JP2003187498A - 光情報記録媒体 - Google Patents

光情報記録媒体

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JP2003187498A
JP2003187498A JP2002069578A JP2002069578A JP2003187498A JP 2003187498 A JP2003187498 A JP 2003187498A JP 2002069578 A JP2002069578 A JP 2002069578A JP 2002069578 A JP2002069578 A JP 2002069578A JP 2003187498 A JP2003187498 A JP 2003187498A
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JP2002069578A
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Toshio Ishida
寿男 石田
Takeshi Tsunoda
毅 角田
Takako Ozawa
貴子 小澤
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Fuji Photo Film Co Ltd
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    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
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    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ジッタやノイズ等の特性が優れ、高い信頼性
を有する光情報記録媒体を提供する。 【解決手段】 トラックピッチ200〜400nm、溝
深さ20〜150nmの基板上に、光反射層と、波長4
50nm以下のレーザ光により情報の記録が可能である
記録層と、接着剤からなる接着層と、厚みが0.01〜
0.5mmであるカバー層と、を順次有する光情報記録
媒体であって、前記記録層が形成される側の前記光反射
層の表面が、十点平均粗さRzが70nm以下であり、
かつ中心面平均粗さSRaが30nm以下であり、更に
基準面から15nmの高さでの平均突起径Dvが75n
m以下であることを特徴とする光情報記録媒体である。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体に
関し、特に、ヒートモードによる追記型の光情報記録媒
体に関する。 【0002】 【従来の技術】情報処理の増加に伴い、光情報記録の分
野においても記録容量の向上に対し強いニーズがある。
一方、従来から635nmの記録波長を用いて記録ピッ
トの形成が行われているが、高品位テレビジョン(HD
TV:High Definition Televi
sion)画質のBSデジタル放送の開始を間近に控
え、より高密度化が求められている。特に635nmよ
りも短波長の青紫色レーザ/高NAピックアップを使用
した光ディスクシステムの開発が検討されており、IS
OM2000では、相変化媒体で青紫色レーザーを使用
したDVR−Blueが発表されている(特開平10−
302243号公報)。 【0003】しかし、短波長を用いて極微小な記録ピッ
トを形成する場合、その記録ピットの寸法並びに形状が
不揃いとなり、その結果ジッタやノイズ等の特性が低下
するという欠点を有している。更にDVR−Blueは
高NA記録の為、カバー層から反射層までの距離が短
く、反射層が粗い場合や、比較的高い突起の全体に対す
る割合が高い場合は、記録マーク読み込み時に与える影
響が大きく、ジッタやノイズ等の特性が低下する。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題点に
鑑み、その問題点を解決することを目的としてなされた
ものである。すなわち本発明は、ジッタやノイズ等の特
性が優れ、高い信頼性を有する光情報記録媒体を提供す
ることを目的とする。 【0005】 【課題を解決するための手段】前記課題を解決すべく鋭
意研究の結果、本発明者は、下記本発明が前記課題を解
決することを見出し、本発明を想到するに至った。すな
わち、本発明は、 【0006】トラックピッチ200〜400nm、溝深
さ20〜150nmの基板上に、光反射層と、波長45
0nm以下のレーザ光により情報の記録が可能である記
録層と、接着剤からなる接着層と、厚みが0.01〜
0.5mmであるカバー層と、を順次有する光情報記録
媒体であって、前記記録層が形成される側の前記光反射
層の表面が、十点平均粗さRzが70nm以下であり、
かつ中心面平均粗さSRaが30nm以下であり、更に
基準面から15nmの高さでの平均突起径Dvが75n
m以下であることを特徴とする光情報記録媒体である。 【0007】 【発明の実施の形態】本発明の光情報記録媒体は、トラ
ックピッチ200〜400nm、溝深さ20〜150n
mの基板上に、光反射層と、波長450nm以下のレー
ザ光により情報の記録が可能である記録層と、接着剤か
らなる接着層と、厚みが0.01〜0.5mmであるカ
バー層と、を順次有する光情報記録媒体であって、前記
記録層が形成される側の前記光反射層の表面が、十点平
均粗さRzが70nm以下であり、かつ中心面平均粗さ
SRaが30nm以下であり、更に基準面から15nm
の高さ(以下、単に「15nmの高さ」という場合があ
る。)での平均突起径Dvが75nm以下であることを
特徴とする。ここで、十点平均粗さRz、中心面平均粗
さSRa、15nmの高さでの平均突起径Dvは、カバ
ー層を剥離後、アルコール系溶剤にて記録層を除去した
ときの値である。尚、本発明において平均突起径Dvと
は、突起の断面が円であるとみなしたときの直径の平均
値である。一方、本発明において基準面とは、AFM
(原子間力顕微鏡)で測定したときの高さZ方向の平均
値Z0となる高さの平面である。つまりZデータの平均
値をZ0とするとき、Z=Z0で表される平面で、XY平
面と平行な面である。 【0008】[基板]本発明における基板としては、従
来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各
種の材料を任意に選択して使用することができる。具体
的には、ガラス;ポリカーボネート、ポリメチルメタク
リレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニ
ル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモ
ルファスポリオレフィン;ポリエステル;アルミニウム
等の金属;等を挙げることができ、所望によりこれらを
併用してもよい。前記材料の中では、耐湿性、寸法安定
性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィ
ン、ポリカーボネートがより好ましく、ポリカーボネー
トが特に好ましい。また、基板の厚さは、1.1±0.
