JP2003263779A

JP2003263779A - 光情報記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number: JP2003263779A
Application number: JP2002063562A
Authority: JP
Inventors: Yoshihisa Usami; 由久宇佐美
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2002-03-08
Filing date: 2002-03-08
Publication date: 2003-09-19

Abstract

(57)【要約】【課題】優れた記録特性を有する光情報記録媒体、及
び記録層を塗布法により形成することで、前記光情報記
録媒体を製造することのできる光情報記録媒体の製造方
法を提供することを目的とする。【解決手段】トラックピッチ２００〜４００ｎｍ、溝
深さ１０〜１５０ｎｍのグルーブが形成された基板上
に、記録層と、カバー層とがこの順に設けられ、該カバ
ー層側から波長５００ｎｍ以下のレーザ光を照射される
ことで記録及び再生を行う光情報記録媒体であって、イ
ングルーブにおける前記記録層の厚さｄ_iが、オングル
ーブにおける前記記録層の厚さｄ_oよりも大きいことを
特徴とする光情報記録媒体、及び前記記録層が塗布法に
より形成されることを特徴とする光情報記録媒体の製造
方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体及
びその製造方法に関し、特に、ヒートモードによる追記
型の光情報記録媒体及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レーザ光により１回限りの情報の
記録が可能な追記型光情報記録媒体は、ＣＤ−Ｒと称さ
れ、広く知られている。市販のＣＤプレーヤを用いて再
生できる利点を有しており、また最近では、パーソナル
コンピュータの普及に伴ってその需要も増大している。
また、ＣＤ−Ｒより大容量の記録が可能な媒体として、
デジタル・ハイビジョンの録画などに対応するための追
記型デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（ＤＶＤ−
Ｒ）も実用化されている。

【０００３】これら追記型光情報記録媒体の構造の１つ
としては、円盤状基板上に、Ａｕなどからなる光反射層
と、有機化合物からなる記録層と、更に、該記録層に接
着させるための接着層を含む樹脂層（以下、適宜、カバ
ー層と称する場合がある。）とが順次積層されたものが
知られている。レーザ光が前記樹脂層側から照射される
ことで、記録及び再生を行うことができる。追記型光情
報記録媒体への情報の記録は、記録層のレーザ光照射部
分がその光を吸収して局所的に発熱変形（例えば、ピッ
トなどの生成）することにより行われる。一方、情報の
再生は、通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光
を追記型光情報記録媒体に照射して、記録層が発熱変形
した部位（記録部分）と変形していない部位（未記録部
分）との反射率の違いを検出することにより行われてい
る。

【０００４】最近、インターネット等のネットワークや
ハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴ
Ｖ（ＨｉｇｈＤｅｆｉｎｉｔｉｏｎＴｅｌｅｖｉｓ
ｉｏｎ）の放映も開始された。このような状況の下で、
画像情報を安価簡便に記録することができる大容量の光
情報記録媒体が必要とされている。上記のＤＶＤ−Ｒは
現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たし
ているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であ
り、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要で
ある。このため、光情報記録媒体は、更に、短波長の光
で高密度の記録を行なうことができる、より大容量の記
録媒体の開発が進められている。特に、１回限りの情報
の記録が可能な追記型光情報記録媒体は、大容量の情報
の長期保存又はバックアップ用としての使用頻度が高ま
りつつあるため、その開発に対する要求は強い。

【０００５】通常、光情報記録媒体の高密度化は、記録
及び再生用レーザの短波長化、対物レンズの高ＮＡ化に
よりビームスポットを小さくすることで達成することが
できる。最近では、波長６８０ｎｍ、６５０ｎｍ及び６
３５ｎｍの赤色半導体レーザから、更に超高密度の記録
が可能となる波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの青紫色半導
体レーザ（以下、青紫色レーザと称する。）まで開発が
急速に進んでおり、それに対応した光情報記録媒体の開
発も行われている。特に、青紫色レーザの発売以来、該
青紫色レーザと高ＮＡピックアップを利用した光記録シ
ステムの開発が検討されており、相変化する記録層を有
する書換型光情報記録媒体及び光記録システムは、既
に、ＤＶＲシステム（「ＩＳＯＭ２０００」２１０〜２
１１頁）として発表されている。これにより、書換型光
情報記録媒体における高密度化の課題に対しては、一定
の成果が得られた。

