JP2003266939A - 光情報記録媒体 - Google Patents
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- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
- G11B7/2535—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins polyesters, e.g. PET, PETG or PEN
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 波長３８０〜５００ｎｍの短波長のレーザ
光、とりわけ汎用性の高い波長４０５ｎｍ近辺のレーザ
光を照射して情報の高密度記録および再生が可能であ
り、かつ優れた記録特性を有する光情報記録媒体を提供
する。 【解決手段】 基板上に波長３８０〜５００ｎｍのレー
ザ光の照射によって情報の記録が可能な記録層を有する
光情報記録媒体であって、該記録層に、下記一般式
（Ｉ）で表される化合物を含有させる。 【化１】 ［式中、Ｒ1乃至Ｒ6はそれぞれ独立して置換基を表し、
Ｍは金属原子を表し、ｎは１以上の整数を表す。］
光、とりわけ汎用性の高い波長４０５ｎｍ近辺のレーザ
光を照射して情報の高密度記録および再生が可能であ
り、かつ優れた記録特性を有する光情報記録媒体を提供
する。 【解決手段】 基板上に波長３８０〜５００ｎｍのレー
ザ光の照射によって情報の記録が可能な記録層を有する
光情報記録媒体であって、該記録層に、下記一般式
（Ｉ）で表される化合物を含有させる。 【化１】 ［式中、Ｒ1乃至Ｒ6はそれぞれ独立して置換基を表し、
Ｍは金属原子を表し、ｎは１以上の整数を表す。］
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体に
関し、詳しくは、レーザ光の照射により情報の記録およ
び再生を行うことができる光情報記録媒体に関するもの
である。特に、波長３８０〜５００ｎｍの短波長レーザ
光の照射によって情報を記録するのに好適なヒートモー
ド型の光情報記録媒体に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来から、レーザ光により一回限りの情
報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知ら
れている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−
Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基
板上に有機色素からなる記録層、金などの金属からなる
光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層したも
のである。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤
外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザ
光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の
照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理
的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）によっ
てその部分の光学的特性が変化することで情報が記録さ
れる。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレ
ーザ光と同じ波長のレーザ光をＣＤ−Ｒに照射すること
によって行われ、記録層の光学的特性が変化した部位
（記録部分）と変化していない部位（未記録部分）との
反射率の違いを検出することによって行われている。 【０００３】近年では、記録密度のより高い光情報記録
媒体が求められている。このような要望に対して、追記
型デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−
Ｒ）と称される光ディスクが提案されている（例えば、
「日経ニューメディア」別冊「ＤＶＤ」、１９９５年発
行）。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光のトラッ
キングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒの半
分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成
された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有す
る記録層、光反射層、および保護層をこの順に積層した
ディスク２枚を互いの記録層を内側にして貼り合わせた
構造、あるいはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基
板を記録層を内側にして貼り合わせた構造を有してい
る。そして、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録および再生
は、可視レーザ光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの
範囲の波長のレーザ光）を照射することによって行われ
ており、ＣＤ−Ｒよりも高密度の記録が可能である。 【０００４】しかしながら、最近のインターネット等の
ネットワークやハイビジョンＴＶの急速な普及に加え、
ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅ
ｖｉｓｉｏｎ）の放映開始も間近にひかえている状況の
下、画像情報を安価簡便に記録することが可能で、か
つ、さらなる大容量の記録媒体が必要とされてきてい
る。上述のＤＶＤ−Ｒは現状においては大容量の記録媒
体としての役割を十分に果たしているが、さらなる大容
量化、高密度化の要求は高まる一方であり、これらの要
求に対応できる記録媒体の開発も必要である。このた
め、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長の光で高密度の記録を
行なうことができ、より大容量の記録媒体の開発が進め
られている。 【０００５】例えば、特開平４−７４６９０号公報、特
開平７−３０４２５６号公報、特開平７−３０４２５７
号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３
７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−
３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同
１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３
号公報、同２０００−１０８５１３号公報、同２０００
−１１３５０４号公報、同２０００−１４９３２０号公
報、同２０００−１５８８１８号公報、および同２００
０−２２８０２８号公報には、有機色素を含む記録層を
有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層
側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザ光を照射するこ
とにより、情報の記録および再生を行う記録再生方法が
開示されている。これらの方法では、ポルフィリン化合
物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色
素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル
骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等
を含有する記録層を備えた光ディスクに、青色（波長４
３０ｎｍ、４８８ｎｍ）または青緑色（波長５１５ｎ
ｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録および
再生を行っている。 【０００６】また、現在使用されているＣＤ−Ｒシステ
ムとの互換性という観点から、２つの異なる波長領域の
レーザ光で記録および再生が可能な光情報記録媒体も提
案されている。例えば、特開２０００−１４１９００号
公報、同２０００−１５８８１６号公報、同２０００−
１８５４７１号公報、同２０００−２８９３４２号公
報、同２０００−３０９１６５号公報には、ＣＤ−Ｒに
用いられる色素とＤＶＤ−Ｒで用いられる色素とを混合
して用いることによって、７８０ｎｍ付近の近赤外域の
レーザ光、および６５０ｎｍ付近の可視レーザ光の何れ
のレーザ光によっても記録および再生が可能な光情報記
録媒体が提案されている。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
者の検討によれば、上記公報に記載された光ディスクで
は、波長３８０〜５００ｎｍの短波長レーザ光の照射に
より情報を記録する場合には、実用上必要とされる感度
を得ることができず、また、反射率や変調度などの他の
記録特性も満足できるレベルではなく、更に改良を要す
ることが判明した。特に、上記公報に記載された光ディ
スクでは、波長３８０〜５００ｎｍのレーザ光を照射し
た場合に記録特性が低下した。 【０００８】本発明は上記従来技術の問題点に鑑み成さ
れたものであり、本発明の目的は、波長３８０〜５００
ｎｍの短波長のレーザ光、とりわけ汎用性の高い波長４
０５ｎｍ近辺のレーザ光を照射して情報の高密度記録お
よび再生が可能であり、かつ優れた記録特性を有する光
情報記録媒体を提供することにある。 【０００９】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の光情報記録媒体は、基板上に波長３８０〜
５００ｎｍのレーザ光の照射によって情報の記録が可能
な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層
は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物（以下「本発明
における化合物」という場合がある。）を含有すること
を特徴とする。本発明における化合物は、３４０ｎｍ付
近に吸収帯を有している。この本発明における化合物を
記録層の記録材料として用いることで、波長が３８０〜
５００ｎｍの短波長のレーザーに対しても高い感度を示
し、かつ高い反射率、そして高い変調度を与える良好な
記録再生特性を備えた光情報記録媒体を得ることができ
る。 【００１０】 【化２】 ［式中、Ｒ1乃至Ｒ6はそれぞれ独立して水素原子または
置換基を表し、Ｍは金属原子を表し、ｎは１以上の整数
を表す。］ 【００１１】上記の一般式（Ｉ）において、Ｍを表す金
属が、銅、ニッケル、鉄、コバルト、パラジウム、マグ
ネシウム、アルミニウム、亜鉛、珪素、または希土類元
素であることが好ましい。また、置換基Ｒ1乃至Ｒ6が、
炭素原子数１乃至２０のアルキル基、炭素原子数６乃至
１４のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル
基、炭素原子数１乃至１０のヘテロ環基、炭素原子数１
乃至２０のアルコキシ基、炭素原子数６乃至１４のアリ
ールオキシ基、炭素原子数２乃至２１のアシル基、炭素
原子数１乃至２０アルキルスルホニル基、炭素原子数６
乃至１４のアリールスルホニル基、炭素原子数１乃至２
５のカルバモイル基、炭素原子数０乃至３２のスルファ