3mmとすることが好ましい。 【0009】基板には、トラッキング用の案内溝または
アドレス信号等の情報を表わす凹凸(プレグルーブ)が
形成されている。より高い記録密度を達成するためにC
D−RやDVD−Rに比べて、より狭いトラックピッチ
のプレグルーブが形成された基板を用いることが好まし
い。プレグルーブのトラックピッチは、200〜400
nmの範囲とすることを必須とし、280〜340nm
の範囲であることが好ましい。また、プレグルーブの深
さ(溝深さ)は、20〜150nmの範囲とすることを
必須とし、30〜80nmの範囲とすることが好まし
い。 【0010】なお、後述する光反射層が設けられる側の
基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、
下塗層を形成することが好ましい。前記下塗層の材料と
しては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル
酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸
共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアク
リルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロ
ルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩
化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリ
イミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・
酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリカーボネート等の高分子物質;シランカップリング
剤等の表面改質剤;を挙げることができる。前記下塗層
は、前記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液
を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコ
ート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板
表面に塗布することにより形成することができる。前記
下塗層の層厚は、一般に0.005〜20μmの範囲に
あり、好ましくは0.01〜10μmの範囲である。 【0011】[光反射層]本発明において、前記記録層
が形成される側の光反射層の表面は、十点平均粗さRz
が70nm以下であり、かつ中心面平均粗さSRaが3
0nm以下であり、更に15nm高さでの平均突起径D
vが75nm以下であることを特徴とする。前記十点平
均粗さRzが70nm以下であり、前記中心面平均粗さ
SRaが30nm以下であり、前記15nm高さでの平
均突起径Dvが75nm以下であれば、反射率の低下、
ノイズ増大、ジッタの特性劣化等を防ぐことが出来る。 【0012】また、前記十点平均粗さRzは、0.5〜
70nmの範囲内であることが好ましく、0.5〜50
nmの範囲内であることがさらに好ましい。更に前記中
心面平均粗さSRaは、20nm以下であることがより
好ましく、10nm以下であることがより好ましい。一
方、前記15nmの高さでの平均突起径Dvは、50n
m以下であることが好ましい。 【0013】尚、本発明において、十点平均粗さRz及
び中心面平均粗さSRaは、AFM(原子間力顕微鏡)
による10μm角の測定を行ったときの値である。 【0014】光反射層を基板上に形成する方法として
は、後述する光反射性物質を蒸着、スパッタまたはイオ
ンプレーティングする方法等が挙げられるが、この中
で、スパッタによれば、十点平均粗さRz、中心面平均
粗さSRa、15nmの高さでの平均突起径Dvの制御
が可能である。すなわち、十点平均粗さRz、中心面平
均粗さSRa、15nmの高さでの平均突起径Dvは、
反射層の厚さ、光反射性物質をスパッタするときのスパ
ッタパワー及びアルゴン流量により制御することができ
る。 【0015】光反射層の厚さは、10〜300nmの範
囲内であることが好ましく、60〜150nmの範囲内
であることがより好ましい。前記光反射層の厚さが10
nm未満であると、反射率が低下する場合がある。一
方、前記光反射層の厚さが300nmを超えると、前記
光反射層の表面の一部に偏析が発生し、光反射層表面の
表面粗さが粗くなり、突起径が大きくなる場合がある。 【0016】光反射性物質をスパッタするときのスパッ
タパワーは、0.1〜10kwの範囲内であることが好
ましく、0.2〜7kwの範囲内であることがより好ま
しく、1.5〜7kwの範囲内であることがさらに好ま
しい。前記スパッタパワーが10kwを超えると、反射
層表面の表面粗さが粗くなり、突起径が大きくなる場合
がある。 【0017】光反射性物質をスパッタするときのアルゴ
ン流量は、1.67×10-3〜1.67cm3/sec
(0.1〜100sccm)とすることが好ましく、
3.3×10-3〜0.33cm3/sec(0.2〜2
0sccm)とすることがより好ましく、0.05〜
0.33cm3/sec(3〜20sccm)とするこ
とがさらに好ましい。前記アルゴン流量が1.67cm
3/secを超えると、前記反射層の表面の一部に偏積
が発生し、反射層表面の表面粗さが粗くなり、突起径が
大きくなることがある。また、成膜時間は、特に限定は
ないが、好ましくは、0.5〜5秒である。 【0018】本発明における光反射層に用いられる光反
射性物質は、レーザ光に対する反射率が70%以上であ
れば何れでも構わない。前記レーザ光に対する反射率が
70%以上である光反射性物質としては、Mg、Se、
Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、
