JP2009242642A - 紫外線吸収剤組成物 - Google Patents

紫外線吸収剤組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP2009242642A
JP2009242642A JP2008091837A JP2008091837A JP2009242642A JP 2009242642 A JP2009242642 A JP 2009242642A JP 2008091837 A JP2008091837 A JP 2008091837A JP 2008091837 A JP2008091837 A JP 2008091837A JP 2009242642 A JP2009242642 A JP 2009242642A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
substituted
general formula
unsubstituted
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008091837A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5250289B2 (ja
Inventor
Kazufumi Furukawa
和史 古川
Keizo Kimura
桂三 木村
Yoichiro Takeshima
洋一郎 竹島
Kazumichi Amagasaki
一路 尼崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2008091837A priority Critical patent/JP5250289B2/ja
Priority to CN2009801109371A priority patent/CN101981153A/zh
Priority to PCT/JP2009/056542 priority patent/WO2009123142A1/ja
Priority to TW098110396A priority patent/TW200948806A/zh
Priority to EP09727136A priority patent/EP2270113A4/en
Priority to US12/933,712 priority patent/US20110024701A1/en
Publication of JP2009242642A publication Critical patent/JP2009242642A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5250289B2 publication Critical patent/JP5250289B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D409/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D409/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/10—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D498/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D498/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D498/04—Ortho-condensed systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/45—Heterocyclic compounds having sulfur in the ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Abstract

【課題】広波長域にわたる紫外線吸収能を持ち、より長波側まで紫外線をカットしつつ着色を極力押さえ、著しく耐光性に優れ、また樹脂などに添加した場合に効果的に幅広い波長域にわたる紫外線吸収能とその他の諸物性を付与することができる紫外線吸収色素混合物を提供する。
【解決手段】下記一般式で表される少なくとも１種の紫外線吸収剤（Ａ）と、３２０ｎｍにおける吸光度が２７０〜４００ｎｍの範囲での吸収極大波長における吸光度の２０％以上であり、極大吸収波長が３８０ｎｍ以下の化合物である少なくとも１種の紫外線吸収剤（Ｂ）とを含む紫外線吸収剤組成物。
Figure 2009242642

［Ｈｅｔ1は、２価の５又は６員環の芳香族ヘテロ環残基。Ｘa〜Ｘdは、各々独立にヘテロ原子。Ｙa〜Ｙfは、各々独立にヘテロ原子または炭素原子を表す。Ｈｅｔ1に結合している環は、二重結合を有していても良い。］
【選択図】なし