モイル基、炭素原子数１乃至２０のアルコキシカルボニ
ル基、炭素原子数７乃至１５のアリールオキシカルボニ
ル基、炭素原子数２乃至２１のアシルアミノ基、アミノ
基、炭素原子数１乃至２０のスルホニルアルキルアミノ
基、炭素原子数６乃至１４のスルホニルアリールアミノ
基、スルホニルアミノ基、またはハロゲン原子であるこ
とが好ましい。また、ｎが１乃至４の整数であることが
好ましい。 【００１２】本発明の光情報記録媒体は、基板と記録層
との間に金属からなる光反射層を更に備えていることが
好ましく、記録層上に該記録層を保護するカバー層を更
に備えていることがより好ましい。また、基板の記録層
が設けられる側の表面には、トラックピッチ０．２〜
０．５μｍのプレグルーブが形成されていることが好ま
しい。 【００１３】 【発明の実施の形態】以下、本発明の光情報記録媒体の
実施の形態について詳細に説明する。 【００１４】本発明の光情報記録媒体は、基板上にレー
ザ光の照射によって情報の記録が可能な記録層を有する
光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式（Ｉ）
で表される化合物を含有することを特徴とする。 【００１５】 【化３】 ［式中、Ｒ1乃至Ｒ6はそれぞれ独立して水素原子または
置換基を表し、Ｍは金属原子を表し、ｎは１以上の整数
を表す。］ 【００１６】一般式（Ｉ）において、Ｒ1乃至Ｒ6で表さ
れる置換基の好ましい例としては、炭素原子数１乃至２
０のアルキル基、炭素原子数６乃至１４のアリール基、
炭素原子数７乃至１５のアラルキル基、炭素原子数１乃
至１０のヘテロ環基、炭素原子数１乃至２０のアルコキ
シ基、炭素原子数６乃至１４のアリールオキシ基、炭素
原子数２乃至２１のアシル基、炭素原子数１乃至２０ア
ルキルスルホニル基、炭素原子数６乃至１４のアリール
スルホニル基、炭素原子数１乃至２５のカルバモイル
基、炭素原子数０乃至３２のスルファモイル基、炭素原
子数１乃至２０のアルコキシカルボニル基、炭素原子数
７乃至１５のアリールオキシカルボニル基、炭素原子数
２乃至２１のアシルアミノ基、アミノ基、炭素原子数１
乃至２０のスルホニルアルキルアミノ基、炭素原子数６
乃至１４のスルホニルアリールアミノ基、スルホニルア
ミノ基、またはハロゲン原子を挙げることができる。Ｒ
1乃至Ｒ6として、好ましいものは、水素原子、アルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル
基、アルキルスルホニル基、アシルアミノ基、アミノ
基、スルホニルアミノ基、であり、特に好ましいもの
は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基である。 【００１７】一般式（Ｉ）において、置換基Ｒ1乃至Ｒ6
は更に置換基を有していてもよく、該置換基の例として
は、以下に記載のものを挙げることができる。 【００１８】炭素原子数１〜２０の鎖状または環状のア
ルキル基（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、シ
クロヘキシル）、炭素原子数６〜１８のアリール基（例
えば、フェニル、クロロフェニル、２，４−ジ−ｔ−ア
ミルフェニル、１−ナフチル）、炭素原子数７〜１８の
アラルキル基（例えば、ベンジル、アニシル）、炭素原
子数２〜２０のアルケニル基（例えば、ビニル、２−メ
チルビニル）、炭素原子数２〜２０のアルキニル基（例
えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエ
チニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭
素原子数２〜２０のアシル基（例えば、アセチル、ベン
ゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、炭素原子数１〜
２０のアルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シ
クロヘキシルオキシ）、炭素原子数６〜２０のアリール
オキシ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ、トル
オイル）、炭素原子数１〜２０のアルキルチオ基（例え
ば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メト
キシプロピルチオ）、炭素原子数６〜２０のアリールチ
オ基（例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチ
オ）、炭素原子数１〜２０のアルキルスルホニル基（例
えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、炭素原
子数６〜２０のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼ
ンスルホニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原子数
１〜１７のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモ
イル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−
ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル）、炭素原
子数１〜１６のアミド基（例えば、アセトアミド、ベン
ズアミド）、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基（例
えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ）、炭素原子数２
〜１０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル）、５もしくは６員のヘ
テロ環基（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チア
ゾリル、イミダゾリル、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ
環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラ
ン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環など
のヘテロ環）、アミノ基、アシルアミノ基が挙げられ
る。 【００１９】一般式（Ｉ）において、置換基Ｒ1乃至Ｒ6
の置換基として好ましいものは、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ
基、アシルアミノ基、アルキルスルホニル基、スルホニ
ルアミノ基、であり、特に好ましいものは、アルコキシ
基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アルキル基で
ある。 【００２０】一般式（Ｉ）において、ｎは１乃至３が好
ましく、更に２乃至３が好ましく、特に３が好ましい。
ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも
異なっていてもよいが、同一である場合が好ましい。ま
た、一般式（Ｉ）において、Ｍは金属原子を表し、中で
も銅、ニッケル、鉄、コバルト、パラジウム、マグネシ
ウム、アルミニウム、亜鉛、珪素、または希土類元素が
好ましい。ここで上記希土類元素とは、スカンジウム、
イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネ
オジム、プロメチウム、サマリウム、ユーロピウム、ガ
ドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウ
ム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウ
ムの１７元素の総称であり、上記Ｍとしては、ユーロピ
ウム、亜鉛、銅、ニッケル、鉄、コバルト、パラジウム
が好ましい。 【００２１】本発明における化合物は、任意の位置で結
合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位
は互いに同一でも異なっていてもよく、またポリスチレ
ン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セル
ロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。 【００２２】本発明の光情報記録媒体に用いられる一般
式（Ｉ）で表される化合物は、特定の誘導体単独で使用
してもよく、また構造の異なったものを複数種混合して
用いてもよいが、単独で使用することが好ましい。尚、
本発明における化合物は、その合成時において不可避的
に置換基Ｒ1乃至Ｒ6の置換位置異性体を含む場合がある
が、これら置換位置異性体は互いに区別することなく同
一誘導体とみなすことができる。また、Ｒ1乃至Ｒ6の置
換基に異性体が含まれる場合も、これらを区別すること
なく、同一の本発明における化合物とみなすことができ
る。従って、構造が異なる場合とは、一般式（Ｉ）で説
明すると、置換基Ｒ1乃至Ｒ6の構成原子種または数が異
なる場合もしくはｎが異なる場合の何れかである。 【００２３】以下に、本発明でにおける化合物の好まし
い具体例（例示化合物１〜６）を下記に示すが、本発明
はこれらに限定されるものではない。 【００２４】 【化４】 【００２５】本発明の光情報記録媒体は、基板上に本発
明における化合物を含有する記録層を有していれば特に
制限はなく、種々の構成の光情報記録媒体に適用するこ
とができる。本発明の光情報記録媒体は、例えば一定の
トラックピッチのプレグルーブが形成された円盤状基板
上に光反射層、記録層、およびカバー層をこの順に有す
る構成とすることができる。以下、円盤状基板上に光反
射層、記録層、およびカバー層をこの順に有する光情報
記録媒体を例にとって、その製造工程に従い光情報記録
媒体の構成を詳細に説明する。 【００２６】基板としては、従来の光情報記録媒体の基
板材料として用いられている各種の材料を任意に選択し
て使用することができる。具体的には、ガラス；ポリカ
ーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹
脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニ
ル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィ
ン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げる
ことができ、所望によりこれらを併用してもよい。上記
材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点
から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン
が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、
基板の厚さは、１．１±０．３ｍｍとすることが好まし
い。 【００２７】基板には、トラッキング用の案内溝または
アドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）が
形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣ
Ｄ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチ
