JP2810941B2 - 多角柱状シリカガラス棒の製造方法 - Google Patents
多角柱状シリカガラス棒の製造方法Info
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Description
用治具材、半導体工業用部材等として利用される多角柱
状シリカガラス棒の製造法に係り、特に耐熱性高純度ガ
ラス治具等の部材とし、高純度かつ耐熱性に優れ、あら
ゆる高温のクリーンな雰囲気における熱処理において汚
染の問題がなく使用されるシリカガラス治具を製造する
ためのシリカガラス治具材とその製造方法を提供するこ
とにある。
の他の半導体を熱処理するためのシリカガラス治具材は
主に安価である円柱状シリカガラス棒が用いられてきた
が、角柱状シリカガラス棒を用いるとすると、円柱状シ
リカガラス棒を多角柱状に切断加工して加工しなければ
ならなかった。したがって、角柱状シリカガラス棒は切
断部分を捨てるために加工後の多角柱状シリカガラス棒
は非常に高価なものとなっていた。このため熱処理等に
使用されるシリカガラス治具材は極力多角柱状シリカガ
ラス棒を用いるのを避けていた。
シリカガラス棒は円柱状シリカガラス棒に比べて高価で
あるため、価格の面から多角柱状シリカガラス棒を用い
たいところに仕方なく円柱状シリカガラス棒を用いるこ
とが多く、治具の形状等に制限が生じてしまう問題があ
った。更に従来の多角柱状シリカガラス棒の製造では、
円柱状シリカガラス棒の製造に用いる母材を多角柱状に
切断加工した後に、所定寸法に形成するために、加熱し
て延伸加工する方法も挙げられるが、この加熱時に生じ
る表面張力より多角柱状であるものの角が丸みを帯びる
ため、高精度の多角柱を得ることが非常に困難であっ
た。
炉よりの汚染の問題がなく、かつ耐熱性に優れ、治具の
形状等に制限が生じさせない耐熱性高純度ガラス治具材
として好適に適用されるシリカガラス棒を提供すること
を目的とする。本発明の他の目的は、多角柱状シリカガ
ラス棒を製造するにあたり、欠け、亀裂がなく高寸法精
度にして、製造したシリカガラス棒の表面に荒れ、傷等
がなく、更には連続的に製造可能なシリカガラス棒を提
供することにある。本発明の他の目的は、製造過程にお
いて不純物の汚染が生じる事なく、原料材と同様に高純
度の維持を図ったシリカガラス棒を提供することにあ
る。
若しくは多角形ロッド内に一又は複数の小孔を穿孔され
ている中空多角形ロッドのいずれの製造も可能なもので
あり、特に本発明の特徴は、下端が封止されている略中
空多角柱状シリカガラス管(以下鞘管という)内に主原
料シリカ粉を充填した後、前記鞘管の帯域加熱手段への
送り速度と引き速度を制御しながら、該鞘管の下端部よ
り垂直重力方向に徐々に帯域溶融させるとともに、該帯
域溶融時にて鞘管内圧力を鞘管周囲圧力に比して減圧さ
せながら帯域溶融させて多角柱状シリカガラス棒を得る
ことを特徴とするものである。
原料シリカ粉が充填してある鞘管の内部は、鞘管周囲に
比較して相対的に負圧にされているために、この溶融時
点では図1(B)に示すように各辺が中心側に凹んだ形
状をなす。その後の冷却過程で各辺の凹んだ部分が膨出
して、冷却完了時点では図1(C)に示すように、方形
の断面形状の多角柱シリカガラス棒が形成できる。
鞘管内を減圧状態で溶融するために、低気泡の多角柱シ
リカガラス棒が形成できる。尚、前記鞘管内圧力は、鞘
管周囲圧力を正圧に維持した場合においては、鞘管内圧
力を1Pa〜1×105Pa、好ましくは、1Pa〜1
0KPaの減圧にすることにより気体の巻き込みも膨張
も防ぐことが出来、一層好ましい。
速度を制御する事により、多角柱シリカガラス棒が形成
できる為に、連続的に各種寸法のシリカガラス棒の作成
が容易である。又ノズルを用いることがないために、言
換えれば無接触で寸法制御を行うために、シリカガラス
棒の外表面の傷発生の防止とともに、溶融引抜き後の表
面張力を利用して寸法を出すために、角が丸みを帯びる
事なく、高精度の多角柱を得ることが容易である。
の為に、鞘管の形状に合せて少量の原料粉でも形成で
き、少量多品種の生産が容易である。又帯域溶融手段を
構成する円筒形抵抗加熱炉又は誘導加熱炉等とは接触し
ないために、これらの炉からの汚染が生じる恐れもな
い。
属若しくは金属元素化合物粉が混入してなるシリカ粉を
用いてもよく、又前記鞘管を、断面多角形外管内に、中
空内管を一または複数挿入して多穴状の鞘管に構成して