【０００６】上述のような青紫色レーザと高ＮＡピック
アップを利用した光記録システムに用いる光情報記録媒
体は、蒸着法を用いて記録層を形成している。蒸着法に
よって形成された記録層は、基板の表面形状（グルー
ブ）に沿って均一な膜厚で形成される。これにより、オ
ングルーブとイングルーブとにおける記録層の位相差が
大きく、ピットの変調度を大きくすることができるが、
光反射層までの距離が長くなることから反射率が低下す
る場合があるという問題を抱えている。また、記録層に
用いられる有機化合物（色素）が、蒸着の過程において
加熱による変質を起こし、良好なピット形成ができず、
十分な記録特性が得られない場合があるという問題をも
抱えている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】以上から、本発明は、
優れた記録特性を有する光情報記録媒体を提供すること
を目的とする。また、本発明は、記録層を塗布法により
形成することで、前記光情報記録媒体を製造することが
できる光情報記録媒体の製造方法を提供することを他の
目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的は、以下に示す
本発明により達成される。すなわち、本発明は、トラッ
クピッチ２００〜４００ｎｍ、溝深さ１０〜１５０ｎｍ
のグルーブが形成された基板上に、記録層と、カバー層
とがこの順に設けられ、該カバー層側から波長５００ｎ
ｍ以下のレーザ光を照射されることで記録及び再生を行
う光情報記録媒体であって、イングルーブにおける前記
記録層の厚さｄ_iが、オングルーブにおける前記記録層
の厚さｄ_oよりも大きいことを特徴とする光情報記録媒
体である。また、前記厚さｄ_iと前記厚さｄ_oとの関係
は、２ｄ_o≧ｄ_i＞ｄ_oであることが好ましく、１．８ｄ_o
≧ｄ_i≧１．１ｄ_oであることがより好ましく、１．６ｄ
_o≧ｄ_i≧１．２ｄ_oであることが特に好ましい。更に、
本発明は、前記光情報記録媒体の製造方法であって、前
記記録層が塗布法により形成されることを特徴とする光
情報記録媒体の製造方法である。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の光情報記録媒体は、トラ
ックピッチ２００〜４００ｎｍ、溝深さ１０〜１５０ｎ
ｍのグルーブが形成された基板上に、記録層と、カバー
層とがこの順に設けられ、該カバー層側から波長５００
ｎｍ以下のレーザ光を照射されることで記録及び再生を
行う光情報記録媒体であって、イングルーブにおける前
記記録層の厚さｄ_iが、オングルーブにおける前記記録
層の厚さｄ_oよりも大きいことを特徴とする。以下、図
１を参照して、本発明の光情報記録媒体の特徴部分につ
いて詳細に説明する。ここで、図１は、本発明の光情報
記録媒体の記録層の厚さを示すための要部拡大断面図で
ある。図１に示すように、本発明の光情報記録媒体は、
所望のグルーブが形成された基板１０上に記録層２０が
形成された構造を有する。

【００１０】＜基板＞基板１０は、例えば、ガラス；ポ
リカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフ
ィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げ
ることができ、所望によりこれらを併用してもよい。こ
の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点からポ
リカーボネートやアモルファスポリオレフィンが好まし
く、ポリカーボネートが特に好ましい。基板１０の厚さ
は、１．１±０．３ｍｍの範囲であることが好ましい。

【００１１】基板１０の表面には、トラッキング用溝又
はアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）
が形成されている。このプレグルーブは、ポリカーボネ
ートなどの樹脂材料を射出成形あるいは押出成形する際
に、直接基板上に形成されることが好ましい。また、プ
レグルーブの形成を、プレグルーブ層を設けることによ
り行ってもよい。プレグルーブ層の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル及び
テトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（又
はオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いること
ができる。プレグルーブ層の形成は、例えば、まず精密
に作られた母型（スタンパ）上に上記のアクリル酸エス
テル及び重合開始剤からなる混合液を塗布し、更に、こ
の塗布液層上に基板を載せたのち、基板又は母型を介し
て紫外線を照射するにより塗布層を硬化させて基板と塗
布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離する
ことにより得ることができる。プレグルーブ層の層厚は
一般に、０．０１〜１００μｍの範囲にあり、好ましく
は０．０５〜５０μｍの範囲である。

【００１２】本発明において、基板１０のプレグルーブ
のトラックピッチは、２００〜４００ｎｍの範囲とする
ことを必須とし、２５０〜３５０ｎｍの範囲とすること
が好ましい。また、プレグルーブの溝深さは１０〜１５
０ｎｍの範囲とすることを必須とし、２０〜１００ｎｍ
の範囲とすることがより好ましく、３０〜８０ｎｍの範
囲とすることが更に好ましい。また、その半値幅は、５
０〜２５０ｎｍの範囲にあることが好ましく、１００〜
２００ｎｍの範囲であることがより好ましい。