のプレグルーブが形成された基板を用いることが好まし
い。プレグルーブのトラックピッチは、２００〜５００
ｎｍの範囲にすることが好ましく、さらに好ましくは、
２５０〜３５０ｎｍの範囲とする。また、プレグルーブ
の深さ（溝深さ）は、２０〜１５０ｎｍの範囲にするこ
とを必須とし、好ましくは、５０〜１２０ｎｍの範囲と
する。 【００２８】なお、後述する光反射層が設けられる場
合、光反射相側の基板表面には、平面性の改善、接着力
の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。該
下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレ
ート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・
無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−
メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン
共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセル
ロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリ
エステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合
体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シラ
ンカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができ
る。下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解または分散
して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、
ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法
により基板表面に塗布することにより形成することがで
きる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの
範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲であ
る。 【００２９】本発明の光情報記録媒体には光反射層を設
けるのが好ましい。光反射層には、レーザ光に対する反
射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、
７０％以上であることが好ましい。反射率の高い光反射
性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、
Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａ
ｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇ
ｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金
属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これら
の光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種
以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これ
らのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、
Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ま
しくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であ
り、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金
である。 【００３０】光反射層は、例えば、上記光反射性物質を
蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングする
ことにより基板上に形成することができる。光反射層の
層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０
〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。 【００３１】記録層の形成は、蒸着、スパッタリング、
ＣＶＤまたは溶剤塗布等の方法によって行うことができ
るが、溶剤塗布または蒸着が好ましい。溶剤塗布により
記録層を形成する場合、前記本発明における化合物の
他、更に所望によりクエンチャー、結合剤などを溶剤に
溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板（光
反射層を設ける場合には光反射層）表面に塗布して塗膜
を形成した後、形成した塗布膜を乾燥して形成すること
ができる。塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エ
チル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケト
ンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエ
タン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド；メチルシクロヘキサンなどの
炭化水素；ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル；エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，
２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素
系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類な
どを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶
解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせ
て使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止
剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目
的に応じて添加してもよい。 【００３２】結合剤を使用する場合に、結合剤の例とし
ては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロ
ジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレ
ン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等の
ビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル
酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩
素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴ
ム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬
化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げるこ
とができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合
に、結合剤の使用量は、一般に色素（本発明における化
合物）に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範
囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の
範囲にある。このようにして調製される塗布液中の色素
の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、
好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。 【００３３】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。塗布温度としては２３〜５０℃の範囲内
であれば特に問題はないが、好ましくは２４〜４０℃で
あり、２５〜３７℃が更に好ましい。また、上記蒸着
は、誘電加熱で分解温度以下であればよく、好ましくは
４００℃以下で真空度が１０-3ｍＰａ以下、さらに好ま
しくは３００℃以下で真空度が１０-4ｍＰａ以下であ
る。記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は一
般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜
３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００
ｎｍの範囲にある。 【００３４】記録層には、記録層の耐光性を向上させる
ために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャー
が用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に
公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用するこ
とができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５
６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７
号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同
６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−
３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５
５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０
号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同
６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公
平１−３８６８０号、および同６−２６０２８号等の各
公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化
学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のも
のを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチ
ャーの例としては、下記の一般式（ＩＩ）で表される化
合物を挙げることができる。 【００３５】 【化５】 【００３６】（但し、Ｒ21は置換基を有していてもよい
アルキル基を表わし、そしてＱ-はアニオンを表わ
す。） 一般式（ＩＩ）において、Ｒ21は置換されていてもよい
炭素数１〜８のアルキル基が一般的であり、無置換の炭