Description

本発明は紫外線吸収剤組成物に関する。
従来から紫外線吸収剤を種々の樹脂などと共用して紫外線吸収性を付与することが行われている。なお、従来、紫外線吸収剤は添加する樹脂そのものの安定性を向上する目的で添加されており、長波側ＵＶ−Ａをカットする重要性はほとんど知られていない。紫外線吸収剤として無機系紫外線吸収剤と有機系紫外線吸収剤を用いる場合がある。無機系紫外線吸収剤（例えば、特許文献１〜３等を参照。）では、耐候性や耐熱性などの耐久性に優れている反面、吸収波長が化合物のバンドギャップによって決定されるために選択の自由度が少なく、３２０〜４００ｎｍの長波紫外線（ＵＶ−Ａ）領域まで吸収できるものはなく、長波紫外線を吸収するものは可視域まで吸収を有するために着色を伴ってしまう。その中でＵＶ−Ｂ領域を遮蔽する性質を有する特定のチタン酸表面にＵＶ−Ａ領域を遮蔽する酸化セリウム系の紫外線遮蔽剤を被覆し複合化することで、幅広い紫外線領域を遮蔽できることが知られている（例えば、特許文献４等を参照。）。
これに対して、有機系紫外線吸収剤は、吸収剤の構造設計の自由度が高いために、吸収剤の構造を工夫することによって様々な吸収波長のものを得ることができる。
これまでにも様々な有機系紫外線吸収剤を用いた系が検討されており、長波紫外線領域まで吸収する場合には、極大吸収波長が長波紫外線領域にあるものを用いるか、濃度を高くするかの２通りが考えられている。しかし、特許文献５及び６等に記載された極大吸収波長が長波紫外線領域にあるものは、耐光性が悪く、吸収能が時間とともに減少していってしまう。
これに対してベンゾフェノン系やベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤は比較的耐光性も良く、濃度や膜厚を大きくすれば長波長領域まで比較的クリアにカットできる（例えば特許文献７及び８等を参照。）。しかし、通常これらの紫外線吸収剤を樹脂等に混ぜて塗布する場合、膜厚は数十μｍ程度が限界である。この膜厚で長波長領域までカットしようとするとかなり高濃度に紫外線吸収剤を添加する必要がある。しかしながら、単に高濃度に添加しただけでは紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じるという問題があった。また、極大吸収波長が長波紫外線領域にあったとしても、４００ｎｍ以上に吸収を有する紫外線吸収剤を用いた場合には黄色味着色を生じ、透過して観察するカラー画像の色相を悪化させてしまう。これは高濃度に添加した場合に顕著な問題となる。よって紫外線領域を幅広く効果的に遮蔽してなおかつ可視域に吸収がない紫外線吸収剤が求められていた。
特開平５−３３９０３３号公報 特開平５−３４５６３９号公報 特開平６−５６４６６号公報 特開２００６−３１６１０７号公報 特開平６−１４５３８７号公報 特開２００３−１７７２３５号公報 特表２００５−５１７７８７号公報 特開平７−２８５９２７号公報
本発明の目的は、広波長域にわたる紫外線吸収能を持ち、より長波側まで紫外線をカットしつつ着色を極力押さえ、著しく耐光性に優れ、また樹脂などに添加した場合に効果的に幅広い波長域にわたる紫外線吸収能とその他の諸物性を付与することができる紫外線吸収色素混合物を提供することにある。
本発明者らは、紫外線領域に吸収を有する化合物を詳細に検討し、紫外線領域を幅広くかつ長波紫外線領域を効果的に遮蔽することと、可視域に吸収を有さないことを両立させるために鋭意検討を重ねた結果、複数の紫外線吸収剤を結合した連結型では理論的には上記の両立が可能であるものの、紫外線吸収構造を複数有さない紫外線吸収剤１分子で行うことは容易でないことを見出した。すなわち、紫外線領域全体を幅広く遮蔽することを１分子の紫外線吸収剤で行おうとすると全体に吸収強度が弱いものとなってしまい、効果的に紫外線を遮蔽するためには添加量を多くする必要がある。これはブリードアウトを生じやすくすることにつながり好ましくない。また、幅広い吸収を有する化合物は極大吸収波長を中心としてブロードな吸収スペクトル形状となる。このことは、確実に遮蔽したい波長域と確実に透過したい波長域が近い場合には両方を満足させることができないことを意味する。逆に鋭い吸収を有する化合物は極大吸収波長を中心として狭い領域しか遮蔽することができない。
これらの知見から、長波側は可視域には吸収を有さないが紫外域には十分な吸収を有する、すなわち長波側が急峻なスペクトル形状を有する紫外線吸収剤で長波紫外線領域をカバーする一方、不足する領域を別の紫外線吸収剤を併用してカバーすることで、紫外線領域全体をカバーし、かつ長波紫外線領域を効果的に遮蔽する紫外線吸収剤組成物を提供することができることを見出した。なお、従来から複数の紫外線吸収剤を組み合わせて使用することは行われてきたが、吸収スペクトルの形状を規定して組み合わせることで効果的な紫外線領域遮蔽が実現することは知られていなかった。また、異種のＵＶ剤を併用することにより複合体を形成してしまい、耐光性の悪化や変色などの問題が起こることもあった。
本発明は、このような知見に基づきなされるに至ったものである。
本発明の課題は、以下の方法によって達成された。
＜１＞下記一般式（１）で表される化合物である少なくとも１種の紫外線吸収剤（Ａ）と、３２０ｎｍにおける吸光度が２７０〜４００ｎｍの範囲での吸収極大波長における吸光度の２０％以上であり、極大吸収波長が３８０ｎｍ以下の化合物である少なくとも１種の紫外線吸収剤（Ｂ）とを含むことを特徴とする紫外線吸収剤組成物。
Figure 2009242642
［Ｈｅｔ1は、２価の５あるいは６員環の芳香族ヘテロ環残基を表す。また、該芳香族ヘテロ環残基は置換基を有していても良い。
Ｘa、Ｘb、Ｘc及びＸdは、互いに独立してヘテロ原子を表す。また、Ｘa〜Ｘdは置換基を有していても良い。
Ｙa、Ｙb、Ｙc、Ｙd、Ｙe及びＹfは、互いに独立してヘテロ原子または炭素原子を表す。また、Ｙa〜Ｙfは置換基を有していても良い。
Ｈｅｔ1に結合している環は、任意の位置に二重結合を有していても良い。］
＜２＞前記一般式（１）において、Ｘa、Ｘb、Ｙa〜Ｙc及び炭素原子によって形成される環並びにＸc、Ｘd、Ｙd〜Ｙf及び炭素原子によって形成される環の少なくとも一方が縮環している、＜１＞項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜３＞前記一般式（１）において、Ｘa、Ｘb、Ｙa〜Ｙc及び炭素原子によって形成される環並びにＸc、Ｘd、Ｙd〜Ｙf及び炭素原子によって形成される環の少なくとも一方がペリミジン環ではない、＜１＞又は＜２＞項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜４＞前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（２）で表される化合物である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
Figure 2009242642
［Ｈｅｔ2は、前記一般式（１）のＨｅｔ1と同義である。
Ｘ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dは、それぞれ前記一般式（１）のＸa、Ｘb、Ｘc及びＸdと同義である。
Ｙ2b、Ｙ2c、Ｙ2e及びＹ2fは、それぞれ前記一般式（１）のＹb、Ｙc、Ｙe及びＹfと同義である。
Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立して酸素原子、硫黄原子または＝ＮＲaを表す（Ｒaは、水素原子または１価の置換基を表す。）。
Ｚ1及びＺ2はそれぞれ独立して、Ｙ2b及びＹ2cまたはＹ2e及びＹ2fと一緒になって４〜８員環を形成するのに必要な原子群を表す。］
＜５＞前記一般式（２）で表される化合物が下記一般式（３）で表される化合物である、＜４＞項に記載の紫外線吸収剤組成物。
Figure 2009242642
［Ｈｅｔ3は、前記一般式（２）のＨｅｔ2と同義である。
Ｘ3a、Ｘ3b、Ｘ3c及びＸ3dは、それぞれ前記一般式（２）のＸ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dと同義である。
Ｒ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。］
＜６＞前記一般式（３）で表される化合物が下記一般式（４）で表される化合物である、＜５＞項に記載の紫外線吸収剤組成物。
Figure 2009242642
［Ｈｅｔ4は、前記一般式（３）のＨｅｔ3と同義である。
Ｒ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hは、それぞれ前記一般式（３）のＲ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hと同義である。］
＜７＞前記一般式（４）で表される化合物が下記一般式（５）で表される化合物である、＜６＞項に記載の紫外線吸収剤組成物。
Figure 2009242642
［Ｒ5a、Ｒ5b、Ｒ5c、Ｒ5d、Ｒ5e、Ｒ5f、Ｒ5g及びＲ5hは、それぞれ前記一般式（４）のＲ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hと同義である。Ｒ5i及びＲ5jは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。］
＜８＞前記紫外線吸収剤（Ａ）と前記紫外線吸収剤（Ｂ）との比率が、１０：１〜１：１０の範囲である、＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜９＞＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む紫外線吸収剤分散物。
＜１０＞＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む紫外線吸収剤溶液。
＜１１＞＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む高分子材料。
本発明の紫外線吸収剤組成物は広波長域にわたる紫外線吸収能に優れ、また樹脂などに添加した場合に効果的に広波長域にわたる紫外線吸収能を付与することができる。また、長波紫外線を裾切れ良くカットしており、紫外線の長波側カットと着色の小ささとを両立する。さらに、特定の紫外線吸収剤の組み合わせにより、樹脂との相溶性が向上し、樹脂に添加したときのブリードアウトの問題を防ぐことができ、添加した樹脂および紫外線吸収剤そのものに対して著しく耐光性に優れる。
以下、本発明について詳細に説明する。
まず、本明細書において脂肪族基は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基および置換アラルキル基を意味する。アルキル基は分岐を有していてもよく、また環を形成していてもよい。アルキル基の炭素原子数は１〜２０であることが好ましく、１〜１８であることが更に好ましい。置換アルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アルケニル基は分岐を有していてもよく、また環を形成していてもよい。アルケニル基の炭素原子数は２〜２０であることが好ましく、２〜１８であることが更に好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分は、上記アルケニル基と同様である。アルキニル基は分岐を有していてもよく、また環を形成していてもよい。アルキニル基の炭素原子数は２〜２０であることが好ましく、２〜１８であることが更に好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分は、上記アルキニル基と同様である。アラルキル基および置換アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基および置換アラルキル基のアリール部分は下記アリール基と同様である。
置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基および置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、
アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、
アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、
スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル又はアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、
アリール又はヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）を表わす。
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
置換アラルキル基のアリール部分の置換基の例は、下記置換アリール基の置換基の例と同様である。
本明細書において芳香族基は、アリール基および置換アリール基を意味する。またこれらの芳香族基は脂肪族環、他の芳香族環または複素環が縮合していてもよい。芳香族基の炭素原子数は６〜４０が好ましく、６〜３０が更に好ましく、６〜２０が更に好ましい。またその中でもアリール基としてはフェニルまたはナフチルであることが好ましく、フェニルが特に好ましい。
置換アリール基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。置換アリール基の置換基の例としては、先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基及び置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としてあげたものと同様である。
本明細書において、複素環基は５員または６員の飽和または不飽和複素環を含むことが好ましい。複素環に脂肪族環、芳香族環または他の複素環が縮合していてもよい。複素環のヘテロ原子の例にはＢ，Ｎ，Ｏ，Ｓ，ＳｅおよびＴｅが含まれる。ヘテロ原子としてはＮ，ＯおよびＳが好ましい。複素環は炭素原子が遊離の原子価（一価）を有する（複素環基は炭素原子において結合する）ことが好ましい。好ましい複素環基の炭素原子数は１〜４０であり、より好ましくは１〜３０であり、更に好ましくは１〜２０である。飽和複素環の例には、ピロリジン環、モルホリン環、２−ボラ−１，３−ジオキソラン環および１，３−チアゾリジン環が含まれる。不飽和複素環の例には、イミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾセレナゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびキノリン環が含まれる。複素環基は置換基を有していても良い。置換基の例としては、先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基及び置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例として挙げたものと同様である。
分光吸収極大波長を確認するための溶液は、紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を有機或いは無機の溶媒または水を単独或いはそれらの混合物を用いて溶解したものである。
有機溶媒としては、例えばアミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドン）、スルホン系溶媒（例えばスルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えばジメチルスルホキシド）、ウレイド系溶媒（例えばテトラメチルウレア）、エーテル系溶媒（例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル）、ケトン系溶媒（例えばアセトン、シクロヘキサノン）、炭化水素系溶媒（例えばトルエン、キシレン、ｎ−デカン）、ハロゲン系溶媒（例えばテトラクロロエタン，クロロベンゼン、クロロナフタレン）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、シクロヘキサノール、フェノール）、ピリジン系溶媒（例えばピリジン、γ−ピコリン、２，６−ルチジン）、エステル系溶媒（例えば酢酸エチル、酢酸ブチル）、カルボン酸系溶媒（例えば酢酸、プロピオン酸）、ニトリル系溶媒（例えばアセトニトリル）、スルホン酸系溶媒（例えばメタンスルホン酸）、アミン系溶媒（例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン）等を用いることができる。
無機溶媒としては、例えば硫酸、リン酸等を用いることができる。
紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）の溶解性の点から、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、ハロゲン系溶媒、炭化水素系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、又はニトリル系溶媒が好ましい。
測定のための紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）の濃度は、分光吸収の極大波長が確認できる濃度であれば特に制限されず、好ましくは１×１０-7〜１×１０13ｍｏｌ／Ｌの範囲である。
測定のための温度は特に制限されず、好ましくは０℃〜８０℃である。
分光吸収測定装置としては、特に制限されず、通常の分光吸収測定装置（例えば、Ｕ−４１００スペクトロフォトメーター、商品名、日立ハイテクノロジーズ(株)製）を用いることができる。
本発明の紫外線吸収剤組成物は、紫外線吸収剤（Ａ）と特定の吸収スペクトル形状を有する紫外線吸収剤（Ｂ）とをそれぞれ少なくとも１種以上含むことを特徴とするものである。好ましくは、紫外線吸収剤（Ａ）は２種類以下であり、１種類のみである場合が特に好ましい。紫外線吸収剤（Ｂ）は３種類以下であることが好ましく、２種類である場合がより好ましく、１種類である場合が特に好ましい。
紫外線吸収剤（Ａ）と紫外線吸収剤（Ｂ）の混合比率は１：０と０：１０を除く任意の比率であってよい。好ましくは１０：１〜１：１０である。より好ましくは５：１〜１：５である。最も好ましくは４：１〜１：４である。なお、この場合の混合比率はモル比で表すものとする。
続いて、紫外線吸収剤（Ａ）について詳細に説明する。紫外線吸収剤（Ａ）は前記一般式（１）で表される化合物である。
前記一般式（１）において、Ｈｅｔ1は、少なくとも一つのヘテロ原子を有する２価の５あるいは６員環の芳香族ヘテロ環残基を表す。また、Ｈｅｔ1は、縮環していても良い。
ヘテロ原子としては例えば、ホウ素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子などを挙げることができる。ヘテロ原子として好ましくは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子である。より好ましくは、窒素原子、硫黄原子である。特に好ましくは、硫黄原子である。ヘテロ原子を二つ以上有する場合は、同一原子であっても異なる原子であっても良い。
２価の芳香族ヘテロ環残基に２つの水素原子を付加した芳香族ヘテロ環として例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、１，３，４−チアジアゾールなどを挙げることができる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピロール、ピリジン、フラン、チオフェンである。より好ましくは、ピリジン、チオフェンである。特に好ましくは、チオフェンである。芳香族ヘテロ環の水素原子を取り除く位置はいずれでも良い。例えばヘテロ５員環化合物ピロールでの結合位置は、２，３位、２，４位、２，５位、３，４位、３，５位が挙げられる。また、ヘテロ６員環化合物ピリジンでの結合位置は、２，３位、２，４位、２，５位、２，６位、３，４位、３，５位、３，６位が挙げられる。
また、芳香族ヘテロ環残基は置換基を有していても良い。置換基として１価の置換基が挙げられる。１価の置換基（以下Ｒとする）の例として、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１〜２０のアルキル基（例えばメチル、エチル）、炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル、ナフチル）、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、置換又は無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、アルキルカルボニル基（例えばアセチル）、アリールカルボニル基（例えばベンゾイル）、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ）、アシルアミノ基（例えばアセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、イミド基（例えばスクシンイミド、フタルイミド）、イミノ基（例えばベンジリデンアミノ）、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えばメトキシ）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、置換または無置換のスルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、炭素数６〜２０のヘテロ環基（例えばピリジル、モルホリノ）などを挙げることができる。また、置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なっても良い。その際、置換基の例としては、上述の１価の置換基Ｒを挙げることができる。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
置換基として好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アリール基がある。より好ましくは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは、アルキル基である。
Ｘa、Ｘb、Ｘc及びＸdは、互いに独立してヘテロ原子を表す。ヘテロ原子としては例えば、ホウ素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子などを挙げることができる。ヘテロ原子として好ましくは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子である。より好ましくは、窒素原子、酸素原子である。また、Ｘa〜Ｘdは置換基を有していても良い。置換基としては上述した１価の置換基Ｒの例が挙げられる。
Ｙa、Ｙb、Ｙc、Ｙd、Ｙe及びＹfは、互いに独立してヘテロ原子または炭素原子を表す。Ｙa〜Ｙfを構成する原子としては例えば、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。Ｙa〜Ｙfを構成する原子として好ましくは、炭素原子、窒素原子、酸素原子であり、より好ましくは、炭素原子、窒素原子である。さらに好ましくは、炭素原子であり、特に好ましくは、全て炭素原子を表す場合である。また、原子は置換されていても良く、置換基同士で結合して環を形成しても良く、さらに縮環していても良い。置換基としては上述した１価の置換基Ｒの例が挙げられる。
前記のＸa、Ｘb、Ｙa〜Ｙc及び炭素原子によって形成される環並びにＸc、Ｘd、Ｙd〜Ｙf及び炭素原子によって形成される環（前記のＨｅｔ1で表される芳香族ヘテロ環残基に結合している２つの環）の少なくとも一方は、縮環していることが好ましい。また、該２つの環の少なくとも一方はペリミジン環ではないことが好ましい。
下記表１〜６に、前記のＸa、Ｘb、Ｙa〜Ｙc及び炭素原子によって形成される環をＡ、前記のＨｅｔ1で表される芳香族ヘテロ環残基をＨｅｔ、前記のＸc、Ｘd、Ｙd〜Ｙf及び炭素原子によって形成される環をＣとして、それぞれの具体例を示す。
Figure 2009242642
Figure 2009242642
Figure 2009242642
Figure 2009242642
Figure 2009242642
Figure 2009242642
前記一般式（１）で表される化合物は前記一般式（２）で表される化合物であることが好ましい。以下、前記一般式（２）で表される化合物について説明する。
Ｈｅｔ2は、前記一般式（１）のＨｅｔ1と同義である。好ましい場合も同じである。
Ｘ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dは、それぞれ前記一般式（１）のＸa、Ｘb、Ｘc及びＸdと同義であり、好ましい場合も同じである。Ｘ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dはそれぞれ異なっていても良いが、Ｘ2a及びＸ2b、並びにＸ2c及びＸ2dの組は、それぞれ同じ組み合わせを表す場合がより好ましく、特に好ましくはＸ2a及びＸ2cが酸素原子、Ｘ2b及びＸ2dが窒素原子を表す場合である。
Ｙ2b、Ｙ2c、Ｙ2e及びＹ2fは、それぞれ前記一般式（１）のＹb、Ｙc、Ｙe及びＹfと同義である。好ましい場合も同じである。
Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立して酸素原子、硫黄原子または＝ＮＲaを表す（Ｒaは、水素原子または１価の置換基を表す。置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例が挙げられる。）好ましくは酸素原子、＝ＮＲaである。より好ましくは酸素原子である。Ｌ1及びＬ2はそれぞれ異なっていても良いが、同じであることが好ましい。中でもＬ1及びＬ2はいずれも酸素原子であることが特に好ましい。
Ｚ1及びＺ2はそれぞれ独立して、Ｙ2b及びＹ2cまたはＹ2e及びＹ2fと一緒になって４〜８員環を形成するのに必要な原子群を表す。これらの環は置換基を有していても良く、さらに縮環していても良い。形成する環として例えば、シクロヘキサン、シクロペンタンなどの脂肪族炭化水素環、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族炭化水素環、ピリジン、ピロール、ピリダジン、チオフェン、イミダゾール、フラン、ピラゾール、オキサゾール、トリアゾール、チアゾ−ルまたはこれらのベンゾ縮環体などのヘテロ環が挙げられる。好ましくは芳香族炭化水素環、ヘテロ環である。より好ましくは芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。
さらに、前記一般式（２）で表される化合物は、前記一般式（３）で表される化合物であることが好ましい。以下、前記一般式（３）で表される化合物について説明する。
Ｈｅｔ3は、前記一般式（２）のＨｅｔ2と同義である。好ましい場合も同じである。
Ｘ3a、Ｘ3b、Ｘ3c及びＸ3dは、それぞれ前記一般式（２）のＸ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dと同義であり、好ましい場合も同じである。Ｘ3a、Ｘ3b、Ｘ3c及びＸ3dはそれぞれ異なっていても良いが、Ｘ3a及びＸ3b、並びにＸ3c及びＸ3dの組は、それぞれ同じ組み合わせを表す場合がより好ましく、特に好ましくはＸ3a及びＸ3cが酸素原子、Ｘ3b及びＸ3dが窒素原子を表す場合である。
Ｒ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例を挙げることができる。Ｒ3a〜Ｒ3d及びＲ3e〜Ｒ3hのうち任意の２つの置換基は互いに結合して環を形成しても良く、さらに縮環していても良い。Ｒ3a〜Ｒ3hとして好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルキル基、炭素数１０以下のアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルコキシ基である。さらに好ましくは、水素原子であり、特に好ましくは、Ｒ3a〜Ｒ3hの全てが水素原子を表す場合である。
さらに、前記一般式（３）で表される化合物は、前記一般式（４）で表される化合物であることが好ましい。以下、前記一般式（４）で表される化合物について説明する。
Ｈｅｔ4は、前記一般式（３）のＨｅｔ3と同義である。好ましい場合も同じである。
Ｒ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hは、それぞれ前記一般式（３）のＲ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hと同義である。好ましい場合も同じである。
さらに、前記一般式（４）で表される化合物は、前記一般式（５）で表される化合物であることが好ましい。以下、前記一般式（５）で表される化合物について説明する。
Ｈｅｔ5は、前記一般式（４）のＨｅｔ4と同義である。好ましい場合も同じである。
Ｒ5a、Ｒ5b、Ｒ5c、Ｒ5d、Ｒ5e、Ｒ5f、Ｒ5g及びＲ5hは、それぞれ前記一般式（４）のＲ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hと同義である。好ましい場合も同じである。
Ｒ5i及びＲ5jは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。１価の置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例を挙げることができる。Ｒ5i及びＲ5jは互いに結合して環を形成しても良く、さらに縮環していても良い。Ｒ5i及びＲ5jとして好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルキル基、炭素数１０以下のアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルコキシ基である。さらに好ましくは、水素原子であり、特に好ましくは、Ｒ5i及びＲ5jが共に水素原子を表す場合である。
前記一般式（１）〜（５）のいずれかで表される化合物は、任意の方法で合成することができる。例えば、公知の特許文献や非特許文献、例えば特開２０００−２６４８７９号公報の４ページ左４３行目〜右８行目の実施例、特開２００３−１５５３７５の４ページ右欄５行目〜３０行目の実施例、「Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ ＆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，２０００年，８巻，２０９５−２１０３ページ、「Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ ＆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ」，２００３年，１３巻，４０７７−４０８０ページなどを参考にして合成できる。例えば、例示化合物（１５）は３，５−ピラゾールジカルボニルジクロリドとアントラニル酸とを反応させることにより合成できる。また、例示化合物（３２）は２，５−チオフェンジカルボニルジクロリドと４，５−ジメトキアントラニル酸とを反応させることにより合成できる。
前記一般式（１）〜（５）のいずれかで表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されない。
Figure 2009242642
Figure 2009242642
Figure 2009242642
Figure 2009242642
Figure 2009242642
Figure 2009242642
前記一般式（１）〜（５）のいずれかで表される化合物は、構造とその置かれた環境によって互変異性体を取り得る。本発明においては代表的な形の一つで記述しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明に用いられる化合物に含まれる。
前記一般式（１）〜（５）のいずれかで表される化合物は、同位元素（例えば、2Ｈ、3Ｈ、13Ｃ、15Ｎ、17Ｏ、18Ｏなど）を含有していてもよい。
前記一般式（１）〜（５）のいずれかで表される化合物の構造を繰り返し単位内に含むポリマーも、本発明に好適に使用できる。ポリマーは、ホモポリマーであってもよいし、２種類以上の繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。さらに他の繰り返し単位を含むコポリマーであってもよい。なお、紫外線吸収剤構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、特公平１−５３４５５号、特開昭６１−１８９５３０号の各公報および欧州特許第２７２４２号明細書に記載がある。ポリマーを得る方法についてはこれら特許文献の記述を参考にすることができる。
次に、特定の吸収スペクトル形状を有する紫外線吸収剤（Ｂ）について詳細に説明する。紫外線吸収剤（Ｂ）は３２０ｎｍにおける吸光度が２７０〜４００ｎｍの範囲での極大吸収波長における吸光度の２０％以上であり、極大吸収波長が３８０ｎｍ以下であるという特徴を有する。３２０ｎｍにおける吸光度が極大吸収波長における吸光度の２０％以下であると、３１０〜３３０ｎｍの間で紫外線吸収剤Ａと紫外線吸収剤Ｂではカバーしきれない波長帯が生じてしまう。中でも紫外線吸収剤Ｂの３２０ｎｍにおける吸光度が極大吸収波長における吸光度の３０％以上であることが好ましく、４０％以上であることが更に好ましく、５０％以上であることが最も好ましい。また極大吸収波長は、３８０ｎｍ以下であることが好ましく、更に好ましくは３７０ｎｍ以下であり、更に好ましくは３６５ｎｍ以下であり、最も好ましくは３５０ｎｍ以下である。
紫外線吸収剤Ｂは３２０ｎｍにおける吸光度が極大吸収波長における吸光度の２０％以上であり、極大吸収波長が３８０ｎｍ以下であるものを表すが、これは図１に示すように極大吸収波長が３２０ｎｍ未満である紫外線吸収剤Ｂ−（１）、及び極大吸収波長が３２０ｎｍ以上３８０ｎｍ以内である紫外線吸収剤Ｂ−（２）に分類でき、用途に応じて適宜選択することができる。
例えば、紫外線吸収剤Ｂ−（１）は、プラスチック成型品、ポリマーに練りこむ場合等他に短波紫外線を吸収する要素が存在しない場合に用いることが特に好ましい。プラスチック成型品やポリマー練り込みの場合、他に３００ｎｍ以下の短波紫外線を吸収する要素が存在しないため、短波紫外領域まで効率よく吸収可能な紫外線吸収剤Ｂ−（１）を用いることで新たな短波紫外領域領域吸収フィルタを用いずに、プラスチック成型品自身及びその内容物を紫外線から防ぐことが可能となる。また、本発明の紫外線吸収剤Ａを併用することで、ポリマーに対する相溶性及び光堅牢性が改善されるという予想外の効果が得られる。
例えば、Ｂ−（２）はガラス上のフィルム、ポリマーに溶解させて基板に塗布する場合等、他に短波紫外線を吸収する要素が存在する場合に用いることが特に好ましい。紫外線吸収剤Ｂ−（２）を用いる場合は３２０ｎｍ付近の遮蔽能力に優れるが、３００ｎｍ以下の短波紫外領域を効率よく吸収することは可能であるが、困難な場合がある。そのため、短波側を遮蔽するフィルタの役割を果たすポリマー、ガラス基板の上に塗布して使用することが好ましい。また、本発明の紫外線吸収剤Ａを併用することで、溶剤塗布系で塗布膜を用いる際の溶媒（酢酸エチル、メチルエチルケトン、トルエン等）に対する溶解性及び光堅牢性が改善されるという予想外の効果が得られる。
紫外線吸収剤（Ｂ）としては、３２０ｎｍにおける吸光度が極大吸収波長における吸光度の２０％以上であり、極大吸収波長が３８０ｎｍ以下であるという条件を満たすものであればいずれの構造であってもよい。例えば、紫外線吸収剤の構造として知られているベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、メロシアニン系、シアニン系、ジベンゾイルメタン系、桂皮酸系、アクリレート系、安息香酸エステル系シュウ酸ジアミド系、ホルムアミジン系、ベンゾオキサジノン系などの化合物が挙げられる。これらのうち、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、ジベンゾイルメタン系、ホルムアミジン系、ベンゾオキサジノン系の化合物が好ましく、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、ホルムアミジン系、ベンゾオキサジノン系の化合物が更に好ましい。最も好ましくはベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾオキサジノン系の化合物である。これらの紫外線吸収剤は、例えばファインケミカル、２００４年５月号、２８〜３８ページ、東レリサーチセンター調査研究部門発行「高分子用機能性添加剤の新展開」（東レリサーチセンター、１９９９年）９６〜１４０ページ、大勝靖一監修「高分子添加剤の開発と環境対策」（シーエムシー出版、２００３年）５４〜６４ページ、（株）技術情報協会発行「高分子の劣化・変色メカニズムとその安定化技術−ノウハウ集−」（技術情報協会、２００６年）などに記載されている。
前記ベンゾトリアゾール系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３８０ｎｍで、下記一般式（IIａ）又は（IIｂ）のいずれかで表される化合物が好ましい。（IIａ）及び（IIｂ）について詳述する。
Figure 2009242642
〔前記一般式（IIａ）中、
Ｒ11は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
Ｒ12は、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
Ｒ13は、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、又は−ＣＯＯＲ14基（ここで、Ｒ14は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基である。）を表す。〕
〔前記一般式（IIｂ）中、
Ｔは、水素原子、又は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。
Ｔ1は、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換のアルコキシ基を表す。
Ｌは２価の連結基または単結合を表し、ｍは０又は１を表す。
ｎは１〜４の整数を表す。ｎが１のときＴ2は、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。また、ｎが２のときＴ2は２価の置換基を表し、ｎが３のときＴ2は３価の置換基を表し、ｎが４のときＴ2は４価の置換基を表す。〕
（一般式（IIａ））
Ｒ11は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル、置換もしくは無置換のシクロアルキル、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
Ｒ11として好ましくは、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、炭素数５〜１８の置換もしくは無置換シクロアルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換アリール基である。Ｒ11として特に好ましくは、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基である。
置換アルキル基、置換シクロアルキル基、置換アリール基は任意の位置に１価の置換基を有しているアルキル基、シクロアルキル基、アリール基を表し、１価の置換基の例としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）の直鎖又は分岐のアルキル基（例えばメチル、エチル）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリール基（例えばフェニル、ナフチル）、シアノ基、カルボキシル基、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）の置換又は無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルキルカルボニル基（例えばアセチル）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールカルボニル基（例えばベンゾイル）、ニトロ基、炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）の置換または無置換のアミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアシルアミノ基（例えばアセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）、
炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）のスルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、炭素数２〜２０（好ましくは２〜１０）のイミド基（例えばスクシンイミド、フタルイミド）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のイミノ基（例えばベンジリデンアミノ）、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルコキシ基（例えばメトキシ）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールオキシ基（例えばフェノキシ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアシルオキシ基（例えばアセトキシ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、炭素数０〜２０（好ましくは０〜１０）の置換または無置換のスルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルキルチオ基（例えばメチルチオ）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールチオ基（例えばフェニルチオ）、炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）のアルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１０）のアリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、４〜７員環（好ましくは５〜６員環）のヘテロ環基（例えばピリジル、モルホリノ）などを挙げることができる。
Ｒ12は、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｒ12として好ましくは、水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、炭素数５〜１８の置換もしくは無置換シクロアルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換アリール基である。Ｒ12として特に好ましくは、水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換アリール基である。
Ｒ13は、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、又は−ＣＯＯＲ14基（ここで、Ｒ14は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基である。）を表す。Ｒ13として好ましくは、水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルコキシ基、又は−ＣＯＯＲ14基（ここで、Ｒ14は、水素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基である。）である。
Ｒ11、Ｒ12は、ベンゼン環に置換していればいずれの位置でも構わないが、ヒドロキシル基の２位および４位に置換していることが好ましい。
（一般式（IIｂ））
Ｔは、水素原子、又は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。Ｔとして好ましくは、水素原子、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基である。
Ｔ1は、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換のアルコキシ基を表す。Ｔ1として好ましくは、水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４のアリール基、又は炭素数１〜１８のアルコキシ基である。
−Ｌ−は２価の連結基または単結合を表し、ｍは０又は１を表す。
ｍが０のときは、Ｔ2がＬを介さずに直接ベンゼン環と結合しているとき、即ち−Ｌ−が単なる結合を表しているときを表す。
２価の連結基−Ｌ−について説明する。−Ｌ−は下記一般式（ａ）で表わされる２価の置換基である。
一般式（ａ）
−(Ｌ1)m1−(Ｌ2)m2−(Ｌ3)m3−(Ｌ4)m4−(Ｌ5)m5−
一般式（ａ）中、ｍ１〜ｍ５は０〜２の整数を表す。
Ｌ1〜Ｌ5は各々独立して、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＳＯ2−、−ＳＯ−、−ＮＲL−、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、置換もしくは無置換の２価のアルケニル基、又は置換もしくは無置換の２価のアリール基を表す。ＲLは水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
ＲLの具体例としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。アルキル基上およびアリール基上の任意の位置に１価の置換基を有していてもよい。１価の置換基としては上述した１価の置換基の例が挙げられる。ＲLとして好ましくは、炭素数３〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリール基である。より好ましくは炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基である。
即ち２価の置換基−Ｌ−としては、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ2Ｈ4−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ4Ｈ8−、−ＣＨ2−、−Ｃ2Ｈ4−、−Ｃ3Ｈ6−、−Ｃ4Ｈ8−、−Ｃ5Ｈ10−、−Ｃ8Ｈ16−、−Ｃ4Ｈ8−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ6Ｈ4−Ｃ6Ｈ4−、−ＮＨ−ＳＯ2−Ｃ3Ｈ6−等が好ましい。
前記一般式（IIｂ）中、ｎは１〜４の整数を表す。
ｎが１のときＴ2は、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。ｎが１のときＴ2として好ましくは、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基である。
ｎが２のときＴ2は、２価の置換基を表す。ｎが２のときＴ2の具体例としては、上記の２価の置換基−Ｌ−の例が挙げられる。ｎが２の時Ｔ2として好ましくは、−ＣＨ2−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ2Ｈ4−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−ＣＯ−ＮＨ−である。
ｎが３のときＴ2は３価の置換基を表す。３価の置換基について説明する。３価の置換基は３価のアルキル基、３価のアリール基、又は下記一般式
Figure 2009242642
 で表される置換基である。
３価の置換基のうち、好ましくは炭素数１〜８の３価のアルキル基、炭素数６〜１４の３価のアリール基、又は下記一般式、
Figure 2009242642
 で表される置換基である。
ｎが４のときＴ2は４価の置換基を表す。４価の置換基について説明する。４価の置換基は４価のアルキル基、４価のアリール基で表される置換基である。４価の置換基のうち好ましくは、炭素数１〜８の４価のアルキル基、炭素数６〜１４の４価のアリールである。
一般式（IIｂ）において、ｎが１又は２の時が特に好ましい。
即ち、一般式（IIｂ）の好ましい組み合わせとしては、
ｎが１のとき、Ｔが水素原子、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基であり、Ｔ1が水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４のアリール基、又は炭素数１〜１８のアルコキシ基であり、Ｌが−Ｏ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−、−ＣＨ2−、−Ｃ3Ｈ6−、−Ｃ5Ｈ10−、−Ｃ8Ｈ16−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ4Ｈ8−又は単なる結合であり、Ｔ2が塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基である組合せである。
また、ｎが２のとき、Ｔが水素原子、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基であり、Ｔ1が水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４のアリール基、又は炭素数１〜１８のアルコキシ基であり、Ｌが−ＣＨ2−又は単なる結合であり、Ｔ2が、−ＣＨ2−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ2Ｈ4−ＣＯ−Ｏ−、又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−ＣＯ−ＮＨ−である組合せである。
また、ｎが２のとき、ｍが０であり、Ｔが水素原子、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基であり、Ｔ1が水素原子、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４のアリール基、又は炭素数１〜１８のアルコキシ基であり、Ｔ2が、−ＣＨ2−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ2Ｈ4−ＣＯ−Ｏ−、又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−ＣＯ−ＮＨ−である組合せも好ましい。
前記一般式（IIａ）又は（IIｂ）で表される化合物の代表例としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ドデシル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）−５’−メチルベンジル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］、２−［３’−ｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
Figure 2009242642
 （式中、Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）−フェニル］ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
前記トリアジン系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３８０ｎｍで、下記一般式（III）で表される化合物が好ましい。
Figure 2009242642
［前記一般式（III）中、
置換基Ｙ1は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換のアルコキシ基である。Ｌfは２価の連結基または単結合を表す。
ｕは１又は２であり、ｖは０又は１であり、そしてｒは１〜３の整数であり、
ｕが１のときＹ2は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基である。また、ｕが２のときＹ2は２価の置換基を表す。］
Ｙ1は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換のアルコキシ基を表す。Ｙ1として好ましくは、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基、又は炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基である。
Ｌfは２価の連結基または単なる結合を表す。ｕは１又は２を表す。ｒは１〜３の整数を表す。ｖは０又は１であり、ｖが０の時はＬｆは単なる結合を表す。
２価の連結基−Ｌｆ−について説明する。２価の置換基Ｌｆは、下記一般式（ｂ）で表わされる２価の置換基である。
一般式（ｂ）
−(Ｌｆ1)mf1−(Ｌｆ2)mf2−(Ｌｆ3)mf3−(Ｌｆ4)mf4−(Ｌｆ5)mf5−
一般式（ｂ）中、ｍｆ１〜ｍｆ５は０〜２の整数を表す。
Ｌｆ1〜Ｌｆ5は各々独立して、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＳＯ2−、−ＳＯ−、−ＮＲｆL−、２価の置換もしくは無置換のアルキル基、２価の置換もしくは無置換のアルケニル基、又は２価の置換もしくは無置換のアリール基を表す。ＲｆLは水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
ＲｆLの具体例としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。アルキル基上およびアリール基上の任意の位置に１価の置換基を有していてもよい。１価の置換基としては上述した１価の置換基の例が挙げられる。ＲｆLとして好ましくは、炭素数３〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリール基である。より好ましくは炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基である。
即ち２価の置換基−Ｌｆ−としては、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ2Ｈ4−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ4Ｈ8−、−ＣＨ2−、−Ｃ2Ｈ4−、−Ｃ3Ｈ6−、−Ｃ4Ｈ8−、−Ｃ5Ｈ10−、−Ｃ8Ｈ16−、−Ｃ4Ｈ8−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ6Ｈ4−Ｃ6Ｈ4−、−ＮＨ−ＳＯ2−Ｃ3Ｈ6−等が好ましい。
ｕが１のときＹ2は、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基である。ｕが１のときＹ2として好ましくは、水素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換アルキル基、又は炭素数６〜２４の置換もしくは無置換アリール基である。
ｕが２のときＹ2は２価の置換基を表す。２価の置換基の例としては上記の２価の置換基−Ｌ−の例があげられる。Ｙ2として好ましくは、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、置換もしくは無置換の２価のアルケニル基、置換もしくは無置換の２価のアリール基、−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2−Ｏ−Ｙ11−ＯＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2、−ＣＯ−Ｙ12−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−Ｙ13−ＮＨ−ＣＯ−、又は−(ＣＨ2)t−ＣＯ2−Ｙ14−ＯＣＯ−(ＣＨ2)tである。
ただし、ｔは、１、２または３であり、
Ｙ11は、置換もしくは無置換のアルキレン、フェニレン、又は−フェニレン−Ｍ−フェニレン−（ここで、Ｍは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−または−Ｃ(ＣＨ3)2−である。）であり、
Ｙ12は、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、置換もしくは無置換の２価のアルケニル基、又は置換もしくは無置換の２価のアリール基であり、
Ｙ13は、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、又は置換もしくは無置換の２価のアリール基であり、そして
Ｙ14は、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、又は置換もしくは無置換の２価のアリール基である。
