JP2002367227A - 光情報記録媒体 - Google Patents

光情報記録媒体

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JP2002367227A
JP2002367227A JP2001168274A JP2001168274A JP2002367227A JP 2002367227 A JP2002367227 A JP 2002367227A JP 2001168274 A JP2001168274 A JP 2001168274A JP 2001168274 A JP2001168274 A JP 2001168274A JP 2002367227 A JP2002367227 A JP 2002367227A
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layer
recording
light
wavelength
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Toshio Ishida
寿男 石田
Takeshi Tsunoda
毅 角田
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 安定した記録再生特性を有し、記録層中の色
素の分解を抑制し、耐光性および耐熱性等の保存性に優
れた光情報記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板上に、少なくとも、光反射層と、波
長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能な
記録層と、カバー層と、が順次形成された光情報記録媒
体であって、前記カバー層が、波長４００ｎｍ以下の光
をカットするＵＶ吸収剤および／または波長５００ｎｍ
以上の光をカットする色素、を含有することを特徴とす
る光情報記録媒体である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体に
関し、特に、ヒートモードによる追記型光情報記録媒体
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、レーザ光により一回限りの情
報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知ら
れている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−
Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基
板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からなる光
反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層したもの
である。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外
域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザ
光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の
照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理
的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）により
その部分の光学的特性が変化することにより情報が記録
される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用の
レーザ光と同じ波長のレーザ光をＣＤ−Ｒに照射するこ
とにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位
（記録部分）と変化していない部位（未記録部分）との
反射率の違いを検出することにより行われている。
【０００３】近年、記録密度のより高い光情報記録媒体
が求められている。このような要望に対して、追記型デ
ジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）
と称される光ディスクが提案されている（例えば、「日
経ニューメディア」別冊「ＤＶＤ」、１９９５年発
行）。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光のトラッ
キングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒの半
分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成
された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有す
る記録層、光反射層、および保護層をこの順に積層した
ディスク２枚を記録層を内側にして貼り合わせた構造、
あるいはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを
記録層を内側にして貼り合わせた構造を有している。そ
して、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録および再生は、可
視レーザ光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の
波長のレーザ光）を照射することにより行われており、
ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。
【０００４】最近、インターネット等のネットワークや
ハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴ
Ｖ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓ
ｉｏｎ）の放映開始も間近にひかえている。このような
状況の下で、画像情報を安価簡便に記録することができ
る大容量の記録媒体が必要とされている。ＤＶＤ−Ｒは
現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たし
ているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であ
り、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要で
ある。このため、ＤＶＤ−Ｒよりもさらに短波長の光で
高密度の記録を行なうことができる、より大容量の記録
媒体の開発が進められている。