素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換
基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキ
シ基（例、メトキシ、エトキシ）、アルキルチオ基
（例、メチルチオ、エチルチオ）、アシル基（例、アセ
チル、プロピオニル）、アシルオキシ基（例、アセトキ
シ、プロピオニルオキシ）、ヒドロキシ基、アルコキシ
カルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル）、アルケニル基（例、ビニル）、アリール基
（例、フェニル、ナフチル）を挙げることができる。こ
れらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ-のアニ
オンの好ましい例としては、ＣｌＯ4 -、ＡｓＦ6 -、ＢＦ
4 -、およびＳｂＦ6 -を挙げることができる。 【００３７】一般式（ＩＩ）で表される化合物例を表１
に記載する。 【００３８】 【表１】 【００３９】前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防
止剤の使用量は、色素（本発明における化合物）の量に
対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好まし
くは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３
〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の
範囲である。 【００４０】記録層の上には、記録層などを物理的およ
び化学的に保護する目的でカバー層を設けることが好ま
しい。カバー層は、透明な材質であれば特に限定されな
いが、光情報記録媒体内部への水分の侵入を防ぐ観点か
ら、ポリカーボネート、三酢酸セルロース等が好まし
く、さらに好ましくは、２３℃ＲＨ５０％での吸湿率が
５％以下の材料である。なお、「透明」とは、記録光お
よび再生光の光に対して、該光を透過する（透過率：９
０％以上）ほどに透明であることを意味する。 【００４１】カバー層は、接着剤からなる接着層を介し
て形成することができる。具体的には、接着層を構成す
る光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し
た後、この塗布液を所定温度で記録層上に塗布して塗布
膜を形成し、該塗布膜上に、例えばプラスチックの押出
加工で得られた三酢酸セルロースフィルム（ＴＡＣフィ
ルム）をラミネートし、ラミネートしたＴＡＣフィルム
の上から光を照射して塗布膜を硬化させて、形成され
る。前記ＴＡＣフィルムとしては、紫外線吸収剤を含む
ものが好ましい。カバー層の厚さは、０．０１〜０．２
ｍｍの範囲であり、好ましくは０．０３〜０．１ｍｍの
範囲、より好ましくは０．０５〜０．０９５ｍｍの範囲
である。 【００４２】粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃
の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好まし
く、２５〜３７℃の範囲がさらに好ましい。ディスクの
反りを防止するため、塗布膜への紫外線等の光の照射は
パルス型の光照射器（好ましくは、パルスの間隔がｍｓ
ｅｃ以下のＵＶ照射器、さらに好ましくはパルスの間隔
がμｓｅｃ以下のＵＶ照射器）を用いて行うのが好まし
い。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以
下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限され
ないが、３ｋＷ／ｃｍ2以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ2
以下がより好ましい。照射回数は特に限定しないが、好
ましくは２０回以下、更に好ましくは１０回以下であ
る。 【００４３】以上の工程により、基板上に、光反射層、
記録層そしてカバー層が設けられた光情報記録媒体を製
造することができる。 【００４４】本発明の光情報記録媒体への記録方法は、
該光情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行れ
る。まず光情報記録媒体を定線速度または定角速度にて
回転させながら、基板側あるいはカバー層側から半導体
レーザなどの記録用の光を照射する。この光の照射によ
り、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物
理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生
じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録さ
れると考えられる。本発明においては、記録光源とし
て、３８０〜５００ｎｍの範囲の発振波長を有する半導
体レーザを用いれば良い。 【００４５】３８０〜５００ｎｍの範囲の発振波長を有
するレーザ光源としては、３９０〜４１５ｎｍの範囲の
発振波長を有する青色系半導体レーザ、中心発振波長５
１５ｎｍの青緑色半導体レーザ、中心発振波長８５０ｎ
ｍの赤外半導体レーザと光導波路型の波長変換素子（Ｓ
ＨＧ）とから構成される中心発振波長４２５ｎｍの青紫
色ＳＨＧレーザを挙げることができる。記録密度の点で
青色系半導体レーザを用いることが特に好ましい。ま
た、記録密度を高めるために、ピックアップに使用され
る対物レンズのレンズ開口率（ＮＡ）は０．７以上であ
ることが好ましく、０．８５以上であることがより好ま
しい。 【００４６】なお、上記のように記録された情報の再生
は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度および定角
速度で回転させながらレーザ光を基板側あるいはカバー
層側から照射して、その反射光を検出することにより行
うことができる。 【００４７】本発明の光情報記録媒体は、従来のＤＶＤ
−Ｒと同様に、一定のトラックピッチのプレグルーブが
形成された透明な円盤状基板上に記録層および光反射層
が設けられてなる二枚の積層体をそれぞれの記録層が内
側となるように貼り合わせた構造とすることができる。
また、この積層体と同じ形状の円盤状保護基板とを記録
層を内側にして貼り合わせた構造としてもよい。なお、
貼り合わせ構造とする場合、例えば、透明基板の直径が
１２０±３ｍｍで厚みが０．６±０．１ｍｍのものが用
いられ、貼り合わせ後の光情報記録媒体の厚みが１．２
±０．２ｍｍとなるように調整される。この貼り合わせ
は、カバー層の形成に用いたＵＶ硬化性樹脂を用いて行
ってもよいし、合成接着剤を用いて行ってもよい。ま
た、両面テープで貼り合わせることもできる。 【００４８】 【実施例】次に、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。 【００４９】［実施例１］厚さ１．１ｍｍ、直径１２０
ｍｍのスパイラル状のグルーブ（トラックピッチ３４０
ｎｍ，溝探さ２０ｎｍ，溝幅１６０ｎｍ）を有する射出
成形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネー
ト、商品名：パンライトＡＤ５５０３）基板のグルーブ
を有する面上に、Ａｇをスパッタして１２０ｎｍの膜厚
の反射層を形成した。その後、一般式（Ｉ）で表される
化合物（上記例示化合物１）を乳酸メチル１％と混合
し、２時間超音波を用いて溶解し色素塗布液（濃度３
％）を調製した。この色素塗布液をスピンコー卜法によ
って回転数を３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化
させながら２３℃５０％ＲＨの条件で膜厚が１０〜２０
０ｎｍになるように上記反射層上に塗布し記録層を形成
した。その後、２３℃５０％ＲＨ２時間でアニールを行
い、その後、ＺｎＳ−ＳｉＯ 2を５ｎｍの厚さでスパッ
タし、ＵＶ硬化接着剤（ＳＤ６６１ 大日本インキ社
製）を真空脱気泡６時間行い、その後スピンコート法に
よって外縁から３０ｍｍより内周に３０〜３００ｒｐｍ
で塗布し、厚さ８０μｍのポリカーボネートシート（ピ
ュアエース帝人社製）を重ね合わせ、その後３０ｒｐｍ
から８０００ｒｐｍまで変化させながら全面に接着剤を
広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線を照射して硬化さ
せ、実施例１の光ディスクを作製した。 【００５０】［実施例２］実施例１において、一般式
（Ｉ）で表される化合物を上記例示化合物１から上記例
示化合物２に変更した以外は実施例１と同様にして実施
例２の光ディスクを作製した。 【００５１】［実施例３］厚さ１．１ｍｍ、直径１２ｍ
ｍのスパイラル状のグルーブ（トラックピッチ３４０ｎ
ｍ，溝深さ２０ｎｍ，溝幅１６０ｎｍ）を有する射出成
形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネート、
商品名：パンライトＡＤ５５０３）基板のグループを有
する面上に、Ａｇをスパッタして１２０ｎｍの膜厚の反
射層を形成した。その後、一般式（Ｉ）で表される化合
物（上記例示化合物３）を膜厚が３０ｎｍ〜５０ｎｍと
なるように蒸着し、記録層を形成した。その後、２３℃
５０％ＲＨ２時間でアニールを行い、ＺｎＳ−ＳｉＯ2
を５ｎｍの厚さでスパッタした。次いで、ＵＶ硬化接着
剤（ＳＤ６６１ 大日本インキ社製）を真空脱気泡６時
間行い、その後スピンコート法によって３０ｍｍより内
周に３０〜３００ｒｐｍで塗布し、厚さ８０μｍのポリ
カーボネートシート（ピュアエース帝人社製）を重ね合
わせ、３０ｒｐｍから８０００ｒｐｍまで変化させなが
ら全面に接着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線
を照射して硬化させ、実施例３の光ディスクを作製し
た。 【００５２】［実施例４〜６］実施例３において、一般
式（Ｉ）で表される化合物（上記例示化合物３）を、そ
れぞれ上記例示化合物４〜６に変更した以外は実施例３
と同様にして、実施例４〜６の光ディスクを作製した。 【００５３】［比較例１］実施例３において、一般式
（Ｉ）で表される化合物（上記例示化合物３）を、Ａｇ
ＩｎＳｂＴｅ（相変化無機材料）に変更し、スパッタに
より記録層を形成した以外は実施例３と同様にして、比
較例１の光ディスクを作製した。 【００５４】［光ディスクとしての評価１］作製した光
ディスクのそれぞれについて、４０５ｎｍのレーザーを
搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック社製）を用い
て、未記録反射率と２Ｔ信号を記録し、Ｃ／Ｎを測定し
た。結果を表２に示す。尚、表２の記録層形成方法にお
いて、「Ａ」はスピンコート法を、「Ｂ」は蒸着法を表
す。 【００５５】 【表２】 【００５６】表２の結果から、本発明の特徴とする上記
一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する記録層を有す
る光ディスク（実施例１〜６）は、ＡｇＩｎＳｂＴｅ
（相変化無機材料）を含む記録層を有する光ディスク
（比較例１）に比べて、波長４０５ｎｍのレーザ光に対
して高い反射率を示しことがわかる。また、Ｃ／Ｎも比
較例に比べて高いことがわかる。従って、本発明に従う
上記一般式（Ｉ）で表される化合物を用いることで、波
長３８０〜５００ｎｍの短波長レーザ光に対して高い記
録特性を具えた光ディスクが得られることがわかる。 【００５７】 【発明の効果】本発明の光情報記録媒体は、本発明にお
ける化合物を記録層の記録材料として用いることによ