W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、P
d、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、A
l、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、S
n、Bi等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を
挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用
いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合
金として用いてもよい。これらのうちで好ましいもの
は、Au、Ag、あるいは、Au、Agの合金であり、
特に好ましくは、Au、Ag、あるいは、Au、Agを
主成分とする合金である。 【0019】[記録層]記録層は、前記光反射層上に形
成され、波長450nm以下のレーザ光により情報の記
録が可能で、記録物質としての色素を含有している。当
該記録層に含有される色素としては、シアニン色素、オ
キソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシ
アニン色素等が挙げられ、なかでも、フタロシアニン色
素が好ましい。 【0020】また、前記記録層に用いられる色素として
は、極大吸収波長は、400nm以下であることが好ま
しい。前記極大吸収波長が400nmを超えると、波長
400nm以上のレーザーを使用したときに有効な記録
再生ができなくなる場合がある。 【0021】また、特開平4−74690号公報、特開
平8−127174号公報、同11−53758号公
報、同11−334204号公報、同11−33420
5号公報、同11−334206号公報、同11−33
4207号公報、特開2000−43423号公報、同
2000−108513号公報、および同2000−1
58818号公報等に記載されている色素も好適に用い
られる。 【0022】記録層は、色素等の記録物質を、結合剤等
と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこ
の塗布液を基板表面に形成された光反射層上に塗布して
塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗
布液中の記録物質の濃度は、一般に0.01〜15質量
%の範囲であり、好ましくは0.1〜10質量%の範
囲、より好ましくは0.5〜5質量%の範囲、最も好ま
しくは0.5〜3質量%の範囲である。 【0023】塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸
エチル、セロソルブアセテート等のエステル;メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン;ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタ
ン、クロロホルム等の塩素化炭化水素;ジメチルホルム
アミド等のアミド;メチルシクロヘキサン等の炭化水
素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン
等のエーテル;エタノール、n−プロパノール、イソプ
ロパノール、n−ブタノールジアセトンアルコール等の
アルコール;2,2,3,3−テトラフルオロプロパノ
ール等のフッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコール
エーテル類;等を挙げることができる。前記溶剤は使用
する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種
以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中に
はさらに酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、潤滑剤等
各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。 【0024】結合剤を使用する場合に、該結合剤の例と
しては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、
ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質;ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の
炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニ
ル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メ
チル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化
ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘
導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性
樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子;を挙げることが
できる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、
結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して0.01倍
量〜50倍量(質量比)の範囲にあり、好ましくは0.
1倍量〜5倍量(質量比)の範囲にある。このようにし
て調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に0.