即ちｕが２のとき、Ｙ2として好ましくは、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換の２価のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換の２価のアリール基、−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−ＯＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2-、−ＣＨ2ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ2−Ｏ−Ｃ(ＣＨ3)2−ＯＣ8Ｈ16−、又は−(ＣＨ2)2−ＣＯ2−Ｃ2Ｈ4−ＯＣＯ−(ＣＨ2)2−である。
前記一般式（III）で表される化合物の代表例としては、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ジ（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジ（４−ブトキシ−２−ヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−（２−エチルヘキシル）オキシ）フェニル−４，６−ジ（４−フェニル）フェニル−１，３，５−トリアジン等を挙げることができる。
前記ベンゾフェノン系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３８０ｎｍである化合物が好ましく、下記一般式（IVａ）又は（IVｂ）で表される化合物が好ましい。
Figure 2009242642
〔前記一般式（IVａ）中、Ｘ1及びＸ2は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基を表す。ｓ１及びｓ２は、互いに独立して１〜３の整数を表す。〕
〔前記一般式（IVｂ）中、Ｘ1は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基を表し、ｓ１は１〜３の整数を表す。
Ｌｇは２価の置換基または単なる結合を表し、ｗは０又は１を表す。
ｔｂは１又は２を表し、ｔｂが１のときＸ3は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基を表す。ｔｂが２のときＸ3は２価の置換基を表す。〕
（一般式（IVａ））
Ｘ1及びＸ2は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基を表す。Ｘ1及びＸ2として好ましくは、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数２〜１８のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。Ｘ1及びＸ2として特に好ましくは水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。
（一般式（IVｂ））
ｔｂは１又は２であり、ｗは０又は１であり、ｓ１は１〜３の整数である。
置換基Ｘ1は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基を表す。
Ｘ1として好ましくは、水素原子、塩素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数２〜１８のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。Ｘ1として特に好ましくは水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。
−Ｌｇ−は２価の連結基または単なる結合を表し、ｗは０〜１の整数を表す。ｗが０の時はＸ3がＬｇを介さずに直接ベンゼン環と結合しているとき、即ち−Ｌｇ−が単なる結合を表しているときを表す。
２価の連結基−Ｌｇ−について説明する。２価の置換基Ｌｇは、下記一般式（ｃ）で表わされる２価の置換基である。
一般式（ｃ）
−(Ｌｇ1)mg1−(Ｌｇ2)mg2−(Ｌｇ3)mg3−(Ｌｇ4)mg4−(Ｌｇ5)mg5−
一般式（ｃ）中、ｍｇ１〜ｍｇ５は０〜２の整数を表す。
Ｌｇ1〜Ｌｇ5は各々独立して、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＳＯ2−、−ＳＯ−、−ＮＲｇL−、置換もしくは無置換の２価のアルキル基、置換もしくは無置換の２価のアルケニル基、又は置換もしくは無置換の２価のアリール基を表す。ＲｇLは水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。
ＲｇLの具体例としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。アルキル基上およびアリール基上の任意の位置に１価の置換基を有していてもよい。１価の置換基としては上述した１価の置換基の例が挙げられる。ＲｇLとして好ましくは、炭素数３〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１４の置換もしくは無置換のアリール基である。より好ましくは炭素数６〜１２の置換もしくは無置換のアルキル基、又は炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基である。
即ち２価の置換基−Ｌｇ−としては、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ2Ｈ4−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ4Ｈ8−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ4Ｈ8−、−ＣＨ2−、−Ｃ2Ｈ4−、−Ｃ3Ｈ6−、−Ｃ4Ｈ8−、−Ｃ5Ｈ10−、−Ｃ8Ｈ16−、−Ｃ4Ｈ8−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ6Ｈ4−Ｃ6Ｈ4−、−ＮＨ−ＳＯ2−Ｃ3Ｈ6−等が好ましい。
ｔｂが１のとき、Ｘ3は水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、スルホン酸基、置換もしくは無置換のアルキルオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、又は置換もしくは無置換のアミノ基である。
ｔｂが１のとき、Ｘ3として好ましくは、水素原子、ヒドロキシル基、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数２〜１８のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。
Ｘ3として特に好ましくは水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である。
ｔｂが２のときＸ3は、２価の置換基を表す。
ｔｂが２のとき、Ｘ3の具体例としては、上記の２価の置換基−Ｌ−の例が挙げられる。ｔｂが２のときＸ3として好ましくは、−ＣＨ2−、−Ｃ4Ｈ8−、−Ｏ−Ｃ4Ｈ8−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ2Ｈ4−ＣＯ−Ｏ−、又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−ＣＯ−ＮＨ−である。
一般式（IVb）において、ｔｂが１のときが特に好ましい。
即ち、一般式（ＩＶｂ）の好ましい組み合わせとしては、以下のとおりである。
具体的には、ｔｂが１のとき、
Ｘ1が水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基であり、
Ｌｇが−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ2Ｈ4−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ4Ｈ8−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ4Ｈ8−、−ＣＨ2−、−Ｃ2Ｈ4−、−Ｃ3Ｈ6−、−Ｃ4Ｈ8−、−Ｃ5Ｈ10−、−Ｃ8Ｈ16−、−Ｃ4Ｈ8−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ6Ｈ4−Ｃ6Ｈ4−、もしくは−ＮＨ−ＳＯ2−Ｃ3Ｈ6−、又は単なる結合であり、
Ｘ3が水素原子、ヒドロキシル基、塩素原子、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数６〜２４の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素数２〜１８のアルキルオキシカルボニル基、炭素数７〜２４のアリールオキシカルボニル基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基である組み合わせが好ましい。
ｔｂが２のとき、
Ｘ1が水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルコキシ基、スルホン酸基、又は炭素数１〜１６の置換もしくは無置換のアミノ基であり、
Ｌｇが−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ2Ｈ4−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ4Ｈ8−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ4Ｈ8−、−ＣＨ2−、−Ｃ2Ｈ4−、−Ｃ3Ｈ6−、−Ｃ4Ｈ8−、−Ｃ5Ｈ10−、−Ｃ8Ｈ16−、−Ｃ4Ｈ8−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ6Ｈ4−Ｃ6Ｈ4−、もしくは−ＮＨ−ＳＯ2−Ｃ3Ｈ6−、又は単なる結合であり、
Ｘ3が−ＣＨ2−、−Ｃ4Ｈ8−、−Ｏ−Ｃ4Ｈ8−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ2Ｈ4−ＣＯ−Ｏ−、又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｃ3Ｈ6−ＣＯ−ＮＨ−である組み合わせが好ましい。
前記ベンゾフェノン系化合物の代表例としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−デシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリルオキシプロポキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ジエチルアミノ−２’−ヘキシルオキシカルボニルベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、１，４−ビス（４−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシフェノキシ）ブタン等を挙げることができる。
前記ベンゾオキサジノン系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３８０ｎｍで、下記一般式（Ｖ）で表される化合物が好ましい。
Figure 2009242642
（前記一般式（Ｖ）中、Ｒ1は置換基を表し、ｎ1は０〜４の整数を表す。Ｒ2はｎ2価の置換基または連結基を表し、ｎ2は１〜４の整数を表す。）
前記一般式（Ｖ）においてＲ1は置換基を表し、置換基の例としては前述の置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基および置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としてあげたものと同様のものが挙げられる。Ｒ1として好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基であり、さらに好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基であり、更に好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基であり、更に好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基であり、更に好ましくはハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基であり、更に好ましくは塩素原子、フッ素原子、臭素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数６〜１０のアリールオキシ基、炭素数１〜８のアルキルチオ基、炭素数６〜１０のアリールチオ基であり、更に好ましくは塩素原子、フッ素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基である。
ｎ1として好ましくは０〜３であり、更に好ましくは０〜２であり、更に好ましくは０または１であり、最も好ましくは０、すなわちベンゼン環が置換基を有さないことである。
Ｒ2はｎ2価の置換基或いは連結基を表し、置換基の例としては前述の置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基および置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としてあげたものと同様のものが挙げられる。また連結基とは置換基が更に１つ以上の結合手を有するものである。Ｒ2として好ましくは脂肪族基、芳香族基、およびこれらが更に結合手を有する連結基であり、更に好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、およびこれらが２〜４価となる連結基であり、更に好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、およびこれらが２〜３価となる連結基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数６〜２０のアリール基、およびこれらが２〜３価となる連結基であり、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、炭素数６〜１２のアリール基、およびこれらが２〜３価となる連結基であり、更に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、およびこれらが２〜３価となる連結基であり、更に好ましくはメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、２−ブチル、ベンジル、フェニル、２−ナフチル、エチレン、トリメチレン、１，２−プロピレン、テトラメチレン、１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、２，６−ナフチレン、ベンゼン−１，３，５−イルであり、更に好ましくはメチル、エチル、ベンジル、フェニル、エチレン、トリメチレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ベンゼン−１，３，５−イルであり、更に好ましくはエチレン、トリメチレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ベンゼン−１，３，５−イルであり、最も好ましくは１，４−フェニレンである。
ｎ2として好ましくは１〜３であり、更に好ましくは２〜３であり、最も好ましくは２である。
前記ベンゾオキサジノン系化合物の代表例としては、２，２’−（ｐ−フェニレン）ジ−３，１−ベンゾオキサジン−４−オンを挙げることができる。
前記サリチル酸系化合物としては、その有効吸収波長が約２９０〜３３０ｎｍである化合物が好ましく、その代表例としてはフェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、４−オクチルフェニルサリシレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシサリシレート、ヘキサデシル ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシサリシレートなどを挙げることができる。
前記アクリレート系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０〜３５０ｎｍである化合物が好ましく、その代表例としては２−エチルヘキシル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、イソオクチル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、ヘキサデシル ２−シアノ−３−（４−メチルフェニル）アクリレート、メチル ２−シアノ−３−メチル−３−（４−メトキシフェニル）シンナメート、ブチル ２−シアノ−３−メチル−３−（４−メトキシフェニル）シンナメート、メチル ２−カルボメトキシ−３−（４−メトキシフェニル）シンナメート２−シアノ−３−（４−メチルフェニル）アクリル酸塩、１，３−ビス（２’−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ）−２，２−ビス（（（２’−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ）メチル）プロパン、Ｎ−（２−カルボメトキシ−２−シアノビニル）−２−メチルインドリン等を挙げることができる。
前記シュウ酸ジアミド系化合物としては、その有効吸収波長が約２５０〜３５０ｎｍであるものが好ましく、その代表例としては４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２’−エチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド等を挙げることができる。
紫外線吸収剤（Ｂ）としては以下の化合物群Ｂから選ばれる化合物であることが特に好ましい。化合物群Ｂは次の化合物（ＩＩ−１）〜（Ｖ−１）からなる群である。
［１］前記一般式（IIａ）で表される化合物
（ＩＩ−１） ２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール
（ＩＩ−２） ２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
（ＩＩ−３） ２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール（ＩＩ−４） ２−エチルヘキシル−３−［３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネート
（ＩＩ−５） ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ドデシル−４−メチル−フェノール
（ＩＩ−６） ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−３−ｔ−ブチルフェノール
（ＩＩ−７） ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１−３，３−テトラメチルブチル）フェノール
（ＩＩ−８） ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−３−メチルフェノール
（ＩＩ−９） ２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ドデシル−４−メチル−フェノール
［２］前記一般式（IIｂ）で表される化合物
（ＩＩ−１０） ２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］
［３］前記一般式（III）で表される化合物
（ＩＩＩ−１） ２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン
（ＩＩＩ−２） ２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン
（ＩＩＩ−３） ２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン
（ＩＩＩ−４） ２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヘキシロキシフェノール
（ＩＩＩ−５） ビスエチルヘキシロキシフェノール メトキシフェニルトリアジン
［４］前記一般式（IV）で表される化合物
（ＩＶ−１） ヘキシル ２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエート
（ＩＶ−２） ２，２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン
（ＩＶ−３） ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
（ＩＶ−４） １，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）ブタン
（ＩＶ−５） ２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン
（ＩＶ−６） ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルフォニックアシッド
（ＩＶ−７） ２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン
［５］前記一般式（Ｖ）で表される化合物
（Ｖ−１） ２，２’−（ｐ−フェニレン）ジ−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン
化合物（ＩＩ−１）は下記に示す構造であり、商品名Tinuvin 328（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−２）は下記に示す構造であり、商品名Tinuvin 326（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−３）は下記に示す構造であり、商品名Tinuvin 329（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−４）は下記に示す構造であり、商品名Tinuvin 109（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−５）は下記に示す構造であり、商品名Tinuvin 171（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−６）は下記に示す構造であり、商品名Tinuvin PS（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−７）は下記に示す構造であり、商品名Tinuvin 928（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−８）は以下に示す構造であり、商品名Tinuvin P（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−９）は以下に示す構造であり、商品名Tinuvin 234（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩ−１０）は下記に示す構造であり、商品名Tinuvin 360（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩＩ−１）は下記に示す構造であり、商品名Tinuvin 460（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩＩ−２）は下記に示す構造であり、商品名Cyasorb UV-116（サイテック社製）として市販されている。
化合物（ＩＩＩ−３）は下記に示す構造であり、商品名Tinuvin 405（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩＩ−４）は下記に示す構造であり、商品名Tinuvin 1577（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＩＩ−５）は下記に示す構造であり、商品名Tinosorb S（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−１）は下記に示す構造であり、商品名Uvinul A plus（ＢＡＳＦ社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−２）は下記に示す構造であり、商品名Uvinul 3049（ＢＡＳＦ社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−３）は下記に示す構造であり、商品名Visorb 110（共同薬品社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−４）は下記に示す構造であり、商品名Seesorb 151（シプロ化成社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−５）は以下に示す構造であり、商品名Chimassorb 81（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−６）は以下に示す構造であり、商品名Uvinul MS40（ＢＡＳＦ社製）として市販されている。
化合物（ＩＶ−７）は以下に示す構造であり、商品名Uvinul 3050（ＢＡＳＦ社製）として市販されている。
化合物（Ｖ−１）は以下に示す構造であり、商品名サイアソーブＵＶ−３６３８（サイテックインダストリーズ社製）として市販されている。
Figure 2009242642
Figure 2009242642
Figure 2009242642
Figure 2009242642
本発明に用いられる紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）は、それぞれ単独で存在していてもよいが、あらかじめあるいは組成物中で結合を形成することで、互いに連結していてもよい。また、それぞれ重合性基を結合させることでモノマーとし、これを重合させることで紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を単位構造に含む共重合体となってもよい。紫外線吸収剤ＡおよびＢが結合していない別のモノマーを併用して共重合体となってもよい。好ましくは、それぞれ単量体として組成物になっていたものが、所望の時に重合を行って共重合体を形成する場合である。
本発明の紫外線吸収剤組成物は更に光安定剤、酸化防止剤を含んでいても良い。
光安定剤、酸化防止剤の好ましい例としては特開２００４−１１７９９７で表される化合物があげられる。具体的には、特開２００４−１１７９９７のｐ２９中段、段落番号［００７１］〜［０１１１］に記載の化合物であることが好ましい。段落番号［００７２］に記載の一般式（ＴＳ−Ｉ）、一般式（ＴＳ−ＩＩ）、一般式（ＴＳ−ＩＶ）一般式（ＴＳ−Ｖ）で表される化合物であることが特に好ましい。
本発明の紫外線吸収剤組成物は、いずれの形態のものであってもよい。例えば、液体分散物、溶液、高分子材料などが挙げられる。また、本発明の紫外線吸収剤組成物は、前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）の他に、目的に応じてその他の成分として適宜任意の化合物を含有することができる。
本発明の紫外線吸収剤組成物は、分散媒体に分散された分散物の状態が好適である。以下、本発明の紫外線吸収剤分散物について説明する。
本発明の紫外線吸収剤組成物を分散する媒体はいずれのものであってもよい。例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。
本発明に用いられる分散媒体の有機溶剤としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタンなどの炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテルなどのエーテル系、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール系、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、メチルエチルケトンなどのケトン系、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド系、トリエチルアミン、トリブチルアミンなどのアミン系、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸系、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系、テトラヒドロフラン、ピリジンなどのヘテロ環系、などが挙げられる。これらを任意の割合で組み合わせて使用することもできる。
本発明に用いられる分散媒体の樹脂としては、従来公知の各種成形体、シート、フィルム等の製造に従来から使用されている熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン−アクリロニトリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体、エチレン−ビニルアルコール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ＰＢＴ）、液晶ポリエステル樹脂（ＬＣＰ）、ポリアセタール樹脂（ＰＯＭ）、ポリアミド樹脂（ＰＡ）、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂およびポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）等が挙げられ、これらは一種または二種以上のポリマーブレンドあるいはポリマーアロイとして使用される。また、これらの樹脂は、ナチュラル樹脂にガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤等を含有させた熱可塑性成形材料としても使用される。また、必要に応じて従来使用されている樹脂用の添加剤、例えば、ポリオレフィン系樹脂微粉末、ポリオレフィン系ワックス、エチレンビスアマイド系ワックス、金属石鹸等を単独であるいは組み合わせて使用することもできる。
熱可塑性樹脂とともに用いる場合、紫外線吸収剤は、熱可塑性樹脂の重合過程で添加してもよく、重合後に添加しても良い。重合後の熱可塑性樹脂に溶融状態で添加する場合、紫外線吸収剤は単体で添加してもよく、また溶媒等に分散した状態で添加しても良い。この際使用する溶媒は混練する樹脂を劣化させず、紫外線吸収剤を分散させるものであればよい。
こうした溶融混合は、一軸あるいは二軸押し出し機などの溶融混合設備を使用して、重合体の溶融温度以上の温度で、紫外線吸収剤を添加することにより可能である。分散液を使用した場合は分散液を加圧下で添加した後、有機溶媒を除去することにより、実行可能である。
紫外線吸収剤は製膜時に熱可塑性樹脂の溶融状態に添加し混練してもよい。この方法は、熱履歴を少なくすることで熱可塑性樹脂の劣化を抑えることができるため好ましい方法である。
溶融重合可能な熱可塑性樹脂、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートといった熱可塑性ポリエステルの場合には、紫外線吸収剤の分散液を重合前、もしくは重合中に添加しても良い。紫外線吸収剤は単体で添加してもよくまたあらかじめ溶媒で分散した状態で添加してもよい。この場合の溶媒は重合体の原料であるものが好ましい。重合反応は通常の重合体の重合条件に準じて実施すればよい。
上記の方法で得られた０．５〜５０質量％の比較的高い濃度で紫外線吸収剤を含有する熱可塑性樹脂をマスターバッチとして、さらに紫外線吸収剤未添加の熱可塑性樹脂に混練させることでも、目的とする紫外線吸収剤含有ポリマーを得ることができる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられ、これらはナチュラル樹脂のほかガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤を含有させた熱硬化性成形材料としても使用することができる。
本発明の紫外線吸収剤分散物には、分散剤、泡防止剤、保存剤、凍結防止剤、界面活性剤などを合わせて用いることもできる。その他に任意の化合物を合わせて含んでいてもよい。例えば、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤分散物を得るための装置として、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機などを使用できる。具体的には、コロイドミル、ホモジナイザー、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置などがある。本発明で使用するのに好ましい高速攪拌型分散機は、ディゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケデイーミル、ジェットアジターなど、分散作用する要部が液中で高速回転（５００〜１５，０００ｒｐｍ。好ましくは２，０００〜４，０００ｒｐｍ）するタイプの分散機である。本発明で使用する高速攪拌型分散機は、ディゾルバーないしは高速インペラー分散機とも呼ばれ、特開昭５５−１２９１３６号公報にも記載されているように、高速で回転する軸に鋸歯状のプレートを交互に上下方向に折り曲げたインペラーを着装して成るものも好ましい一例である。
疎水性化合物を含む乳化分散物を調製する際には、種々のプロセスに従うことができる。例えば、疎水性化合物を有機溶媒に溶解するときは、高沸点有機物質、水非混和性低沸点有機溶媒または水混和性有機溶媒の中から任意に選択された一種、又は二種以上の任意の複数成分混和物に溶解し、次いで界面活性化合物の存在化で、水中あるいは親水性コロイド水溶液中に分散せしめる。疎水性化合物を含む水不溶性相と水性相との混合方法としては、攪拌下に水性相中に水不溶性相を加えるいわゆる順混合法でも、その逆の逆混合法でもよい。
本発明の紫外線吸収剤分散物中における前記紫外線吸収剤組成物の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは紫外線吸収剤分散物の全量に対して０．００１〜５０質量％であり、より好ましくは０．０１〜２０質量％である。
また、本発明の紫外線吸収剤組成物は、液体状の媒体に溶解された溶液の状態が好適である。以下、本発明の紫外線吸収剤溶液について説明する。
本発明の紫外線吸収剤組成物を溶解する液体はいずれのものであってもよい。例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液の例としては、上述の分散媒体として記載したものが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。
本発明の紫外線吸収剤組成物の溶液は、その他に任意の化合物を合わせて含んでいてもよい。例えば、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属などが挙げられる。本発明の紫外線吸収剤組成物以外は必ずしも溶解していなくてもよい。
本発明の紫外線吸収剤溶液における前記紫外線吸収剤組成物の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは溶液の全量に対して０．００１〜３０質量％であり、より好ましくは０．０１〜１０質量％である。あらかじめ高濃度で溶液を作製しておき、所望の時に希釈して使用することもできる。希釈溶媒としては上述の溶媒から任意に選択できる。
本発明の高分子材料の調製には、その高分子組成物が用いられる。本発明に用いられる高分子組成物は、後述する高分子物質に本発明の紫外線吸収剤組成物を添加してなる。
本発明の紫外線吸収剤組成物は、様々な方法で高分子物質に含有させることができる。本発明の紫外線吸収剤組成物が高分子物質との相溶性を有する場合は、本発明の紫外線吸収剤組成物を高分子物質に直接添加することができる。高分子物質との相溶性を有する補助溶媒に、本発明の紫外線吸収剤組成物を溶解し、その溶液を高分子物質に添加してもよい。本発明の紫外線吸収剤組成物を高沸点有機溶媒やポリマー中に分散し、その分散物を高分子物質に添加してもよい。
高沸点有機溶媒の沸点は、１８０℃以上であることが好ましく、２００℃以上であることがさらに好ましい。高沸点有機溶媒の融点は、１５０℃以下であることが好ましく、１００℃以下であることがさらに好ましい。高沸点有機溶媒の例には、リン酸エステル、ホスホン酸エステル、安息香酸エステル、フタル酸エステル、脂肪酸エステル、炭酸エステル、アミド、エーテル、ハロゲン化炭化水素、アルコールおよびパラフィンが含まれる。リン酸エステル、ホスホン酸エステル、フタル酸エステル、安息香酸エステルおよび脂肪酸エステルが好ましい。
本発明の紫外線吸収剤組成物の添加方法については、特開昭５８−２０９７３５号、同６３−２６４７４８号、特開平４−１９１８５１号、同８−２７２０５８号の各公報および英国特許第２０１６０１７Ａ号明細書を参考にできる。
本発明の紫外線吸収剤溶液における前記紫外線吸収剤組成物の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは高分子材料中０．００１〜１０質量％であり、より好ましくは０．０１〜５質量％である。
また、本発明の紫外線吸収剤組成物は、高分子材料に好ましく用いられる。以下、本発明の高分子材料について説明する。
本発明においては、本発明の紫外線吸収剤組成物のみで実用的には十分な紫外線遮蔽効果が得られるものの、更に厳密を要求する場合には隠蔽力の強い白色顔料、例えば酸化チタンなどを併用してもよい。また、外観、色調が問題となる時、あるいは好みによって微量（０．０５質量％以下）の着色剤を併用することができる。また、透明あるいは白色であることが重要である用途に対しては蛍光増白剤を併用してもよい。蛍光増白剤としては市販のものや特開２００２−５３８２４号公報記載の一般式［１］や具体的化合物例１〜３５などが挙げられる。
前記高分子組成物に用いられる高分子物質について説明する。高分子物質としては、天然又は合成ポリマーもしくはコポリマーである。例えば以下のものが挙げられる。
＜１＞ モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下において及び高められた温度において）。
ｂ）通常、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一つ又はそれ以上を含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又は他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシドまたは金属アルキルオキサンであって、該金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用されることができる。該活性化剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は、通常、フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
＜２＞ 前記＜１＞項で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
＜３＞ モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びそれの低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えば、ＣＯＣ(Cyclo-Olefin Copolymer)のようなエチレン／ノルボルネン）、１−オレフィンが現場で生成されるエチレン
／１−オレフィンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）、ならびにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
＜４＞ 水素化変性物（例えば粘着付与剤）を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）及びポリアルキレン及びデンプンの混合物。
前記＜１＞ないし＜４＞項のホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
＜５＞ ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
＜６＞ スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、とりわけｐ−ビニルトルエン、エチルスチレン、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、及びビニルアントラセンの全ての異性体、及びそれらの混合物を含む芳香族ビニルモノマーから誘導された芳香族ホモポリマー及びコポリマー。ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
＜６ａ＞ エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、マレイン酸無水物、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル又はそのアクリル誘導体及び混合物から選択される上述された芳香族ビニルモノマー及びコモノマーを含むコポリマー、例えば、スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（共重合体）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマー及び他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーの高耐衝撃性の混合物；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
＜６ｂ＞ 前記＜６＞項で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー、とりわけアタクチックポリスチレンを水素化することにより調製され、しばしばポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）として言及されるポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）を含む。
＜６ｃ＞ 前記＜６ａ＞項で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー。
ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
＜７＞ スチレン又はα−メチルスチレンのような芳香族ビニルモノマーのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びマレイン酸無水物又はマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートにスチレン及びアクリロニトリル；アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにそれらの前記＜６＞項に列挙されたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＳＡＮ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥＳポリマーとして既知であるコポリマー混合物。
＜８＞ ポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化及び臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化又はスルホ塩素化ポリエチレン、エチレン及び塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、とりわけハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ボリフッ化ビニリデン、ならびに塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーのようなそれらのコポリマー、のようなハロゲン含有ポリマー。
＜９＞ α，β−不飽和酸及びから誘導されたポリマー、及びポリアクリレート及びポリメタクリレートのようなその誘導体；ブチルアクリレートで耐衝撃改善されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
＜１０＞ 前記＜９＞項で言及されたモノマーの互いの又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
＜１１＞ 不飽和アルコール及びアミンから誘導されたポリマー又はそれらのアシル誘導体又はアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；ならびに前記＜１＞項で言及されたオレフィンとそれらのコポリマー。
＜１２＞ ポリアルキレングリコール、ボリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはビスグリシジルエーテルとそれらのコポリマーのような環式エーテルのホモポリマー及びコポリマー。
＜１３＞ ポリオキシメチレン及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレンのようなポリアセタール；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。
＜１４＞ ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
＜１５＞ 一方はヒドロキシル基末端を有するポリエーテル、ポリエステル及びポリブタジエンと、他方は脂肪族又は芳香族のポリイソシアナートから誘導されたポリウレタン、ならびにそれらの前駆体。
＜１６＞ ジアミシとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸から及び変性剤としてのエラストマーを用いて又は用いずに調製されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポリマー；ならびにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及び加工の間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
＜１７＞ ポリ尿素、ポリイミド、ボリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
＜１８＞ ジカルボン酸とジオールから及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベンゾエート、ならびにヒドロキシル末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性されたポリエステル。米国特許第５，８０７，９３２号明細書（２欄、５３行）で定義されたようなポリエステル及びポリエステルコポリマーは、参照としてここに組込まれる。
＜１９＞ ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
＜２０＞ ポリケトン。
＜２１＞ ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
＜２２＞ 一成分としてのアルデヒドと他成分としてのフェノール、尿素及びメラミンとから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
＜２３＞ 乾性及び非乾性アルキド樹脂。
＜２４＞ 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールと架橋剤としてのビニル化合物とから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、及び更に低燃性のそのハロゲン含有変性体。
＜２５＞ 置換アクリレート、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
＜２６＞ メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂を用いて架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
＜２７＞ 脂肪族、脂環式、複素環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えば、促進剤を用いて又は用いずに、無水物又はアミンのような慣例の硬化剤で架橋されている、ビスフェノールＡ及びビスフェノールＦのグリシジルエーテル生成物。
＜２８＞ 天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン及び化学的に変性されたそれらの同族列の誘導体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート及びセルロースブチレート、又はセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；並びにロジン及びそれらの誘導体。
＜２９＞ 上述のポリマーの配合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
＜３０＞ 純粋なモノマー状化合物又は前記化合物の混合物である天然及び合成有機材料、例えば鉱油、動物及び植物脂肪、油及びワックス、又は合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェート又はトリメリテート）をベースとする油、脂肪及びワックス、及び更に何れかの質量比の合成エステルと鉱油との混合物、代表的には繊維紡糸組成物として使用される混合物、並びに前記材料の水性エマルジョン。
＜３１＞ 天然又は合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然ラテックス又はカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
＜３２＞ ポリシロキサン類、例えば、アメリカ合衆国特許第４２５９４６７号明細書に記載された軟質、親水性のポリシロキサン、及び、例えば、アメリカ合衆国特許第４３５５１４７号明細書に記載された硬質ポリオルガノシロキサン。
＜３３＞ 不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂と又は不飽和アクリル樹脂と組み合わせたポリケチミン。前記不飽和アクリル樹脂はウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ペンダント不飽和基を持つビニル若しくはアクリルコポリマー、及びアクリル化されたメラミンを包含する。前記ポリケチミンは、酸触媒の存在下で、ポリアミンとケトンから製造される。
＜３４＞ エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマー及び多不飽和脂肪族オリゴマーを含む輻射線硬化性組成物。
＜３５＞ ＬＳＥ−４１０３［商品名、モンサント（Ｍｏｎｓａｎｔｏ）社製］のようなエポキシ官能性の共エーテル化された高固形分メラミン樹脂により架橋された光安定化エポキシ樹脂のようなエポキシメラミン樹脂。
本発明に用いられる高分子物質は、合成ポリマーである場合が好ましく、ポリオレフィン、アクリル系ポリマー、ポリエステル、ポリカーボネート、セルロースエステルがより好ましい。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン）、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、トリアセチルセルロースが特に好ましい。
本発明に用いられる高分子物質は、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
本発明の高分子材料は、上記の高分子物質および紫外線防止剤に加えて、必要に応じて酸化防止剤、光安定剤、加工安定剤、老化防止剤、相溶化剤等の任意の添加剤を適宜含有してもよい。
本発明の高分子材料は前記高分子物質を用いてなる。本発明の高分子材料は、前記高分子物質のみから形成されたものでもよく、また、前記高分子物質を任意の溶媒に溶解して形成されたものでもよい。
本発明の高分子材料は、合成樹脂が使用される全ての用途に使用可能であるが、特に日光又は紫外線を含む光に晒される可能性のある用途に特に好適に使用できる。具体例としては、例えばガラス代替品とその表面コーティング材、住居、施設、輸送機器等の窓ガラス、採光ガラス及び光源保護ガラス用のコーティング材、住居、施設、輸送機器等の内外装材及び内外装用塗料、蛍光灯、水銀灯等の紫外線を発する光源用部材、精密機械、電子電気機器用部材、各種ディスプレイから発生する電磁波等の遮断用材、食品、化学品、薬品等の容器又は包装材、農工業用シート又はフィルム材、印刷物、染色物、染顔料等の退色防止剤、日焼け止めクリーム、シャンプー、リンス、整髪料等の化粧品、スポーツウェア、ストッキング、帽子等の衣料用繊維製品及び繊維、カーテン、絨毯、壁紙等の家庭用内装品、プラスチックレンズ、コンタクトレンズ、義眼等の医療用器具、光学フィルタ、プリズム、鏡、写真材料等の光学用品、テープ、インク等の文房具、標示板、標示器等とその表面コーティング材等を挙げることができる。
本発明の高分子材料の形状としては、平膜状、粉状、球状粒子、破砕粒子、塊状連続体、繊維状、管状、中空糸状、粒状、板状、多孔質状などのいずれの形状であってもよい。
本発明の高分子材料は、本発明の紫外線吸収剤組成物を含有しているため、優れた耐光性（紫外光堅牢性）を有しており、紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じることがない。また、本発明の高分子材料は、優れた長波紫外線吸収能を有するので、紫外線吸収フィルタや容器として用いることができ、紫外線に弱い化合物などを保護することもできる。例えば、前記高分子物質を押出成形又は射出成形などの任意の方法により成形することで、本発明の高分子材料からなる成形品（容器等）を得ることができる。また、別途作製した成形品に前記高分子物質の溶液を塗布・乾燥することで、本発明の高分子材料からなる紫外線吸収膜がコーティングされた成形品を得ることもできる。