り、波長３８０〜５００ｎｍの短波長のレーザ光、とり
わけ汎用性の高い波長４０５ｎｍ近辺のレーザ光を照射
して情報の高密度記録および再生が可能であり、かつ高
感度、高反射率、高変調度といった良好な記録再生特性
を有する、という効果を奏する。即ち、従来のＣＤ−Ｒ
やＤＶＤ−Ｒよりも高密度での情報の記録が可能とな
り、更に大容量の情報の記録が可能となる。
関し、詳しくは、レーザ光の照射により情報の記録およ
び再生を行うことができる光情報記録媒体に関するもの
である。特に、波長３８０〜５００ｎｍの短波長レーザ
光の照射によって情報を記録するのに好適なヒートモー
ド型の光情報記録媒体に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来から、レーザ光により一回限りの情
報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知ら
れている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−
Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基
板上に有機色素からなる記録層、金などの金属からなる
光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層したも
のである。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤
外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザ
光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の
照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理
的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）によっ
てその部分の光学的特性が変化することで情報が記録さ
れる。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレ
ーザ光と同じ波長のレーザ光をＣＤ−Ｒに照射すること
によって行われ、記録層の光学的特性が変化した部位
（記録部分）と変化していない部位（未記録部分）との
反射率の違いを検出することによって行われている。 【０００３】近年では、記録密度のより高い光情報記録
媒体が求められている。このような要望に対して、追記
型デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−
Ｒ）と称される光ディスクが提案されている（例えば、
「日経ニューメディア」別冊「ＤＶＤ」、１９９５年発
行）。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光のトラッ
キングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒの半
分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成
された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有す
る記録層、光反射層、および保護層をこの順に積層した
ディスク２枚を互いの記録層を内側にして貼り合わせた
構造、あるいはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基
板を記録層を内側にして貼り合わせた構造を有してい
る。そして、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録および再生
は、可視レーザ光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの
範囲の波長のレーザ光）を照射することによって行われ
ており、ＣＤ−Ｒよりも高密度の記録が可能である。 【０００４】しかしながら、最近のインターネット等の
ネットワークやハイビジョンＴＶの急速な普及に加え、
ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅ
ｖｉｓｉｏｎ）の放映開始も間近にひかえている状況の
下、画像情報を安価簡便に記録することが可能で、か
つ、さらなる大容量の記録媒体が必要とされてきてい
る。上述のＤＶＤ−Ｒは現状においては大容量の記録媒
体としての役割を十分に果たしているが、さらなる大容
量化、高密度化の要求は高まる一方であり、これらの要
求に対応できる記録媒体の開発も必要である。このた
め、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長の光で高密度の記録を
行なうことができ、より大容量の記録媒体の開発が進め
られている。 【０００５】例えば、特開平４−７４６９０号公報、特
開平７−３０４２５６号公報、特開平７−３０４２５７
号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３
７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−
３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同
１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３
号公報、同２０００−１０８５１３号公報、同２０００
−１１３５０４号公報、同２０００−１４９３２０号公
報、同２０００−１５８８１８号公報、および同２００
０−２２８０２８号公報には、有機色素を含む記録層を
有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層
側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザ光を照射するこ
とにより、情報の記録および再生を行う記録再生方法が
開示されている。これらの方法では、ポルフィリン化合
物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色
素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル
骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等
を含有する記録層を備えた光ディスクに、青色（波長４
３０ｎｍ、４８８ｎｍ）または青緑色（波長５１５ｎ
ｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録および
再生を行っている。 【０００６】また、現在使用されているＣＤ−Ｒシステ
ムとの互換性という観点から、２つの異なる波長領域の
レーザ光で記録および再生が可能な光情報記録媒体も提
案されている。例えば、特開２０００−１４１９００号
公報、同２０００−１５８８１６号公報、同２０００−
１８５４７１号公報、同２０００−２８９３４２号公
報、同２０００−３０９１６５号公報には、ＣＤ−Ｒに
用いられる色素とＤＶＤ−Ｒで用いられる色素とを混合
して用いることによって、７８０ｎｍ付近の近赤外域の
レーザ光、および６５０ｎｍ付近の可視レーザ光の何れ
のレーザ光によっても記録および再生が可能な光情報記
録媒体が提案されている。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
者の検討によれば、上記公報に記載された光ディスクで
は、波長３８０〜５００ｎｍの短波長レーザ光の照射に
より情報を記録する場合には、実用上必要とされる感度
を得ることができず、また、反射率や変調度などの他の
記録特性も満足できるレベルではなく、更に改良を要す
ることが判明した。特に、上記公報に記載された光ディ
スクでは、波長３８０〜５００ｎｍのレーザ光を照射し
た場合に記録特性が低下した。 【０００８】本発明は上記従来技術の問題点に鑑み成さ
れたものであり、本発明の目的は、波長３８０〜５００
ｎｍの短波長のレーザ光、とりわけ汎用性の高い波長４
０５ｎｍ近辺のレーザ光を照射して情報の高密度記録お
よび再生が可能であり、かつ優れた記録特性を有する光
情報記録媒体を提供することにある。 【０００９】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の光情報記録媒体は、基板上に波長３８０〜
５００ｎｍのレーザ光の照射によって情報の記録が可能
な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層
は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物（以下「本発明
における化合物」という場合がある。）を含有すること
を特徴とする。本発明における化合物は、３４０ｎｍ付
近に吸収帯を有している。この本発明における化合物を
記録層の記録材料として用いることで、波長が３８０〜
５００ｎｍの短波長のレーザーに対しても高い感度を示
し、かつ高い反射率、そして高い変調度を与える良好な
記録再生特性を備えた光情報記録媒体を得ることができ
る。 【００１０】 【化２】 ［式中、Ｒ1乃至Ｒ6はそれぞれ独立して水素原子または
置換基を表し、Ｍは金属原子を表し、ｎは１以上の整数
を表す。］ 【００１１】上記の一般式（Ｉ）において、Ｍを表す金
属が、銅、ニッケル、鉄、コバルト、パラジウム、マグ
ネシウム、アルミニウム、亜鉛、珪素、または希土類元
素であることが好ましい。また、置換基Ｒ1乃至Ｒ6が、
炭素原子数１乃至２０のアルキル基、炭素原子数６乃至
１４のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル
基、炭素原子数１乃至１０のヘテロ環基、炭素原子数１
乃至２０のアルコキシ基、炭素原子数６乃至１４のアリ
ールオキシ基、炭素原子数２乃至２１のアシル基、炭素
原子数１乃至２０アルキルスルホニル基、炭素原子数６
乃至１４のアリールスルホニル基、炭素原子数１乃至２
５のカルバモイル基、炭素原子数０乃至３２のスルファ
モイル基、炭素原子数１乃至２０のアルコキシカルボニ
ル基、炭素原子数７乃至１５のアリールオキシカルボニ
ル基、炭素原子数２乃至２１のアシルアミノ基、アミノ
基、炭素原子数１乃至２０のスルホニルアルキルアミノ
基、炭素原子数６乃至１４のスルホニルアリールアミノ
基、スルホニルアミノ基、またはハロゲン原子であるこ
とが好ましい。また、ｎが１乃至４の整数であることが
好ましい。 【００１２】本発明の光情報記録媒体は、基板と記録層
との間に金属からなる光反射層を更に備えていることが
好ましく、記録層上に該記録層を保護するカバー層を更
に備えていることがより好ましい。また、基板の記録層
が設けられる側の表面には、トラックピッチ０．２〜
０．５μｍのプレグルーブが形成されていることが好ま
しい。 【００１３】 【発明の実施の形態】以下、本発明の光情報記録媒体の
実施の形態について詳細に説明する。 【００１４】本発明の光情報記録媒体は、基板上にレー
ザ光の照射によって情報の記録が可能な記録層を有する
光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式（Ｉ）
で表される化合物を含有することを特徴とする。 【００１５】 【化３】 ［式中、Ｒ1乃至Ｒ6はそれぞれ独立して水素原子または
置換基を表し、Ｍは金属原子を表し、ｎは１以上の整数
を表す。］ 【００１６】一般式（Ｉ）において、Ｒ1乃至Ｒ6で表さ
れる置換基の好ましい例としては、炭素原子数１乃至２