01〜10質量%の範囲にあり、好ましくは0.1〜5
質量%の範囲にある。 【0025】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げるこ
とが出来る。記録層は単層でも重層でもよい。また、記
録層の層厚は、一般に20〜500nmの範囲内であ
り、30〜300nmの範囲内であることが好ましく、
50〜100nmの範囲内であることがより好ましい。 【0026】記録層には、該記録層の耐光性を向上させ
るために、種々の褪色防止剤を含有させることができ
る。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチ
ャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、
既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用す
ることができる。その具体例としては、特開昭58−1
75693号公報、同59−81194号公報、同60
−18387号公報、同60−19586号公報、同6
0−19587号公報、同60−35054号公報、同
60−36190号公報、同60−36191号公報、
同60−44554号公報、同60−44555号公
報、同60−44389号公報、同60−44390号
公報、同60−54892号公報、同60−47069
号公報、同63−209995号公報、特開平4−25
492号公報、特公平1−38680号公報、および同
6−26028号公報等の各公報、ドイツ特許3503
99号明細書、そして日本化学会誌1992年10月号
第1141頁等に記載のものを挙げることができる。 【0027】前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止
剤の使用量は、色素の量に対して、通常0.1〜50質
量%の範囲であり、好ましくは、0.5〜45質量%の
範囲、更に好ましくは、3〜40質量%の範囲、特に好
ましくは5〜25質量%の範囲である。 【0028】[接着層]本発明における接着層は、前記
記録層と後述するカバー層との接着性を高めるために形
成される。接着層を形成する接着剤としては、紫外線硬
化樹脂あるいは粘着剤であることが好ましい。接着層の
厚さは、弾力性を持たせるため、1〜1000μmの範
囲が好ましく、5〜500μmの範囲がより好ましく、
10〜100μmの範囲が特に好ましい。 【0029】本発明における接着剤として用いることが
出来る紫外線硬化樹脂は、一般的な紫外線硬化樹脂で構
わない。一方、本発明における接着剤として用いること
が出来る粘着剤とは、両面テープやラベルの裏等に塗布
されているような非常にわずかな圧力で瞬間的に接着す
る接着剤をいう。 【0030】前記接着剤として紫外線硬化樹脂を使用す
る場合は、該紫外線硬化樹脂をそのまま、もしくはメチ
ルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して
塗布液を調製し、記録層上にこれを塗布し、カバー層を
形成して、該カバー層上から紫外線を照射して、接着剤
を硬化させることで、接着層を形成することができる。 【0031】ディスクの反りを防止するため、接着層を
構成する紫外線硬化樹脂は、一般的な紫外線硬化樹脂を
用いることが出来、硬化収縮率の小さい紫外線硬化樹脂
が好ましい。このような紫外線硬化樹脂としては、例え
ば、大日本インク社製の「SD−640」等の紫外線硬
化樹脂を挙げることができる。また、SD−347(大
日本インク社製)、SD−694(大日本インク社
製)、SKCD1051(SKC社製)等を使用するこ
とができる。 【0032】接着剤として粘着剤を使用する場合は、テ
ープ状の粘着剤を適当な大きさに調節し、記録層上に貼
付し、セパレータ等を剥して、カバー層を設ければよ
い。粘着剤として、両面接着テープを使用する場合、該
両面接着テープの基材としては、特に制限されるもので
なく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロ
ピレン、ポリエチレン、塩化ビニル等のプラスチックフ
ィルムや、クラフト紙、上質紙、クレコート紙、和紙等
の紙、レーヨン、ポリエステル等の不織布、ポリエステ
ル、ナイロン、アクリル等の合成繊維よりなる織布、ア
ルミニウム、銅、ステンレス鋼等の金属箔が用いられる
が、基材上に離型剤層をスジ状に均一に塗布する点から
は、プラスチックフィルムが好ましい。 【0033】また、両面接着テープに使用される離型剤
としては、シリコーン系離型剤や長鎖アルキル系離型剤
等の従来から使用されている各種離型剤を適宜選択して
用いることができる。 【0034】さらに、接着に寄与する接着剤としては、
何ら限定されず例えば、アクリル系粘着剤や、天然ゴ
ム、スチレン−イソプレン−スチレン共重合体(SI
S)、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体(SB
S)等のゴム系粘着剤を適宜選択して用いることができ
る。 【0035】[カバー層]本発明におけるカバー層は、
光情報記録媒体内部への水分の侵入を防ぐために形成さ
れたもので、記録再生に使用するレーザー光に対して、
透過率80%以上の材質であることが好ましい。具体的
には、ポリカーボネート(帝人製ピュアエース、帝人化
成製パンライト)、三酢酸セルロース(富士フイルム製
フジタック)、PET(東レ製ルミラー)が好ましく、
中でもポリカーボネート、三酢酸セルロースがより好ま
しい。 【0036】カバー層は、接着層を構成する光硬化性樹
脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗
布液を所定温度で記録層上に塗布して塗布膜を形成し、
該塗布膜上に、例えばプラスチックの押出加工で得られ
た三酢酸セルロースフィルム(TACフィルム)をラミ
ネートし、ラミネートしたTACフィルムの上から光を
照射して塗布膜を硬化させて、形成される。前記TAC
フィルムとしては、紫外線吸収剤を含むものが好まし
い。本発明におけるカバー層の厚さは、0.01〜0.