【０００５】例えば、特開平４−７４６９０号公報、特
開平７−３０４２５６号公報、特開平７−３０４２５７
号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３
７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−
３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同
１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３
号公報、同２０００−１０８５１３号公報、同２０００
−１１３５０４号公報、同２０００−１４９３２０号公
報、同２０００−１５８８１８号公報、および同２００
０−２２８０２８号公報には、有機色素を含む記録層を
有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層
側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザ光を照射するこ
とにより、情報の記録および再生を行う記録再生方法が
開示されている。これらの方法では、ポルフィリン化合
物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色
素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル
骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等
を含有する記録層を備えた光ディスクに、青色（波長４
３０ｎｍ、４８８ｎｍ）または青緑色（波長５１５ｎ
ｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録および
再生を行っている。
【０００６】また、現在使用されているＣＤ−Ｒシステ
ムとの互換性という観点から、２つの異なる波長領域の
レーザ光で記録および再生が可能な光情報記録媒体が提
案されている。例えば、特開２０００−１４１９００号
公報、同２０００−１５８８１６号公報、同２０００−
１８５４７１号公報、同２０００−２８９３４２号公
報、同２０００−３０９１６５号公報には、ＣＤ−Ｒに
用いられる色素とＤＶＤ−Ｒで用いられる色素とを混合
して用いることによって、７８０ｎｍ付近の近赤外域の
レーザ光、および６５０ｎｍ付近の可視レーザ光の何れ
のレーザ光によっても記録および再生が可能な光情報記
録媒体が提案されている。
【０００７】しかしながら、本発明者の検討によれば、
上記公報に記載された光ディスクでは、波長４５０ｎｍ
以下の短波長レーザ光の照射により情報を記録する場合
には、実用上必要とされる感度を得ることができず、ま
た、反射率や変調度等の他の記録特性も満足できるレベ
ルではなく、さらに改良を要することが判明した。特
に、上記公報に記載された光ディスクでは、波長４５０
ｎｍ以下のレーザ光を照射した場合に記録特性の低下が
確認された。
【０００８】また、上記のような光ディスクの基板とは
反対の面には、通常は透明なカバー層が形成されるが、
該カバー層は短波長または長波長の光を吸収するため、
記録層に含有されるフタロシアニン等の色素は、かかる
光により経時的に分解し、保存性に劣ることがあった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】以上から、本発明は、
安定した記録再生特性を有し、記録層中の色素の分解を
抑制し、耐光性および耐熱性等の保存性に優れた光情報
記録媒体を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的は、以下に示す
本発明により達成される。すなわち、本発明は、基板上
に、少なくとも、光反射層と、波長５００ｎｍ以下のレ
ーザ光により情報の記録が可能な記録層と、カバー層
と、が順次形成された光情報記録媒体であって、前記カ
バー層が、波長４００ｎｍ以下の光をカットするＵＶ吸
収剤および／または波長５００ｎｍ以上の光をカットす
る色素、を含有することを特徴とする光情報記録媒体で
ある。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の光情報記録媒体は、基板
上に光反射層と、記録層と、カバー層と、が順次形成さ
れた構成を有している。記録層とカバー層との間には、
これらを密着させるために、接着層を形成することが好
ましい。以下、基板および各層について説明する。
【００１２】＜１．基板＞基板としては、従来の光情報
記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を
任意に選択して使用することができる。具体的には、ガ
ラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等
のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体
等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポ
リオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；
等を挙げることができ、所望によりこれらを併用しても
よい。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低
価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカ
ーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好まし
い。また、基板の厚さは、１．１±０．３ｍｍとするこ
とが好ましい。
【００１３】基板には、トラッキング用の案内溝または
アドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が
形成されている。例えば、ＤＶＲ（ソニー（株）が提唱
する高密度記録媒体 ２２．５ＧＢ／枚）として使用す
る場合は、より高い記録密度を達成するためにＣＤ−Ｒ
やＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのプレ
グルーブが形成された基板を用いることが好ましい。プ
リグルーブのトラックピッチは、２００〜４００μｍの
範囲にとすることを必須とし、好ましくは、２５０〜３
５０ｎｍの範囲とする。また、プレグルーブの深さ（溝
深さ）は、４０〜１５０ｎｍの範囲とすることを必須と
し、好ましくは、５０〜１２０ｎｍの範囲とする。
【００１４】なお、後述する光反射層が設けられる側の
基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、