０のアルキル基、炭素原子数６乃至１４のアリール基、
炭素原子数７乃至１５のアラルキル基、炭素原子数１乃
至１０のヘテロ環基、炭素原子数１乃至２０のアルコキ
シ基、炭素原子数６乃至１４のアリールオキシ基、炭素
原子数２乃至２１のアシル基、炭素原子数１乃至２０ア
ルキルスルホニル基、炭素原子数６乃至１４のアリール
スルホニル基、炭素原子数１乃至２５のカルバモイル
基、炭素原子数０乃至３２のスルファモイル基、炭素原
子数１乃至２０のアルコキシカルボニル基、炭素原子数
７乃至１５のアリールオキシカルボニル基、炭素原子数
２乃至２１のアシルアミノ基、アミノ基、炭素原子数１
乃至２０のスルホニルアルキルアミノ基、炭素原子数６
乃至１４のスルホニルアリールアミノ基、スルホニルア
ミノ基、またはハロゲン原子を挙げることができる。Ｒ
1乃至Ｒ6として、好ましいものは、水素原子、アルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル
基、アルキルスルホニル基、アシルアミノ基、アミノ
基、スルホニルアミノ基、であり、特に好ましいもの
は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基である。 【００１７】一般式（Ｉ）において、置換基Ｒ1乃至Ｒ6
は更に置換基を有していてもよく、該置換基の例として
は、以下に記載のものを挙げることができる。 【００１８】炭素原子数１〜２０の鎖状または環状のア
ルキル基（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、シ
クロヘキシル）、炭素原子数６〜１８のアリール基（例
えば、フェニル、クロロフェニル、２，４−ジ−ｔ−ア
ミルフェニル、１−ナフチル）、炭素原子数７〜１８の
アラルキル基（例えば、ベンジル、アニシル）、炭素原
子数２〜２０のアルケニル基（例えば、ビニル、２−メ
チルビニル）、炭素原子数２〜２０のアルキニル基（例
えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエ
チニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭
素原子数２〜２０のアシル基（例えば、アセチル、ベン
ゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、炭素原子数１〜
２０のアルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シ
クロヘキシルオキシ）、炭素原子数６〜２０のアリール
オキシ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ、トル
オイル）、炭素原子数１〜２０のアルキルチオ基（例え
ば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メト
キシプロピルチオ）、炭素原子数６〜２０のアリールチ
オ基（例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチ
オ）、炭素原子数１〜２０のアルキルスルホニル基（例
えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、炭素原
子数６〜２０のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼ
ンスルホニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原子数
１〜１７のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモ
イル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−
ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル）、炭素原
子数１〜１６のアミド基（例えば、アセトアミド、ベン
ズアミド）、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基（例
えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ）、炭素原子数２
〜１０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル）、５もしくは６員のヘ
テロ環基（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チア
ゾリル、イミダゾリル、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ
環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラ
ン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環など
のヘテロ環）、アミノ基、アシルアミノ基が挙げられ
る。 【００１９】一般式（Ｉ）において、置換基Ｒ1乃至Ｒ6
の置換基として好ましいものは、アルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ
基、アシルアミノ基、アルキルスルホニル基、スルホニ
ルアミノ基、であり、特に好ましいものは、アルコキシ
基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アルキル基で
ある。 【００２０】一般式（Ｉ）において、ｎは１乃至３が好
ましく、更に２乃至３が好ましく、特に３が好ましい。
ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも
異なっていてもよいが、同一である場合が好ましい。ま
た、一般式（Ｉ）において、Ｍは金属原子を表し、中で
も銅、ニッケル、鉄、コバルト、パラジウム、マグネシ
ウム、アルミニウム、亜鉛、珪素、または希土類元素が
好ましい。ここで上記希土類元素とは、スカンジウム、
イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネ
オジム、プロメチウム、サマリウム、ユーロピウム、ガ
ドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウ
ム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテチウ
ムの１７元素の総称であり、上記Ｍとしては、ユーロピ
ウム、亜鉛、銅、ニッケル、鉄、コバルト、パラジウム
が好ましい。 【００２１】本発明における化合物は、任意の位置で結
合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位
は互いに同一でも異なっていてもよく、またポリスチレ
ン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セル
ロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。 【００２２】本発明の光情報記録媒体に用いられる一般
式（Ｉ）で表される化合物は、特定の誘導体単独で使用
してもよく、また構造の異なったものを複数種混合して
用いてもよいが、単独で使用することが好ましい。尚、
本発明における化合物は、その合成時において不可避的
に置換基Ｒ1乃至Ｒ6の置換位置異性体を含む場合がある
が、これら置換位置異性体は互いに区別することなく同
一誘導体とみなすことができる。また、Ｒ1乃至Ｒ6の置
換基に異性体が含まれる場合も、これらを区別すること
なく、同一の本発明における化合物とみなすことができ
る。従って、構造が異なる場合とは、一般式（Ｉ）で説
明すると、置換基Ｒ1乃至Ｒ6の構成原子種または数が異
なる場合もしくはｎが異なる場合の何れかである。 【００２３】以下に、本発明でにおける化合物の好まし
い具体例（例示化合物１〜６）を下記に示すが、本発明
はこれらに限定されるものではない。 【００２４】 【化４】 【００２５】本発明の光情報記録媒体は、基板上に本発
明における化合物を含有する記録層を有していれば特に
制限はなく、種々の構成の光情報記録媒体に適用するこ
とができる。本発明の光情報記録媒体は、例えば一定の
トラックピッチのプレグルーブが形成された円盤状基板
上に光反射層、記録層、およびカバー層をこの順に有す
る構成とすることができる。以下、円盤状基板上に光反
射層、記録層、およびカバー層をこの順に有する光情報
記録媒体を例にとって、その製造工程に従い光情報記録
媒体の構成を詳細に説明する。 【００２６】基板としては、従来の光情報記録媒体の基
板材料として用いられている各種の材料を任意に選択し
て使用することができる。具体的には、ガラス；ポリカ
ーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹
脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニ
ル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィ
ン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げる
ことができ、所望によりこれらを併用してもよい。上記
材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点
から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン
が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、
基板の厚さは、１．１±０．３ｍｍとすることが好まし
い。 【００２７】基板には、トラッキング用の案内溝または
アドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）が
形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣ
Ｄ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチ
のプレグルーブが形成された基板を用いることが好まし
い。プレグルーブのトラックピッチは、２００〜５００
ｎｍの範囲にすることが好ましく、さらに好ましくは、
２５０〜３５０ｎｍの範囲とする。また、プレグルーブ
の深さ（溝深さ）は、２０〜１５０ｎｍの範囲にするこ
とを必須とし、好ましくは、５０〜１２０ｎｍの範囲と
する。 【００２８】なお、後述する光反射層が設けられる場
合、光反射相側の基板表面には、平面性の改善、接着力
の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。該
下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレ
ート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・
無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−
メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン
共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセル
ロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリ
エステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合