【００１３】なお、後述する光反射層が設けられる場
合、光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の
改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが
好ましい。該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチ
ルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合
体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルア
ルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・
ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレ
ン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオ
レフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩
化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高
分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙
げることができる。

【００１４】下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又
は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコ
ート、ディップコート、エクストルージョンコート等の
塗布法により基板表面に塗布することにより形成するこ
とができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範
囲である。

【００１５】＜記録層＞本発明において、イングルーブ
（レーザ光が照射される側から見て凹部）における記録
層の厚さｄ_iが、オングルーブ（（レーザ光が照射され
る側から見て凸部）における記録層の厚さｄ_oよりも大
きいことを要する。つまり、図１に示すように、本発明
の光情報記録媒体は、イングルーブにおける記録層２０
の厚さｄ _iが、オングルーブにおける記録層２０の厚さ
ｄ_oよりも大きくなるように形成されることを要する。
これにより、厚さｄ_iと厚さｄ_oとの位相差は小さくな
り、反射率の低減が防止されると共に、位相差によって
記録振幅が小さくなることを防止する効果を有する。

【００１６】厚さｄ_iと厚さｄ_oとの関係は、ｄ_i＞ｄ_oで
あることを必須とし、反射率や記録振幅の低減を効率よ
く防止する観点から、２ｄ_o≧ｄ_i＞ｄ_oであることが好
ましく、１．８ｄ_o≧ｄ_i≧１．１ｄ_oであることがより
好ましく、１．６ｄ_o≧ｄ_i≧１．２ｄ_oであることが特
に好ましい。

【００１７】具体的には、オングルーブにおける記録層
２０の厚さｄ_oは、２０〜２００ｎｍであることが好ま
しく、４０〜１５０ｎｍであることがより好ましく、５
０〜１２０ｎｍであることが特に好ましい。一方、イン
グルーブにおける記録層２０の厚さｄ_iは、少なくと
も、オングルーブにおける記録層２０の厚さとの間で上
記の関係（ｄ_i＞ｄ_o）を満たしていればよいが、具体的
には、２０〜１００ｎｍであることが好ましく、３０〜
８０ｎｍであることがより好ましく、４０〜７０ｎｍで
あることが特に好ましい。

【００１８】このように、イングルーブとオングルーブ
とのそれぞれにおける記録層２０の厚さを異なるように
形成するには、記録層２０が塗布法により形成されるこ
とで達成される。塗布法は、蒸着法とは異なり、塗布面
に形成されている凹凸（本発明においてはグルーブ）上
に膜厚が均一に生成せず、図１のように、その凹凸の形
状をなだらかに追従する塗膜を形成する。このため、記
録層２０を塗布法において形成すれば、上述のように、
イングルーブにおける記録層２０の厚さｄ_iが、オング
ルーブにおける記録層２０の厚さｄ_oよりも大きくなる
ように形成することができるのである。また、塗布法
は、蒸着法のように、記録層の用いる色素が変性してし
まうほど高温に加熱する必要がないため、良好なピット
を形成することができ、記録特性を向上させることがで
きる。用いられる塗布方法としては、スプレー法、スピ
ンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコ
ート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙
げることができる。また、塗布温度としては、２３〜５
０℃であれば特に問題はないが、好ましくは２４〜４０
℃、さらに好ましくは２５〜３７℃である。

【００１９】記録層２０は、５００ｎｍ波長のレーザで
記録及び再生が可能なように、レーザ光の波長領域に極
大吸収を有する色素を含有していることが好ましい。用
いられる色素としては、例えば、シアニン色素、オキソ
ノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニ
ン色素等が挙げられる。

【００２０】具体的には、特開平４−７４６９０号公
報、特開平８−１２７１７４号公報、特開平１１−５３
７５８号公報、特開平１１−３３４２０４号公報、特開
平１１−３３４２０５号公報、特開平１１−３３４２０
６号公報、特開平１１−３３４２０７号公報、特開２０
００−４３４２３号公報、特開２０００−１０８５１３
号公報、特開２０００−１５８８１８号公報の各公報に
記載されている色素、あるいは、トリアゾール、トリア
ジン、シアニン、メロシアニン、アミノブタジエン、フ
タロシアニン、桂皮酸、ビオロゲン、アゾ、オキソノー
ルベンゾオキサゾール、ベンゾトリアゾール等の色素が
挙げられ、シアニン、アミノブタジエン、ベンゾトリア
ゾール、フタロシアニンが好ましい。

