラスの製造方法 | |
| JP3665664B2 (ja) | 不透明石英ガラスの製造方法 | |
| JP2805281B2 (ja) | 石英ガラス物品を製造する為の成型枠 | |
| JPH0122206B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20040921 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041005 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20041129 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20041129 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060221 |