5mmの範囲であり、好ましくは0.05〜0.2mm
の範囲内であることが好ましい。 【0037】粘度制御のため、塗布温度は23〜50℃
の範囲が好ましく、24〜40℃の範囲がより好まし
く、25〜37℃の範囲がさらに好ましい。ディスクの
反りを防止するため、塗布膜の照射はパルス型の光照射
器(好ましくは、紫外線照射器)を用いて行うのが好ま
しい。パルス間隔はmsec以下が好ましく、μsec
以下がより好ましい。1パルスの照射光量は特に制限さ
れないが、3kW/cm2以下が好ましく、2kW/c
2以下がより好ましい。また、照射回数は特に制限さ
れないが、20回以下が好ましく、10回以下がより好
ましい。 【0038】<本発明の光情報記録媒体を使用した情報
の記録方法および再生方法>次に、本発明の光情報記録
媒体への情報の記録方法および記録した情報の再生方法
について説明する。光情報記録媒体への情報の記録は、
例えば、次のように行われる。まず、光情報記録媒体を
定線速度または定角速度にて回転させながら、カバー層
側から記録用のレーザ光を照射する。このレーザ光の照
射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇
し、物理的あるいは化学的変化(例えば、ピットの生
成)が生じてその光学的特性を変えることにより、情報
が記録される。 【0039】450nm以下(好ましくは380〜43
4nm)の発振波長を有するレーザ光源としては、例え
ば400〜410nmの範囲の発振波長を有する青紫色
半導体レーザ、中心発振波長405nmの青緑色半導体
レーザ等を挙げることができる。記録密度を高めるため
に、より短波長のレーザを得ることが可能な青紫色半導
体レーザを用いることが特に好ましい。また、記録密度
を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズ
のNAは0.7以上が好ましく、0.85以上がより好
ましい。 【0040】一方、記録された情報の再生は、光情報記
録媒体を前記と同一の定線速度で回転させながらレーザ
光をカバー層側から照射して、その反射光を検出するこ
とにより行うことができる。 【0041】また、記録物質として色素等の有機化合物
を含有する記録層を備えた光情報記録媒体の例について
説明したが、記録層は、相変化により記録を行う相変化
記録層、光磁気により記録を行う光磁気記録層であって
もよい。例えば、相変化記録層とする場合には、誘電体
層はZnS−SiO2等から構成し、光透過層の代わり
に誘電体層を設ける。また、相変化記録層には、記録物
質としてSb、Te、Ag、In等のカルコゲナイド等
の金属化合物を使用することができる。 【0042】 【実施例】本発明を以下に示す実施例により具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 【0043】(実施例1)厚さ1.1mm、直径120
mmのスパイラル状のグルーブ(深さ100nm、幅
0.120μm、トラックピッチ300nm)を有する
射出成形ポリカーボネート樹脂(帝人社製ポリカーボネ
ート、商品名パンライトAD5503)基板のグルーブ
を有する面上に、Agをスパッタパワー0.2kw、ア
ルゴン流量0.3cm3/secの条件でスパッタして
膜厚100nmの光反射層を形成した。 【0044】その後、色素としてオラゾールブルGN
(cibaスペシャリティケミカル社製)を2,2,
3,3−テトラフルオロプロパノールと混合し、超音波
振動機を用い2時間かけて溶解し色素塗布液を得た。こ
の色素塗布液をスピンコート法により回転数を300r
pmから4000rpmまで変化させながら23℃50
%RHの条件で塗布した。その後、23℃50%RHで
2時間保存し、紫外線硬化接着剤(大日本インキ化学社
製SD−347、色素の溶解率0.05質量%)をスピ
ンコート法により100〜300rpmで塗布し、カバ
ー層用シートとして三酢酸セルロース膜(フジタック、
富士写真フイルム製、厚み:80μm)を重ね合わせ、
その後300rpmから4000rpmまで変化させな
がら全面に紫外線硬化接着剤を広げた後、紫外線照射ラ