本発明の高分子材料を紫外線吸収フィルタや紫外線吸収膜として用いる場合、高分子物質は透明であることが好ましい。透明高分子材料の例としては、セルロースエステル（例、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリメチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレンなどが挙げられる。好ましくはセルロースエステル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル樹脂である。本発明の高分子材料は透明支持体として用いることもでき、透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料は、前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含むものであればいずれの種類の高分子から成る包装材料であってもよい。例えば、特開平8-208765号公報に記載の熱可塑性樹脂、特開平8-151455号公報に記載のポリビニルアルコール、特開平8-245849号公報に記載のポリ塩化ビニル、特開平10-168292号公報、特開2004-285189号公報に記載のポリエステル、特開2001-323082号公報に記載の熱収縮性ポリエステル、特開平10-298397号公報に記載のスチレン系樹脂、特開平11-315175号公報、特開2001-26081号公報、特開2005-305745号公報に記載のポリオレフィン、特表2003-524019号公報に記載のROMPなどが挙げられる。例えば特開2004-50460号公報、特開2004-243674号公報に記載の無機物の蒸着薄膜層を有する樹脂であってもよい。例えば特開2006-240734号公報に記載の紫外線吸収剤を含む樹脂を塗布した紙であってもよい。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料は、食料品、飲料、薬剤、化粧品、個人ケア用品等いずれのものを包装するものであってもよい。例えば、特開平11-34261号公報、特開2003-237825号公報に記載の食品包装、特開平8-80928号公報に記載の着色液体包装、特開2004-51174号公報に記載の液状製剤用包装、特開平8-301363号公報、特開平11-276550号公報に記載の医薬品容器包装、特開2006-271781号公報に記載の医療品用滅菌包装、特開平7-287353号公報に記載の写真感光材料包装、特開2000-56433号公報に記載の写真フィルム包装、特開2005-178832号公報に記載の紫外線硬化型インク用包装、特開2003-200966号公報、特開2006-323339号公報に記載のシュリンクラベルなどが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料は、例えば特開2004-51174号公報に記載の透明包装体であってもよいし、例えば特開2006-224317号公報に記載の遮光性包装体であってもよい。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料は、例えば特開2001-26081号公報、特開2005-305745号公報に記載のように紫外線遮蔽性を有するだけでなく、他の性能を合わせて持っていても良い。例えば特開2002-160321号公報に記載のガスバリヤー性を合わせて有するものや、例えば特開2005-156220号公報に記載の酸素インジケータを内包するものや、例えば特開2005-146278号公報に記載の紫外線吸収剤と蛍光増白剤を組み合わせるものなどが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料は、いずれの方法を用いて製造してもよい。例えば特開2006-130807号公報に記載のインキ層を形成させる方法、例えば特開2001-323082号公報、特開2005-305745号公報に記載の紫外線吸収剤を含有した樹脂を溶融押出し積層する方法、例えば特開平9-142539号公報に記載の基材フィルム上にコーティングする方法、例えば特開平9-157626号公報に記載の接着剤に紫外線吸収剤を分散する方法などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む容器について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む容器は、前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含むものであればいずれの種類の高分子から成る容器であってもよい。例えば、特開平8-324572号公報に記載の熱可塑性樹脂容器、特開2001-48153号公報、特開2005-105004号公報、特開2006-1568号公報に記載のポリエステル製容器、特開2000-238857号公報に記載のポリエチレンナフタレート製容器、特開2001-88815号公報に記載のポリエチレン製容器、特開平7-216152号公報に記載の環状オレフィン系樹脂組成物製容器、特開2001-270531号公報に記載のプラスチック容器、特開2004-83858号公報に記載の透明ポリアミド容器などが挙げられる。例えば特開2001-114262号公報、特開2001-213427号公報に記載の樹脂を含む紙容器であってもよい。例えば特開平7-242444号公報、特開平8-133787号公報、特開2005-320408号公報に記載の紫外線吸収層を有するガラス容器であってもよい。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む容器の用途は食料品、飲料、薬剤、化粧品、個人ケア用品、シャンプー等いずれのものを入れるものであってもよい。例えば特開平5-139434号公報に記載の液体燃料貯蔵容器、特開平7-289665号公報に記載のゴルフボール容器、特開平9-295664号公報、特開2003-237825号公報に記載の食品用容器、特開平9-58687号公報に記載の酒用容器、特開平8-155007号公報に記載の薬剤充填容器、特開平8-324572号公報、特開2006-298456号公報に記載の飲料容器、特開平9-86570号公報に記載の油性食品用容器、特開平9-113494号公報に記載の分析試薬用溶液容器、特開平9-239910号公報に記載の即席麺容器、特開平11-180474号公報、特開2002-68322号公報、特開2005-278678号公報に記載の耐光性化粧料容器、特開平11-276550号公報に記載の医薬品容器、特開平11-290420号公報に記載の高純度薬品液用容器、特開2001-106218号公報に記載の液剤用容器、特開2005-178832号公報に記載の紫外線硬化型インク用容器、WO04/93775号パンフレットに記載のプラスチックアンプルなどが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物からなる容器は、例えば特開平5-305975号公報、特開平7-40954号公報に記載のように紫外線遮断性を有するだけでなく、他の性能を合わせて持っていてもよい。例えば特開平10-237312号公報に記載の抗菌性容器、特開2000-152974号公報に記載の可撓性容器、特開2002-264979号公報に記載のディスペンサー容器、例えば特開2005-255736号公報に記載の生分解性容器などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む容器はいずれの方法を用いて製造してもよい。例えば特開2002-370723号公報に記載の二層延伸ブロー成形による方法、特開2001-88815号公報に記載の多層共押出ブロー成形方法、特開平9-241407号公報に記載の容器の外側に紫外線吸収層を形成させる方法、特開平8-91385号公報、特開平9-48935号公報、特表平11-514387号公報、特開2000-66603号公報、特開2001-323082号公報、特開2005-105032号公報、WO99/29490号パンフレットに記載の収縮性フィルムを用いた方法、特開平11-255925号公報に記載の超臨界流体を用いる方法などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む塗料および塗膜について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む塗料は、前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含むものであればいずれの成分からなる塗料であってもよい。例えば、アクリル樹脂系、ウレタン樹脂系、アミノアルキッド樹脂系、エポキシ樹脂系、シリコーン樹脂系、フッ素樹脂系などが挙げられる。これらの樹脂は主剤、硬化剤、希釈剤、レベリング剤、はじき防止剤などを任意に配合することができる。
例えば、透明樹脂成分としてアクリルウレタン樹脂、シリコンアクリル樹脂を選んだ場合には、硬化剤としてポリイソシアネートなどを、希釈剤としてトルエン、キシレンなどの炭化水素系溶剤、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル系溶剤、イソプロピルアルコール、ブチルアルコールなどのアルコール系を用いることができる。また、ここでアクリルウレタン樹脂とは、メタクリル酸エステル（メチルが代表的）とヒドロキシエチルメタクリレート共重合体とポリイソシアネートと反応させて得られるアクリルウレタン樹脂をいう。なおこの場合のポリイソシアネートとはトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどが挙げられる。透明樹脂成分としては、他にも例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチルスチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。更にこれら成分に加えアクリル樹脂、シリコーン樹脂などのレベリング剤、シリコーン系、アクリル系等のはじき防止剤等を必要に応じて配合することができる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む塗料の使用目的としてはいずれの用途であってもよい。例えば特開平7-26177号公報、特開平9-169950号公報、特開平9-221631号公報、特開2002-80788号公報に記載の紫外線遮蔽塗料、特開平10-88039号公報に記載の紫外線・近赤外線遮断塗料、特開2001-55541号公報に記載の電磁波遮蔽用塗料、特開平8-81643号公報に記載のクリアー塗料、特開2000-186234号公報に記載のメタリック塗料組成物、特開平7-166112号公報に記載のカチオン電着塗料、特開2002-294165号公報に記載の抗菌性および無鉛性カチオン電着塗料、特開2000-273362号公報、特開2001-279189号公報、特開2002-271227号公報に記載の粉体塗料、特開2001-9357号公報に記載の水性中塗り塗料、水性メタリック塗料、水性クリヤー塗料、特開2001-316630号公報に記載の自動車、建築物、土木系品に用いられる上塗り用塗料、特開2002-356655号公報に記載の硬化性塗料、特開2004-937号公報に記載の自動車バンパー等プラスチック材等に使用される塗膜形成組成物、特開2004-2700号公報に記載の金属板用塗料、特開2004-169182号公報に記載の硬化傾斜塗膜、特開2004-107700号公報に記載の電線用塗装材、特開平6-49368号公報に記載の自動車補修塗料、特開2002-38084号公報、特開2005-307161号公報に記載のアニオン電着塗料、特開平5-78606号公報、特開平5-185031号公報、特開平10-140089号公報、特表2000-509082号公報、特表2004-520284号公報、WO2006/097201号パンフレットに記載の自動車用塗料、特開平6-1945号公報に記載の塗装鋼板用塗料、特開平6-313148号公報に記載のステンレス用塗料、特開平7-3189号公報に記載のランプ用防虫塗料、特開平7-82454号公報に記載の紫外線硬化型塗料、特開平7-118576号公報に記載の抗菌性塗料、特開2004-217727号公報に記載の眼精疲労防止用塗料、特開2005-314495号公報に記載の防曇塗料、特開平10-298493号公報に記載の超耐候性塗料、特開平9-241534号公報に記載の傾斜塗料、特開2002-235028号公報に記載の光触媒塗料、特開2000-345109号公報に記載の可剥塗料、特開平6-346022号公報に記載のコンクリート剥離用塗料、特開2002-167545号公報に記載の防食塗料、特開平8-324576号公報に記載の保護塗料、特開平9-12924号公報に記載の撥水性保護塗料、特開平9-157581号公報に記載の板ガラス飛散防止用塗料、特開平9-59539号公報に記載のアルカリ可溶型保護塗料、特開2001-181558号公報に記載の水性一時保護塗料組成物、特開平10-183057号公報に記載の床用塗料、特開2001-115080号公報に記載のエマルション塗料、特開2001-262056号公報に記載の２液型水性塗料、特開平9-263729号公報に記載の１液性塗料、特開2001-288410号公報に記載のUV硬化性塗料、特開2002-69331号公報に記載の電子線硬化型塗料組成物、特開2002-80781号公報に記載の熱硬化性塗料組成物、特表2003-525325号公報に記載の焼付ラッカー用水性塗料、特開2004-162021号公報に記載の粉体塗料およびスラリー塗料、特開2006-233010号公報に記載の補修用塗料、特表平11-514689号公報に記載の粉体塗料水分散物、特開2001-59068号公報、特開2006-160847号公報に記載のプラスチック用塗料、特開2002-69331号公報に記載の電子線硬化型塗料などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む塗料は、一般に塗料（透明樹脂成分を主成分として含む）および紫外線吸収剤から構成されるが、好ましくは樹脂を基準に考えて紫外線吸収剤０〜２０質量％の組成である。塗布する際の厚さは、好ましくは２〜１０００μｍであるが、更に好ましくは５〜２００μｍの間である。これら塗料を塗布する方法は任意であるが、スプレー法、ディッピング法、ローラーコート法、フローコーター法、流し塗り法などがある。塗布後の乾燥は塗料成分によって異なるが概ね室温〜１２０℃で１０〜９０分程度行うことが好ましい。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む塗膜は、前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含む塗膜であり、上記紫外線吸収剤を含む塗料を用いて形成された塗膜である。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含むインクについて説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含むインクは、前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含むものであればいずれの形態のインクであってもよい。例えば、染料インク、顔料インク、水性インク、油性インクなどが挙げられる。また、いずれの用途に用いられてもよい。例えば、特開平8-3502号公報に記載のスクリーン印刷インク、特表2006-521941号公報に記載のフレキソ印刷インク、特表2005-533915号公報に記載のグラビア印刷インク、特表平11-504954号公報に記載の平版オフセット印刷インク、特表2005-533915号公報に記載の凸版印刷インク、特開平5-254277号公報に記載のＵＶインク、特開2006-30596号公報に記載のＥＢインクなどが挙げられる。また例えば、特開平11-199808号公報、WO99/67337号パンフレット、特開2005-325150号公報、特開2005-350559号公報、特開2006-8811号公報、特表2006-514130号公報に記載のインクジェットインク、特開2006-257165号公報に記載のフォトクロミックインク、特開平8-108650号公報に記載の熱転写インク、特開2005-23111号公報に記載のマスキングインク、特開2004-75888号公報に記載の蛍光インク、特開平7-164729号公報に記載のセキュリティインク、特開2006-22300号公報に記載のＤＮＡインクなども挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含むインクを用いることで得られるいずれの形態も本発明に含まれる。例えば特開2006-70190号公報に記載の印刷物、印刷物をラミネートして得られる積層体、積層体を用いた包装材料や容器、特開2002-127596号公報に記載のインク受理層などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む繊維について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む繊維は、前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含むものであればいずれの種類の高分子から成る繊維であってもよい。例えば、特開平5-117508号公報、特開平7-119036号公報、特開平7-196631号公報、特開平8-188921号公報、特開平10-237760号公報、特開2000-54287号公報、特開2006-299428号公報、特開2006-299438号公報に記載のポリエステル繊維、特開2002-322360号公報、特開2006-265770号公報に記載のポリフェニレンサルファイド繊維、特開平7-76580号公報、特開2001-348785号公報、特開2003-41434号公報、特開2003-239136号公報に記載のポリアミド繊維、WO03/2661号パンフレットに記載のエポキシ繊維、特開平10-251981号公報に記載のアラミド繊維、特開平6-228816号公報に記載のポリウレタン繊維、特表2005-517822号公報に記載のセルロース繊維などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む繊維はいずれの方法で製造してもよい。例えば特開平6-228818号公報に記載のように前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）をあらかじめ含んだ高分子を繊維状に加工してもよいし、例えば特開平5-9870号公報、特開平8-188921号公報、特開平10-1587号公報に記載のように繊維状に加工したものに対して前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含む溶液などを用いて処理をおこなってもよい。特開2002-212884号公報、特開2006-16710号公報に記載のように超臨界流体を用いて処理をおこなってもよい。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む繊維は各種用途に用いることができる。例えば、特開平5-148703号公報に記載の衣料、特開2004-285516号公報に記載の裏地、特開2004-285517号公報に記載の肌着、特開2003-339503号公報に記載の毛布、特開2004-11062号公報に記載の靴下、特開平11-302982号公報に記載の人工皮革、特開平7-289097号公報に記載の防虫メッシュシート、特開平10-1868号公報に記載の工事用メッシュシート、特開平5-256464号公報に記載のカーペット、特開平5-193037号公報に記載の透湿・防水性シート、特開平6-114991号公報に記載の不織布、特開平11-247028号公報に記載の極細繊維、特開2000-144583号公報に記載の繊維からなるシート状物、特開平5-148703号公報に記載の清涼衣料、特開平5-193037号公報に記載の透湿防水性シート、特開平7-18584号公報に記載の難燃性人工スエード状構造物、特開平8-41785号公報に記載の樹脂ターポリン、特開平8-193136号公報に記載の膜剤、外壁材剤、農業用ハウス、特開平8-269850号公報に記載の建築資材用ネット、メッシュ、特開平8-284063号公報に記載のフィルター基材、特開平9-57889号公報に記載の防汚膜剤、特開平9-137335号公報に記載のメッシュ織物、陸上ネット、特開平10-165045号公報に記載の水中ネット、特開平11-247027号公報、特開平11-247028号公報に記載の極細繊維、特開平7-310283号公報、特表2003-528974号公報に記載の防織繊維、特開2001-30861号公報に記載のエアバッグ用基布、特開平7-324283号公報、特開平8-20579号公報、特開2003-147617号公報に記載の紫外線吸収性繊維製品などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む建材について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む建材は、前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含むものであればいずれの種類の高分子から成る建材であってもよい。例えば、特開平10-6451号公報に記載の塩化ビニル系、特開平10-16152号公報に記載のオレフィン系、特開2002-161158号公報に記載のポリエステル系、特開2003-49065号公報に記載のポリフェニレンエーテル系、特開2003-160724号公報に記載のポリカーボネート系などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む建材はいずれの方法で製造してもよい。例えば特開平8-269850号公報に記載のように前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含む材料を用いて所望の形に形成してもよいし、例えば特開平10-205056号公報に記載のように前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含む材料を積層して形成してもよいし、例えば特開平8-151457号公報に記載のように前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を用いた被覆層を形成させてもよいし、例えば特開2001-172531号公報に記載のように前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含有する塗料を塗装して形成してもよい。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む建材は各種用途に用いることができる。例えば、特開平7-3955号公報、特開平8-151457号公報、特開2006-266042号公報に記載の外装用建材、特開平8-197511号公報に記載の建材用木質構造体、特開平9-183159号公報に記載の建材用屋根材、特開平11-236734号公報に記載の抗菌性建築資材、特開平10-205056号公報に記載の建材用基材、特開平11-300880号公報に記載の防汚建材、特開2001-9811号公報に記載の難燃性材料、特開2001-172531号公報に記載の窯業系建材、特開2003-328523号公報に記載の装飾用建材、特開2002-226764号公報に記載の建材用塗装物品、特開平10-6451号公報、特開平10-16152号公報、特開2006-306020号公報に記載の化粧材、特開平8-269850号公報に記載の建築資材用ネット、特開平9-277414号公報に記載の建材用透湿防水シート、特開平10-1868号公報に記載の建築工事用メッシュシート、特開平7-269016号公報に記載の建材用フィルム、特開2003-211538号公報に記載の表装用フィルム、特開平9-239921号公報、特開平9-254345号公報、特開平10-44352号公報に記載の建材用被覆材料、特開平8-73825号公報に記載の建材用接着剤組成物、特開平8-207218号公報に記載の土木建築構造物、特開2003-82608号公報に記載の歩行路用塗装材、特開2001-139700号公報に記載のシート状光硬化性樹脂、特開平5-253559号公報に記載の木材用保護塗装、特開2005-2941780号公報に記載の押釦スイッチ用カバー、特開平9-183159号公報に記載の接合シート剤、特開平10-44352号公報に記載の建材用基材、特開2000-226778号公報に記載の壁紙、特開2003-211538号公報に記載の表装用ポリエステルフィルム、特開2003-211606号公報に記載の成形部材表装用ポリエステルフィルム、特開2004-3191号公報に記載の床材などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む記録媒体について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む記録媒体は、前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含むものであればいずれのものであってもよい。例えば、特開平9-309260号公報、特開2002-178625号公報、特開2002-212237号公報、特開2003-266926号公報、特開2003-266927号公報、特開2004-181813号公報に記載のインクジェット被記録媒体、特開平8-108650熱転写インク用受像媒体、特開平10-203033号公報に記載の昇華転写用受像シート、特開2001-249430号公報に記載の画像記録媒体、特開平8-258415号公報に記載の感熱記録媒体、特開平9-95055号公報、特開2003-145949号公報、特開2006-167996号公報に記載の可逆性感熱記録媒体、特開2002-367227号公報に記載の光情報記録媒体などが挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む画像表示装置について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む画像表示装置は前記紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を含むものであればいずれのものであってもよい。例えば、特開2006-301268号公報に記載のエレクトロクロミック素子を用いた画像表示装置、特開2006-293155号公報に記載のいわゆる電子ペーパーと呼ばれる画像表示装置、特開平9-306344号公報に記載のプラズマディスプレー、特開2000-223271号公報に記載の有機ＥＬ素子を用いた画像表示装置などが挙げられる。本発明の紫外線吸収剤は、例えば特開2000-223271号公報に記載の積層構造中に紫外線吸収層を形成させるものでもよいし、例えば特開2005-189645号公報に記載の円偏光板など必要な部材中に紫外線吸収剤を含むものを用いてもよい。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む太陽電池用カバーについて説明する。本発明における適用する太陽電池は、結晶シリコン太陽電池、アモルファスシリコン太陽電池、色素増感太陽電池などいずれの形式の素子からなる太陽電池であってもよい。結晶シリコン太陽電池やアモルファスシリコン太陽電池において、特開2000-174296号公報に記載のように防汚や耐衝撃性、耐久性を付与する保護部材としてカバー材が用いられている。また色素増感太陽電池において、特開2006-282970号公報に記載のように光（特に紫外線）に励起されて活性となる金属酸化物系半導体を電極材料として用いるため、光増感剤として吸着させた色素が劣化し、光発電効率が徐々に低下する問題があり、紫外線吸収層を設けることが提案されている。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む太陽電池用カバーはいずれの種類の高分子から成るものであってもよい。例えば特開2006-310461号公報に記載のポリエステル、特開2006-257144号公報に記載の熱硬化性透明樹脂、特開2006-210906号公報に記載のα−オレフィンポリマー、特開2003-168814号公報に記載のポリプロピレン、特開2005-129713号公報に記載のポリエーテルサルホン、特開2004-227843号公報に記載のアクリル樹脂、特開2004-168057号公報に記載の透明フッ素系樹脂等が挙げられる。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む太陽電池用カバーはいずれの方法で製造してもよい。例えば特開平11-40833号公報に記載の紫外線吸収層を形成してもよいし、特開2005-129926号公報に記載のそれぞれ紫外線吸収剤を含む層を積層してもよいし、特開2000-91611号公報に記載の充填材層の樹脂に含まれていてもよいし、特開2005-346999号公報に記載の紫外線吸収剤を含む高分子からフィルムを形成してもよい。
本発明の紫外線吸収剤組成物を含む太陽電池用カバーはいずれの形状であってもよい。特開2000-91610号公報、特開平11-261085号公報に記載のフィルム、シート、例えば特開平11-40833号公報に記載の積層フィルム、特開平11-214736号公報に記載のカバーガラス構造などが挙げられる。特開2001-261904号公報に記載の封止材に紫外線吸収剤を含むものであってもよい。
また、その他使用例としては特開平8-102296号公報、特開2000-67629号公報、特開2005-353554号公報に記載の照明装置用光源カバー、特開平5-272076号公報、特開2003-239181号公報に記載の人工皮革、特開2006-63162号公報に記載のスポーツゴーグル、特開2007-93649号公報に記載の偏向レンズ、特開2001-214121号公報、特開2001-214122号公報、特開2001-315263号公報、特開2003-206422号公報、特開2003-25478号公報、特開2004-137457号公報、特開2005-132999号公報に記載の各種プラスチック製品向けハードコート、特開2002-36441号公報に記載の窓外側貼り付け用ハードコート、特開平10-250004号公報に記載の窓張りフィルム、特開2002-36452号公報に記載の高精細防眩性ハードコートフィルム、特開2003-39607号公報に記載の帯電防止性ハードコートフィルム、特開2004-114355号公報に記載の透過性ハードコートフィルム、特開2002-113937号公報に記載の偽造防止帳表、特開2002-293706号公報に記載の芝の紫斑防止剤、特開2006-274179号公報に記載の樹脂フィルムシート接合用シール剤、特開2005-326761号公報に記載の導光体、特開2006-335855号公報に記載のゴム用コーティング剤、特開平10-34841号公報、特開2002-114879号公報に記載の農業用被覆材、特表2004-532306号公報、特表2004-530024号公報に記載の染色ろうそく、特表2004-525273号公報に記載の布地リンス剤組成物、特開平10-194796号公報に記載の合わせガラス、特開平10-287804号公報に記載のプリズムシート、特開2000-71626号公報に記載の保護層転写シート、特開2001-139700号公報に記載の光硬化性樹脂製品、特開2001-159228号公報に記載の床用シート、特開2002-127310号公報に記載の水滴付着防止性及び熱線遮断性を有するガラス板、特開2002-189415号公報に記載の遮光性印刷ラベル、特開2002-130591号公報に記載の給油カップ、特開2002-307619号公報に記載の硬質塗膜塗工物品、特開2002-307845号公報に記載の中間転写記録媒体、特開2006-316395号公報に記載の人工毛髪、WO99/29490号パンフレット、特開2004-352847号公報に記載のラベル用低温熱収縮性フィルム、特開2000-224942号公報に記載の釣り用品、特開平8-208976号公報に記載のマイクロビーズ、特開平8-318592号公報に記載のプレコート金属板、特開2005-504735号公報に記載の薄肉フィルム、特開2005-105032号公報に記載の熱収縮性フィルム、特開2005-37642号公報に記載のインモールド成形用ラベル、特開2005-55615号公報に記載の投影スクリーン、特開平9-300537号公報、特開2000-25180号公報、特開2003-19776号公報、特開2005-74735号公報に記載の化粧シート、特開2001-207144号公報に記載のホットメルト接着剤、特表2002-543265号公報、特表2002-543266号公報、米国特許第6225384号明細書に記載の接着剤、特開2004-352783号公報に記載の電着コート、ベースコート、特開平7-268253号公報に記載の木材表面保護、特開2003-253265号公報、特開2005-105131号公報、特開2005-300962号公報、特許第3915339号公報に記載の調光材料、調光フィルム、調光ガラス、特開2005-304340号公報に記載の防蛾灯、特開2005-44154号公報に記載のタッチパネル、特開2006-274197号公報に記載の樹脂フィルムシート接合用シール剤、特開2006-89697号公報に記載のポリカーボネートフィルム被覆、特開2000-231044号公報に記載の光ファイバテープ、特表2002-527559号公報に記載の固形ワックスなどが挙げられる。
次に、高分子材料の耐光性を評価する方法について説明する。高分子材料の耐光性を評価する方法として、「高分子の光安定化技術」（株式会社シーエムシー，2000年）85ページ〜107ページ、「高機能塗料の基礎と物性」（株式会社シーエムシー，2003年）314ページ〜359ページ、「高分子材料と複合材製品の耐久性」（株式会社シーエムシー，2005年）、「高分子材料の長寿命化と環境対策」（株式会社シーエムシー，2000年）、H.Zweifel編「Plastics Additives Handbook 5th Edition」（Hanser Publishers）238ページ〜244ページ、葛良忠彦著「基礎講座２ プラスチック包装容器の科学」（日本包装学会，2003年）第８章などの記載を参考にできる。
また各々の用途に対する評価としては下記の既知評価法により達成できる。
高分子材料の光による劣化は、JIS-K7105:1981、JIS-K7101:1981、JIS-K7102:1981、JIS-K7219:1998、JIS-K7350-1:1995、JIS-K7350-2:1995、JIS-K7350-3:1996、JIS-K7350-4:1996の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。
包装・容器用途として用いられる場合の耐光性は、JIS-K7105の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。その具体例としては、特開2006-298456号公報に記載のボトル胴体の光線透過率、透明性評価、キセノン光源を用いた紫外線暴露後のボトル中身の官能試験評価、特開2000-238857号公報に記載のキセノンランプ照射後のヘーズ値評価、特開2006-224317号公報に記載のハロゲンランプ光源としたヘイズ値評価、特開2006-240734号公報に記載の水銀灯暴露後のブルーウールスケールを用いた黄変度評価、特開2005-105004号公報、特開2006-1568号公報に記載のサンシャインウェザーメーターを用いたヘーズ値評価、着色性目視評価、特開平7-40954号公報、特開平8-151455号公報、特開平10-168292号公報、特開2001-323082号公報、特開2005-146278号公報に記載の紫外線透過率評価、特開平9-48935号公報、特開平9-142539号公報に記載の紫外線遮断率評価、特開平9-241407号公報、特開2004-243674号公報、特開2005-320408号公報、特開2005-305745号公報、特開2005-156220号公報に記載の光線透過率評価、特開2005-178832号公報に記載のインク容器内インキの粘度評価、特開2005-278678号公報に記載の光線透過率評価、日光暴露後の容器内サンプル目視、色差ΔE評価、特開2004-51174号公報に記載の白色蛍光灯照射後の紫外線透過率評価、光透過率評価、色差評価、特開2004-285189号公報に記載の光線透過率評価、ヘーズ値評価、色調評価、特開2003-237825号公報に記載の黄色度評価、特開2003-20966号公報に記載の遮光性評価、L*a*b*表色系色差式を用いた白色度評価、特開2002-68322号公報に記載のキセノン光を分光した後の波長ごとの暴露後サンプルにおける色差ΔEa*b*を用いた黄ばみ評価、特開2001-26081号公報に記載の紫外線暴露後、紫外線吸収率評価、特開平10-298397号公報に記載のサンシャインウェザーメーターを用いた暴露後のフィルム引っ張り伸び評価、特開平10-237312号公報に記載のキセノンウェザーメーター暴露後の抗菌性評価、特開平9-239910号公報に記載の蛍光灯照射後の包装内容物褪色性評価、特開平9-86570号公報に記載のサラダ油充填ボトルに対する蛍光灯暴露後の油の過酸化物価評価、色調評価、特開平8-301363号公報に記載のケミカルランプ照射後の吸光度差評価、特開平8-208765号公報に記載のサンシャインウェザーメーターを用いた暴露後の表面光沢度保持率、外観評価、特開平7-216152号公報に記載のサンシャインウェザロメーターを用いた暴露後の色差、曲げ強度評価、特開平5-139434号公報に記載の遮光比評価、灯油中の過酸化物生成量評価などがあげられる。
塗料・塗膜用途として用いられる場合の長期耐久性は、JIS-K5400、JIS-K5600-7-5:1999、JIS-K5600-7-6:2002、JIS-K5600-7-7:1999、JIS-K5600-7-8:1999、JIS-K8741の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。その具体例としては、特表2000-509082号公報に記載のキセノン耐光試験機およびUVCON装置による暴露後の色濃度およびCIE L*a*b*色座標における色差ΔEa*b*、残留光沢を用いた評価、特表2004-520284号公報に記載の石英スライド上フィルムに対するキセノンアーク耐光試験機を用いた暴露後の吸光度評価、ロウにおける蛍光灯、UVランプ暴露後の色濃度およびCIE L*a*b*色座標における色差ΔEa*b*を用いた評価、特開2006-160847号公報に記載のメタルウェザー耐候性試験機を用いた暴露後の色相評価、特開2005-307161号公報に記載のメタルハイドランプを用いた暴露試験後の光沢保持率評価および色差ΔEa*b*を用いた評価、サンシャインカーボンアーク光源を用いた暴露後光沢感の評価、特開2002-69331号公報に記載のメタルウェザー耐候性試験機を用いた暴露後の色差ΔEa*b*を用いた評価、光沢保持率、外観評価、特開2002-38084号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の光沢保持率評価、特開2001-59068号公報に記載のQUV耐候性試験機を用いた暴露後の色差ΔEa*b*を用いた評価、光沢保持率評価、特開2001-115080号公報、特開平6-49368号公報、特開2001-262056号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後光沢保持率評価、特開平8-324576号公報、特開平9-12924号公報、特開平9-169950号公報、特開平9-241534号公報、特開2001-181558号公報に記載の塗装板に対するサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の外観評価、特開2000-186234号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の光沢保持率、明度値変化評価、特開平10-298493号公報に記載の塗膜に対するデューサイクルWOM暴露後の塗膜劣化状態の外観評価、特開平7-26177号公報に記載の塗膜の紫外線透過率評価、特開平7-3189号公報、特開平9-263729号公報に記載の塗膜の紫外線遮断率評価、特開平6-1945号公報に記載のサンシャインウェザーオーメーターを用いた塗膜の光沢保持率80%となる時間比較評価、特開平6-313148号公報に記載のデューパネル光コントロールウェザーメーターを用いた暴露後の錆発生評価、特開平6-346022号公報に記載の屋外暴露後の塗装済み型枠に対するコンクリートの強度評価、特開平5-185031号公報に記載の屋外暴露後の色差ΔEa*b*を用いた評価、碁盤目密着評価、表面外観評価、特開平5-78606号公報に記載の屋外暴露後の光沢保持率評価、特開2006-63162号公報に記載のカーボンアーク光源を用いた暴露後の黄変度（ΔYI）評価等があげられる。
インク用途として用いられる場合の耐光性は、JIS-K5701-1:2000、JIS-K7360-2、ISO105-B02の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。具体的には特表2006-514130号公報に記載の事務所用蛍光灯、褪色試験機を用いた暴露後の色濃度およびCIE L*a*b*色座標の測定による評価、特開2006-22300号公報に記載のキセノンアーク光源を用いた紫外線暴露後の電気泳動評価、特開2006-8811号公報に記載のキセノンフェードメーターによる印刷物の濃度評価、特開2005-23111号公報に記載の100Wケミカルランプを用いたインク抜け性評価、特開2005-325150号公報に記載のウェザーメーターによる画像形成部位の色素残存率評価、特開2002-127596号公報に記載のアイスーパーUVテスターを用いた印刷物のチョーキング評価、および変色評価、特開平11-199808号公報、特開平8-108650号公報に記載のキセノンフェードメーター暴露後の印刷物についてCIE L*a*b*色座標における色差ΔEa*b*を用いた評価、特開平7-164729号公報に記載のカーボンアーク光源を用いた暴露後の反射率評価などが挙げられる。
太陽電池モジュールの耐光性は、JIS-C8917:1998、JIS-C8938:1995の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。具体的には、特開2006-282970号公報に記載のキセノンランプに太陽光シミュレーション用補正フィルタを装着した光源による暴露後のI-V測定光発電効率評価、特開平11-261085号公報、特開2000-144583号公報に記載のサンシャインウェザーメーター、フェードメータを用いた暴露後の変褪色グレースケール等級評価、色、外観密着性評価などがあげられる。
繊維および繊維製品の耐光性は、JIS-L1096:1999、JIS-A5905:2003、JIS-L0842、JIS-K6730、JIS-K7107、DIN75.202、SAEJ1885、SN-ISO-105-B02、AS/NZS4399の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。特開平10-1587号公報、特開2006-299428号公報、特開2006-299438号公報に記載の紫外線透過率評価、特開平6-228816号公報、特開平7-76580号公報、特開平8-188921号公報、特開平11-247028号公報、特開平11-247027号公報、特開2000-144583号公報、特開2002-322360号公報、特開2003-339503号公報、特開2004-11062号公報に記載のキセノン光源、カーボンアーク光源を用いた暴露後のブルースケール変褪色評価、特開2003-147617号公報に記載のUVカット率評価、特開2003-41434号公報に記載の紫外線遮断性評価、特開平11-302982号公報に記載のドライクリーニング後のカーボンアーク光源を用いた暴露後ブルースケール変褪色評価、特開平7-119036号公報、特開平10-251981号公報に記載のフェードオメーターを用いた暴露後の明度指数、クロマティクネス指数に基づく色差ΔE*評価、特開平9-57889号公報、特開平9-137335号公報、特開平10-1868号公報、特開平10-237760号公報に記載のUVテスター、サンシャインウェザーメーターを用いた暴露後の引っ張り強度評価、特開平8-41785号公報、特開平8-193136号公報に記載の全透過率評価、強力保持率評価、特表2003-528974号公報、特表2005-517822号公報、特開平8-20579号公報に記載の紫外線保護係数（UPF）評価、特開平6-228818号公報、特開平7-324283号公報、特開平7-196631号公報、特開平7-18584号公報に記載の高温フェードメーターを用いた暴露後の変褪色グレースケール評価、特開平7-289097号公報に記載の屋外暴露後の外観評価、特開平7-289665号公報に記載の紫外線暴露後の黄色度(YI)、黄変度（ΔYI）評価、特表2003-528974号公報に記載の規約反射率評価等があげられる。
建材の耐光性は、JIS-A1415:1999の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。具体的には、特開2006-266402号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の表面色調評価、特開2004-3191号公報、特開2006-306020号公報に記載のカーボンアーク光源を用いた暴露後の外観評価、アイスーパーUVテスターを用いた暴露後の外観評価、暴露後の吸光度評価、暴露後の色度、色差評価、メタルハイドランプ光源を用いた暴露後のCIE L*a*b*色座標における色差ΔEa*b*を用いた評価、光沢保持率評価、特開平10-44352号公報、特開2003-211538号公報、特開平9-239921号公報、特開平9-254345号公報、特開2003-211606号公報に記載のサンシャインウェザーメーターを用いた暴露後のヘーズ値変化評価、暴露後の引張試験機を用いた伸度保持率評価、特開2002-161158号公報に記載の溶媒浸漬後の紫外線透過率評価、アイスーパーUVテスターを用いた暴露後の外観目視評価、特開2002-226764号公報に記載のQUV試験後の光沢率変化評価、特開2001-172531号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の光沢保持率評価、特開平11-300880号公報に記載のブラックライトブルー蛍光灯を用いた紫外線暴露後の色差ΔEa*b*を用いた評価、特開平10-205056号公報に記載のコーブコン促進試験機を用いた暴露後の密着保持率評価、紫外線遮断性評価、特開平8-207218号公報、特開平9-183159号公報に記載の屋外暴露（JIS-A1410）後の外観評価、全光透過率評価、ヘイズ変化評価、引張せん断接着強さ評価、特開平8-151457号公報に記載のキセノンウェザーメーターを用いた暴露後の全光線透過率評価、ヘイズ評価、黄変度評価、特開平7-3955号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の黄変度(ΔYI)、紫外線吸収剤残存率評価等が挙げられる。
記録媒体用途として用いられる場合の耐光性はJIS-K7350の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。具体的には、特開2006-167996号公報に記載の蛍光灯照射後の印字部位における地肌色差変化評価、特開平10-203033号公報、特開2004-181813号公報に記載のキセノンウェザーメーターを用いた暴露による画像濃度残存率評価、特開2002-207845号公報に記載のキセノンウェザーメーターを用いた暴露による光学反射濃度変化評価、特開2003-266926号公報に記載のサンテストCPS光褪色試験機を用いた暴露後のL*a*b*評価形による黄変度評価、特開2003-145949号公報に記載のフェードメーターを用いた暴露後の褪色評価、特開2002-212237号公報に記載のキセノンフェードメーターを用いた暴露後の褪色目視評価、特開2002-178625号公報に記載の室内太陽光暴露後の色濃度保持率評価、キセノンウェザーメーターを用いた暴露後の色濃度保持率評価、特開2002-367227号公報に記載のフェードメーターを用いた暴露後のC/N評価、特開2001-249430号公報に記載の蛍光灯暴露後のかぶり濃度評価、特開平9-95055号公報に記載の蛍光灯を用いた暴露後の光学反射濃度評価、消去性評価、特開平9-309260号公報に記載のアトラスフェードメーターを用いた暴露後の色差ΔE*評価、特開平8-258415号公報に記載のカーボンアークフェードメーターを用いた暴露後の褪色目視評価、特開2000-223271号公報に記載の有機EL素子色変換特性保持率評価、特開2005-189645号公報に記載のキセノン褪色試験機による暴露後の有機ELディスプレイ輝度測定評価などが挙げられる。
その他の評価法としてはJIS-K7103、ISO/DIS9050の方法およびこれを参考とした方法によって評価できる。具体的には、特開2006-89697号公報に記載のポリカーボネート被覆フィルムのUVテスターによる暴露後の外観評価、特開2006-316395号公報に記載の人工毛髪における紫外線暴露後のブルースケール評価、特開2006-335855号公報に記載の促進耐候性試験機を用いた暴露後の評価用処理布水接触角評価、特開2005-55615号公報に記載の耐候試験機を用いた暴露後の投影スクリーンに映し出された映像目視評価、特開2005-74735号公報に記載のサンシャインウェザーメーター、メタルウェザーメーターを用いた暴露後の試験体表面劣化、意匠性変化目視評価、特開2005-326761号公報に記載の金属ランプリフレクターを用いた点灯暴露後の外観目視評価、特開2002-189415号公報、特開2004-352847号公報に記載のボトル用ラベルの光線透過率評価、特開2003-19776号公報に記載のキセノンウェザーメーターを用いた湿度条件下、暴露後のポリプロピレン劣化評価、特開2002-36441号公報、特開2003-25478号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いたハードコートフィルムの劣化評価、基材の劣化評価、親水性評価、耐擦傷性評価、特開2003-239181号公報に記載のキセノンランプ光源を用いた暴露後の人工皮革のグレースケール色差評価、特開2003-253265号公報に記載の水銀灯を用いた暴露後の液晶デバイス特性評価、特開2002-307619号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の密着性評価、特開2002-293706号公報に記載の芝の紫斑度合い評価、特開2002-114879号公報に記載のキセノンアーク光源を用いた暴露後紫外線透過率評価、引張強度評価、特開2001-139700号公報に記載のコンクリート密着速度評価、特開2001-315263号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後外観評価、および塗膜密着性評価、特開2001-214121号公報、特開2001-214122号公報に記載のカーボンアーク光源を用いた暴露後の黄変度、密着性評価、特開2001-207144号公報に記載の紫外線フェードメーターを用いた接着性能評価、特開2000-67629号公報に記載の照明点灯時における昆虫類飛来抑制評価、特開平10-194796号公報に記載のアイスーパーUVテスターを用いた合わせガラスの黄変度（ΔYI）評価、特開平8-318592号公報に記載のQUV照射、耐湿テストを行った後の表面外観評価、光沢保持率評価、特開平8-208976号公報に記載のデューパネル光コントロールウェザーメーターを用いた経時色差評価、特開平7-268253号公報に記載のキセノンウェザロメーターを用いた暴露後の木材基材塗布状態における光沢度（DI）、黄色度指数（YI）評価、特表2002-5443265号公報、特表2002-543266号公報に記載の紫外線照射、暗闇を繰り返した後の紫外線吸収率評価、特表2004-532306号公報に記載の紫外線暴露後の染料褪色色差ΔＥ評価等が挙げられる。
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
（紫外線吸収剤組成物試料の調製）
下記表７及び８のように紫外線吸収剤（Ａ）及び（Ｂ）を組み合わせた紫外線吸収剤組成物試料１〜２７を調製した。なお、下記表７及び８中、紫外線吸収剤（Ａ）と（Ｂ）との比率（Ａ：Ｂ）は、モル比で表してある。
Figure 2009242642
Figure 2009242642
試料１〜２７の調製に用いた各化合物の極大吸収波長、極大吸収波長に対する３２０ｎｍにおける吸光度は、各化合物について濃度約２×１０-5ｍｏｌ／Ｌの酢酸エチル溶液を調製し、１ｃｍ石英セルにて分光光度計（Ｕ−４１００スペクトロフォトメーター、商品名、日立ハイテクノロジーズ(株)製）を用いて分光吸収波長を測定した。得られたスペクトルチャートから極大吸収波長、極大吸収波長に対する３２０ｎｍにおける吸光度の百分率を算出した。結果を下記表９に示す。また表１０には、比較例として用いた化合物Ｘ−１及びＸ−２について、極大吸収波長、極大吸収波長に対する３２０ｎｍにおける吸光度を算出した値を示した。
Figure 2009242642
Figure 2009242642
化合物Ｘ−１は例えば、特開昭５１−５６６２０号公報などに記載された公知の化合物である。また化合物Ｘ−２は例えば、特開２００２−５３８２４号公報などに記載された公知の化合物である。構造を以下に示す。
Figure 2009242642
（耐光性試験）
試料１〜２６の酢酸エチル溶液（濃度約２×１０-5ｍｏｌ／Ｌ）に対し、キセノンランプ（イーグルエンジニアリング製）で照度１７万ルクスにて光照射し、２００時間照射後の紫外線吸収剤の残存量をそれぞれ測定した。結果を表１１に示す。残存率は次式に従い計算した。
残存率（％）＝１００×（照射後の４１０ｎｍにおける吸光度）／（照射前の４１０ｎｍにおける吸光度）
Figure 2009242642
表１１から明らかなように、本発明の紫外線吸収剤組成物（試料１〜２２）は、驚くべきことに、紫外線吸収剤（Ａ）を単独で用いた場合（試料２３及び２４）よりも耐光性が向上していることが分かった。さらに、紫外線吸収剤（Ｂ）を単独で用いた場合（試料２５）、紫外線吸収剤（Ｂ）の代わりとして本発明の好ましい様態ではない紫外線吸収剤を用いた場合（試料２６）、並びに紫外線吸収剤（Ａ）の代わりとして本発明の好ましい様態ではない紫外線吸収剤を用いた場合（試料２７）と比較しても、本発明の耐光性の向上効果は顕著なものであった。
実施例２
（アクリル系塗布膜試料作製）
ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ樹脂）２０ｇをジクロロメタン１００ｍＬに溶解した溶液を３０ｍＬとり試料１を２０ｍｇ加え、４５μｍフィルタでろ過し、塗料サンプル２０１とした。同様に、試料１を試料３、４、８、１０、１２、１５、２１、２２に取り替えた以外は同様にして、塗料サンプル２０２、２０３、２０４、２０５、２０６、２０７、２０８及び２０９を作製した。比較例として、試料１を試料２３に替えたこと以外は同様にして比較塗料サンプル２１０を、試料２６に替えたこと以外は同様にして塗料サンプル２１１を作製した。
これらをそれぞれ、バーコーターを用いて、１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に３０μｍ程度となるように塗布し、乾燥することにより紫外線吸収層を有するＰＥＴフィルム（膜２０１〜膜２１１）を作製した。
（耐光性評価）
作製したフィルムに対しキセノンランプ（イーグルエンジニアリング製）で照度１７万ルクスにて光照射し、１００時間照射後の紫外線吸収剤の残存量をそれぞれ測定した。残存量は次式に従い計算した。
残存量（％）＝１００×（照射後の極大吸収波長における吸光度）／（照射前の極大吸収波長における吸光度）
結果を表１２に示す。表中、評価は残存量９０％以上を◎、８０％以上９０％未満を○、８０％未満を△とした。
Figure 2009242642
表１２から明らかなように、本発明の紫外線吸収剤組成物（膜２０１〜２０９）は、驚くべきことに、紫外線吸収剤（Ａ）を単独で用いた場合（膜２１０）よりも著しく耐光性が向上していることが分かった。さらに、紫外線吸収剤（Ｂ）の代わりとして本発明の好ましい様態ではない紫外線吸収剤を用いた場合（膜２１１）と比較しても、本発明の耐光性の向上効果は顕著なものであった。
実施例３
（フィルム３０１〜３１０の作製）
ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）１ｋｇに対して試料１を、紫外線吸収剤（Ａ）を１５０ｇ加え、ステンレス製タンブラーで１時間攪拌した。この混合物を二軸練押出し混練機で２８０℃にて溶融混合し、常法によって成形用ペレットを作製した。このペレットを用いて射出成形機で厚さ１００μｍのフィルム３０１を作製した。
フィルム３０１の作製において試料１を試料５、６、７、１２、１６、２１、２３、２４、２５または２７に代えたこと以外はフィルム３０１と同様にしてフィルム３０２〜３１１を作製した。
（相溶性評価）
作製後のフィルムをを目視で観察することにより相溶性の評価を行った。結果を表１３に示した。
下記表１３中、○は透明なフィルムであることを表し、×は、表面上に明らかに結晶が存在しているフィルムであることを表す。
Figure 2009242642
表１３から明らかなように、本発明の紫外線吸収剤組成物（フィルム３０１〜３０７）は、紫外線吸収剤（Ａ）を単独で用いた場合（フィルム３０８及び３０９）よりも著しく相溶性が増していることが分かった。また、紫外線吸収剤（Ｂ）を単独で用いた場合（フィルム３１０）、並びに（Ａ）として本発明の好ましい様態でない紫外線吸収剤を用いた場合（フィルム３１１）と比較しても、本発明の組み合わせによる相溶性の向上効果は顕著なものであることがわかる。
（紫外線カット性と低着色性の評価）
作製したフィルムについて、島津製作所製分光光度計Ｕ−４１００（商品名）を用いて光線透過率の測定を行った。測定した透過率について、測定波長３２０ｎｍにおいて、透過率が１％未満の場合を○、１％以上の場合を×、および測定波長４１０ｎｍにおいて透過率が１％未満の場合を◎、１％以上３％未満の場合を○、３％以上の場合を×と評価した。着色性については目視で判断し、黄色味が目立たないものを○、明らかに黄色味が目立つものを△と判断した。結果を表１４に示す。
Figure 2009242642
表１４から明らかなように、本発明の紫外線吸収剤組成物（フィルム３０１〜３０７）を用いることにより、幅広い波長域の紫外線をカットすることができる。紫外線吸収剤（Ａ）を単独で用いた場合（フィルム３０８及び３０９）は短波側が不足してしまい、（Ｂ）を単独で用いた場合（フィルム３１０）は長波側のカットが不十分になってしまう。
（耐光性評価）
まず、作製した各フィルムの初期の透過率を測定した。続いて、作製した各フィルムに対しキセノンランプ（イーグルエンジニアリング製）で照度１７万ルクスにて光照射し、５０時間後の紫外線吸収剤の残存量をそれぞれ測定した。残存量は次式に従い計算した。
残存量（％）＝１００×（１００−照射後の透過率）／（１００−照射前の透過率）
残存量計算の透過率は、フィルム３０１〜３０８、３１０及び３１１は４２０ｎｍとし、フィルム３０９は３８０ｎｍで測定した。結果を表１５に示す。
Figure 2009242642
表１５の結果から明らかなように、本発明の紫外線吸収剤組成物を用いたフィルムは、驚くべきことに、紫外線吸収剤（Ａ）を単独で用いた場合（フィルム３０８及び３０９）よりも耐光性が向上していることが分かった。また、紫外線吸収剤（Ｂ）を単独で用いた場合（フィルム３１０）、並びに（Ａ）として本発明の好ましい様態でない紫外線吸収剤を用いた場合（フィルム３１１）と比較しても、本発明の耐光性の向上効果は顕著なものであることがわかった。
以上の結果から、本発明による紫外線吸収剤組成物は、幅広い波長域における紫外線吸収能を持つのみならず、低着色性、高い耐光性、樹脂に対する良好な相溶性を併せ持つことが分かった。
図１は、本発明に用いられる紫外線吸収剤（Ｂ）の好ましい吸光スペクトルを示す。