もよく、これにより中空多角形ロッドの製造も可能であ
る。
晶質シリカ粉を主成分とする粉状体を鞘管先端部分に充
填後に水晶粉その他の結晶質シリカ粉を主成分とする粉
状体を充填するのがよい。このようにシリカ粉を特定し
た理由は次の通りである。即ち前記溶融均一化させる鞘
管内にシリカガラス粉末、言い換えれば非晶質シリカ粉
を充填して帯域溶融を行うと、このような非晶質シリカ
粉はいわゆるメルティングポイントというものがなく、
1600℃前後より徐々に軟化していくものであるため
に、又シリカ粉よりの析出ガス等が巻き込まれ気泡が残
存した多角形の棒状体が形成されてしまうことになる。
℃にメルティングポイントを有する為に1730℃以上
に加熱する事により一気に溶融し、溶融ガラス内の気泡
発生を極力抑える事が出来る。しかし、水晶粉等の結晶
質シリカ粉は、573℃にα型からβ型への転移点を有
するために、加熱開始時に鞘管が軟化する前に該中空管
内部の水晶粉のα型からβ型への転移による急激な膨張
による鞘管の破壊が生じてしまう。
端側に、前記転移点のない非晶質シリカ粉を主成分とす
る粉状体が存在するために、α型からβ型への転移自体
が存在せず管の破壊を阻止させつつ、その上方域の既に
ヒートゾーンの予熱により鞘管の粘度が低下し、その部
分の結晶質シリカ粉がα型からβ型への転移による急激
な膨張が生じても管の破壊を阻止し得る区域にのみ水晶
粉等の結晶質シリカ粉を充填している。尚、前記非晶質
シリカ粉の充填幅は、帯域加熱手段のヒートゾーン(均
熱幅)より大である事が必要であるが、余りに大きいと
実質的な無気泡域が少なくなり生産性が低下するため
に、好ましくは粉状体の全充填量の20%未満がよい。
然石英粉、合成水晶粉、合成クリストバライト粉のいず
れかの結晶質シリカであり、粒径が10〜1000μ
m、好ましくは20〜500μm、好ましくは50〜2
00の範囲で、かつ10μm未満の微粒子含有比率が
0.1wt%以下である事が必要がある。ただし、前記
粒径が10μm未満では、例えヘリウム置換若しくは減
圧引きしてもシリカ粉の間隔雰囲気内部まで置換若しく
は所定圧に減圧にする事が出来ず、又帯域溶融でも気泡
がぬけにくくなってしまい、溶融したシリカガラス中に
気泡が多量に含まれてしまい、且つ断熱効果により均一
な伝熱が困難になる。
均一にならなかったり、同様に例え水晶粉を用いても粉
体間の空隙により気泡の発生を解消出来ない。又非晶質
シリカ粉の充填は予熱が行われない充填域下端には先ず
合成非晶質シリカ粉を充填し、次いで予熱の不完全な区
域では合成非晶質シリカ粉と結晶シリカ粉との混合粉を
充填した後に、最後に前記結晶質シリカ粉を充填するの
がよい。
の様に天然の結晶質シリカ粉を用いる事が出来ない場合
がある。この様な場合は、前記非晶質シリカ粉をあらか
じめ水素含有雰囲気若しくはヘリウム含有雰囲気にて加
熱処理を行なった後に充填すればよい。この結果、前記
帯域溶融時に水素やヘリウムからなる残留ガスが存在し
ても溶融時にこれらが溶融ガラス中に吸蔵/ドープさ
れ、気泡の発生を阻止でき、合成シリカガラスのように
高純度非晶質シリカ粉を用いても実質的な無気泡なシリ
カガラスロッドが製造できる。
ウム含有雰囲気にて加熱処理を行なわない場合、該加熱
処理時に鞘管内のシリカ粉の間隔雰囲気をヘリウム含有
雰囲気にしながら帯域溶融を行うのがよい。この場合、
前記鞘管に主原料シリカ粉を充填する際に予め該鞘管に
小口径寸法の管を挿入してから主原料シリカ粉を充填
し、該小口径管を通して水素若しくはヘリウムガスを流
して該鞘管内のシリカ粉の間隔雰囲気を水素若しくはヘ
リウム含有雰囲気にするのがよい。
り、断面多角形状の耐熱性高純度シリカガラス治具材を
形成する事が出来、具体的には表層部位を除く内部を主
原料シリカ粉の溶融体で形成し、該溶融体と主原料シリ
カ粉との間の金属元素(Li、Na、K、Ca、Mg、
Ti、Cr、Fe、Ni、Cu)濃度差が50重量pp
m以下であり、且つ該溶融体の100cm3 に存在する
泡の総断面積を1mm2以下に設定した事を特徴とする
シリカガラス治具材の提供が可能となる。そしてこの場
合前記主原料シリカ粉に高純度合成シリカを用いること
により、前記溶融体の金属元素(Li、Na、K、C
a、Mg、Ti、Cr、Fe、Ni、Cu)の各濃度を
50重量ppb以下に設定したたシリカガラス治具材を
形成する事が出来る。
を得るには前記鞘管の帯域加熱手段内への送り速度と該
帯域加熱手段により溶融されたシリカガラスの引き速度
