JPH01314247A - プリント基板の自動露光装置 - Google Patents

プリント基板の自動露光装置

Info

Publication number
JPH01314247A
JPH01314247A JP63145483A JP14548388A JPH01314247A JP H01314247 A JPH01314247 A JP H01314247A JP 63145483 A JP63145483 A JP 63145483A JP 14548388 A JP14548388 A JP 14548388A JP H01314247 A JPH01314247 A JP H01314247A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
printed circuit
board
lower frame
circuit board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63145483A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuya Hojo
徹也 北城
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Plant Kogyo Kk
Original Assignee
Fuji Plant Kogyo Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Plant Kogyo Kk filed Critical Fuji Plant Kogyo Kk
Priority to JP63145483A priority Critical patent/JPH01314247A/ja
Publication of JPH01314247A publication Critical patent/JPH01314247A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プリント基板用の露光装置に関するものであ
り、特にプリント基板を露光室内へ搬入し、露光処理さ
せた後に露光室外へ搬出させる搬送手段に特徴を有する
ものである。
、〔従来の技術〕 プリント基板の露光装置において、プリント基板を露光
室内へ搬入・搬出させる手段に関して、従来は第4図及
び第5図に記載のようなものがある。
その第4図のものは上下盤からなる露光用枠盤(4)(
24)が1台で、両枠盤(4)(24)間にプリント基
板06を位置決め固定し、それを露光室(2)内へ送っ
て露光用光源(23)で露光させた後、露光室(2)か
ら引き出してプリント基板(11)を取り外す。次に同
じ枠盤(4’)(24’)間に別のプリント基板Obを
位置決め固定して、上記と同じ作動を繰り返し行うよう
にしたものである。
また第5図のものは露光用枠盤(41(24)が例えば
上下段に2台に配設され、上段の枠盤(45(24)間
にプリント基板α6を位置決め固定し、それを露光室(
2)内へ送って露光用光源(23)で露光させるが、そ
の間に下段の枠盤(4)(24)間に次ぎのプリント基
板(11)を位置決め固定しておく。先の上段の枠盤(
4)(24)を露光室から引き出すと、入れ代わりに下
段の枠盤(4] (24)を露光室(2)へ送り、それ
が露光中に上段の枠盤(4)(24)からプリント基板
O1)を取り外して、さらに次のプリント基板αυを位
置決め固定し、上記と同じ作動を交互に繰り返すように
したものである。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来のプリント基板の露光装置の内、第4図のもの
は1枚のプリント基板01)毎に、露光用枠盤(4)(
24)への位置決め固定時間・露光時間・取り外し時間
が必要なため、自動化が難しく、プリント基板の位置き
め固定と取り外しを手作業で行わざるを得ず、作業効率
・生産性が悪かった。
また第5図のものは、露光用枠盤(4)(24)を交互
に出入可能とするため、二台の枠盤(4)(24)は露
光室(2)内で例えば上下位置にある。そのため、例え
ば上段に来た枠盤(4)(24)上のプリント基板06
は、上部の露光用光源(23)に近いが下部の露光用光
源(23)から遠い位置にあり、また下段に来た枠盤(
4)(24)上のプリント基板αυは逆の位置関係にな
る。
それゆえ、特に両面露光の場合にプリント基板αυ両面
の露光条件が異なってしまうという問題点があった。
本発明は、プリント基板の露光装置に関し、上記従来手
段がもつ課題を解決しようとするものである。即ち、本
発明の目的は、比較通シンプルな構成ながら自動的に、
プリント基板を順次に複数台の露光用枠盤へ位置決め固
定し、それを露光室へ送り込み、露光後にプリント基板
を次工程へ送り出すともに、枠盤自体は循環移動するよ
うにして、露光処理の生産性を向上させ、かつ両面露光
時にプリント基板が露光用光源から常に等距離にあるよ
うにして、露光ムラがなくファインパターンを形成可能
とした、プリント基板の自動露光装置を提供することに
ある。
発明の構成 〔課題を解決するための手段〕 本発明のプリント基板の自動露光装置は、基板の位置決
め固定セクション(1)・露光室(2)・基板の取り外