Claims (11)

  1. 下記一般式（１）で表される化合物である少なくとも１種の紫外線吸収剤（Ａ）と、３２０ｎｍにおける吸光度が２７０〜４００ｎｍの範囲での吸収極大波長における吸光度の２０％以上であり、極大吸収波長が３８０ｎｍ以下の化合物である少なくとも１種の紫外線吸収剤（Ｂ）とを含むことを特徴とする紫外線吸収剤組成物。
    Figure 2009242642
     ［Ｈｅｔ1は、２価の５あるいは６員環の芳香族ヘテロ環残基を表す。また、該芳香族ヘテロ環残基は置換基を有していても良い。
    Ｘa、Ｘb、Ｘc及びＸdは、互いに独立してヘテロ原子を表す。また、Ｘa〜Ｘdは置換基を有していても良い。
    Ｙa、Ｙb、Ｙc、Ｙd、Ｙe及びＹfは、互いに独立してヘテロ原子または炭素原子を表す。また、Ｙa〜Ｙfは置換基を有していても良い。
    Ｈｅｔ1に結合している環は、任意の位置に二重結合を有していても良い。］
  2. 前記一般式（１）において、Ｘa、Ｘb、Ｙa〜Ｙc及び炭素原子によって形成される環並びにＸc、Ｘd、Ｙd〜Ｙf及び炭素原子によって形成される環の少なくとも一方が縮環している、請求項１記載の紫外線吸収剤組成物。
  3. 前記一般式（１）において、Ｘa、Ｘb、Ｙa〜Ｙc及び炭素原子によって形成される環並びにＸc、Ｘd、Ｙd〜Ｙf及び炭素原子によって形成される環の少なくとも一方がペリミジン環ではない、請求項１又は２に記載の紫外線吸収剤組成物。
  4. 前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（２）で表される化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
    Figure 2009242642
     ［Ｈｅｔ2は、前記一般式（１）のＨｅｔ1と同義である。
    Ｘ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dは、それぞれ前記一般式（１）のＸa、Ｘb、Ｘc及びＸdと同義である。
    Ｙ2b、Ｙ2c、Ｙ2e及びＹ2fは、それぞれ前記一般式（１）のＹb、Ｙc、Ｙe及びＹfと同義である。
    Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立して酸素原子、硫黄原子または＝ＮＲaを表す（Ｒaは、水素原子または１価の置換基を表す。）。
    Ｚ1及びＺ2はそれぞれ独立して、Ｙ2b及びＹ2cまたはＹ2e及びＹ2fと一緒になって４〜８員環を形成するのに必要な原子群を表す。］
  5. 前記一般式（２）で表される化合物が下記一般式（３）で表される化合物である、請求項４記載の紫外線吸収剤組成物。
    Figure 2009242642
     ［Ｈｅｔ3は、前記一般式（２）のＨｅｔ2と同義である。
    Ｘ3a、Ｘ3b、Ｘ3c及びＸ3dは、それぞれ前記一般式（２）のＸ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dと同義である。
    Ｒ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。］
  6. 前記一般式（３）で表される化合物が下記一般式（４）で表される化合物である、請求項５記載の紫外線吸収剤組成物。
    Figure 2009242642
     ［Ｈｅｔ4は、前記一般式（３）のＨｅｔ3と同義である。
    Ｒ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hは、それぞれ前記一般式（３）のＲ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hと同義である。］
  7. 前記一般式（４）で表される化合物が下記一般式（５）で表される化合物である、請求項６記載の紫外線吸収剤組成物。
    Figure 2009242642
     ［Ｒ5a、Ｒ5b、Ｒ5c、Ｒ5d、Ｒ5e、Ｒ5f、Ｒ5g及びＲ5hは、それぞれ前記一般式（４）のＲ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hと同義である。Ｒ5i及びＲ5jは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。］
  8. 前記紫外線吸収剤（Ａ）と前記紫外線吸収剤（Ｂ）との比率が、１０：１〜１：１０の範囲である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
  9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む紫外線吸収剤分散物。
  10. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む紫外線吸収剤溶液。
  11. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む高分子材料。
JP2008091837A 2008-03-31 2008-03-31 紫外線吸収剤組成物 Active JP5250289B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008091837A JP5250289B2 (ja) 2008-03-31 2008-03-31 紫外線吸収剤組成物
CN2009801109371A CN101981153A (zh) 2008-03-31 2009-03-30 紫外线吸收剂组合物
PCT/JP2009/056542 WO2009123142A1 (ja) 2008-03-31 2009-03-30 紫外線吸収剤組成物
TW098110396A TW200948806A (en) 2008-03-31 2009-03-30 Ultraviolet absorbent composition
EP09727136A EP2270113A4 (en) 2008-03-31 2009-03-30 COMPOSITIONS ABSORBING ULTRAVIOLET RAYS
US12/933,712 US20110024701A1 (en) 2008-03-31 2009-03-30 Ultraviolet Absorbent Composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008091837A JP5250289B2 (ja) 2008-03-31 2008-03-31 紫外線吸収剤組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009242642A true JP2009242642A (ja) 2009-10-22
JP5250289B2 JP5250289B2 (ja) 2013-07-31