を制御して、前記被加熱体の直径と溶融後のシリカガラ
ス棒の直径の比が1/2以下になるようにするのがよ
い。これにより、例えば一辺が30〜150mm、肉厚
が3〜10mm、軸方向の長さが1〜10mの多角柱状
シリカガラス鞘管から、断面多角形の一辺が5〜50m
mであって、図1(D)に示すように、各々の一辺1A
の中心点1A1とその一辺の両端を結ぶ直線状の中心点
1A2との距離が該直線近似の一辺の長さの5%以内に
納める事が出来、高寸法精度の多角柱状シリカガラス棒
の製作が可能となる。
する。但しこの実施例に記載されている構成部品の、材
質、形状、分析値などは特に特定的な記載がない限り
は、この発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく
単なる説明例に過ぎない。
角柱シリカガラス棒の製造手順を図1及び図2に従って
説明する。 (1)シリカガラス製の鞘管の用意 図2(A)に示すように一辺の長さ100mm、肉厚5
mm、軸方向の長さ1mの天然シリカガラス多角柱管に
一辺の長さ100mm、肉厚5mmの正方形の底板をガ
ラス溶接し、四角柱シリカガラス鞘管10を作成した。
で10hrs加熱処理を行ない、熱歪除去処理を行った
後、10wt%フッ化水素水溶液に前記被加熱体を10
min浸しその後純水で洗い流して内外表面洗浄及びマ
イクロクラックの除去を行なった。 (3)前記鞘管の乾燥 純水で洗い流した多角柱シリカガラス鞘管10を米国連
邦規格209のクラス10000のクリーンルームの清
浄な空気で乾燥した。
処理 シリカ粉の種類は天然水晶、合成水晶、合成クリストバ
ライト、合成シリカガラスのいずれか1種類以上用い、
塩素ガスや塩化水素ガス等の含有雰囲気で加熱純化処理
を行うが、非晶質シリカ粉を用いる場合は、水素含有雰
囲気若しくはヘリウム含有雰囲気にて加熱純化処理を行
なうのがよい。又シリカ粉2の粒径は、10〜1000
μmが好ましい。これ以下では、溶融体3中に気泡が多
量に含まれてしまう。これ以上では、溶融時均一になら
なかったり、同様に気泡がぬけにくくなってしまう。
カ粉として、天然水晶粉体を粒径50〜500μmの範
囲かつ10μm未満の粉を0.1wt%以下に調整し
た。又必要に応じて耐熱性等を増すために、金属元素化
合物粉等を前記純化処理後に混合してもよいが、その場
合製造後のシリカガラスドットの特定ドープ元素の濃度
が0.1〜5wt%になるようにドープ用粉体と主原料
シリカ粉の混合比を設定するのがよい。
500μmに調整した。
粉の充填 主原料シリカ粉に結晶質シリカを用いる場合は、鞘管1
0の下端部分には合成シリカガラス粉2aを入れ、次い
で徐々に水晶粉等の結晶粉の比率を大きくした粉を入れ
ていく。下端のシリカガラス粉2aの充填長さは、溶融
に使用する円筒型加熱抵抗炉若しくは誘導加熱炉8(以
下円筒型電気炉8という)の均熱長より大きくしなけれ
ばならない。この理由は、先端部分にシリカガラス粉2
aを入れないで、いきなり水晶粉2bを入れて、上記電
気炉8にて昇温すると、水晶のα型β型の転移温度にて
急膨張し、鞘管10を破壊させてしまうからである。
尚、主原料粉としてすべてを非晶質シリカガラスとする
場合は、先端部分からすべて同一種類のシリカガラス粉
2を順次充填すれば良い。
示すように、四角柱シリカガラス鞘管10を垂直に立
て、外径15mm、肉厚2.5mm、長さ1.2mの小
口径のシリカガラス管9にヘリウムガスを1Nm3 /h
流しながら鞘管10に挿入し、(C)に示すように鞘管
10の先端に0.5Kgの合成シリカ粉2aを徐々に投
入した。次に天然水晶粉:合成シリカ粉=1:2(重量
比)の混合粉体2a1を0.5Kgを徐々に投入した。
更にその次に天然水晶粉:合成シリカ粉=1:1(重量
比)の混合粉体2a2を0.5Kgを徐々に投入した。
そして天然水晶粉:合成シリカ粉=2:1(重量比)の
混合粉体2a3を0.5Kgを徐々に投入した。最後に
8Kgの天然水晶粉を徐々に投入した。この結果合成シ
リカガラス粉体層2a、混合粉体2a1、2a2、2a3
の層が夫々5cmとなり、これらの層の累計が円筒型電
気炉8の均熱長(5cm)より大にする事が出来た。鞘
管10の開口部は減圧装置保護のためのフィルター8を
取付けた後に、小口径のシリカガラス管9をヘリウムガ
スを流しながら抜取った。
ラス化と延伸溶融 次に図1(A)に示すように、円筒型電気炉8内にシリ
カ粉を充填した前記鞘管10を垂直のまま先端部に挿入