ンプにて紫外線を照射して硬化させ、サンプル(光情報
記録媒体)を作製した。 【0045】(実施例2)AgをAlに変更し、Alを
スパッタパワー3.0kw、アルゴン流量3cm 3/s
ecの条件でスパッタして膜厚80nmの光反射層を形
成した以外、実施例1と同様に光情報記録媒体を作製し
た。 【0046】(実施例3)Agのスパッタ条件をスパッ
タパワー8.5kw、アルゴン流量47cm3/sec
に変更してスパッタすることにより膜厚180nmの光
反射層を形成した以外、実施例1と同様に光情報記録媒
体を作製した。 【0047】(比較例1)Agのスパッタ条件をスパッ
タパワー0.2kw、アルゴン流量0.3cm3/se
cに変更してスパッタすることにより膜厚300nmの
光反射層を形成した以外、実施例1と同様に光情報記録
媒体を作製した。 【0048】(比較例2)Agのスパッタ条件をスパッ
タパワー13.5kw、アルゴン流量0.3cm 3/s
ecに変更してスパッタすることにより膜厚230nm
の光反射層を形成した以外、実施例1と同様に光情報記
録媒体を作製した。 【0049】(比較例3)Agのスパッタ条件をスパッ
タパワー35kw、アルゴン流量0.3cm3/sec
に変更してスパッタすることにより膜厚100nmの光
反射層を形成した以外、実施例1と同様に光情報記録媒
体を作製した。 【0050】(比較例4)Agのスパッタ条件をスパッ
タパワー0.2kw、アルゴン流量65cm3/sec
に変更してスパッタすることにより膜厚100nmの光
反射層を形成した以外、実施例1と同様に光情報記録媒
体を作製した。 【0051】(評価)前記作製した光情報記録媒体につ
いて、下記評価を行った。その結果を表1に示す。 [ノイズ評価]作製した光情報記録媒体を405nmレ
ーザ、NA0.85ピックアップを積んだ記録再生評価
機(パルステック社製:DDU1000)にてクロック
周波数66MHz/(線速5.6m/s)にて、未記録
部の反射率をオシロスコープで測定し、「(信号の振
幅)/(信号の大きさ)」をノイズとした。光情報記録
媒体としては、ノイズが10%以下であることが好まし
い。 【0052】[ジッタ評価]作製した光情報記録媒体を
405nmレーザ、NA0.85ピックアップを積んだ
記録再生評価機(パルステック社製:DDU1000)
にてクロック周波数66MHz/(線速5.6m/s)
にて、1−7PP変調信号を記録、再生し、タイムイン
タテーバルアナライザーにてジッタを測定した。光情報
記録媒体としては、ジッタが10%以下であることが好
ましい。 【0053】[十点平均粗さRz、中心面平均粗さSR
a、15nmの高さでの平均突起径Dvの測定]ノイズ
及びジッタ測定後の前記サンプル(光情報記録媒体)の
カバー層を剥離、アルコール系溶剤にて記録層を除去後
速やかに、下記の条件でAFM測定を行い、十点平均粗
さRz、中心面平均粗さSRa、15nmの高さでの平
均突起径Dvを測定した。 AFM測定条件 装置:セイコーインスツルメント社製SPA500 モード:AFMモード(コンタクトモード) 測定用探針:SI AF01(バネ定数 0.1N/
m) 測定範囲:10μm角 スキャンライン:512×512 スキャンスピード:2Hz 【0054】 【表1】【0055】表1は、十点平均粗さRz、中心面平均粗
さSRa、15nm高さでの平均突起径Dvが本発明に
おける規定範囲内である実施例1〜3は、ノイズが小さ
く抑えられ、ジッタが低く、優れた特性と高い信頼性と
を有する光情報記録媒体が得られていることを示してい
る。一方、比較例1及び4は、十点平均粗さRzが70
nm以上であり、かつ15nmの高さでの平均突起径D
vが75nm以上であり、ノイズが大きく、ジッタも高
い。比較例2は、十点平均粗さRzが70nm以上であ
り、ノイズが大きい。比較例3は、15nmの高さでの
平均突起径Dvが75nm以上であり、ノイズが大き
く、ジッタも高い。 【0056】以下に、上述した光反射層の好ましいスパ
ッタ条件により光反射層を形成した光情報記録媒体を参
考例として示す。 【0057】(参考例1〜18)厚さ1.1mm、直径
120mmのスパイラル状のグルーブ(深さ40nm、