体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シラ
ンカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができ
る。下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解または分散
して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、
ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法
により基板表面に塗布することにより形成することがで
きる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの
範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲であ
る。 【００２９】本発明の光情報記録媒体には光反射層を設
けるのが好ましい。光反射層には、レーザ光に対する反
射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、
７０％以上であることが好ましい。反射率の高い光反射
性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、
Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａ
ｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇ
ｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金
属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これら
の光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種
以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これ
らのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、
Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ま
しくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であ
り、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金
である。 【００３０】光反射層は、例えば、上記光反射性物質を
蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングする
ことにより基板上に形成することができる。光反射層の
層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０
〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。 【００３１】記録層の形成は、蒸着、スパッタリング、
ＣＶＤまたは溶剤塗布等の方法によって行うことができ
るが、溶剤塗布または蒸着が好ましい。溶剤塗布により
記録層を形成する場合、前記本発明における化合物の
他、更に所望によりクエンチャー、結合剤などを溶剤に
溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板（光
反射層を設ける場合には光反射層）表面に塗布して塗膜
を形成した後、形成した塗布膜を乾燥して形成すること
ができる。塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エ
チル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケト
ンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエ
タン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド；メチルシクロヘキサンなどの
炭化水素；ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル；エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，
２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素
系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類な
どを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶
解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせ
て使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止
剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目
的に応じて添加してもよい。 【００３２】結合剤を使用する場合に、結合剤の例とし
ては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロ
ジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレ
ン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等の
ビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル
酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩
素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴ
ム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬
化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げるこ
とができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合
に、結合剤の使用量は、一般に色素（本発明における化
合物）に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範
囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の
範囲にある。このようにして調製される塗布液中の色素
の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、
好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。 【００３３】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。塗布温度としては２３〜５０℃の範囲内
であれば特に問題はないが、好ましくは２４〜４０℃で
あり、２５〜３７℃が更に好ましい。また、上記蒸着
は、誘電加熱で分解温度以下であればよく、好ましくは
４００℃以下で真空度が１０-3ｍＰａ以下、さらに好ま
しくは３００℃以下で真空度が１０-4ｍＰａ以下であ
る。記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は一
般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜
３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００
ｎｍの範囲にある。 【００３４】記録層には、記録層の耐光性を向上させる
ために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャー
が用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に
公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用するこ
とができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５
６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７
号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同
６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−
３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５
５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０
号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同
６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公
平１−３８６８０号、および同６−２６０２８号等の各
公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化
学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のも
のを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチ
ャーの例としては、下記の一般式（ＩＩ）で表される化
合物を挙げることができる。 【００３５】 【化５】 【００３６】（但し、Ｒ21は置換基を有していてもよい
アルキル基を表わし、そしてＱ-はアニオンを表わ
す。） 一般式（ＩＩ）において、Ｒ21は置換されていてもよい
炭素数１〜８のアルキル基が一般的であり、無置換の炭
素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換
基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキ
シ基（例、メトキシ、エトキシ）、アルキルチオ基
（例、メチルチオ、エチルチオ）、アシル基（例、アセ
チル、プロピオニル）、アシルオキシ基（例、アセトキ
シ、プロピオニルオキシ）、ヒドロキシ基、アルコキシ
カルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル）、アルケニル基（例、ビニル）、アリール基
（例、フェニル、ナフチル）を挙げることができる。こ
れらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチ
オ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ-のアニ
オンの好ましい例としては、ＣｌＯ4 -、ＡｓＦ6 -、ＢＦ
4 -、およびＳｂＦ6 -を挙げることができる。 【００３７】一般式（ＩＩ）で表される化合物例を表１
に記載する。 【００３８】 【表１】 【００３９】前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防
止剤の使用量は、色素（本発明における化合物）の量に