し、鞘管10内の減圧度を、133.32Paにしなが
ら炉8を徐々に昇温する。炉内温度が1800℃以上2
200℃以下の溶融温度、好ましくは略1900〜20
00℃に達した後に、円筒型電気炉8内への送り速度1
4.6mm/minと該円筒型電気炉8により溶融され
たシリカガラスの引き速度を250mm/minに制御
して延伸溶融を行って、その後自然冷却によりこれを固
化させて1辺が20mmの透明四角柱状のシリカガラス
棒1を得る。
の減圧下に比較し相対的に大きく設定している。この結
果、前記溶融時点では図1(B)に示すように各辺10
aが中心側に凹んだ形状をなす。その後の冷却過程で各
辺の凹んだ部分が表面張力で膨出して、冷却完了時点で
は図1(C)に示すように、方形の断面形状の多角柱シ
リカガラス棒1が形成できる。
Pa、好ましくは100〜500Pa程度に設定する事
により、各辺が無用に凹設することもなく、表面張力と
の関係において、精度よい寸法精度が維持されながら加
熱溶融されることとなる。尚、この線引後のシリカガラ
ス棒の直径は、鞘管10の直径の1/2以下にするのが
好ましく、本実施例においては、鞘管10の電気炉8内
への送り速度を引き速度の1/4以下、好ましくは1/
10以下を調整することにより、一辺が50mmの鞘管
より一辺が20mmの多角柱棒を作成した。
断面の各々の一辺の両端を結ぶ直線の中心点と実際の一
辺の中心点の距離が一辺の長さを測定すると公差は一辺
が20mmのとき±0.5mmであった。
てみると信越石英(株)商品名Heralux−Eに比
較して同程度のレベルの100cm3 に存在する気泡の
総断面積が0.88mm2 であった。ただし、測定法は
DIN58927(1970)に従った。また表面状態
はすり傷がなくJIS B 0601−1976の表面
粗さ最大高さRmaxは0.2μmと非常に滑らかであ
った。
と溶融透明ガラス化後の不純物濃度を示す。
されることなく良好に保存されていることが理解され
る。尚、Li、Mg、TiはICP質量分析法により、
またNa、K、Ca、Cr、Fe、Ni、Cuは黒鉛炉
加熱原始吸光分析法により測定を行なった。
(Li、Na、K、Ca、Mg、Ti、Cr、Fe、N
i、Cu)濃度差が50重量ppm以下に設定され、且
つ該溶融体の100cm3 に存在する泡の総断面積が1
mm2 以下である為に、結果的に一つのシリカガラス塊
から切断加工等により製造したものと実質的に同一であ
り、且つ切断加工と異なり、表層部位の汚染がなく好ま
しいシリカガラス治具材の提供が可能である。
カガラス鞘管に合成シリカ粉を用いた多角柱状シリカガ
ラス棒を作成した。 (1)多角柱シリカガラス鞘管の作成 一辺の長さ100mm、肉厚5mm、軸方向の長さ1m
の合成シリカガラス多角柱管に一辺の長さ100mm、
肉厚5mmの正方形の底板をガラス溶接し、四角柱シリ
カガラス鞘管を作成した。 (2)多角柱シリカガラス鞘管の熱歪除去処理等の前処
理 前記実施例と同様に、加熱処理による熱歪除去、フッ酸
水溶液による内外表面洗浄、マイクロクラックの除去、
及び乾燥を行う。
整及び雰囲気加熱処理 ゾルゲル法によって得られた合成シリカ粉の粒径を50
〜500μmの範囲にし、かつ10μm未満の粉を0.
1重量%にするため調整を施した。ゾルゲル法で製造し
た合成シリカガラス粉を粒径50〜500μmに調整し
た。タングステンメッシュヒーター、ステンレススチー
ルジャケットの雰囲気電気加熱炉内にて、H2 ガス雰囲
気にて800℃、3hrs加熱処理を行なった。
粉の充填 前記と同様に、ヘリウムガスを流しながら、鞘管全域に
10Kgの合成シリカ粉を徐々に投入した。 (5)円筒形電気炉による延伸溶融 円筒形電気炉に合成シリカ粉を充填した四角柱シリカガ
ラス鞘管を垂直のまま先端部を挿入し、鞘管内の減圧度
を133.32Paにしながら炉を徐々に昇温する。炉
内が設定温度に達したならば溶融した鞘管下端部を炉か
ら引き出し、送り速度14.6mm/min、引き速度
250mm/minで延伸溶融して一辺が20mmの高
寸法精度の四角柱状シリカガラス棒を得た。
断面の各々の一辺の両端を結ぶ直線の中心点と実際の一
辺の中心点の距離が一辺の長さを測定すると公差は一辺
が20mmのとき±0.5mmであった。 (7)多角柱シリカガラス棒の物性評価 得られた四角柱状シリカガラス棒に含まれる気泡を調べ
てみると信越石英(株)商品名Heralux−Eに比
較して同程度のレベルの100cm3 に存在する気泡の