Family

ID=41135516

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008091837A Active JP5250289B2 (ja) 2008-03-31 2008-03-31 紫外線吸収剤組成物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20110024701A1 (ja)
EP (1) EP2270113A4 (ja)
JP (1) JP5250289B2 (ja)
CN (1) CN101981153A (ja)
TW (1) TW200948806A (ja)
WO (1) WO2009123142A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010038743A1 (ja) * 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 固体高分子材料
WO2012107968A1 (ja) * 2011-02-07 2012-08-16 日本板硝子株式会社 紫外線遮蔽能を有するガラス物品および紫外線遮蔽膜形成用微粒子分散組成物

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5261319B2 (ja) * 2008-09-10 2013-08-14 富士フイルム株式会社 照明カバー
JP5723641B2 (ja) * 2011-03-16 2015-05-27 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合性液晶組成物、高分子化合物およびフィルム
JPWO2013125419A1 (ja) * 2012-02-22 2015-07-30 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、偏光板及び液晶表示装置
WO2014189030A1 (ja) * 2013-05-20 2014-11-27 藤森工業株式会社 光線遮断シート及び容器
JP6428101B2 (ja) * 2014-09-26 2018-11-28 住友電気工業株式会社 光ファイバ心線及び光ファイバテープ心線
US9977666B2 (en) * 2015-09-01 2018-05-22 Microsoft Technology Licensing, Llc Add a new instance to a series
WO2017146029A1 (ja) * 2016-02-25 2017-08-31 大日本印刷株式会社 熱転写シートと被転写体との組合せ、及び印画物の形成方法、並びに熱転写シート
EP3467575B1 (en) 2016-06-02 2022-01-05 Essilor International Eyeglass lens
US10852454B2 (en) 2016-06-02 2020-12-01 Essilor International Eyeglass lens
JP6403911B1 (ja) * 2017-05-23 2018-10-10 株式会社きもと 積層遮光フィルム、並びに、これを用いた光学機器用遮光リング、レンズユニット及びカメラモジュール
CN112566949B (zh) * 2018-08-09 2023-06-23 住友化学株式会社 树脂及粘合剂组合物
CN109162414A (zh) * 2018-09-12 2019-01-08 上海市建筑装饰工程集团有限公司 历史建筑外墙拉毛、压毛粉刷墙面的做旧结构
CN110204555A (zh) * 2019-07-10 2019-09-06 河南龙湖生物技术有限公司 具有聚氯乙烯光稳定作用的三嗪类化合物的制备方法和应用
JP6630461B1 (ja) * 2019-08-09 2020-01-15 株式会社Adeka 農業用フィルム、農業用フィルム形成用樹脂組成物、及びそれを用いた植物の育成方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11218602A (ja) * 1998-02-03 1999-08-10 Asahi Optical Co Ltd プラスチックレンズ
JP2003177235A (ja) * 2001-10-03 2003-06-27 Eastman Kodak Co Ｕｖフィルター素子
JP2003526650A (ja) * 2000-03-17 2003-09-09 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング キノキサリン誘導体を含む調製物
JP2006501339A (ja) * 2002-10-02 2006-01-12 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド Ｕｖ吸収剤の相乗的組合せ