しセクション(3)、−及びその間を循環移動する基板
露光用下枠盤(4)とからなり、上記位置決め固定セク
ション+1)・露光室(2)内・取り外しセクション(
3)及び露光室(2)下方に、各々露光用下枠盤(4)
の移送手段(5) (6) (7) (8)を独立して
設けるとともに、位置決め固定セクション(1)と取り
外しセクション(3)の各移送手段+5) (7)は、
各々上昇時は露光室(2)内の移送手段(6)と同一レ
ベルに、下降時は露光室(2)下方の移送手段(8)と
同一レベルになる如く昇降手段(9) 01を設け、各
露光用下枠m(4)には、プリント基板0υの位置決め
用孔(財)内へ挿入可能で、常時は線孔(2)内で拡張
可能な位置決めビンa3を設け、位置決め固定セクショ
ン(1)には、露光用下枠盤(4)の−位置決めビンa
1を一時的に小径にするビン拡張解除手段αつと、プリ
ント基板αυを露光用下枠盤(4)上に載置する基板載
置手段Q4)とを設け、取り外しセクション(3)には
、露光用下枠盤(4)の位置決めビン031を一時的に
小径にするビン拡張解除手段Q[9と、−露光用下枠盤
(4)上のプリント基板αυを取り外す基板取り外し手
段aηとを設けてなるものである。
上記構成において、各移送手段(5) (6) (7)
 (8)は、例えば図示例の如きコンベアやローラであ
るが、それに限らず露光用下枠盤(4)を次へ移送可能
なものであればよい。
昇降手段(9)α呻は、例えばスライドシリンダやロッ
ドレスシリンダが省スペース上から望ましいが、位置決
め固定セクション(1)及び取り外しセクション(3)
の各移送手段(5) (?)を昇降可能なものであれば
、それに限るものではない。
露光用下枠盤(4)の位置決めピンα涛は、例えば第3
図の如く、スリット付の筒状ピン部α呻に、大径部が筒
状ビン部a呻の内径より少し大きい逆テーパ部(21)
をもつ棒状ビン部α■を挿入し、當時はバネ−(21で
逆テーバ部(21)を筒状ピン部(l内へ引き寄せ、筒
状ピン部α鴫の先端部が放射線方向へ拡張状態となるよ
うにしである。
ビン拡張解除手段QJα呻は、例えばエアーシリンダで
、上記棒状ビン部Q(JをバネQ・に抗して押し上げ、
逆テーパ部(21)を筒状ビン部Q鴫から突出させて、
筒状ビン部α呻の拡張状態を解除して小径に復元可能と
するものである。
基板載置手段04)と基板取り外し手段αηは、いずれ
も例えばバキューム式にプリント基板αDを吸着して、
前者α船はプリント基板αDを前工程から露光用下枠盤
(4)上へ載置可能で、後者αηは露光用下枠盤(4)
から取り外して次工程へ送り出し可能としである。
なお、位置決めセクション(1)の移送手段(5)と取
り外しセクション(3)の移送手段(7)の昇降は、露
光用下枠盤(4)の1台が露光室(2)内にある間に、
前者(5)は下降して次ぎの露光用下枠盤(4)を受取
って上昇し、また後者(7)はプリント基板αυを取り
外した後の露光用下枠盤(4)を、循環移動のため下方
へ運んで上昇するように設定しておく。
〔作  用〕
上記本発明のプリント基板の自動露光装置の作動状態は
、以下の如くである。
まず位置決めセクション(1)では、上昇位置にある移
送手段(5)が移送運動を停止しており、その上に回路
形成用フィルム(22)を固定された露光用下枠盤(4
)が載置されている。そのフィルム(22)付き露光用
下枠盤(4)上に、前工程からのプリント基板αυが基
板載置手段αaにより載せられる。その際該露光用下枠
盤(4)の位置決めピン(2)は、前もってビン拡張解
除手段Qすにて拡張状態を解除してお(。
これで位置決めピンQJは小径になっているので、プリ
ント基板(11)の位置決め用孔(2)は容易に套谷す
る。その後に位置決めビンα罎が拡張する。即ち、例え
ば第3図の如く、ビン拡張解除手段aりの後退で、棒状
ビン部α呻がバネ(2mにて引かれて逆テーパ部(21
)の大径部分を筒状ビン部01に埋没させる。
そのため、筒状ピン部α樽の先端部が位置決め用孔(2
)内で放射線方向に拡張状態となり、プリント基板aυ
は露光用下枠盤(4)上に位置決め・固定されることに
なる。
この状態で、位置決めセクシ醤ン(1)の移送手段(5
)が移送運動を開始して、プリント基板al)を載せた
露光用下枠盤(4)は露光室(2)内へ移送され、露光
室(2)内の移送手段(6)上にて停止する。
露光室(2)内では、露光用下枠盤(4)上のプリント
基板αυに、上方から露光用上枠fi (24)が降下
して、例えば真空方式でプリント基板αυを密封状に挟
持された状態で、露光用光源(23)にて露光がなされ
る。なお両面露光の場合は図示例の如く、上面の回路形
成用フィルム(25)付の露光用上枠l1(24)にて
プリント基板110が挟持され、両面から露光がなされ
る。
露光時間が経過すると、移送手段(6)上には露光用下
枠盤(4)・プリント基板(11)が残っており、露光
用上梓盤(24)は上昇してしまう。そして移送手段(
6)が移送運動を開始し、露光後のプリント基板(11
)を載置した露光用下枠盤(4)は、次の取り外しセク
ション(3)の移送手段(7)上へ移送され、停止する
ここでは位置決めビンα湯が、上記と同様にビン拡張解
除手段(11にて拡張状態を解除され、プリント基板(
11)の位置決め用孔(2)よりも小径に復元する。
