JP2002269821A - 光情報記録媒体 - Google Patents

光情報記録媒体

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JP2002269821A JP2001061868A JP2001061868A JP2002269821A JP 2002269821 A JP2002269821 A JP 2002269821A JP 2001061868 A JP2001061868 A JP 2001061868A JP 2001061868 A JP2001061868 A JP 2001061868A JP 2002269821 A JP2002269821 A JP 2002269821A
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路宏 柴田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】製造工程における記録層の劣化を抑制すること
により、良好な記録特性を有する光情報記録媒体を提供
する。 【解決手段】厚さ１．０〜１．２ｍｍ程度の円盤状の基
板１２のセンターホールの周辺部分と基板１２の外周縁
部とを除いた所定領域には、スパイラル状のプレグルー
ブが形成されており、基板１２のプレグルーブが形成さ
れた領域の上には、光反射層１４、及び波長３８０ｎｍ
〜５００ｎｍのレーザ光により情報の記録が可能な記録
層１６が順次積層されている。また、記録層１６上、即
ち基板１２と反対側のディスク表面には、記録層を保護
するための保護層１８が設けられ、この保護層１８上に
は、可視光で硬化した光硬化性樹脂からなる接着剤層２
０を介して、透明な薄膜保護層２２設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体に
関し、特に、薄膜保護層側からレーザ光を照射して情報
の記録及び再生を行う光情報記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、レーザ光により１回限りの情報の
記録が可能な追記型の光情報記録媒体（光ディスク）
は、ＣＤ−Ｒと称され、広く知られている。このＣＤ−
Ｒ型の光情報記録媒体の代表的な構造は、透明な円盤状
基板上に有機色素からなる色素記録層、金などの金属か
らなる光反射層、さらに樹脂製の保護層をこの順に積層
したものである。そしてこの光ディスクへの情報の記録
は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長
のレーザ光）を光ディスクに照射することにより行わ
れ、色素記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に
温度上昇し、物理的または化学的変化（例えば、ピット
などの生成）によりその部分の光学的特性が変化し、情
報が記録される。一方、情報の再生は、通常、記録用の
レーザ光と同じ波長のレーザ光を光ディスクに照射し
て、色素記録層の光学的特性が変化した部位（記録部
分）と変化していない部位（未記録部分）との反射率の
違いを検出することにより行われている。
【０００３】また、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能な
媒体として、ＤＶＤ−Ｒと称される追記型の光ディスク
が実用化されて、大容量記録媒体としての地位を築きつ
つある。光情報記録媒体の記録密度を高めるためには、
レーザスポット径を小さくすることが有効である。レー
ザスポット径はλ／ＮＡ（ＮＡ；レンズ開口径、λ；記
録レーザ波長）に比例するため、レーザスポット径を小
さくするには、記録レーザ波長を短くするか、レンズ開
口径を大きくすることが有効である。レンズ開口径を大
きくすると、ＮＡの４乗に比例して球面収差が大きくな
るため、光入射面から記録層までの厚さを薄くする必要
がある。ＤＶＤ−Ｒでは、レンズ開口径をＣＤ−Ｒより
大きくする（ＣＤ−Ｒ；０．４５→ＤＶＤ−Ｒ；０．
６）と共に、記録レーザ波長を短波長化して（ＣＤ−
Ｒ；７８０ｎｍ→ＤＶＤ−Ｒ；６３５／６５０ｎｍ）、
ＣＤ−Ｒの７倍以上の記録容量を実現している。また、
レンズ開口径を大きくしたことに伴い、光入射側の基板
厚さをＣＤ−Ｒの半分の０．６ｍｍとして、球面収差を
小さくしている。
【０００４】近年、レーザ技術の発展により、青色レー
ザ等の短波長レーザも実用化されている。これに伴い、
従来の記録波長（７８０ｎｍまたは６３０ｎｍ）より更
に短波長の光で高密度の記録を行うことができる新規な
光情報記録媒体の開発が進められている。上記の通りレ
ーザスポット径が小さいほど高密度の記録が可能であ
り、レーザスポット径を小さくするためには記録層を表
面からより浅い位置に形成する必要がある。このため、
例えば特開２０００−１１４５４号公報には、所定厚さ
の基板とは反対側に薄膜の保護層を設け、この薄膜保護
層側から光を照射して記録を行なう短波長用の光情報記
録媒体が提案されている。従来、このような保護層の形
成には、紫外線硬化性樹脂等の光硬化性樹脂を用いるの
が一般的であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板と
は反対側に薄膜の保護層を設けようとすると、基板上に
光反射層、記録層、薄膜保護層をこの順に形成すること
になり、光硬化性樹脂に光を照射して光硬化させて薄膜
保護層を形成する際に、同時に記録層にも光が照射され
る。即ち、この短波長用の光情報記録媒体の構造では、
記録層に含有される記録物質が製造時に一部劣化して記
録特性が低下する、という問題がある。特に、色素を含
有する記録層の場合には、記録層に含有される色素の吸
収が４００ｎｍよりも短波長側まで延びており、色素が
紫外線を吸収して分解し易いため、大きな劣化として現
れる。
【０００６】一方、特開平１１−２７３１４号公報に
は、透明フィルムを感圧性粘着シート又はドライフォト
ポリマーシートを介して基板上に貼り付けることによ
り、紫外線を照射することなく光透過性の薄膜保護層を
形成した光情報記録媒体が提案されているが、透明フィ
ルムを感圧性粘着シート等を介して基板上に貼り付ける
場合には、透明フィルムと基板との間に気泡が発生し、
接着が不十分になる、という問題がある。