幅150nm、トラックピッチ320nm)を有する射
出成形ポリカーボネート樹脂(帝人社製ポリカーボネー
ト、商品名:パンライトAD5503)基板のグルーブ
を有する面上に、各参考例毎に、表2に示す条件で反射
層材質をスパッタして光反射層を形成し、その後、下記
構造式で表される有機物を乳酸メチルと混合して3%と
し、超音波振動機を用いて2時間かけて溶解し色素塗布
液を得た。この色素塗布液をスピンコート法により回転
数を300rpmから4000rpmまで変化させなが
ら23℃50%RHの条件で塗布した。その後、23℃
50%RHで2時間アニールを行った。その後、ZnS
−SiO2を50nmの厚さでスパッタし、UV硬化性
接着剤(大日本インキ化学工業(株)製、SD−66
1)をスピンコート法により100〜300rpmで塗
布し、ポリカーボネートシート(帝人社製、ピュアエー
ス、膜厚:80μm)を重ね合わせ、その後、300r
pmから4000rpmまで変化させながら全面にUV
硬化性接着剤を広げた後、UV照射ランプにて紫外線を
照射して硬化させ、参考例1〜16の光情報記録媒体を
作製した。 【0058】 【化1】 【0059】(参考例19〜21)厚さ1.1mm、直
径120mmのスパイラル状のグルーブ(深さ40n
m、幅150nm、トラックピッチ340nm)を有す
る射出成形ポリカーボネート樹脂(帝人社製ポリカーボ
ネート、商品名:パンライトAD5503)基板のグル
ーブを有する面上に、各参考例毎に、表2に示す条件で
反射層材質をスパッタして膜厚120nmの反射層を形
成し、その後、オラゾールブルーGN(cibaファイ
ンケミカル社製)を2,2,3,3−テトラフルオロプ
ロパノールと混合して3%とし、超音波振動機を用いて
2時間かけて溶解し色素塗布液を得た。この色素塗布液
をスピンコート法により回転数を300rpmから40
00rpmまで変化させながら23℃50%RHの条件
で塗布した。その後、SiO2を50nmの厚さでスパ
ッタし、UV硬化性接着剤(大日本インキ化学工業
(株)製、SD−661)をスピンコート法により10
0〜300rpmで塗布し、ポリカーボネートシート
(帝人社製、ピュアエース、膜厚:80μm)を重ね合
わせ、その後、300rpmから4000rpmまで変
化させながら全面にUV硬化性接着剤を広げた後、UV
照射ランプにて紫外線を照射して硬化させ、参考例17
〜19の光情報記録媒体を作製した。 【0060】以上の参考例1〜21の光情報記録媒体に
対して、波長405nmのレーザー光を出力し、N/A
0.85のピックアップを搭載したDDU−1000
(パルステック社製)を用い、未記録のRF信号の幅及
び未記録反射率を測定し、未記録ノイズを、RF信号の
幅を未記録反射率で割って求めた。結果を表2に示す。 【0061】 【表2】【0062】 【発明の効果】本発明は、ジッタやノイズ等の特性が優
れ、高い信頼性を有する光情報記録媒体を提供すること
が出来る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小澤 貴子 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 5D029 JB47 LB07 MA14 MA41 WB11 WB17

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 トラックピッチ200〜400nm、溝
    深さ20〜150nmの基板上に、光反射層と、波長4
    50nm以下のレーザ光により情報の記録が可能である
    記録層と、接着剤からなる接着層と、厚みが0.01〜
    0.5mmであるカバー層と、を順次有する光情報記録
    媒体であって、 前記記録層が形成される側の前記光反射層の表面が、十
    点平均粗さRzが70nm以下であり、かつ中心面平均
    粗さSRaが30nm以下であり、更に基準面から15
    nmの高さでの平均突起径Dvが75nm以下であるこ
    とを特徴とする光情報記録媒体。
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