総断面積が0.88mm2 であった。ただし、測定法は
DIN58927(1970)に従った。また表面状態
はすり傷がなくJIS B 0601−1976の表面
粗さ最大高さRmaxは0.2μmであった。
た。ただし、Li、Mg、TiはICP質量分析法によ
り、またNa、K、Ca、Cr、Fe、Ni、Cuは黒
鉛炉加熱原子吸光分析法によって測定した。本表より原
料粉の高純度がガラス化後も良好に保存されていること
がわかる。又、外表部位の純度も内部の純度もほぼ一致
し、混然一体とした多角柱棒の形成が可能となった。特
に前記溶融体の金属元素(Li、Na、K、Ca、M
g、Ti、Cr、Fe、Ni、Cu)の各濃度を50重
量ppb以下に設定されているために、高純度のシリカ
ガラス治具材として有利である。
造工程において、鞘管内/外の減圧度をいずれも500
Paに設定して同様な方法で溶融して多角柱状シリカガ
ラス棒を得た。そして得られた四角柱状シリカガラス棒
の軸方向に対して垂直断面の各々の一辺の両端を結ぶ直
線の中心点と実際の一辺の中心点の距離が一辺の長さを
測定すると公差は一辺が20mmのとき±2mmと膨出
しているのが確認された。尚、図3にこの比較技術にお
けるシリカガラス多角柱棒の溶融工程時の断面形状
(A)及び冷却時の断面形状(B)を示す
が非常に低く、かつ耐熱性に優れるので高温高純度処理
に適したガラス治具等の部材である多角柱状シリカガラ
ス棒をローコストで提供することができる。等の種々の
著効を有す。
溶融工程(A)と溶融時の断面形状(B)と冷却時の断
面形状(C)及び冷却時の断面形状の一辺(D)を示
す。
と、主原料シリカ粉の投入工程を示す。
工程時の断面形状(A)及び冷却時の断面形状(B)を
示す。
Claims (11)
- 【請求項1】 下端が封止されている略中空多角柱状シ
リカガラス管(以下鞘管という)内に主原料シリカ粉を
充填した後、 前記鞘管の帯域加熱手段への送り速度と引き速度を制御
しながら、該鞘管の下端部より垂直重力方向に徐々に帯
域溶融させるとともに、該帯域溶融時に鞘管内圧力を鞘
管周囲圧力に比して減圧させながら帯域溶融させて多角
柱状シリカガラス棒を得ることを特徴とする多角柱状シ
リカガラス棒の製造方法。 - 【請求項2】 前記鞘管内のシリカ粉の間隔雰囲気をヘ
リウム含有雰囲気にした状態で、帯域溶融を行うことを
特徴とする請求項1記載の多角柱状シリカガラス棒の製
造方法。 - 【請求項3】 前記鞘管に主原料シリカ粉を充填する際
に予め該鞘管に小口径寸法の管を挿入しながら主原料シ
リカ粉を充填し、該充填と並行して若しくは充填後に小
口径管を通してヘリウムガスを流して該鞘管内のシリカ
粉の間隔雰囲気をヘリウム含有雰囲気にすることを特徴
とする請求項1記載の多角柱状シリカガラス棒の製造方
法。 - 【請求項4】 帯域溶融時の鞘管周囲圧力を大気圧に維
持した場合において、鞘管内圧力を1Pa〜1×105
Paに設定した請求項1記載の多角柱状シリカガラス棒
の製造方法。 - 【請求項5】 前記鞘管の封止端側に非晶質シリカ粉を
充填し、その後に主原料シリカ粉を充填させる事を特徴
とする請求項1記載の多角柱状シリカガラス棒の製造方
法。 - 【請求項6】 前記主原料シリカ粉の主成分が、天然水
晶粉、天然石英粉、合成水晶粉、合成クリストバライト
粉のいずれか1種類以上の結晶質シリカであり、粒径が
10〜1000μmの範囲、かつ10μm未満の微粒子
含有比率が0.1wt%以下であることを特徴とする請
求項1記載の多角柱状シリカガラス棒の製造方法。 - 【請求項7】 前記主原料シリカ粉を予め水素含有雰囲
気若しくはヘリウム含有雰囲気にて加熱処理したことを
特徴とする請求項6記載の多角柱状シリカガラス棒の製
造方法。 - 【請求項8】 前記主原料シリカ粉中に、金属元素また
は金属元素化合物粉を混合してなる主原料シリカ粉であ
る請求項6記載の多角柱状シリカガラス棒の製造方法。 - 【請求項9】 前記鞘管の帯域加熱手段内への送り速度
と該帯域加熱手段により溶融されたシリカガラスの引き
速度を制御して、前記被加熱体の直径Dと溶融後のシリ
カガラス体の対角線長Lの関係がD≧L/2となるよう
にしたことを特徴とする多角柱状シリカガラス棒の製造
方法。 - 【請求項10】 断面多角形状の耐熱性高純度シリカガ
ラス治具材において、 表層部位を除く内部を主原料シリカ粉の溶融体で形成
し、該溶融体と表層部位との間の金属元素(Li、N