下塗層を形成することが好ましい。該下塗層の材料とし
ては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸
・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共
重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリ
ルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロル
スルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化
ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイ
ミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢
酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤
等の表面改質剤；を挙げることができる。下塗層は、上
記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製
した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、
エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に
塗布することにより形成することができる。下塗層の層
厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ま
しくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００１５】＜２．光反射層＞光反射層には、レーザ光
に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該
反射率は、７０％以上であることが好ましい。反射率が
高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒ
ｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐ
ｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉ
ｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金
属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることがで
きる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、
あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いて
もよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、
Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼であ
る。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれら
の合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこ
れらの合金である。
【００１６】光反射層は、例えば、上記光反射性物質を
蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングする
ことにより基板上に形成することができる。光反射層の
層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０
〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００１７】＜３．記録層＞記録層は、上記光反射層上
に形成され、波長６００ｎｍ以下のレーザ光により情報
の記録が可能で、色素を含有している。当該記録層に含
有される記録物質としての色素としては、相変化金属化
合物および有機化合物のいずれでもよい。前記有機化合
物の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色
素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等
が挙げられる。
【００１８】また、特開平４−７４６９０号公報、特開
平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公
報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０
５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３
４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同
２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１
５８８１８号公報等に記載されている色素が好適に用い
られる。さらに、記録物質は色素には限定されず、トリ
アゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、
メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロ
シアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、ア
ゾ化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベ
ンゾトリアゾール化合物等の有機化合物も好適に用いら
れる。これらの化合物の中では、シアニン化合物、アミ
ノブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、フタ
ロシアニン化合物が特に好ましい。
【００１９】記録層は、色素等の記録物質を、結合剤等
と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこ
の塗布液を基板表面に形成された光反射層上に塗布して
塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗
布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量
％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範
囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ま
しくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００２０】塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸
エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタ
ン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルム
アミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水
素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン
等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプ
ロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等の
アルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノ
ール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコール
エーテル類；等を挙げることができる。上記溶剤は使用
する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種
以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中に
はさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各
種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００２１】結合剤を使用する場合に、結合剤の例とし
ては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロ
ジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭
化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系
樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル
等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリ
エチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導
体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹
脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることがで
きる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結
合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量
〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１
倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして
調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０
１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質
量％の範囲にある。
【００２２】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げるこ
とができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記
録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、
好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好まし
くは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【００２３】記録層には、該記録層の耐光性を向上させ
るために、種々の褪色防止剤を含有させることができ
る。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチ
ャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、
既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用す
ることができる。その具体例としては、特開昭５８−１
７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０
−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６
０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同
６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、
同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公
報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号
公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９
号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５
４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同
６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３
９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号
第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００２４】前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止
剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質
量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の
範囲、さらに好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に
好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００２５】＜４．接着層＞接着層は、上記記録層と、
後述するカバー層との密着性を向上させるために形成さ
れる任意の層である。接着層を構成する材料としては、
光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防
止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。この
ような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社
製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化
性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。ま
た、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０
００μｍの範囲が好ましく、５〜５００μｍの範囲がよ
り好ましく、１０〜１００μｍの範囲が特に好ましい。
【００２６】＜５．カバー層＞カバー層は、光情報記録
媒体内部への水分の侵入を防ぐために形成されるが、本
発明の光情報記録媒体のカバー層は、波長４００ｎｍ以
下の光および／または５００ｎｍ以上の光をカット（遮
断）することが可能で、これにより、記録層中の色素の
光分解を抑制し、保存性の優れた光情報記録媒体とする
ことができる。
【００２７】カバー層としては、透明な材質の基材であ
れば、特に限定されないが、好ましくは、ポリカーボネ
ート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポ
リ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹
脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリ
エステル；三酢酸セルロース等を使用することが可能
で、なかでもポリカーボネートまたは三酢酸セルロース
を使用することが好ましい。また、前記カバー層には、
波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤
および／または５００ｎｍ以上の光をカットするための
色素が含有されている。なお、「透明」とは、記録光お
よび再生光に対して、該光を透過する（透過率：９０％
以上）ほどに透明であることを意味する。
【００２８】上記ＵＶ吸収剤としては、ベンゾチアゾ−
ル、テトラザインデン、チオウラシル、ベンゾトリアゾ
ールおよびこれらの誘導体であって、波長４００ｎｍ以
下の光をカットするものを使用することができる。ま
た、上記色素としては、フタロシアニン系色素、シアニ
ン系色素、メロシアニン系色素、アゾ系色素、イモニウ
ム系色素、ジイモニウム系色素、ピリリウム・チオピリ
リウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系
色素、ＮｉやＣｒ等の金属錯塩系色素、ナフトキノン系
色素・アントラキノン系色素、インドフェノール系色
素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色
素、トリアリルメタン系色素、アルミニウム系・ジイン
モニウム系色素、ニトロソ化合物、等であって、波長５
００ｎｍ以上の光をカットするものが挙げられる。さら
に、波長５００ｎｍ以上の光をカットする色素として、
下記構造式（１）または下記構造式（２）で表わされる
色素も使用することができる。
【００２９】
【化１】構造式（１）：
【００３０】
【化２】構造式（２）：
【００３１】上記ＵＶ吸収剤または色素の上記基材への
添加は、ねりこみ、溶解、分散等の方法を適用すること
ができる。
【００３２】上記ＵＶ吸収剤は、カバー層中に０．００
１〜８０質量％含有されていることが好ましく、０．１
〜５０質量％含有されていることがより好ましい。８０
質量％を超えると吸光度が高くなり、反射率が減少する
ことがあり、０．００１質量％未満であるとＵＶ吸収剤
としての効果を発揮することができないことある。
【００３３】上記色素は、カバー層中に０．００１〜８
０質量％含有されていることが好ましく、０．１〜５０
質量％含有されていることがより好ましい。８０質量％
を超えると吸光度が高くなり、反射率が減少することが
あり、０．００１質量％未満であると色素としての効果
を発揮することができないことある。
【００３４】カバー層は、接着層を構成する光硬化性樹
脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗
布液を所定温度で記録層上に塗布して塗布膜を形成し、
該塗布膜上に、記述の方法でＵＶ吸収剤および／または
色素を添加したフィルム状の基材をラミネートし、その
上から光を照射して塗布膜を硬化させて、形成される。
前記基材（カバー層）の厚さは、０．０１〜０．２ｍｍ
が好ましく、０．０３〜０．１ｍｍがより好ましく、
０．０５〜０．０９５ｍｍがさらに好ましい。
【００３５】粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃
の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好まし
く、２５〜３７℃の範囲がさらに好ましい。ディスクの
反りを防止するため、塗布膜の照射はパルス型の光照射
器（好ましくは、ＵＶ照射器）を用いて行うのが好まし
い。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以
下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限され
ないが、３ｋＷ／ｃｍ2以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ2
以下がより好ましい。また、照射回数は特に制限されな
いが、２０回以下が好ましく、１０回以下がより好まし
い。
【００３６】また、本発明の光情報記録媒体において
は、光反射層と記録層との間に、記録層の特性に応じて
誘電体層または光透過層を形成することができる。例え
ば、記録層を設けた場合には、当該記録層との接着性向
上のための光透過層を設けてもよく、相変化型の記録層
を設けた場合には、放熱のための誘電体層を設けてもよ
い。誘電体層としては、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓ
ｍ、Ｍｏ、Ｇｅ等のいずれか１以上からなる酸化物、窒
化物、炭化物、硫化物等の材料で、それらがＺｎＳ−Ｓ
ｉＯ2のようにハイブリット化していてもよい。光透過
層としては、レーザ波長で９０％以上の透過率を有する
材料であれば特に限定されることなく使用することが可
能で、例えば、前記誘電体層と同様の材料を使用するこ
とができる。
【００３７】上記誘電体層または光透過層は、従来公知
の方法により形成することができる。誘電体層の厚さ
は、１〜１００ｎｍとすることが好ましく、光透過層の
厚さは、２〜５０μｍとすることが好ましい。
【００３８】
【実施例】本発明を以下の実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３９】（実施例１）厚さ１．１ｍｍ、直径１２０
ｍｍのスパイラル状のグループ（深さ１００ｎｍ、幅
０．１１μｍ、トラックピッチ３００ｎｍ）を有する射
出成形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネー
ト商品名パンライトＡＤ５５０３）基板のグルーブを有
する面上に、Ａｇをスパッタリングして１００ｎｍの膜
厚の反射層を形成した。その後、オラゾールブルＧＮ
（フタロシアニン系色素、ｃｉｂａスぺシャリティケミ
カル社製）２０ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプ
ロパノール１リットル中に添加し、２時間超音波処理を
行って溶解し、色素塗布液を調製した。調製した色素塗
布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００
ｒｐｍまで変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で反
射層上に塗布した。その後、２３℃５０％ＲＨで１時間
保存して、記録層（厚さ１００ｎｍ）を形成した。
【００４０】その後、ＵＶ硬化接着剤（大日本インキ化
学社製ＳＤ−３４７）を、スピンコート法により１００
〜３００ｒｐｍで記録層上に塗布し、ＵＶ吸収剤である
ベンゾトリアゾールを１０質量％添加した三酢酸セルロ
ース膜（フジタック 富士写真フイルム製 膜厚０．０
８ｍｍ）を重ね合わせ、その後３００〜４０００ｒｐｍ
まで変化させながら全面にＵＶ硬化接着剤を広げた後、
ＵＶ照射ランプにて紫外線を照射して硬化させ、サンプ
ル（光情報記録媒体、以下同じ）を作製した。なお、三
酢酸セルロース膜は、溶解した三酢酸セルロース液にベ
ンゾトリアゾールを添加し、キャスティングしバンド上
で溶剤を蒸発させることにより成膜した。
【００４１】（実施例２）実施例１と同様の基板を使用
し、Ａｇをスパッタリングして１００ｎｍの膜厚の反射
層を形成した。その後、ＺｎＳ−ＳｉＯ2膜をスパッタ
リングして９０ｎｍの膜厚の誘電体層を形成した。
【００４２】ＦＯＭ−５６１オラゾールブル（フタロシ
アンニン系色素 和光純薬社製）２０ｇをジブチルエー
テル１リットル中に添加し、２時間超音波処理を行って
溶解し、色素塗布液を調製した。調製した色素塗布液
を、スピンコート法により回転数を３００〜４０００ｒ
ｐｍまで変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で上記
誘電体層上に塗布した。その後、２３℃５０％ＲＨで１
時間保存して、記録層（厚さ１００ｎｍ）を形成した。
その後ＳｉＯ2膜をスパッタリングして９０ｎｍの膜厚
の光透過膜を記録層上に形成し、ＵＶ硬化接着剤（大日
本インキ化学社製ＳＤ−６６１）をスピンコート法によ
り１００〜３００ｒｐｍで前記光透過膜上に塗布した。
【００４３】その後、ベンゾトリアゾールを１０質量％
添加したポリカーボネート膜（膜厚０．０８ｍｍ）を上
記光透過膜に重ね合わせ、スピンコート法により回転数
を３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら全面に接
着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線をパルス照
射して硬化させ、サンプルを作製した。なお、ポリカー
ボネート膜への上記色素の添加は、実施例１と同様にし
て行った。
【００４４】（実施例３）実施例１と同様の基板を使用
し、Ａｇをスパッタリングして１００ｎｍの膜厚の反射
層を形成した。その後、オラゾールブルＧＮ（フタロシ
アンニン系色素ｃｉｂａスぺシャリティケミカル社製２
０ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１
リットル中に添加し、２時間超音波処理を行って溶解
し、色素塗布液を調製した。調製した色素塗布液を、ス
ピンコート法により回転数を３００〜４０００ｒｐｍま
で変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で反射層上に
塗布した。その後、２３℃５０％ＲＨで１時間保存し
て、記録層（厚さ１００ｎｍ）を形成した。
【００４５】その後、ＵＶ硬化接着剤（大日本インキ化
学社製ＳＤ−３４７）を、スピンコート法により１００
〜３００ｒｐｍで塗布し、上記構造式（１）で表わされ
る色素を２０質量％添加した三酢酸セルロース膜（フジ
タック 富士写真フイルム製膜厚０．０８ｍｍ）を重ね
合わせ、その後、スピンコート法により３００〜４００
０ｒｐｍまで変化させながら全面に接着剤を広げた後、
ＵＶ照射ランプにて紫外線を照射して硬化させ、サンプ
ルを作製した。
【００４６】なお、上記構造式（１）で表わされる色素
は、市販されているものを使用した。また、三酢酸セル
ロース膜への上記構造式（１）で表わされる色素の添加
は、実施例１と同様にして行った。
【００４７】（実施例４）実施例１と同様の基板を使用
し、Ａｇをスパッタリングして１００ｎｍの膜厚の反射
層を形成した。その後、ＦＯＭ−５６１オラゾールブル
（フタロシアンニン系色素 和光純薬社製）２０ｇを、
ジメチルエーテル１リットル中に添加し、２時間超音波
処理を行って溶解し、色素塗布液を調製した。調製した
色素塗布液をスピンコート法により回転数を３００〜４
０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃５０％ＲＨの条
件で反射層上に塗布した。その後、２３℃５０％ＲＨで
１時間保存して、記録層（厚さ１００ｎｍ）を形成し
た。
【００４８】その後、ＳｉＯ2膜をスパッタして９０ｍ
ｍの膜厚の光透過膜を記録層上に形成した。ＵＶ硬化接
着剤（大日本インキ化学社製ＳＤ−６６１）をスピンコ
ート法により１００〜３００ｒｐｍで光透過膜上に塗布
し、上記構造式（２）で表わされる色素を２０質量％添
加したポリカーボネート膜（０．０８ｍｍ）を重ね合わ
せ、その後、スピンコート法により３００〜４０００ｒ
ｐｍまで変化させながら全面に接着剤を広げた後、ＵＶ