【０００７】本発明は上記従来技術の問題点に鑑み成さ
れたものであり、本発明の目的は、製造工程における記
録層の劣化を抑制することにより、良好な記録特性を有
する光情報記録媒体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第１の光情報記録媒体は、基板と、該基板
上に形成された光反射層と、該光反射層上に形成され、
レーザ光により情報の記録が可能な記録層と、該記録層
上に直接形成され、記録または再生に使用されるレーザ
光を透過すると共に、可視光で硬化した光硬化性樹脂で
構成された薄膜保護層と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】また、本発明の第２の光情報記録媒体は、
基板と、該基板上に形成された光反射層と、該光反射層
上に形成され、レーザ光により情報の記録が可能な記録
層と、該記録層上に可視光で硬化した光硬化性樹脂で構
成した接着剤層を介して形成され、記録または再生に使
用されるレーザ光を透過する薄膜保護層と、を備えたこ
とを特徴とする。
【００１０】上記第１及び第２の光情報記録媒体では、
基板上に光反射層が形成され、この光反射層上にレーザ
光により情報の記録が可能な記録層が形成され、この記
録層上に直接または接着剤を介して薄膜保護層が形成さ
れており、薄膜保護層側からレーザ光を照射して情報の
記録及び再生を行うことができる。
【００１１】この光情報記録媒体においては、薄膜保護
層が記録層上に直接形成される場合には、前記薄膜保護
層を可視光で硬化した光硬化性樹脂で構成し、薄膜保護
層が記録層上に接着剤を介して形成される場合には、前
記接着剤を可視光で硬化した光硬化性樹脂で構成する。
即ち、紫外線を照射することなく薄膜保護層を形成する
ので、製造工程における記録層の劣化を抑制することが
でき、良好な記録特性を有する光情報記録媒体を得るこ
とができる。
【００１２】本発明の光情報記録媒体は、波長３８０ｎ
ｍ〜５５０ｎｍのレーザ光により情報の記録が可能な記
録層を設けた場合に、特に優れた効果を発揮する。ま
た、本発明の光情報記録媒体は、記録物質として色素等
の有機化合物を含有する記録層を設けた場合に、特に優
れた効果を発揮する。
【００１３】なお、ここで可視光とは４００ｎｍ〜７０
０ｎｍの光である。光硬化性樹脂を硬化する波長として
は、可視領域の中でも、４２０ｎｍ〜６００ｎｍがより
好ましく、４５０ｎｍ〜５５０ｎｍが更に好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の光
情報記録媒体について説明する。 （第１の実施の形態）第１の実施の形態に係る光情報記
録媒体は、短波長用の追記型の光情報記録媒体であり、
図１に示すように、中心部にセンターホール（図示せ
ず）が形成された厚さ１．０〜１．２ｍｍ程度の円盤状
の基板１２を備えている。この基板１２のセンターホー
ルの周辺部分と基板１２の外周縁部とを除いた所定領域
には、スパイラル状のプレグルーブが形成されており、
基板１２のプレグルーブが形成された領域の上には、光
反射層１４、及び波長３８０ｎｍ〜５００ｎｍのレーザ
光により情報の記録が可能な記録層１６が順次積層され
ている。また、記録層１６上、即ち基板１２と反対側の
ディスク表面には、記録層を保護するための保護層１８
及び接着剤層２０を介して透明な薄膜保護層２２設けら
れている。本実施の形態に係る光情報記録媒体は、この
接着剤層２０を可視光で硬化した光硬化性樹脂で構成し
た点に特徴がある。以下、本実施の形態に係る光情報記
録媒体の各層の構成を詳細に説明する。
【００１５】基板１２には、従来の光情報記録媒体の基
板材料として用いられている各種の材料を任意に選択し
て使用することができる。基板材料としては、例えばガ
ラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等
のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体
等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポ
リオレフィン、ポリエステル、及びアルミ等の金属など
を挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよ
い。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格
などの点からアモルファスポリオレフィン、ポリカーボ
ネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
また、基板１２の厚さは、１．０〜１．２ｍｍとするこ
とが好ましい。
【００１６】基板１２には、トラッキング用の案内溝ま
たはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルー
ブ）が形成されている。より高い記録密度を達成するた
めにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラック
ピッチのプレグルーブが形成された基板を用いることが
好ましい。プリグルーブのトラックピッチは、０．２〜
０．８μｍの範囲にあることが好ましく、０．２５〜
０．６μｍの範囲にあることがより好ましく、０．２７
〜０．４μｍの範囲にあることが更に好ましい。また、
プレグルーブの深さは、０．０３〜０．１８μｍの範囲
にあることが好ましく、０．０５〜０．１５μｍの範囲
にあることがより好ましく、０．０６〜０．１μｍの範
囲にあることが特に好ましい。
【００１７】なお、光反射層１４が設けられる側の基板
表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗
層が設けられてもよい。下塗層の材料としては例えば、
ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸
共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビ
ニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチ
レン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリ
エチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化
ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニ
ル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合
体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート
等の高分子物質；およびシランカップリング剤などの表
面改質剤を挙げることができる。下塗層は、上記物質を
適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製したの
ち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エク
ストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗
布することにより形成することができる。下塗層の層厚
は一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましく
は０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００１８】光反射層１４には、レーザ光に対する反射
率が高い光反射性物質が用いられる。その材料の反射率
が３０％以上あることが好ましく、５０％以上がより好
ましく、７０％以上がさらに好ましい。その例として
は、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、
Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚ
ｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐ
ｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはス
テンレス鋼を挙げることができる。これらの物質は単独
で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、また
は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいも
のは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及び
ステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａ
ｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａ
ｇ、Ａｌあるいはそれらの合金である。光反射層１４
は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリング
またはイオンプレーティングすることにより基板１２上
に形成することができる。光反射層１４の層厚は、一般
的には１０〜５００ｎｍの範囲にあり、５０〜２００ｎ
ｍの範囲にあることが好ましい。
【００１９】記録層１６は、有機色素を含有する色素記
録層、相変化により記録を行う相変化記録層、光磁気に
より記録を行う光磁気記録層のいずれであってもよい
が、波長３８０ｎｍ〜５００ｎｍのと短波長のレーザ光
を照射して記録を行なうために、記録物質として、シア
ニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色
素、フタロシアニン色素等の有機化合物を含有する色素
記録層が好ましい。例えば、特開平４−７４６９０号公
報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５
８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３
４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１
−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公
報、同２０００−１０８５１３号公報、及び同２０００
−１５８８１８号公報等に記載されている色素が好適に
用いられる。また、記録物質は色素には限定されず、ト
リアゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合
物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フ
タロシアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合
物、アゾ化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合
物、ベンゾトリアゾール化合物等の有機化合物も好適に
用いられる。これらの化合物の中では、シアニン化合
物、アミノブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合
物、フタロシアニン化合物が特に好ましい。
【００２０】記録層１６は、色素等の記録物質を、結合
剤などと共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次
いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したの
ち乾燥することにより形成される。塗布液中の記録物質
の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、
好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、特に好ましくは
０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質
量％の範囲である。
【００２１】塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸
エチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケ
トンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロル
エタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチル
ホルムアミドなどのアミド；メチルシクロヘキサンなど
の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジ
オキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノー
ル、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアル
コールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフル
オロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などのグリコールエーテル類などを挙げることができ
る。上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単
独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することが
できる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、
可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加し
てもよい。
【００２２】結合剤を使用する場合に、結合剤の例とし
ては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロ
ジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；およびポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレ
ン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等の
ビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル
酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩
素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴ
ム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬
化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げるこ
とができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合
に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０
１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは
０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このよう
にして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に
０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１
〜５質量％の範囲にある。
【００２３】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。記録層１６は単層でも重層でもよい。ま
た、記録層１６の層厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲
にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、よ
り好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【００２４】記録層１６には、記録層の耐光性を向上さ
せるために、種々の褪色防止剤を含有させることができ
る。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチ
ャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、
既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用す
ることができる。その具体例としては、特開昭５８−１
７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３
８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７
号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同
６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−
４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３
９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９
号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２
号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号
等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして
日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記
載のものを挙げることができる。一重項酸素クエンチャ
ーなどの褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通
常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．
５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量
％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲であ
る。
【００２５】記録層１６上には、記録層１６を保護する
と共に、記録層１６及び薄膜保護層２２の間の接着性を
向上させるための保護層１８が設けられる。保護層１８
に用いられる材料としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、Ｍｇ
Ｆ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｎＳなどを挙げることがで
きる。また、ＺｎＳとＳｉＯ2 の混合膜も用いることが
できる。この場合ＳｉＯ2の混合比は３〜４５ｍｏｌ％
が好ましい。保護層１８の膜厚は、１．０ｎｍ〜５００
ｎｍの範囲が好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲が
より好ましい。この保護層１８は、蒸着、スパッタリン
グ等の真空成膜により形成することができる。
【００２６】薄膜保護層２２は、可視光で硬化した光硬
化性樹脂からなる接着剤層２０を介して、基板１２と反
対側のディスク表面に形成される。薄膜保護層２２は、
光情報記録媒体の耐傷性、耐湿性を高める等の理由から
設けられる。薄膜保護層は、透明なフィルム状樹脂で構
成することが好ましく、例えば、ポリカーボネートフィ
ルム（ＰＣフィルム）、三酢酸セルロースフィルム（Ｔ
ＡＣフィルム）等を好適に使用することができる。な
お、「透明」とは、記録光及び再生光に対して透明であ
ることを意味する。また、薄膜保護層２２には、光情報
記録媒体の耐光保存性を高めるために、紫外線吸収剤を
含有させることが好ましく、紫外線吸収剤は、記録波長
及び再生波長での光吸収が小さいものが好ましい。
【００２７】薄膜保護層２２は、接着剤層２０を構成す
る光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し
た後、この塗布液を所定温度で保護層１８上に塗布し、
塗布膜上に樹脂フィルムをラミネートし、ラミネートし
た樹脂フィルムの上から、紫外線カットのためのフィル
タを通した可視光を照射して塗布膜を硬化させて、樹脂
フィルムを保護層１８上に接着することにより形成され
る。薄膜保護層２２の厚さは、一般には１０〜３００μ
ｍの範囲であり、好ましくは１００〜２００μｍの範囲
である。
【００２８】粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃
の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好まし
く、２５〜３７℃の範囲が更に好ましい。ディスクの反
りを防止するため、塗布膜の照射はパルス型の光照射器
を用いて行うのが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下
が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの
照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ2以下が
好ましく、２ｋＷ／ｃｍ2以下がより好ましい。また、
照射回数は特に制限されないが、２０回以下が好まし
く、１０回以下がより好ましい。塗布膜を照射する光
は、光学フィルタを用いることにより所定波長領域の光
に制限することができる。また、レーザ光源のように発
光波長域の狭い光源を用いて、塗布膜を照射するように
してもよい。
【００２９】接着剤層２０を構成する光硬化性樹脂は、
一般に使用されている光硬化性樹脂の内、可視光の照射
により架橋もしくは重合し得る感光性基を有する光硬化
性樹脂であれば特に限定されるものではない。例えば、
アクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹
脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、アルキ
ド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、フッ素系樹脂、シリ
コーン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ノボラック系樹脂、
及びこれら２種以上の変性樹脂に光重重合性不飽和基が
結合したものが挙げられる。これらの光重重合性不飽和
基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル
基、ビニル基、スチリル基、アリル基、シンナモイル
基、シンナミリデン基、アジド基等が挙げられる。
【００３０】上記の光硬化性樹脂の中でも、少なくとも
１個のエチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、プ
レポリマー、２量体、３量体等のオリゴマー、及びそれ
らの混合物若しくは共重合体が好ましく、単官能または
多官能（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００３１】接着剤層２０を構成する光硬化性樹脂とし
ては、ディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小
さいものが好ましい。また、接着剤層の光吸収を小さく
して反射率を高めるため、記録光及び再生光の透過率が
大きいものが好ましい。更に、水分による記録層へのダ
メージを小さくして保存性を向上させるため、透湿度が
小さいものが好ましい。
【００３２】このような光硬化性樹脂としては、例え
ば、東亜合成（株）製の「ラックストラックＬＣＲ」等
の光硬化性樹脂を好適に使用することができる。
【００３３】接着剤層２０の厚さは、十分な保護を行い
且つ基板に反りを発生させないように０．１〜１００μ
ｍの範囲とすることが好ましく、１〜５０μｍの範囲が
より好ましく、２〜２０μｍの範囲が特に好ましい。
【００３４】次に、上記光情報記録媒体への情報の記録
方法、及び記録した情報の再生方法について説明する。
この光情報記録媒体への情報の記録は、例えば、次のよ
うに行れる。光情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォーマ
ットの場合は１．２〜１．４ｍ／秒）または定角速度に
て回転させながら、薄膜保護層２２側から記録用のレー
ザ光を照射する。このレーザ光の照射により、記録層１
６がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的ある
いは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその
光学的特性を変えることにより、情報が記録される。
【００３５】３８０〜５５０ｎｍの範囲の発振波長を有
するレーザ光源としては、例えば３９０〜４１５ｎｍの
範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振
波長５１５ｎｍの青緑色半導体レーザ、中心発振波長８
５０ｎｍの赤外半導体レーザと光導波路型の波長変換素
子（ＳＨＧ）とから構成される中心発振波長４２５ｎｍ
の青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができる。記録密
度を高めるために、より短波長のレーザを得ることが可
能な青紫色半導体レーザまたはＳＨＧレーザを用いるこ
とが特に好ましい。また、記録密度を高めるために、ピ
ックアップに使用される対物レンズのＮＡは０．７以上
が好ましく、０．８５以上がより好ましい。
【００３６】なお、上記のように記録された情報の再生
は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させ
ながらレーザ光を薄膜保護層２２側から照射して、その
反射光を検出することにより行うことができる。
【００３７】以上の通り、本実施の形態では、記録層上
に接着層を介して薄膜保護層が形成されるが、この接着
層は可視光で硬化した光硬化性樹脂で構成されているの
で、紫外線を使用することなく可視光で硬化させること
ができ、製造工程において色素等の記録物質の劣化を抑
制することができる。これにより、良好な記録特性を示
す短波長用の追記型光情報記録媒体を得ることができ
る。また、光情報記録媒体の耐光保存性を高めるため
に、薄膜保護層に紫外線吸収剤を含有させた場合にも、
接着剤層を可視光で十分に硬化させることができ、十分
な機械強度と保存性を得ることができる。
【００３８】また、本実施の形態では、記録層と接着剤
層との間に保護層が設けられるので、接着剤による記録
層の経時劣化を防止することができる。また、所定厚さ
に予め成形された樹脂フィルムをラミネートして薄膜保
護層を形成するので、薄膜保護層の層厚を均一にするこ
とができる、という利点がある。
【００３９】更に、接着剤層を構成する光硬化性樹脂を
適当な溶剤に溶解して調製した塗布液を保護層上に塗布
し、この塗布膜上に樹脂フィルムをラミネートするの
で、透明フィルムを感圧性粘着シート又はドライフォト
ポリマーシートを介して基板上に貼り付ける場合に比
べ、透明フィルムと基板との間に気泡が発生し難い。
【００４０】（第２の実施の形態）第２の実施の形態に
係る光情報記録媒体は、短波長用の追記型の光情報記録
媒体であり、図２に示すように、光反射層１４及び記録
層１６が順次積層された厚さ１．０〜１．２ｍｍ程度の
円盤状の基板１２を備えており、記録層１６上には、記
録層を保護するための透明な薄膜保護層２４が設けられ
ている。本実施の形態に係る光情報記録媒体は、この薄
膜保護層２４を可視光で硬化した光硬化性樹脂で構成し
た点に特徴がある。以下、本実施の形態に係る光情報記
録媒体の各層の構成を詳細に説明するが、第１の実施の
形態に係る光情報記録媒体と同じ構成部分には同じ符号
を付して説明を省略する。
【００４１】薄膜保護層２４は、可視光で硬化した透明
な光硬化性樹脂で構成されている。なお「透明」とは、
記録光及び再生光に対して透明であることを意味する。
薄膜保護層２４は、光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解し
て塗布液を調製した後、この塗布液を所定温度で記録層
１６上に塗布し、紫外線カットのためのフィルタを通し
た可視光を照射して塗布膜を硬化させることにより形成
される。薄膜保護層２４は、光情報記録媒体の耐光保存
性を高めるために、紫外線吸収剤を含むものが好まし
い。薄膜保護層２４の厚さは、一般には１０〜３００μ
ｍの範囲であり、好ましくは１００〜２００μｍの範囲
である。
【００４２】薄膜保護層２４を構成する光硬化性樹脂
は、一般に使用されている光硬化性樹脂の内、可視光の
照射により架橋もしくは重合し得る感光性基を有する光
硬化性樹脂であれば特に限定されるものではなく、第１
の実施の形態において、接着剤層を構成する光硬化性樹
脂として例示したものを挙げることができる。
【００４３】上記光情報記録媒体への情報の記録及び記
録した情報の再生は、第１の実施の形態と同様にして行
うことができる。
【００４４】以上の通り、本実施の形態の短波長用の追
記型光情報記録媒体では、記録層上に直接的に薄膜保護
層が形成されるが、この薄膜保護層は可視光で硬化した
光硬化性樹脂で構成されているので、紫外線を使用する
ことなく可視光で硬化させることができ、製造工程にお
いて色素等の記録物質の劣化を抑制することができる。
これにより、良好な記録特性を示す短波長用の追記型光
情報記録媒体を得ることができる。また、光情報記録媒
体の耐光保存性を高めるために、薄膜保護層に紫外線吸
収剤を含有させた場合にも、薄膜保護層を可視光で十分
に硬化させることができ、十分な機械強度と保存性を得
ることができる。
【００４５】また、本実施の形態では、記録層上に直接
的に薄膜保護層を形成するので、気泡等を抱き込むこと
が無くなると共に、層構成が簡単になり製造コストの大
幅な低減を図ることができる。
【００４６】上記の第１及び第２の実施の形態では、波
長３８０ｎｍ〜５００ｎｍのレーザ光により情報の記録
が可能な記録層を備えた光情報記録媒体の例について説
明したが、その他の波長で記録する記録層を備えた光情
報記録媒体に適用することもできる。
【００４７】なお、従来のＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒにおい
て、記録光、再生光の入射面である基板表面に傷が付く
のを防止するために、光硬化性樹脂からなる高硬度のハ