Family Cites Families (371)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9100257D0 (en) 1991-01-07 1991-02-20 Sandoz Ltd Improvements in or relating to organic compounds
CA1065180A (en) 1974-09-17 1979-10-30 Eastman Kodak Company Photographic element having 1-amino-4-cyano-1,3-butadiene derivative as ultraviolet filter
JPS6056175B2 (ja) 1978-02-13 1985-12-09 コニカ株式会社 含浸ポリマ−ラテツクス組成物の製造方法
JPS55129136A (en) 1979-03-27 1980-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd Emulsifying method
IT1206995B (it) 1979-10-12 1989-05-17 Minnesota Mining & Mfg Assorbenti ultravioletti polimerici materiale fotografico che li contiene e metodo per introdurli in detto materiale fotografico
US4259467A (en) 1979-12-10 1981-03-31 Bausch & Lomb Incorporated Hydrophilic contact lens made from polysiloxanes containing hydrophilic sidechains
US4355147A (en) 1981-02-26 1982-10-19 Bausch & Lomb Incorporated Polysiloxane with polycyclic modifier composition and biomedical devices
JPS58178351A (ja) 1982-04-14 1983-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPS58209735A (ja) 1982-06-01 1983-12-06 Konishiroku Photo Ind Co Ltd カラ−写真感光材料
JPS6032856A (ja) 1983-07-30 1985-02-20 Dainippon Ink & Chem Inc 自動車補修塗料用樹脂組成物
DE3505423A1 (de) 1985-02-16 1986-08-21 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Lichtempfindliches, stabilisiertes fotografisches aufzeichnungsmaterial
JPH0652393B2 (ja) 1987-04-22 1994-07-06 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラ−写真感光材料
JP2717883B2 (ja) 1990-11-27 1998-02-25 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラー写真感光材料
KR100187320B1 (ko) 1991-02-21 1999-04-01 월터 클리웨인 광, 산소 및 열에 대해 안정화된 도료
ATE172421T1 (de) 1991-04-26 1998-11-15 Ppg Industries Inc Unter druck setzbarer kunststoffbehälter mit einer aussenschicht aus polyurethan sowie verfahren zu dessen herstellung
DE59203628D1 (de) 1991-05-02 1995-10-19 Ciba Geigy Ag Verfahren zur Verbesserung der Lichtechtheit von Leder.
JP3620545B2 (ja) 1991-07-05 2005-02-16 東レ株式会社 耐光性良好な繊維構造物およびその製造方法
JPH05117508A (ja) 1991-10-28 1993-05-14 Kuraray Co Ltd 紫外線遮蔽性能を有するポリエステル組成物、該ポリエステル組成物の製造方法および繊維
JPH05139434A (ja) 1991-11-11 1993-06-08 Idemitsu Kosan Co Ltd 液体燃料貯蔵容器
JPH05148703A (ja) 1991-11-27 1993-06-15 Toray Ind Inc 清涼衣料
JP3070218B2 (ja) 1992-01-16 2000-07-31 東レ株式会社 張り腰のある透湿・防水性シート
JPH05185031A (ja) 1992-01-17 1993-07-27 Nissan Motor Co Ltd 自動車用上塗り塗膜
JP3142942B2 (ja) 1992-03-10 2001-03-07 株式会社東芝 廃棄物の処理方法
JP3364238B2 (ja) 1992-03-11 2003-01-08 大日本印刷株式会社 紫外線硬化型インキによる印刷層を有する印刷物及びその製造方法
JP2980299B2 (ja) 1992-03-12 1999-11-22 株式会社クラレ ホットカーペットおよびホットカーペットカバー
JPH05339033A (ja) 1992-03-31 1993-12-21 Sumitomo Cement Co Ltd 紫外線遮断ガラスの製造方法、自動車用窓ガラス及び建築用窓ガラス
JPH05345639A (ja) 1992-04-15 1993-12-27 Honjiyou Chem Kk 透明酸化亜鉛膜形成用溶液組成物
JPH05305975A (ja) 1992-04-17 1993-11-19 Goou Kagaku Kogyo Kk 紫外線遮蔽機能を有する容器
JPH061945A (ja) 1992-06-19 1994-01-11 Toray Ind Inc 塗装鋼板用塗料組成物
JPH0656466A (ja) 1992-08-05 1994-03-01 Asahi Glass Co Ltd 日射透過率及び紫外線透過率の小さいガラス
JPH06114991A (ja) 1992-10-02 1994-04-26 Toray Ind Inc 複合不織布
JP2972827B2 (ja) 1992-11-09 1999-11-08 セントラル硝子株式会社 紫外線吸収透明体
DE59310205D1 (de) 1992-12-17 2001-10-11 Ciba Sc Holding Ag Kationische Verbindungen, deren Herstellung und deren Anwendung zur fotochemischen Stabilisierung basisch anfärbbarer Polyamidfasermaterialien
JP3232381B2 (ja) 1992-12-29 2001-11-26 タキロン株式会社 建 材
JPH06228818A (ja) 1993-02-01 1994-08-16 Teijin Ltd 改質ポリエステル繊維の製造方法
JPH06228816A (ja) 1993-02-02 1994-08-16 Kuraray Co Ltd 耐光性に優れたポリウレタン繊維の製法
JPH06313148A (ja) 1993-04-28 1994-11-08 Central Glass Co Ltd ステンレス用コーティング組成物
JP2995376B2 (ja) 1993-06-03 1999-12-27 株式会社ホーネンコーポレーション コンクリート剥離用塗料および該塗料を塗装した型枠
JPH073189A (ja) 1993-06-21 1995-01-06 Akiyama Seiji ランプ用防虫塗料
JPH0718584A (ja) 1993-06-30 1995-01-20 Toray Ind Inc 難燃性人工スエード状構造物およびその製造方法
JPH0726177A (ja) 1993-07-16 1995-01-27 Sekisui Jushi Co Ltd 紫外線遮蔽塗料及び紫外線遮蔽性透明体
JPH0740954A (ja) 1993-07-19 1995-02-10 Mitsubishi Chem Corp 紫外線遮断性多層容器
JP3326445B2 (ja) 1993-09-10 2002-09-24 日産自動車株式会社 熱硬化型塗料組成物及び塗装体
JPH07119036A (ja) 1993-10-15 1995-05-09 Teijin Ltd 耐光堅牢度の改良されたポリエステル繊維
JPH07118576A (ja) 1993-10-19 1995-05-09 Saraya Kk 光増感抗菌性塗料
JP2001114262A (ja) 1993-11-30 2001-04-24 Dainippon Printing Co Ltd 紙容器
EP0657577A1 (de) 1993-12-06 1995-06-14 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur photochemischen und thermischen Stabilisierung von ungefärbten und gefärbten oder bedruckten Polyesterfasermaterialien
JPH07166112A (ja) 1993-12-10 1995-06-27 Nippon Paint Co Ltd カチオン電着塗料組成物
JPH07164729A (ja) 1993-12-17 1995-06-27 Mitsui Toatsu Chem Inc セキュリティインキ印刷物
JPH07216152A (ja) 1994-02-07 1995-08-15 Mitsui Petrochem Ind Ltd 環状オレフィン系樹脂組成物製容器
ES2179091T3 (es) 1994-02-10 2003-01-16 Ciba Sc Holding Ag Barniz de proteccion para madera.
JPH07242444A (ja) 1994-02-28 1995-09-19 Nippon Electric Glass Co Ltd 医薬用紫外線吸収性ガラス物品の製造方法
FR2717809B1 (fr) 1994-03-24 1997-09-19 Sandoz Sa Dérivés de la s-triazine, leur préparation et leur utilisation comme absorbeurs UV.
DE4410539A1 (de) 1994-03-26 1995-09-28 Sandoz Ag Verwendung von 4 H-3,1-Benzoxazin-4-on-Verbindungen zur Verbesserung der Lichtechtheit von Textilmaterialien
JPH07269016A (ja) 1994-03-29 1995-10-17 Shin Etsu Polymer Co Ltd 建材用フィルム
US6576797B1 (en) * 1994-03-31 2003-06-10 Ciba Specialty Chemicals Corporation Thioether substituted hydroxybenzophenones and stabilized compositions
JPH07287353A (ja) 1994-04-20 1995-10-31 Fuji Photo Film Co Ltd 写真感光材料用包装材料及びその製造方法並びに写真感光材料包装体
GB9407822D0 (en) 1994-04-20 1994-06-15 Ciba Geigy Ag Treatment of textile fibres
JPH07289097A (ja) 1994-04-25 1995-11-07 Kuraray Co Ltd 防虫メッシュシート
JPH07289665A (ja) 1994-04-27 1995-11-07 Dainippon Printing Co Ltd ゴルフボール容器及びその製造方法
DE4421561A1 (de) 1994-06-20 1995-12-21 Bayer Ag Hochtemperaturbeständige flexible Siebdruckfarben
JP3663640B2 (ja) 1994-07-26 2005-06-22 東レ株式会社 オレフィン系樹脂ターポリン
JP3461040B2 (ja) 1994-09-01 2003-10-27 日立化成工業株式会社 ゴム系接着剤組成物
JP2985677B2 (ja) 1994-09-09 1999-12-06 東洋製罐株式会社 着色液体包装体
JPH0881643A (ja) 1994-09-12 1996-03-26 Kansai Paint Co Ltd クリヤー塗料およびその塗装法
JP3598404B2 (ja) 1994-09-29 2004-12-08 釜屋化学工業株式会社 加飾容器
JP3186466B2 (ja) 1994-09-30 2001-07-11 松下電工株式会社 照明装置用光源カバーの製造方法
JPH08151457A (ja) 1994-09-30 1996-06-11 Takiron Co Ltd 樹脂成形品とその製造方法
JPH08108650A (ja) 1994-10-13 1996-04-30 Brother Ind Ltd 熱転写インク用受像シート及びラベル印字用カセット
ATE211751T1 (de) 1994-10-14 2002-01-15 Ciba Sc Holding Ag Molekulargewichtserhöhung von polykondensaten
JPH08208976A (ja) 1994-10-31 1996-08-13 Dainippon Ink & Chem Inc 蛍光顔料及び／又は蛍光染料を含むマイクロビーズ
JPH08133787A (ja) 1994-11-11 1996-05-28 Asai Glass Kk 化粧品硝子容器
JPH08151455A (ja) 1994-11-29 1996-06-11 Kuraray Co Ltd ポリビニルアルコール系フィルムの製造方法
JPH08155007A (ja) 1994-12-02 1996-06-18 Mitsui Petrochem Ind Ltd 薬剤充填容器製剤及びこれに用いる容器
EP0716123B2 (de) 1994-12-09 2002-07-17 Crompton Vinyl Additives GmbH Stabilisiertes Polyvinylchlorid
JP2973846B2 (ja) 1994-12-28 1999-11-08 東レ株式会社 耐候性の改善されたポリエステル系繊維およびその製造方法ならびにその繊維を用いてなる繊維製品
JP3389720B2 (ja) 1995-01-17 2003-03-24 東レ株式会社 高透光難燃性膜材、外壁材、屋根材および農業用ハウス
JPH08197511A (ja) 1995-01-26 1996-08-06 Sanyo Chem Ind Ltd 建材用木質構造体
JPH08208765A (ja) 1995-01-31 1996-08-13 Dainippon Ink & Chem Inc 熱可塑性樹脂組成物、その製造方法、耐候性改質剤およびそれを含む重合体組成物
JPH08207218A (ja) 1995-02-02 1996-08-13 Dainippon Shikizai Kogyo Kk 軟質ポリ塩化ビニルシート及び土木建築構造物
JPH08258415A (ja) 1995-03-24 1996-10-08 Toppan Printing Co Ltd 感熱記録媒体
CN1184452A (zh) 1995-03-27 1998-06-10 西德萨集团公司 由聚烯烃树脂和苯乙烯－丁二烯共聚物制成的可收缩薄膜
JPH08269850A (ja) 1995-03-30 1996-10-15 Toray Ind Inc 建築資材用ネットおよびメッシュ
JP3615590B2 (ja) 1995-03-31 2005-02-02 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH08284063A (ja) 1995-04-10 1996-10-29 Toray Ind Inc エレクトレットシートおよびその製造方法およびフィルター基材
JPH08301363A (ja) 1995-05-02 1996-11-19 Green Cross Corp:The 液状製剤用包装袋
DE19516028A1 (de) 1995-05-04 1996-11-07 Henkel Kgaa Aromatenfreie Lösungsmittel für Druckfarben
JP2822164B2 (ja) 1995-05-25 1998-11-11 日本ペイント株式会社 プレコート金属板
JPH0948935A (ja) 1995-05-31 1997-02-18 Mitsubishi Rayon Co Ltd 容器用被覆組成物及びその硬化被膜を有する容器
JPH08324576A (ja) 1995-06-05 1996-12-10 Toyo Ink Mfg Co Ltd 樹脂製コンテナの表面を保護する方法及びそれに用いる樹脂製コンテナの表面を保護する塗料
JPH0912924A (ja) 1995-06-29 1997-01-14 Inter Seputo Kk 撥水性保護塗料
JPH0958687A (ja) 1995-08-11 1997-03-04 Fuji Seal Co Ltd 酒用容器
JPH0959539A (ja) 1995-08-21 1997-03-04 Nippon Paint Co Ltd アルカリ可溶型保護塗料組成物
JPH0957889A (ja) 1995-08-23 1997-03-04 Toray Ind Inc 防汚膜材
JP3702503B2 (ja) 1995-09-21 2005-10-05 東洋製罐株式会社 油性食品用容器
JPH0995055A (ja) 1995-09-28 1997-04-08 Toppan Printing Co Ltd 可逆性感熱記録媒体
EP0765922A1 (en) 1995-09-29 1997-04-02 Basf Corporation Coatings containing hydrazide compounds for enhanced durability
JPH09113494A (ja) 1995-10-24 1997-05-02 Tosoh Corp 分析試薬用溶液容器
JPH09183159A (ja) 1995-10-30 1997-07-15 Toray Ind Inc 接合シート材
DE19540977A1 (de) 1995-11-03 1997-05-07 Basf Lacke & Farben Wäßrige Pulverlack-Dispersionen
JPH09142539A (ja) 1995-11-14 1997-06-03 Toppan Printing Co Ltd 紫外線遮断性包装材料
JP3475610B2 (ja) 1995-11-15 2003-12-08 東レ株式会社 陸上ネット
JPH09157581A (ja) 1995-12-06 1997-06-17 Arakawa Toryo Kogyo Kk 板ガラスの強化及び破損時の飛散防止用塗料
JPH09157626A (ja) 1995-12-07 1997-06-17 Toppan Printing Co Ltd ラッピング用接着剤およびこの接着剤を用いたラッピング部材
US6025433A (en) 1995-12-20 2000-02-15 Basf Coatings Ag Thermosetting paint composition
JPH09241407A (ja) 1996-03-07 1997-09-16 Japan Atom Energy Res Inst 熱可塑性合成樹脂製容器の処理方法
JPH09241534A (ja) 1996-03-11 1997-09-16 Toyo Ink Mfg Co Ltd 傾斜塗料組成物
JPH09239921A (ja) 1996-03-13 1997-09-16 Toray Ind Inc 積層フイルム
JPH09239910A (ja) 1996-03-13 1997-09-16 Toppan Printing Co Ltd 即席麺容器用蓋材
JPH09254345A (ja) 1996-03-26 1997-09-30 Toray Ind Inc 積層フイルム
JPH09263729A (ja) 1996-03-27 1997-10-07 Koji Tagami １液性紫外線遮蔽兼破損保護及び 飛散防止剤組成物
JPH09277414A (ja) 1996-04-18 1997-10-28 Mitsui Toatsu Chem Inc 建材用透湿防水シートおよびその製造方法
JPH09295664A (ja) 1996-04-30 1997-11-18 Heisei Polymer Co Ltd 食品容器用蓋材
JPH09306344A (ja) 1996-05-07 1997-11-28 Toray Ind Inc プラズマディスプレイの製造方法
JPH09300537A (ja) 1996-05-20 1997-11-25 Dainippon Printing Co Ltd 化粧シート
JP3146474B2 (ja) 1996-05-21 2001-03-19 日本製紙株式会社 インクジェット記録媒体
JPH101587A (ja) 1996-06-13 1998-01-06 Kuraray Co Ltd 紫外線吸収剤
JP3603477B2 (ja) 1996-06-14 2004-12-22 東レ株式会社 建築工事用メッシュシートおよびその製造方法
JPH106451A (ja) 1996-06-20 1998-01-13 Achilles Corp 塩化ビニル系樹脂製化粧材
JPH1016152A (ja) 1996-06-28 1998-01-20 Achilles Corp オレフィン系樹脂積層フィルム
JPH1034841A (ja) 1996-07-19 1998-02-10 Toray Ind Inc 農業用被覆材
JPH1044352A (ja) 1996-08-02 1998-02-17 Toray Ind Inc 積層フィルム
JPH1088039A (ja) 1996-09-20 1998-04-07 Nobuhito Oohara 紫外線・近赤外線遮断塗料
DE19748658B4 (de) 1996-11-07 2015-08-20 Ciba Holding Inc. Benzotriazol-UV-Absorptionsmittel mit erhöhter Haltbarkeit
JPH10194796A (ja) 1996-11-13 1998-07-28 Sekisui Chem Co Ltd 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス
JPH10203033A (ja) 1996-11-21 1998-08-04 Ricoh Co Ltd 昇華転写用受像媒体及び熱記録方法
JPH10165045A (ja) 1996-12-06 1998-06-23 Toray Ind Inc 水中ネット
JPH10168292A (ja) 1996-12-17 1998-06-23 Teijin Ltd 延伸ポリエステルフィルム
JPH10183057A (ja) 1996-12-25 1998-07-07 Wakamiya Sangyo:Kk 床用塗料
JPH10205056A (ja) 1997-01-29 1998-08-04 Toray Ind Inc 建材用基材
JPH10237760A (ja) 1997-02-21 1998-09-08 Toray Ind Inc ポリエステル繊維構造物
JPH10237312A (ja) 1997-02-25 1998-09-08 Toppan Printing Co Ltd 抗菌性樹脂組成物及び成形品
JPH10251981A (ja) 1997-03-04 1998-09-22 Teijin Ltd メタ系アラミド繊維構造物の耐光改良方法
JPH10250004A (ja) 1997-03-10 1998-09-22 Diafoil Co Ltd 窓貼り用フイルム
JPH10287804A (ja) 1997-04-16 1998-10-27 Teijin Chem Ltd 光機能性シート用組成物及びプリズムシート
JP3516833B2 (ja) 1997-04-24 2004-04-05 大塚化学ホールディングス株式会社 超耐候性塗料組成物
JPH10298397A (ja) 1997-04-25 1998-11-10 Kyodo Yakuhin Kk スチレン系樹脂組成物
DE19721142A1 (de) 1997-05-21 1998-11-26 Kalle Nalo Gmbh Mehrschichtige, biaxial verstreckte Nahrungsmittelhülle mit zwei Sauerstoff-Barriereschichten
JP4491841B2 (ja) 1997-07-22 2010-06-30 東レ株式会社 太陽電池カバー用積層フィルム
US6270866B1 (en) 1997-12-05 2001-08-07 Gunze Limited Low temperature heat shrinkable film for labels
JP3749365B2 (ja) 1997-12-22 2006-02-22 株式会社資生堂 化粧品容器
JPH11199808A (ja) 1998-01-16 1999-07-27 Seiko Epson Corp 水性インク組成物とこれを用いた記録方法、並びに、これらを用いて記録された記録物
EP0931814A1 (en) 1998-01-21 1999-07-28 Fina Research S.A. Polyolefins and uses thereof
JP3363367B2 (ja) 1998-01-28 2003-01-08 ミサワホーム株式会社 太陽電池モジュール用カバーガラス構造
US5896989A (en) 1998-02-20 1999-04-27 Bracco Research Usa Flexible medical container packaging
JPH11236734A (ja) 1998-02-20 1999-08-31 Kawai Musical Instr Mfg Co Ltd 抗菌性建築資材
JPH11247027A (ja) 1998-03-04 1999-09-14 Toray Ind Inc 極細繊維およびその製造方法
JPH11247028A (ja) 1998-03-05 1999-09-14 Toray Ind Inc 耐光性を有する極細繊維およびその製造方法
JPH11261085A (ja) 1998-03-10 1999-09-24 Mitsubishi Plastics Ind Ltd 太陽電池用裏面保護シート
JP3444781B2 (ja) 1998-03-10 2003-09-08 旭化成アイミー株式会社 医療用ポリマーの改質方法及び医療用ポリマー基材
JP4167745B2 (ja) 1998-04-08 2008-10-22 アイセロ化学株式会社 高純度薬品液用容器および高純度薬品液の排出方法
JPH11302982A (ja) 1998-04-17 1999-11-02 Toray Ind Inc 人工皮革
JPH11300880A (ja) 1998-04-24 1999-11-02 Toto Ltd 建 材
DE69936179T2 (de) 1998-06-24 2007-10-04 Seiko Epson Corp. Tintenzusammensetzung erzeugend ein bild mit hoher lichtstabilität
JP4070885B2 (ja) 1998-07-10 2008-04-02 東セロ株式会社 化粧用シートおよびその製造方法
JP4061726B2 (ja) 1998-07-31 2008-03-19 王子製紙株式会社 オフセット印刷用新聞用紙およびその製造方法
JP2000056433A (ja) 1998-08-07 2000-02-25 Fuji Photo Film Co Ltd 写真フィルム包装体
JP2000066603A (ja) 1998-08-20 2000-03-03 Fuji Seal Inc ポリスチレン系フロスト調熱収縮ラベル
JP2000067629A (ja) 1998-08-25 2000-03-03 Mitsubishi Rayon Co Ltd 照明カバー
JP2000071626A (ja) 1998-08-31 2000-03-07 Dainippon Printing Co Ltd 保護層転写シートおよび印画物
JP2000091611A (ja) 1998-09-17 2000-03-31 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池のカバーフィルムおよびその製造方法、およびそのカバーフィルムを用いた太陽電池モジュール
JP2000091610A (ja) 1998-09-17 2000-03-31 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池のカバーフィルムおよびその製造方法、およびそのカバーフィルムを用いた太陽電池モジュール
US6262153B1 (en) 1998-10-12 2001-07-17 Clariant Finance (Bvi) Limited Colored wax articles
JP2000144583A (ja) 1998-11-12 2000-05-26 Toray Ind Inc シート状物
EP1002512A3 (en) 1998-11-19 2001-01-24 Bracco International B.V. Flexible container for the containment and delivery of fluids
JP4176259B2 (ja) 1998-11-30 2008-11-05 東レ株式会社 透湿防水加工布
JP2000174296A (ja) 1998-12-07 2000-06-23 Bridgestone Corp 太陽電池用カバー材、封止膜及び太陽電池
JP2000186234A (ja) 1998-12-21 2000-07-04 Toagosei Co Ltd メタリック塗料組成物
JP2000223271A (ja) 1999-01-29 2000-08-11 Fuji Electric Co Ltd 有機ｅｌ素子
JP2000224942A (ja) 1999-02-04 2000-08-15 Shimano Inc 釣り用品
JP4010689B2 (ja) 1999-02-12 2007-11-21 信越化学工業株式会社 光ファイバテープ心線
JP2000238857A (ja) 1999-02-22 2000-09-05 Teijin Ltd ポリエチレンナフタレート製容器及びその使用方法
JP2000264879A (ja) 1999-03-18 2000-09-26 Nippon Paper Industries Co Ltd ビスベンゾオキサジノン化合物の製造方法
JP2000273362A (ja) 1999-03-25 2000-10-03 Honda Motor Co Ltd 粉体塗料組成物およびその塗膜を含む積層塗膜の形成方法
JP4316090B2 (ja) 1999-04-30 2009-08-19 日本ペイント株式会社 塗膜形成方法
US6191199B1 (en) 1999-05-03 2001-02-20 Ciba Speciatly Chemicals Corporation Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, high extinction photostable hydroxyphenyl-s-triazine UV absorbers and laminated articles derived therefrom
RU2249606C2 (ru) 1999-05-03 2005-04-10 Циба Спешиалти Кемикалз Холдинг Инк. Стабилизированные адгезивные композиции, содержащие высокорастворимые сдвинутые в красную область фотостабильные бензтриазоловые уф-абсорберы и ламинированные изделия, изготовленные из них
JP2000345109A (ja) 1999-06-02 2000-12-12 Mitsuo Oyanagi 美観・剥離性に優れた可剥塗料
EP1065738A1 (en) 1999-06-28 2001-01-03 Samhwa Paints Ind. Co., Ltd. Coating material for shielding electromagnetic waves
JP2001009811A (ja) 1999-06-29 2001-01-16 Takashi Ueda セルロースと難燃剤の混合材料及びその製造方法
JP2001026081A (ja) 1999-07-13 2001-01-30 Fujimori Kogyo Co Ltd 包装用積層体
JP2001030861A (ja) 1999-07-22 2001-02-06 Du Pont Toray Co Ltd エアバッグ用基布およびエアバッグ
JP2001048153A (ja) 1999-08-03 2001-02-20 Teijin Ltd ポリエステル製容器、その再生方法および使用方法
JP2001059068A (ja) 1999-08-23 2001-03-06 Toray Ind Inc 塗料用樹脂組成物
JP4608750B2 (ja) 1999-08-31 2011-01-12 Ｄｉｃ株式会社 光硬化性樹脂コンパウンドおよびその硬化法
JP3915339B2 (ja) 1999-09-10 2007-05-16 富士ゼロックス株式会社 調光ガラス
JP2001088815A (ja) 1999-09-17 2001-04-03 Alpha Techno Co Ltd ２−シアノアクリレート系組成物用ポリエチレン製容器
JP2001106218A (ja) 1999-10-05 2001-04-17 Taisei Kako Co Ltd 液剤用容器
JP2001115080A (ja) 1999-10-13 2001-04-24 Nippon Shokubai Co Ltd エマルション塗料
JP2001159228A (ja) 1999-12-03 2001-06-12 Dainippon Printing Co Ltd 床用シート
JP2001172531A (ja) 1999-12-21 2001-06-26 Asahi Glass Co Ltd フッ素樹脂塗料用組成物および窯業系建材
JP4609816B2 (ja) 1999-12-27 2011-01-12 日本エイアンドエル株式会社 水性一時保護塗料組成物
JP2001207144A (ja) 2000-01-27 2001-07-31 Taoka Chem Co Ltd ホットメルト接着剤組成物
JP4092525B2 (ja) 2000-02-04 2008-05-28 信越化学工業株式会社 コーティング剤組成物並びにコーティング方法及びコーティング物品
JP3841141B2 (ja) 2000-02-04 2006-11-01 信越化学工業株式会社 下塗り剤組成物及びコーティング方法
US6864325B2 (en) 2000-02-22 2005-03-08 Ciba Specialty Chemicals Corporation Romp with oligomeric UV-absorbers
AU2001262076A1 (en) 2000-02-28 2001-09-03 Bayer Aktiengesellschaft Aqueous coating agents for baking enamels with a high solid content
JP2001249430A (ja) 2000-03-07 2001-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体
JP4690517B2 (ja) 2000-03-22 2011-06-01 三井・デュポンポリケミカル株式会社 エチレン共重合体組成物
JP2001262056A (ja) 2000-03-23 2001-09-26 Kansai Paint Co Ltd ２液型水性塗料組成物
JP2001270531A (ja) 2000-03-23 2001-10-02 Toppan Printing Co Ltd プラスチック容器
DE10015086A1 (de) 2000-03-28 2001-10-04 Basf Ag Textilfaseraffine UV-Absorber-Mischung
JP4802355B2 (ja) 2000-03-29 2011-10-26 Ｄｉｃ株式会社 粉体塗料の製造方法
DE10016194A1 (de) 2000-03-31 2001-10-04 Bayer Ag Beschichtungssystem enthaltend UV-härtbare, Isocyanatgruppen aufweisende Urethan(meth)acrylate und Hydroxylgruppen aufweisende Urethan(meth)acrylate
JP4710102B2 (ja) 2000-05-15 2011-06-29 東洋紡績株式会社 熱収縮性ポリエステル系フィルム
JP2001315263A (ja) 2000-05-01 2001-11-13 Mitsubishi Rayon Co Ltd ハードコートシート、それを用いた樹脂成形品、及びその製造方法
JP2001316630A (ja) 2000-05-09 2001-11-16 Nippon Paint Co Ltd 上塗り用塗料組成物
JP2002053824A (ja) 2000-06-02 2002-02-19 Fuji Photo Film Co Ltd 紫外線吸収粘着フイルム
JP2001348785A (ja) 2000-06-06 2001-12-21 Du Pont Toray Co Ltd 全芳香族ポリアミド繊維の処理方法および処理繊維
JP4326679B2 (ja) 2000-07-19 2009-09-09 リンテック株式会社 ハードコートフィルム
JP2002038084A (ja) 2000-07-21 2002-02-06 Kansai Paint Co Ltd アニオン型電着塗料組成物
JP3862941B2 (ja) 2000-07-21 2006-12-27 リンテック株式会社 高精細防眩性ハードコートフィルム
CO5231248A1 (es) 2000-07-26 2002-12-27 Ciba Sc Holding Ag Articulos transparentes de polimero de baja consistencia
JP2002127596A (ja) 2000-08-15 2002-05-08 Dainippon Ink & Chem Inc インク受理層用組成物、被記録材、及びそれを用いてなる印刷物
JP2002068322A (ja) 2000-08-24 2002-03-08 Shiseido Co Ltd 耐光性化粧料容器および無色透明化粧料容器の黄ばみ評価方法
JP2002069331A (ja) 2000-08-30 2002-03-08 Dainippon Ink & Chem Inc 電子線硬化型塗料組成物
JP4311869B2 (ja) 2000-09-06 2009-08-12 富士フイルム株式会社 紫外線吸収塗料
JP2002080781A (ja) 2000-09-11 2002-03-19 Nippon Yushi Basf Coatings Kk 熱硬化性塗料組成物
JP2002113937A (ja) 2000-10-06 2002-04-16 Kobayashi Kirokushi Co Ltd 偽造防止帳票
JP4438976B2 (ja) 2000-10-25 2010-03-24 大日本印刷株式会社 水滴付着防止性及び熱線遮断性を有するガラス板
JP2002130591A (ja) 2000-10-26 2002-05-09 Nippon Mitsubishi Oil Corp 給油カップ及び給油装置
JP2002160321A (ja) 2000-11-22 2002-06-04 Haruhiko Watanabe ガスバリヤ性プラスチック
JP2002161158A (ja) 2000-11-24 2002-06-04 C I Kasei Co Ltd ポリエステル樹脂製建材
EP1337520B1 (en) 2000-11-27 2004-12-15 Ciba SC Holding AG Substituted 5-aryl and 5-heteroaryl-2-(2-hydroxyphenyl)-2h-benzotriazole derivatives as uv absorbers
JP2001213427A (ja) 2000-11-29 2001-08-07 Dainippon Printing Co Ltd 紙容器
JP3981239B2 (ja) 2000-12-01 2007-09-26 関西ペイント株式会社 一回塗装仕上げ用防食塗料組成物
JP4418583B2 (ja) 2000-12-11 2010-02-17 ダイセル化学工業株式会社 インクジェット記録用樹脂組成物および記録シート
JP2002189415A (ja) 2000-12-20 2002-07-05 Dainippon Printing Co Ltd 遮光性印刷ラベル
JP2002207845A (ja) 2001-01-09 2002-07-26 Un Tochi Riyo Kenkyusho:Kk 土地利用促進システム
JP2002212884A (ja) 2001-01-12 2002-07-31 Teijin Ltd 繊維構造物への機能付与方法
JP2002212237A (ja) 2001-01-15 2002-07-31 Ipposha Oil Ind Co Ltd インクジェット記録シート用紫外線吸収剤
JP2002293706A (ja) 2001-01-25 2002-10-09 Nishinihon Green Research Institute 芝の紫斑防止剤
JP2002226764A (ja) 2001-01-31 2002-08-14 Asahi Glass Co Ltd 建材用塗装物品
JP2002235028A (ja) 2001-02-09 2002-08-23 Ishihara Chem Co Ltd 光触媒塗料組成物
JP2002322360A (ja) 2001-02-21 2002-11-08 Toray Ind Inc ポリフェニレンサルファイド部材
JP2002271227A (ja) 2001-03-09 2002-09-20 Aiwa Co Ltd 無線通信機器
JP2002264979A (ja) 2001-03-12 2002-09-18 Shiseido Co Ltd 高粘度中味用のディスペンサー容器
ATE279503T1 (de) 2001-03-27 2004-10-15 Ciba Sc Holding Ag Wäschespülmittel enthaltend ein benztriazol als uv absorbierungsmittel
JP3984488B2 (ja) 2001-03-27 2007-10-03 日本ペイント株式会社 硬化性塗料組成物および塗膜形成方法
JP2002294165A (ja) 2001-03-30 2002-10-09 Nippon Paint Co Ltd カチオン電着塗料用ハジキ防止方法及びハジキ防止剤
US6562083B2 (en) 2001-04-02 2003-05-13 Ciba Specialty Chemicals Corporation Candle wax stabilized with s-triazines/hals
JP4601850B2 (ja) 2001-04-11 2010-12-22 大日本印刷株式会社 硬質塗膜塗工物品
JP2002307845A (ja) 2001-04-16 2002-10-23 Dainippon Printing Co Ltd 中間転写記録媒体及び画像形成方法
JP2002367227A (ja) 2001-06-04 2002-12-20 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体
US6562085B1 (en) 2001-06-06 2003-05-13 Ciba Specialty Chemicals Corporation Candle wax compositions stabilized with UV absorber-metal combinations
JP2002370723A (ja) 2001-06-13 2002-12-24 Toppan Printing Co Ltd Ｐｅｔ二層延伸ブロー成形容器
JP3722093B2 (ja) 2001-06-27 2005-11-30 大日本インキ化学工業株式会社 歩行路用舗装材及びその製造方法
WO2003002661A1 (en) 2001-06-28 2003-01-09 Toray Industries, Inc. Epoxy resin composition excellent in weather resistance and fiber-reinforced composite materials
EP1401832B1 (en) 2001-07-02 2005-02-16 Ciba SC Holding AG High molecular weight hydroxyphenylbenzotriazole uv-absorbers for thin film applications
JP2003020966A (ja) 2001-07-04 2003-01-24 Toyota Motor Corp 機関作動特性変更手段のロック待機作動制御方法
JP4947479B2 (ja) 2001-07-06 2012-06-06 大日本印刷株式会社 化粧鋼板用ポリオレフィン系化粧シート及び化粧鋼板
JP3926117B2 (ja) 2001-07-17 2007-06-06 リンテック株式会社 ハードコートフィルム
JP2003041434A (ja) 2001-07-23 2003-02-13 Toray Ind Inc 衣料用ポリアミド繊維
JP4224227B2 (ja) 2001-07-27 2009-02-12 リンテック株式会社 帯電防止性ハードコートフィルム及びその製造方法
JP2003049065A (ja) 2001-08-07 2003-02-21 Ge Plastics Japan Ltd ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
JP2003160724A (ja) 2001-09-11 2003-06-06 Ge Plastics Japan Ltd ポリカーボネート系樹脂組成物
JP2003168814A (ja) 2001-09-18 2003-06-13 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
JP3994256B2 (ja) 2001-11-07 2007-10-17 グンゼ株式会社 紫外線吸収性繊維製品及びその製造方法
JP2003145949A (ja) 2001-11-08 2003-05-21 Minolta Co Ltd 可逆性感熱記録媒体及び該記録媒体を備えた情報記録表示カード
JP2003155375A (ja) 2001-11-20 2003-05-27 Takemoto Oil & Fat Co Ltd 熱可塑性高分子用紫外線吸収剤
JP2003200966A (ja) 2002-01-08 2003-07-15 Dainippon Printing Co Ltd 遮光性シュリンクフィルム
JP4145050B2 (ja) 2002-01-16 2008-09-03 株式会社パイロットコーポレーション 水性インキ組成物
JP2003211606A (ja) 2002-01-17 2003-07-29 Teijin Dupont Films Japan Ltd 成形部材表装用ポリエステルフィルム
JP2003211538A (ja) 2002-01-25 2003-07-29 Teijin Dupont Films Japan Ltd 表装用ポリエステルフィルム
JP2003239181A (ja) 2002-02-12 2003-08-27 Toray Ind Inc 人工皮革およびその製造方法
JP2003237825A (ja) 2002-02-12 2003-08-27 Nakagawa Kaseihin Kk 食品の容器・包装材料用透明樹脂組成物
JP2003239136A (ja) 2002-02-12 2003-08-27 Teijin Ltd 高耐光性全芳香族ポリアミド繊維構造物
US7425222B2 (en) 2002-02-18 2008-09-16 Ciba Specialty Chemicals Corp. Process for improving the sun protection factor of cellulosic fibre material
KR20040096558A (ko) 2002-02-19 2004-11-16 시바 스폐셜티 케미칼스 홀딩 인코포레이티드 자외선 방사선 효과로 부터 내용물을 보호하기 위한히드록시페닐벤조트리아졸 자외선 흡수제를 포함하는 용기또는 필름
JP2003253265A (ja) 2002-02-27 2003-09-10 Dainippon Ink & Chem Inc 調光層形成材料及び液晶デバイス
JP2003266926A (ja) 2002-03-18 2003-09-25 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット被記録材
JP2003266927A (ja) 2002-03-19 2003-09-25 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット被記録材
JP4573500B2 (ja) 2002-04-01 2010-11-04 新日本製鐵株式会社 静電気による障害の発生しにくいプレコート金属板用塗料組成物及びプレコート金属板
JP2004000937A (ja) 2002-04-09 2004-01-08 Hiraga Kikai Kogyo Kk 粘着剤付着防止装置
JP4056293B2 (ja) 2002-05-09 2008-03-05 クボタ松下電工外装株式会社 装飾用建材
JP2003339503A (ja) 2002-05-31 2003-12-02 Toray Ind Inc 保温毛布
JP3992141B2 (ja) 2002-05-31 2007-10-17 大日本印刷株式会社 床材及びその製造方法
DE10224947B4 (de) 2002-06-05 2006-07-06 Ems Chemie Ag Transparente Polyamid-Formmassen mit verbesserter Transparenz, Chemikalienbeständigkeit und dynamischer Belastbarkeit
JP2004011062A (ja) 2002-06-07 2004-01-15 Toray Ind Inc 保温靴下
JP2004050460A (ja) 2002-07-17 2004-02-19 Dainippon Printing Co Ltd 無機蒸着樹脂フィルムおよびそれを使用した積層材
JP4550352B2 (ja) 2002-07-22 2010-09-22 富山化学工業株式会社 透明包装袋及びこれで外包装された液状製剤包装体
CA2483842A1 (en) 2002-07-26 2004-02-12 Iain Frank Fraser Organic solvent-based printing inks
JP2004162021A (ja) 2002-07-26 2004-06-10 Sanyo Chem Ind Ltd 粉体塗料およびスラリー塗料
JP2004075888A (ja) 2002-08-20 2004-03-11 Konica Minolta Holdings Inc 蛍光塗料または蛍光インク並びに蛍光画像及びその形成方法
JP4566525B2 (ja) 2002-08-22 2010-10-20 リンテック株式会社 ポリカーボネート用表面保護フィルム
JP4081332B2 (ja) 2002-09-13 2008-04-23 日本ペイント株式会社 電線の塗装方法及び絶縁電線
JP4216031B2 (ja) 2002-09-24 2009-01-28 リンテック株式会社 タッチパネル又はディスプレー用ハードコートフィルム
JP2004117997A (ja) 2002-09-27 2004-04-15 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JP4309744B2 (ja) 2002-11-07 2009-08-05 パナソニック電工株式会社 フッ素系複合樹脂フィルム及び太陽電池
JP2004169182A (ja) 2002-11-08 2004-06-17 Nippon Paint Co Ltd 硬化傾斜塗膜およびこの塗膜を含む積層塗膜の形成方法
JP2004181813A (ja) 2002-12-04 2004-07-02 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット記録用シート
JP4671583B2 (ja) 2003-01-10 2011-04-20 Ｊｔｓ株式会社 眼精疲労防止用塗料組成物
JP2004227843A (ja) 2003-01-21 2004-08-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 色素増感型太陽電池保護用アクリル樹脂フィルム
AU2003303818A1 (en) 2003-01-29 2004-08-23 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Ink-jet ink and recording material
JP2004243674A (ja) 2003-02-14 2004-09-02 Toppan Printing Co Ltd 紫外線遮断性を有する透明バリア性包装材料
JP2004285189A (ja) 2003-03-20 2004-10-14 Mitsubishi Plastics Ind Ltd 紫外線遮断性ポリエステルシート及び包装体
JP2004285516A (ja) 2003-03-24 2004-10-14 Toray Ind Inc 裏地
JP2004285517A (ja) 2003-03-24 2004-10-14 Toray Ind Inc 肌着
DK176859B1 (da) 2003-04-01 2010-01-04 Tresu Anlaeg As Trykværk, trykmaskine med sådan trykværk, værktöj til brug i trykmaskinen samt fremgangsmåde til brug af trykværket for trykning med flexofarver og lak
ES2397136T3 (es) 2003-04-23 2013-03-05 Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. Ampolla de plástico rellena con una disolución de un fármaco y procedimiento para la producción de la misma
JP2004352783A (ja) 2003-05-27 2004-12-16 Matsushita Electric Works Ltd 封止用樹脂組成物
JP2004352847A (ja) 2003-05-29 2004-12-16 Teijin Dupont Films Japan Ltd ポリエステルフィルムおよびボトル用ラベル
JP2005023111A (ja) 2003-06-30 2005-01-27 Union Chemicar Co Ltd マスキング用インク
JP2005037642A (ja) 2003-07-14 2005-02-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 多チャネル光モジュール
JP2005044154A (ja) 2003-07-23 2005-02-17 Gunze Ltd タッチパネル
JP2005055615A (ja) 2003-08-01 2005-03-03 Dainippon Printing Co Ltd 投影スクリーン
JP2005074735A (ja) 2003-08-29 2005-03-24 Dainippon Printing Co Ltd 金属板化粧用シート
JP4297425B2 (ja) 2003-09-26 2009-07-15 株式会社Ａｄｅｋａ 耐候性の改善されたポリエステル樹脂製容器
JP2005105032A (ja) 2003-09-29 2005-04-21 Asahi Kasei Chemicals Corp 重合体組成物からなる熱収縮性フィルム
JP2005105131A (ja) 2003-09-30 2005-04-21 Dainippon Ink & Chem Inc 調光材料、調光フィルムおよびその製造方法
JP4644854B2 (ja) 2003-10-03 2011-03-09 三井・デュポンポリケミカル株式会社 太陽電池封止材用シート
JP2005129713A (ja) 2003-10-23 2005-05-19 Sharp Corp 薄膜太陽電池およびその製造方法
JP4581376B2 (ja) 2003-10-31 2010-11-17 Ｄｉｃ株式会社 ハードコートフィルムの作成方法
US7157547B2 (en) 2003-11-13 2007-01-02 Eastman Chemical Company Ultraviolet blocking composition for protection of package or container contents
JP4356431B2 (ja) 2003-11-21 2009-11-04 凸版印刷株式会社 酸素インジケータ及び酸素インジケータを配置した包装体
JP2005178832A (ja) 2003-12-19 2005-07-07 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 紫外線硬化型インク用包装材料及び紫外線硬化型インク用容器
JP2005189645A (ja) 2003-12-26 2005-07-14 Fuji Photo Film Co Ltd 円偏光板、および円偏光板を有する有機ｅｌデイスプレー素子
FR2867160B1 (fr) 2004-03-05 2006-07-14 Oreal Emballage revetu d'un vernis de protection vis-a-vis de la lumiere
JP2005255736A (ja) 2004-03-09 2005-09-22 Toyo Seikan Kaisha Ltd バリアー性及び透明性を有する生分解性容器
JP2005307161A (ja) 2004-03-22 2005-11-04 Kansai Paint Co Ltd アニオン電着塗料と塗装物品
JP2005278678A (ja) 2004-03-26 2005-10-13 Nippon Zeon Co Ltd 化粧品容器と美爪料の保存方法
JP4373838B2 (ja) 2004-04-02 2009-11-25 信越ポリマー株式会社 押釦スイッチ用カバー部材
JP2005300962A (ja) 2004-04-13 2005-10-27 Dainippon Ink & Chem Inc 調光材料、調光フィルムおよび調光ガラスならびにその製造方法
JP4729265B2 (ja) 2004-04-19 2011-07-20 パナソニック電工株式会社 防蛾灯
JP2005305745A (ja) 2004-04-20 2005-11-04 Toppan Printing Co Ltd 紫外線吸収フィルムおよびそのフィルムを用いた包装体
JP2005314495A (ja) 2004-04-27 2005-11-10 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd 防曇塗料、防曇性フィルムおよびその製造方法
JP2005320408A (ja) 2004-05-07 2005-11-17 Dainippon Ink & Chem Inc ガラス容器用水性被覆剤及びガラス容器
JP2005325150A (ja) 2004-05-12 2005-11-24 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物
JP2005326761A (ja) 2004-05-17 2005-11-24 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光学特性に優れた導光体
JP2005346999A (ja) 2004-06-01 2005-12-15 Mitsubishi Polyester Film Copp 色素増感太陽電池用ポリエステルフィルム
JP2006022300A (ja) 2004-06-09 2006-01-26 National Printing Bureau 耐光性ｄｎａインキ
JP2005350559A (ja) 2004-06-10 2005-12-22 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物
JP4548007B2 (ja) 2004-06-14 2010-09-22 パナソニック電工株式会社 照明器具
JP4666957B2 (ja) 2004-06-16 2011-04-06 株式会社Ａｄｅｋａ 耐候性の改善されたポリエステル樹脂製容器
JP2006008811A (ja) 2004-06-24 2006-01-12 Canon Inc 分散性色材、及び該色材を含む水性インクジェット記録用インク
JP2006016710A (ja) 2004-06-30 2006-01-19 Teijin Techno Products Ltd 合成繊維の処理方法
JP2006030596A (ja) 2004-07-16 2006-02-02 Dainippon Printing Co Ltd レンチキュラーレンズシート、その製造方法、透過型スクリーン及び背面投射型表示装置
JP2006063162A (ja) 2004-08-26 2006-03-09 Tsutsunaka Plast Ind Co Ltd 紫外線硬化型塗料
JP2006070190A (ja) 2004-09-03 2006-03-16 Toyo Ink Mfg Co Ltd 印刷インキ及び包装材料
JP4653991B2 (ja) 2004-09-27 2011-03-16 日本ペイント株式会社 ポリカーボネートフィルム被覆方法
JP2006130807A (ja) 2004-11-08 2006-05-25 Toppan Printing Co Ltd 遮光性包装材料と該遮光性包装材料を用いた包装袋
JP2006160847A (ja) 2004-12-06 2006-06-22 Dainippon Ink & Chem Inc プラスチック塗装成形物
JP2006167996A (ja) 2004-12-13 2006-06-29 Ricoh Co Ltd 可逆性感熱記録媒体、並びに、可逆性感熱記録ラベル、可逆性感熱記録部材、画像処理装置及び画像処理方法
JP5366109B2 (ja) 2004-12-28 2013-12-11 三井化学東セロ株式会社 太陽電池封止材
JP2006224317A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Toppan Printing Co Ltd 遮光性積層フィルムおよびそのフィルムを用いた遮光性包装体
JP2006233010A (ja) 2005-02-24 2006-09-07 Chugoku Electric Power Co Inc:The 補修用塗料
JP2006257144A (ja) 2005-03-15 2006-09-28 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池モジュール用表面保護シート
JP2006257165A (ja) 2005-03-15 2006-09-28 Bii Son Yun ホトクロミックインク組成物、これの製造方法及びこれを利用した原反の印刷方法。
DE102005012056A1 (de) 2005-03-16 2006-09-28 Basf Coatings Ag Mehrschichtlackierungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und deren Verwendung im Automobilbau
JP4736494B2 (ja) 2005-03-24 2011-07-27 東レ株式会社 ポリフェニレンスルフィド・ナノファイバーを含む混繊糸または混紡糸または織編物
JP2006266402A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Kayaba Ind Co Ltd リリーフバルブ
JP2006266042A (ja) 2005-03-25 2006-10-05 Matsushita Electric Works Ltd 建材及びその色調変更方法
JP2006274197A (ja) 2005-03-30 2006-10-12 Gunze Ltd 樹脂フィルムシート接合用シール剤、筒状フィルム、シール剤未塗布部検出装置、不可視光吸収剤添加装置、シール剤未塗布部検出システム及びシール剤未塗布部検出方法
JP2006274179A (ja) 2005-03-30 2006-10-12 Ntn Corp 高誘電性エラストマー組成物および高周波用電子部品
JP2006271781A (ja) 2005-03-30 2006-10-12 Toppan Printing Co Ltd 医療品用滅菌包装袋の製造方法
JP5034205B2 (ja) 2005-03-31 2012-09-26 大日本印刷株式会社 化粧シート
JP4660252B2 (ja) 2005-04-05 2011-03-30 帝人デュポンフィルム株式会社 色素増感型太陽電池用積層フィルムおよびそれを用いた色素増感型太陽電池用電極
JP4959147B2 (ja) 2005-04-13 2012-06-20 富士フイルム株式会社 画像表示装置
JP2006299428A (ja) 2005-04-15 2006-11-02 Teijin Fibers Ltd 鮮明性に優れた紫外線吸収性ポリエステル繊維および布帛および製織方法
JP2006299438A (ja) 2005-04-18 2006-11-02 Teijin Fibers Ltd 紫外線カット性と採光性に優れた布帛および繊維製品
JP2006301268A (ja) 2005-04-20 2006-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 画像表示装置及び画像形成方法
JP4808469B2 (ja) 2005-04-20 2011-11-02 グンゼ株式会社 シュリンクラベル
JP4683991B2 (ja) 2005-04-22 2011-05-18 東洋インキ製造株式会社 飲料用容器
JP2006310461A (ja) 2005-04-27 2006-11-09 Teijin Dupont Films Japan Ltd 太陽電池裏面保護膜用ポリエステルフィルムおよびそれを用いた太陽電池裏面保護膜
JP2006316107A (ja) 2005-05-10 2006-11-24 Nippon Denko Kk 複合紫外線遮断剤、化粧料及び樹脂組成物
JP2006316395A (ja) 2005-05-16 2006-11-24 Kaneka Corp 難燃性ポリエステル系人工毛髪
JP4730886B2 (ja) 2005-06-01 2011-07-20 信越化学工業株式会社 紫外線吸収性基含有オルガノポリシロキサン、該ポリシロキサンの製造方法、及び該ポリシロキサンを配合してなる処理剤
JP2007093649A (ja) 2005-09-27 2007-04-12 Tsutsunaka Plast Ind Co Ltd 偏光レンズ
JP5329823B2 (ja) * 2007-02-20 2013-10-30 富士フイルム株式会社 紫外線吸収剤組成物
JP5236297B2 (ja) * 2007-03-30 2013-07-17 富士フイルム株式会社 ヘテロ環化合物
JP2010132846A (ja) * 2008-03-30 2010-06-17 Fujifilm Corp 樹脂成形物及びポリマーフィルム