そこで、基板取り外し手段αηがプリント基板(11)
を露光用下枠盤(4)から取り外し次工程へ移すが、回
路形成用フィルム(22)付の′露光用下枠盤(4)は
、取り外しセクション(3)の移送手段(7)上に残っ
たままである。
次に、取り外しセクション(3)の移送手段(7)が昇
降手段(9)により降下して、露光室(2)下方の移送
手段(8)と同一レベルに達する。この状態で該移送手
段(8)が再び移送運動を始め、その上に残されていた
露光用下枠盤(4)は、露光室(2)下方の移送手段(
8)上へ送られる。更に該露光用下枠盤(4)は、露光
室(2)下方の移送手段(8)により次に送られるが、
その際には上記位置決めセクション(1)の移送手段(
5)が降下して、同一レベル位置まで来ている。そこで
該露光用下枠盤(4)は、位置決めセクション(1)の
移送手段(5)上へ到達し停止する。
そして該位置決めセクション(1)の移送手段(5)が
、昇降手段(9)により露光室(2)内の移送手段(6
)と同一レベルまで上昇するので、該移送手段(5)上
の露光用下枠盤(4)は最初と同じ状態へ戻ることにな
る。
そこで再び該露光用下枠盤(4)上へ、前工程からのプ
リント基板(11)が基板載置手段Oaにより載置され
、位置決めビン03により位置決め・固定される。その
後は、上記と同様に露光室(2)へ送られるという作動
を繰り返し行うことになる。
上記は、1台の露光用下枠盤(4)の動きであるが、実
際の露光装置では露光用下枠盤(4)を複数枚例えば図
示例の如(3台程度が用いられる。その場合の作動状態
は、次のようなものである。
即ち、例えばプリント基板αυを位置決め固定した1台
の露光用下枠M(4)が、第1図及び第2図で示す如く
、露光室(2)内に送られ露光を受けている間には、位
置決めセクション(1)では、移送手段(5)が降下し
循環移動している次の露光用下枠盤(4)を受けて上昇
してくる。そして該露光用下枠盤(4)に、次のプリン
ト基板a1)が位置決め・固定されて待機状態となって
いる。
他方、その間に基板取り外しセクション(3)では、移
送手段(7)がプリント基板αηを取り外した露光用下
枠盤(4)を載せて降下し、該露光用下枠盤(4)を露
光室(2)下方の移送手段(8)へ渡している。そして
露光時間が経過する前に、該基板取り外しセクション(
3)の移送手段(7)は上昇して、露光室(2)から出
て来る露光用下枠盤(4)を受ける態勢となる。
そして露光が終わり、露光後の露光用下枠盤(4)が基
板取り外しセクションへ移送され、露光室(2)内が空
になった際には、位置決めセクション(1)の移送手段
(5)が、待機していた上記法の露光用下枠盤(4)を
露光室(2)内へ送り込み、その後、更に次の露光用下
枠盤(4)を受けるため降下していく、という作動が繰
り返し行われることになる。
発明の効果 以上で明らかの如く、本発明のプリント基板の自動露光
装置は次のような効果を奏する。
比較通シンプルな構成ながら、1台の露光用下枠盤が露
光室内にある間に、別の露光用下枠盤に次のプリント基
板を位置決め固定して次の露光に備えるさせるとともに
、露光室を経た他の露光用下枠盤からプリント基板は外
して、該露光用下枠盤を元の基板位置決め固定位置へ循
環させることにより、装置全体を自動化できるとともに
、露光処理の生産性が向上でき、かつ両面露光時に、プ
リント基板が露光用光源から常に等距離にあるようにし
て、露光ふうがな(ファインパターンを形成できるよう
になるものである。
即ち、従来の露光装置では、1台の露光用枠盤を用いる
ものは、自動化が難しく、プリント基板の位置決め固定
と取り外しを手作業で行うので、作業効率が悪く生産性
も悪かった。また二台の露光用枠盤を用いるものは、露
光室内での位置が例えば上下段に食い違うため、両面露
光の場合にプリント基板と露光用光源との距離が上下段
で異なり、両面の露光条件が異なることになった。
これに対して本発明では、上記の如く複数台の露光用下
枠盤が自動的に、プリント基板を位置決め・固定して露
光室へ入り、その間に他の露光用下枠盤に次ぎのプリン
ト基板の位置決め固定がなされて待機状態となるととも
に、露光後のプリント基板を外した露光用下枠盤は循環
して、再び元の基板位置決め固定セクシ9ンヘ戻る。し
たがって、露光処理の生産性を大幅に向上できる。
また、複数台の露光用下枠盤を用いるが、露光室内でほ
の位置は當に露光用光源と同一距離にあるので、ファイ
ンパターンのプリント基板を大量生産できるものである
【図面の簡単な説明】
第1図は本自動露光装置の実施例の一部切欠き斜視図、
第2図は第2図の実施例で露光用下枠盤の移動状態を示
す概略縦断正面図、第3図は位置決めピンとビン拡張解
除手段の実施例を示す縦断正面図、第4図・第5図は従
来の露光装置の概略を示す縦断正面図である。 図面符号  (1)−位置決め固定セクション(3)−
取り外しセクション (2) −n光室(4)−露光用
下枠盤    (5)−移送手段(6)−移送手段  
    (7)−移送手段(8)−移送手段     
 (9)−昇降手段α〔−昇降手段      αυ−
プリント基板(2)−位置止め用孔    α湯−位置
決めビンαa−基板載置手段    (5)−ビン拡張
解除手段ae−ビン拡張解除手段 出願人 富士プラント工業株式会社 (lbノーフ イ ルム