ードコート層を基板表面に設ける場合がある。この場合
にも、光硬化性樹脂に光を照射して光硬化させてハード
コート層を形成する際に、同時に記録層にも光が照射さ
れるので、記録層に含有される記録物質が製造時に一部
劣化して記録特性が低下するという問題があるが、本発
明と同様にハードコート層を可視光で硬化した光硬化性
樹脂で構成することにより、製造工程における記録層の
劣化が抑制されて、良好な記録特性を有する光情報記録
媒体を得ることができる。
【００４８】また、紫外線が記録層に直接照射される場
合は勿論、直接照射されない場合においても、光反射層
を介して化学的に記録層の劣化を引き起こしたり、紫外
線がディスクの反対側に回り込んで劣化の原因となる場
合がある。従って、従来のＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒにおけ
る保護層の形成やディスクの貼り合わせにも、本発明と
同様に可視光で硬化した光硬化性樹脂を用いることによ
り、製造工程における記録層の劣化が抑制されて、良好
な記録特性を有する光情報記録媒体を得ることができ
る。
【００４９】
【実施例】次に、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。 （実施例１）射出成形により、表面にスパイラル状のプ
リグルーブ（トラックピッチ：０．３ｎｍ、プリグルー
ブの溝幅：１００ｎｍ、プリグルーブの溝深さ：１００
ｎｍ）が形成されたポリカーボネート基板（外径：１２
０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ：１．１ｍｍ）を成形し
た。次に、ポリカーボネート基板のグルーブ形成面上
に、Ａｇをスパッタして膜厚１５０ｎｍの光反射層を形
成した。
【００５０】次に、下記化合物（Ａ）１．０ｇを、２，
２，３，３−テトラフルオロプロパノール１００ｍｌ
に、超音波振動機を用いて２時間かけて溶解し、記録層
形成用塗布液を調製した。上記光反射層の表面に、この
塗布液を回転数を３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍまで変
化させながらスピンコートにより塗布して乾燥し、膜厚
１００ｎｍの記録層を形成した。その後、この記録層上
にＳｉＯ2をスパッタして膜厚９０ｎｍの保護層を形成
した。
【００５１】
【化１】
【００５２】次に、保護層上に、接着剤である光硬化性
樹脂（商品名：「ラックストラックＬＣＲ」、東亜合成
（株）製）を回転数を１００ｒｐｍ〜３００ｒｐｍまで
変化させながらスピンコートにより塗布し、膜厚１００
ｎｍのＰＣフィルムを重ね合わせ、回転数を３００ｒｐ
ｍ〜４０００ｒｐｍまで変化させながら接着剤を全面に
広げた後、その上から紫外線カットのためのフィルタを
通した可視光を照射して塗布膜を硬化させ接着剤層及び
薄膜保護層を形成した。以上の工程により、基板、光反
射層、記録層、保護層、接着剤層、及び薄膜保護層を備
えた本発明に従う光ディスクを作製した。
【００５３】（比較例１）接着剤を、光硬化性樹脂（商
品名：「ラックストラックＬＣＲ」、東亜合成（株）
製）から、紫外線硬化樹脂（商品名：「ＳＤ３１８」、
大日本インキ化学工業社製）に変更し、紫外線硬化樹脂
を紫外線を照射して硬化させた以外は、実施例１と同様
にして比較例の光ディスクを作製した。
【００５４】［光ディスクの評価］作製した光ディスク
に線速度３．５ｍ／秒で１４Ｔ−ＥＦＭ信号を発振波長
４０５ｎｍの青紫色半導体レーザを用いて記録した後、
記録した信号を再生した。再生信号について、標準記録
パワーＰ。に対しマージンを見込んだ最大記録パワーＰ
ｍａｘおよび最小記録パワーＰｍｉｎについて、Ｃ／Ｎ
（キャリア／ノイズ比）を測定した。記録および特性評
価はパルステック社製「ＤＤＵ１０００」を用いて行っ
た。
【００５５】その結果、紫外線硬化樹脂を接着剤として
用い紫外線照射により硬化させて薄膜保護層を形成した
比較例１の光ディスクは、Ｃ／Ｎ等の初期特性が低いの
に対し、光硬化性樹脂を接着剤として用い可視光照射に
より硬化させて薄膜保護層を形成した実施例１の光ディ
スクは、初期特性が顕著に向上することが分かった。こ
れは比較例１の光ディスクでは、製造工程における紫外
線照射により記録層に含有される上記化合物（Ａ）が分
解して濃度が低下するが、実施例１の光ディスクでは、
紫外線照射を行わないため、製造工程における上記化合
物（Ａ）の分解が抑制されたためであると推測される。
【００５６】また、作製した光ディスクにＸｅランプ
（１７万ルックス）を１２０時間照射する過酷な条件下
で強制試験を実施し、照射後の光ディスクについて上記
と同様にしてＣ／Ｎを測定したところ、実施例１の光デ
ィスクは、比較例１の光ディスクに比べ良好な初期特性
を示し、保存性が向上していることが分かった。
【００５７】
【発明の効果】本発明によれば、製造工程における記録
層の劣化を抑制することにより、良好な記録特性を有す
る光情報記録媒体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態に係る光情報記録媒体の層構
成を示す概略断面図である。
【図２】第２の実施の形態に係る光情報記録媒体の層構
成を示す概略断面図である。
【符号の説明】
１２ 基板 １４ 光反射層 １６ 記録層 １８ 保護層 ２０ 接着剤層 ２２、２４ 薄膜保護層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】基板と、 該基板上に形成された光反射層と、 該光反射層上に形成され、レーザ光により情報の記録が
    可能な記録層と、 該記録層上に直接形成され、記録または再生に使用され
    るレーザ光を透過すると共に、可視光で硬化した光硬化
    性樹脂で構成された薄膜保護層と、 を備えた光情報記録媒体。
  2. 【請求項２】基板と、 該基板上に形成された光反射層と、 該光反射層上に形成され、レーザ光により情報の記録が
    可能な記録層と、 該記録層上に可視光で硬化した光硬化性樹脂で構成した
    接着剤層を介して形成され、記録または再生に使用され
    るレーザ光を透過する薄膜保護層と、 を備えた光情報記録媒体。
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