a、K、Ca、Mg、Ti、Cr、Fe、Ni、Cu)
濃度差が5重量ppm以下であり、且つ該溶融体の10
0cm3 に存在する泡の総断面積を1mm2 以下に設定
した事を特徴とするシリカガラス治具材。 - 【請求項11】 前記溶融体の金属元素(Li、Na、
K、Ca、Mg、Ti、Cr、Fe、Ni、Cu)の各
濃度を50重量ppb以下に設定した事を特徴とする請
求項1記載のシリカガラス治具材。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6278518A JP2810941B2 (ja) | 1994-10-18 | 1994-10-18 | 多角柱状シリカガラス棒の製造方法 |
| EP19950116444 EP0729918B1 (de) | 1994-10-18 | 1995-10-18 | Verfahren zur Herstellung eines polygonalen Quarzglasstabes |
| DE59510494T DE59510494D1 (de) | 1994-10-18 | 1995-10-18 | Verfahren zur Herstellung eines polygonalen Quarzglasstabes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6278518A JP2810941B2 (ja) | 1994-10-18 | 1994-10-18 | 多角柱状シリカガラス棒の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08119649A JPH08119649A (ja) | 1996-05-14 |
| JP2810941B2 true JP2810941B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=17598408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6278518A Expired - Fee Related JP2810941B2 (ja) | 1994-10-18 | 1994-10-18 | 多角柱状シリカガラス棒の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0729918B1 (ja) |
| JP (1) | JP2810941B2 (ja) |
| DE (1) | DE59510494D1 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4497333B2 (ja) * | 1999-09-28 | 2010-07-07 | 信越石英株式会社 | 合成石英ガラス粉の製造方法 |
| JP5149862B2 (ja) * | 2009-05-08 | 2013-02-20 | 株式会社オハラ | バーナ用石英ガラス管 |
| US11339076B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-05-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of carbon-doped silicon dioxide granulate as an intermediate in the preparation of quartz glass |
| WO2017103166A2 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Herstellung eines quarzglaskörpers in einem mehrkammerofen |
| US11492285B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies from silicon dioxide granulate |
| US11236002B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-02-01 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of an opaque quartz glass body |