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. [1]基板の位置決め固定セクション(1)・露光室(
    2)・基板の取り外しセクション(3)、及びその間を
    循環移動する基板露光用下枠盤(4)とからなり、上記
    位置決め固定セクション(1)・露光室(2)内・取り
    外しセクション(3)及び露光室(2)下方に、各々露
    光用下枠盤(4)の移送手段(5)(6)(7)(8)
    を独立して設けるとともに、位置決め固定セクション(
    1)と取り外しセクション(3)の各移送手段(5)(
    7)は、各々上昇時は露光室(2)内の移送手段(6)
    と同一レベルに、下降時は露光室(2)下方の移送手段
    (8)と同一レベルになる如く昇降手段(9)(10)
    を設け、各露光用下枠盤(4)には、プリント基板(1
    1)の位置決め用孔(2)内へ挿入可能で、常時は該孔
    (12)内で拡張可能な位置決めピン(13)を設け、
    位置決め固定セクション(1)には、露光用下枠盤(4
    )の位置決めピン(13)を一時的に小径にするピン拡
    張解除手段(15)と、プリント基板(11)を露光用
    下枠盤(4)上に載置する基板載置手段(14)とを設
    け、取り外しセクション(3)には、露光用下枠盤(4
    )の位置決めピン(13)を一時的に小径にするピン拡
    張解除手段(16)と、露光用下枠盤(4)上のプリン
    ト基板(11)を取り外す基板取り外し手段(17)と
    を設けてなる、プリント基板の自動露光装置。
JP63145483A 1988-06-13 1988-06-13 プリント基板の自動露光装置 Pending JPH01314247A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63145483A JPH01314247A (ja) 1988-06-13 1988-06-13 プリント基板の自動露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63145483A JPH01314247A (ja) 1988-06-13 1988-06-13 プリント基板の自動露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01314247A true JPH01314247A (ja) 1989-12-19

Family

ID=15386303

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63145483A Pending JPH01314247A (ja) 1988-06-13 1988-06-13 プリント基板の自動露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01314247A (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03280060A (ja) * 1990-03-29 1991-12-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の供給方法
WO2005015615A1 (ja) * 2003-08-07 2005-02-17 Nikon Corporation 露光方法及び露光装置、ステージ装置、並びにデバイス製造方法
JP2009073638A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Mimaki Engineering Co Ltd 印刷装置
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56158330A (en) * 1980-05-10 1981-12-07 Oak Seisakusho:Kk Printing device
JPS5742575U (ja) * 1980-08-22 1982-03-08
JPS58160039A (ja) * 1982-03-12 1983-09-22 Fujitsu Ten Ltd ワ−クの固定方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56158330A (en) * 1980-05-10 1981-12-07 Oak Seisakusho:Kk Printing device
JPS5742575U (ja) * 1980-08-22 1982-03-08
JPS58160039A (ja) * 1982-03-12 1983-09-22 Fujitsu Ten Ltd ワ−クの固定方法

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03280060A (ja) * 1990-03-29 1991-12-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の供給方法
US9885959B2 (en) 2003-04-09 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