対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好まし
くは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３
〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の
範囲である。 【００４０】記録層の上には、記録層などを物理的およ
び化学的に保護する目的でカバー層を設けることが好ま
しい。カバー層は、透明な材質であれば特に限定されな
いが、光情報記録媒体内部への水分の侵入を防ぐ観点か
ら、ポリカーボネート、三酢酸セルロース等が好まし
く、さらに好ましくは、２３℃ＲＨ５０％での吸湿率が
５％以下の材料である。なお、「透明」とは、記録光お
よび再生光の光に対して、該光を透過する（透過率：９
０％以上）ほどに透明であることを意味する。 【００４１】カバー層は、接着剤からなる接着層を介し
て形成することができる。具体的には、接着層を構成す
る光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し
た後、この塗布液を所定温度で記録層上に塗布して塗布
膜を形成し、該塗布膜上に、例えばプラスチックの押出
加工で得られた三酢酸セルロースフィルム（ＴＡＣフィ
ルム）をラミネートし、ラミネートしたＴＡＣフィルム
の上から光を照射して塗布膜を硬化させて、形成され
る。前記ＴＡＣフィルムとしては、紫外線吸収剤を含む
ものが好ましい。カバー層の厚さは、０．０１〜０．２
ｍｍの範囲であり、好ましくは０．０３〜０．１ｍｍの
範囲、より好ましくは０．０５〜０．０９５ｍｍの範囲
である。 【００４２】粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃
の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好まし
く、２５〜３７℃の範囲がさらに好ましい。ディスクの
反りを防止するため、塗布膜への紫外線等の光の照射は
パルス型の光照射器（好ましくは、パルスの間隔がｍｓ
ｅｃ以下のＵＶ照射器、さらに好ましくはパルスの間隔
がμｓｅｃ以下のＵＶ照射器）を用いて行うのが好まし
い。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以
下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限され
ないが、３ｋＷ／ｃｍ2以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ2
以下がより好ましい。照射回数は特に限定しないが、好
ましくは２０回以下、更に好ましくは１０回以下であ
る。 【００４３】以上の工程により、基板上に、光反射層、
記録層そしてカバー層が設けられた光情報記録媒体を製
造することができる。 【００４４】本発明の光情報記録媒体への記録方法は、
該光情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行れ
る。まず光情報記録媒体を定線速度または定角速度にて
回転させながら、基板側あるいはカバー層側から半導体
レーザなどの記録用の光を照射する。この光の照射によ
り、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物
理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生
じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録さ
れると考えられる。本発明においては、記録光源とし
て、３８０〜５００ｎｍの範囲の発振波長を有する半導
体レーザを用いれば良い。 【００４５】３８０〜５００ｎｍの範囲の発振波長を有
するレーザ光源としては、３９０〜４１５ｎｍの範囲の
発振波長を有する青色系半導体レーザ、中心発振波長５
１５ｎｍの青緑色半導体レーザ、中心発振波長８５０ｎ
ｍの赤外半導体レーザと光導波路型の波長変換素子（Ｓ
ＨＧ）とから構成される中心発振波長４２５ｎｍの青紫
色ＳＨＧレーザを挙げることができる。記録密度の点で
青色系半導体レーザを用いることが特に好ましい。ま
た、記録密度を高めるために、ピックアップに使用され
る対物レンズのレンズ開口率（ＮＡ）は０．７以上であ
ることが好ましく、０．８５以上であることがより好ま
しい。 【００４６】なお、上記のように記録された情報の再生
は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度および定角
速度で回転させながらレーザ光を基板側あるいはカバー
層側から照射して、その反射光を検出することにより行
うことができる。 【００４７】本発明の光情報記録媒体は、従来のＤＶＤ
−Ｒと同様に、一定のトラックピッチのプレグルーブが
形成された透明な円盤状基板上に記録層および光反射層
が設けられてなる二枚の積層体をそれぞれの記録層が内
側となるように貼り合わせた構造とすることができる。
また、この積層体と同じ形状の円盤状保護基板とを記録
層を内側にして貼り合わせた構造としてもよい。なお、
貼り合わせ構造とする場合、例えば、透明基板の直径が
１２０±３ｍｍで厚みが０．６±０．１ｍｍのものが用
いられ、貼り合わせ後の光情報記録媒体の厚みが１．２
±０．２ｍｍとなるように調整される。この貼り合わせ
は、カバー層の形成に用いたＵＶ硬化性樹脂を用いて行
ってもよいし、合成接着剤を用いて行ってもよい。ま
た、両面テープで貼り合わせることもできる。 【００４８】 【実施例】次に、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。 【００４９】［実施例１］厚さ１．１ｍｍ、直径１２０
ｍｍのスパイラル状のグルーブ（トラックピッチ３４０
ｎｍ，溝探さ２０ｎｍ，溝幅１６０ｎｍ）を有する射出
成形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネー
ト、商品名：パンライトＡＤ５５０３）基板のグルーブ
を有する面上に、Ａｇをスパッタして１２０ｎｍの膜厚
の反射層を形成した。その後、一般式（Ｉ）で表される
化合物（上記例示化合物１）を乳酸メチル１％と混合
し、２時間超音波を用いて溶解し色素塗布液（濃度３
％）を調製した。この色素塗布液をスピンコー卜法によ
って回転数を３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化
させながら２３℃５０％ＲＨの条件で膜厚が１０〜２０
０ｎｍになるように上記反射層上に塗布し記録層を形成
した。その後、２３℃５０％ＲＨ２時間でアニールを行
い、その後、ＺｎＳ−ＳｉＯ 2を５ｎｍの厚さでスパッ
タし、ＵＶ硬化接着剤（ＳＤ６６１ 大日本インキ社
製）を真空脱気泡６時間行い、その後スピンコート法に
よって外縁から３０ｍｍより内周に３０〜３００ｒｐｍ
で塗布し、厚さ８０μｍのポリカーボネートシート（ピ
ュアエース帝人社製）を重ね合わせ、その後３０ｒｐｍ
から８０００ｒｐｍまで変化させながら全面に接着剤を
広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線を照射して硬化さ
せ、実施例１の光ディスクを作製した。 【００５０】［実施例２］実施例１において、一般式
（Ｉ）で表される化合物を上記例示化合物１から上記例
示化合物２に変更した以外は実施例１と同様にして実施
例２の光ディスクを作製した。 【００５１】［実施例３］厚さ１．１ｍｍ、直径１２ｍ
ｍのスパイラル状のグルーブ（トラックピッチ３４０ｎ
ｍ，溝深さ２０ｎｍ，溝幅１６０ｎｍ）を有する射出成
形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネート、
商品名：パンライトＡＤ５５０３）基板のグループを有
する面上に、Ａｇをスパッタして１２０ｎｍの膜厚の反
射層を形成した。その後、一般式（Ｉ）で表される化合
物（上記例示化合物３）を膜厚が３０ｎｍ〜５０ｎｍと
なるように蒸着し、記録層を形成した。その後、２３℃
５０％ＲＨ２時間でアニールを行い、ＺｎＳ−ＳｉＯ2
を５ｎｍの厚さでスパッタした。次いで、ＵＶ硬化接着
剤（ＳＤ６６１ 大日本インキ社製）を真空脱気泡６時
間行い、その後スピンコート法によって３０ｍｍより内
周に３０〜３００ｒｐｍで塗布し、厚さ８０μｍのポリ
カーボネートシート（ピュアエース帝人社製）を重ね合
わせ、３０ｒｐｍから８０００ｒｐｍまで変化させなが
ら全面に接着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線
を照射して硬化させ、実施例３の光ディスクを作製し
た。 【００５２】［実施例４〜６］実施例３において、一般
式（Ｉ）で表される化合物（上記例示化合物３）を、そ
れぞれ上記例示化合物４〜６に変更した以外は実施例３
と同様にして、実施例４〜６の光ディスクを作製した。 【００５３】［比較例１］実施例３において、一般式
（Ｉ）で表される化合物（上記例示化合物３）を、Ａｇ
ＩｎＳｂＴｅ（相変化無機材料）に変更し、スパッタに
より記録層を形成した以外は実施例３と同様にして、比
較例１の光ディスクを作製した。 【００５４】［光ディスクとしての評価１］作製した光
ディスクのそれぞれについて、４０５ｎｍのレーザーを
搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック社製）を用い
て、未記録反射率と２Ｔ信号を記録し、Ｃ／Ｎを測定し
た。結果を表２に示す。尚、表２の記録層形成方法にお
いて、「Ａ」はスピンコート法を、「Ｂ」は蒸着法を表
す。 【００５５】 【表２】 【００５６】表２の結果から、本発明の特徴とする上記
一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する記録層を有す
る光ディスク（実施例１〜６）は、ＡｇＩｎＳｂＴｅ
（相変化無機材料）を含む記録層を有する光ディスク
（比較例１）に比べて、波長４０５ｎｍのレーザ光に対
して高い反射率を示しことがわかる。また、Ｃ／Ｎも比
較例に比べて高いことがわかる。従って、本発明に従う
上記一般式（Ｉ）で表される化合物を用いることで、波
長３８０〜５００ｎｍの短波長レーザ光に対して高い記
録特性を具えた光ディスクが得られることがわかる。 【００５７】 【発明の効果】本発明の光情報記録媒体は、本発明にお
ける化合物を記録層の記録材料として用いることによ
り、波長３８０〜５００ｎｍの短波長のレーザ光、とり
わけ汎用性の高い波長４０５ｎｍ近辺のレーザ光を照射
して情報の高密度記録および再生が可能であり、かつ高
感度、高反射率、高変調度といった良好な記録再生特性
を有する、という効果を奏する。即ち、従来のＣＤ−Ｒ
やＤＶＤ−Ｒよりも高密度での情報の記録が可能とな
り、更に大容量の情報の記録が可能となる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA32 EA33 FA01
FA12 FA14 FB41 GA03 GA07
5D029 JA04 JB47
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 基板上に波長３８０〜５００ｎｍのレー
ザ光の照射によって情報の記録が可能な記録層を有する
光情報記録媒体であって、該記録層は、下記一般式
（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする光
情報記録媒体。 【化１】 ［式中、Ｒ1乃至Ｒ6はそれぞれ独立して水素原子または
置換基を表し、Ｍは金属原子を表し、ｎは１以上の整数
を表す。］
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