| WO2017103115A2 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Herstellung eines quarzglaskörpers in einem schmelztiegel aus refraktärmetall |
| WO2017103125A1 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Sprühgranulieren von siliziumdioxid bei der herstellung von quarzglas |
| WO2017103124A2 (de) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Erhöhen des siliziumgehalts bei der herstellung von quarzglas |
| TWI794149B (zh) | 2015-12-18 | 2023-03-01 | 德商何瑞斯廓格拉斯公司 | 石英玻璃粉粒、不透明成型體及彼等之製備方法 |
| CN108698887B (zh) | 2015-12-18 | 2022-01-21 | 贺利氏石英玻璃有限两合公司 | 由均质石英玻璃制得的玻璃纤维和预成形品 |
| EP3390303B1 (de) | 2015-12-18 | 2024-02-07 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Herstellung von quarzglaskörpern mit taupunktkontrolle im schmelzofen |
| JP2020523278A (ja) | 2017-06-14 | 2020-08-06 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 石英ガラス体の調製 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3261676A (en) * | 1963-01-24 | 1966-07-19 | Gen Electric | Method for forming silica articles |
| DE1508820C3 (de) * | 1966-01-10 | 1974-02-28 | Walter Dr.Phil. 6233 Kelkheim Dannoehl | Anwendung des Flüssigziehverfahrens, bei dem metallische Ausgangsbestandteile in Hohlräume von Ausgangskörpern eingebracht werden |
| US3615312A (en) * | 1969-04-21 | 1971-10-26 | American Optical Corp | End fusion of glass laser rods of dissimilar chemistry |
| FR2706077B1 (fr) * | 1993-06-03 | 1995-07-21 | Saint Gobain Vitrage Int | Polyèdres de verre et procédé de fabrication. |
-
1994
- 1994-10-18 JP JP6278518A patent/JP2810941B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-10-18 DE DE59510494T patent/DE59510494D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-18 EP EP19950116444 patent/EP0729918B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59510494D1 (de) | 2003-01-16 |
| EP0729918B1 (de) | 2002-12-04 |
| EP0729918A1 (de) | 1996-09-04 |
| JPH08119649A (ja) | 1996-05-14 |
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