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11218602A (ja) * 1998-02-03 1999-08-10 Asahi Optical Co Ltd プラスチックレンズ
JP2003526650A (ja) * 2000-03-17 2003-09-09 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング キノキサリン誘導体を含む調製物
JP2003177235A (ja) * 2001-10-03 2003-06-27 Eastman Kodak Co Ｕｖフィルター素子
JP2006501339A (ja) * 2002-10-02 2006-01-12 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド Ｕｖ吸収剤の相乗的組合せ

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010038743A1 (ja) * 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 固体高分子材料
JP2010083980A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Fujifilm Corp 固体高分子材料
WO2012107968A1 (ja) * 2011-02-07 2012-08-16 日本板硝子株式会社 紫外線遮蔽能を有するガラス物品および紫外線遮蔽膜形成用微粒子分散組成物
JP2012180260A (ja) * 2011-02-07 2012-09-20 Nippon Sheet Glass Co Ltd 紫外線遮蔽能を有するガラス物品および紫外線遮蔽膜形成用微粒子分散組成物

Also Published As

Publication number Publication date
EP2270113A1 (en) 2011-01-05
WO2009123142A1 (ja) 2009-10-08
TW200948806A (en) 2009-12-01
US20110024701A1 (en) 2011-02-03
CN101981153A (zh) 2011-02-23
EP2270113A4 (en) 2012-05-23
JP5250289B2 (ja) 2013-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5250289B2 (ja) 紫外線吸収剤組成物
JP5329823B2 (ja) 紫外線吸収剤組成物
JP5613481B2 (ja) 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤
JP5244437B2 (ja) 紫外線吸収剤組成物
WO2009136624A1 (ja) 紫外線吸収剤組成物
JP5759953B2 (ja) 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤
WO2010038743A1 (ja) 固体高分子材料
JP2009067973A (ja) 紫外線吸収剤を含む高分子材料
JP5261319B2 (ja) 照明カバー
JP5667955B2 (ja) 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤
JP5276876B2 (ja) 紫外線吸収剤組成物
JP2010180288A (ja) 紫外線吸収剤組成物
WO2011089968A1 (ja) 紫外線吸収剤組成物
JP5376885B2 (ja) 紫外線吸収剤を含む高分子材料
JP5613482B2 (ja) 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤及び樹脂組成物
JP2010095661A (ja) 紫外線吸収剤
JP2012126882A (ja) 紫外線吸収剤組成物
JP2009096984A (ja) 紫外線吸収剤
JP2009067876A (ja) 紫外線安定剤
JP2011168759A (ja) シリコーン樹脂組成物
JP2011178900A (ja) ポリオレフィン樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100706

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121218

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130218

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130319

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130415

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5250289

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160419

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250