JP2009147385A (ja) * 2003-08-07 2009-07-02 Nikon Corp 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
EP1995769A1 (en) * 2003-08-07 2008-11-26 Nikon Corporation Exposure method and exposure apparatus, stage unit, and device manufacturing method
JP4552146B2 (ja) * 2003-08-07 2010-09-29 株式会社ニコン 露光方法及び露光装置、ステージ装置、並びにデバイス製造方法
JPWO2005015615A1 (ja) * 2003-08-07 2007-10-04 株式会社ニコン 露光方法及び露光装置、ステージ装置、並びにデバイス製造方法
WO2005015615A1 (ja) * 2003-08-07 2005-02-17 Nikon Corporation 露光方法及び露光装置、ステージ装置、並びにデバイス製造方法
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9760014B2 (en) 2003-10-28 2017-09-12 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US10281632B2 (en) 2003-11-20 2019-05-07 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US10007194B2 (en) 2004-02-06 2018-06-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10241417B2 (en) 2004-02-06 2019-03-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10234770B2 (en) 2004-02-06 2019-03-19 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
JP2009073638A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Mimaki Engineering Co Ltd 印刷装置
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9857599B2 (en) 2007-10-24 2018-01-02 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH01314247A (ja) プリント基板の自動露光装置
KR880006758A (ko) 고속도 레티클 교환장치
EP0427222A3 (en) Apparatus for the fabrication of printing plates
US4666294A (en) Apparatus for exposure of both sides of printed circuit plates
US4547066A (en) Exposure apparatus
US4541714A (en) Exposure control method
US5475464A (en) Smart film cartridge magazine
US3472591A (en) Step-and-repeat photocomposing machine
US4648346A (en) Pallet for use in production of color cathode ray tube
US4451242A (en) Method of conveying panel and shadow mask and pallet for holding panel and shadow mask and apparatus for removing shadow mask from panel
JP2003231012A (ja) プリント基板加工装置
JPS59128125A (ja) ロ−ダ・アンロ−ダ
JPH0157518B2 (ja)
JP3126008B2 (ja) プリント基板搬送装置
JP2820232B2 (ja) 焼付装置
JPH0722780A (ja) プリント基板の実装設備
JPH01212449A (ja) ハイブリッドic基板供給装置
KR810001645B1 (ko) 패널(Panel) 가공장치
JPS62295831A (ja) パレツト搬送装置
JP2766122B2 (ja) 焼付装置、原板供給装置及び原板排出装置
CN117696539A (zh) 一种显影后板面自动清洁系统及方法
JP2738474B2 (ja) 自動焼付方法およびシステム
JPH0724683A (ja) パレット搬送装置
KR200145780Y1 (ko) 탄탈 프레임 매거진 가이더
JP3847411B2 (ja) 半導体ウェハー移載装置