照射ランプにて紫外線をパルス照射して硬化させ、サン
プルを作製した。
【００４９】なお、上記構造式（２）で表わされる色素
は、市販されているものを使用した。また、ポリカーボ
ネート膜への上記構造式（２）で表わされる色素の添加
は、実施例１と同様にして行った。
【００５０】（実施例５）実施例１と同様の基板を使用
し、Ａｇをスパッタリングして１００ｎｍの膜厚の反射
層を形成した。その後、オラゾールブルＧＮ（フタロシ
アンニン系色素ｃｉｂａスぺシャリティケミカル社製）
２０ｇを、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノー
ル１リットル中に添加し、２時間超音波処理を行って溶
解し、色素塗布液を調製した。調製した色素塗布液をス
ピンコート法により回転数を３００〜４０００ｒｐｍま
で変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で反射層上に
塗布した。その後、２３℃５０％ＲＨで１時間保存し
て、記録層（厚さ１００ｎｍ）を形成した。
【００５１】その後、ＵＶ硬化接着剤（大日本インキ化
学社製ＳＤ−３４７）をスピンコート法により１００〜
３００ｒｐｍで記録層上に塗布し、ベンゾトリアゾール
２０質量％と上記構造式（１）２０質量％とを添加した
三酢酸セルロース膜（フジタック 富士写真フイルム製
膜厚０．０８ｍｍ）を重ね合わせ、その後、スピンコ
ート法により３００〜４０００ｒｐｍまで変化させなが
ら全面に接着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線
を照射して硬化させ、サンプルを作製した。なお、ベン
ゾトリアゾールおよび上記構造式（１）で表わされる色
素の三酢酸セルロース膜への添加は、成膜前の三酢酸セ
ルロース溶液に添加して行った。
【００５２】（実施例６）実施例１と同様の基板を使用
し、Ａｇをスパッタリングして１００ｎｍの膜厚の反射
層を形成した。その後、ＺｎＳ−ＳｉＯ2膜をスパッタ
リングして９０ｎｍの膜厚の誘電体層を形成した。
【００５３】ＦＯＭ−５６１オラゾールブル（フタロシ
アンニン系色素 和光純薬社製）２０ｇをジブチルエー
テル１リットルに添加し、２時間超音波処理を行って溶
解し、色素塗布液を調製した。調製した色素塗布液をス
ピンコート法により回転数を３００〜４０００ｒｐｍま
で変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で上記誘電体
層上に塗布した。その後、２３℃５０％ＲＨで１時間保
存して、記録層（厚さ１００ｎｍ）を形成した。その後
ＳｉＯ2膜をスパッタリングして９０ｎｍの膜厚の光透
過膜を形成しその後、ＵＶ硬化接着剤（大日本インキ化
学社製ＳＤ−６６１）をスピンコート法により１００〜
３００ｒｐｍで塗布で前記光透過膜上に塗布した。
【００５４】その後、ベンゾトリアゾ−ル１０質量％と
上記構造式（２）１０質量％とを添加したポリカーボネ
ート膜（膜厚０．０８ｍｍ）を上記光透過膜に重ね合わ
せ、スピンコート法により回転数を３００〜４０００ｒ
ｐｍまで変化させながら全面に接着剤を広げた後、ＵＶ
照射ランプにて紫外線をパルス照射して硬化させ、サン
プルを作製した。なお、ベンゾトリアゾールおよび上記
構造式（２）で表わされる色素のポリカーボネート膜へ
の添加は、成膜時に添加して行った。
【００５５】（比較例１）実施例１と同様の基板を使用
し、Ａｇをスパッタリングして１００ｎｍの膜厚の反射
層を形成した。その後、オラゾールブルＧＮ（フタロシ
アニン系色素 ｃｉｂａスぺシャリティケミカル社製）
２０ｇを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール
１リットル中に添加し、２時間超音波処理を行って溶解
し、色素塗布液を調製した。調製した色素塗布液を、ス
ピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで
変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で反射層上に塗
布した。その後、２３℃５０％ＲＨで１時間保存し、記
録層を形成した（厚さ１００ｎｍ）。
【００５６】ＵＶ硬化接着剤（大日本インキ化学社製Ｓ
Ｄ−３４７）をスピンコート法により１００〜３００ｒ
ｐｍで記録層上に塗布し、三酢酸セルロース膜（フジタ
ック富士写真フイルム製 膜厚０．０８ｍｍ）を重ね合
わせ、その後３００〜４０００ｒｐｍまで変化させなが
ら全面に接着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線
をパルス照射して硬化させ、サンプルを作製した。
【００５７】（光情報記録媒体の評価） −記録再生テスト− 実施例１〜６および比較例１で得られた光情報記録媒体
について、下記保存条件で保存後、４０５ｍｍのレーザ
ーを積んだＤＤＵ−１０００（パルステック社製）を用
いて、３Ｔ信号を記録し、Ｃ／Ｎを測定した。結果を表
１に示す。
【００５８】−保存条件− スガ試験器製フェードメーターを使用し、照射光量：３
３５Ｗ／ｍ2をとし、室内温度を６０℃、湿度７５％Ｒ
Ｈの条件で４８時間カバー面から光（波長：３５０〜１
０００ｎｍ）を照射した。またサーモボックスで８０
℃、湿度８５％ＲＨの条件で４８時間保存した。
【００５９】
【表１】
【００６０】表１より、実施例１〜６で得られた光情報
記録媒体は、フェードでの保存およびサーモでの保存の
いずれでも安定した記録再生特性が得られた。一方、比
較例１で得られた光情報記録媒体は、フェードでの保存
およびサーモでの保存のいずれの場合も、記録再生特性
が低いものであった。
【００６１】
【発明の効果】本発明によれば、安定した記録再生特性
を有し、記録層中の色素の分解を抑制し、耐光性および
耐熱性等の保存性に優れた光情報記録媒体を提供するこ
とができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA40 EA43 FA01 FA12 FA14 FA30 5D029 LA06 LC04

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板上に、少なくとも、光反射層と、波
    長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能な
    記録層と、カバー層と、が順次形成された光情報記録媒
    体であって、 前記カバー層が、波長４００ｎｍ以下の光をカットする
    ＵＶ吸収剤および／または波長５００ｎｍ以上の光をカ
    ットする色素、を含有することを特徴とする光情報記録
    媒体。
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