【００２１】記録層２０は、前述した色素と、所望によ
り結合剤と、を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、
次いで、この塗布液を基板の表面に塗布して塗膜を形成
した後、乾燥することにより形成することができる。更
に、塗布液中には、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
及び潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加されて
もよい。また、色素や結合剤を溶解処理する方法として
は、超音波処理、ホモジナイザー処理、ディスパー処
理、サンドミル処理、スターラー攪拌処理等の方法を適
用することができる。

【００２２】記録層の塗布液の溶剤としては、例えば、
酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジク
ロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメ
チルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの
炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオ
キサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノー
ル、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンア
ルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフ
ロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などのグリコールエーテル類などを挙げることができ
る。上記溶剤は使用する色素及び結合剤の溶解性を考慮
して単独で用いてもよいし、二種以上を適宜併用するこ
ともできる。

【００２３】結合剤の例としては、例えば、ゼラチン、
セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの
天然有機高分子物質；及びポリウレタン、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン
等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビ
ニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸
メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素
化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム
誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化
性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げること
ができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合
に、結合剤の使用量は、色素に対して０．０１〜５０倍
量（質量比）の範囲であることが好ましく、０．１〜５
倍量の範囲であることがより好ましい。結合剤を記録層
に含有させることにより記録層の保存安定性を改良する
ことも可能である。

【００２４】このようにして調製される塗布液中の色素
の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、
好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。

【００２５】記録層には、該記録層の耐光性を向上させ
るために、種々の褪色防止剤を含有させることができ
る。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチ
ャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、
既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用す
ることができる。その具体例としては、特開昭５８−１
７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０
−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６
０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同
６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、
同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公
報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号
公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９
号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５
４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６
−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９
９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第
１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。

【００２６】前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止
剤の含有量は、記録層の全固形分中、通常、０．１〜５
０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量
％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特
に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。

【００２７】形成された記録層の表面には、カバー層と
の密着性と、色素の保存性を高めるために、バリア層が
形成されていてもよい。バリア層は、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔ
ｉ、Ｔｅ、Ｓｍ、Ｍｏ、Ｇｅ等のいずれか１原子以上か
らなる酸化物、窒化物、炭化物、硫化物等の材料からな
る層であり。また、バリア層は、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂のよ
うにハイブリット化されたものでもよい。バリア層は、
スパッタリング、蒸着イオンプレーティング等により形
成すること可能で、その厚さは、１〜１００ｎｍとする
ことが好ましい。

【００２８】＜カバー層＞カバー層は、接着剤又は粘着
剤を使用して（接着層又は粘着層を介して）記録層側の
表面に形成される。記録及び再生に使用されるレーザー
光に対して、透過率８０％以上であることが好ましく、
９０％以上であることがより好ましい。また、カバー層
は、その表面粗さＲａが５ｎｍ以下である樹脂シートで
あることが好ましく、その樹脂シートとしては、ポリカ
ーボネート（帝人社製ピュアエース、帝人化成社製パン
ライト）、３酢酸セルロース、（富士フイルム社製フジ
タック）、ＰＥＴ（東レ社製ルミラー）が挙げられ、ポ
リカーボネート、３酢酸セルロースがより好ましい。ま
た、カバー層５０の表面粗さＲａは、樹脂の種類、製膜
方法、含有するフィラーの有無や有無などによって決ま
る。なお、カバー層の表面粗さＲａは、例えば、ＷＹＫ
Ｏ社製ＨＤ２０００によって測定される。

【００２９】カバー層の厚さは、記録及び再生のために
照射されるレーザ光の波長やＮＡにより、適宜、規定さ
れるが、０．０３〜０．１５ｍｍの範囲が好ましく、
０．０５〜０．１２ｍｍがより好ましい。また、カバー
層と、接着層又は粘着層と、を合せた厚さは、０．０９
〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜
０．１０５ｍｍであることがより好ましい。

【００３０】用いられる接着剤は、例えば、ＵＶ硬化樹
脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ま
しく、特に、ＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。
接着剤は、例えば、積層体の貼り合わせ面（記録層等）
上に所定量塗布し、カバーシートを貼り合わせた後、ス
ピンコートにより接着剤を、積層体とカバーシートとの
間に均一になるように広げて、硬化させることが好まし
い。塗布する接着剤の量は、最終的に形成される接着層
の厚さが、０．１〜１００μｍの範囲、好ましくは０．
５〜５０μｍの範囲、より好ましくは１０〜３０μｍの
範囲になるように調整する。

【００３１】接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合
は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、もしくはメチルエチル
ケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を
調製し、ディスペンサから積層体表面に供給してもよ
い。また、作製される光情報記録媒体の反りを防止する
ため、接着層を構成するＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小
さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂として
は、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ
−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。

【００３２】また、粘着剤としては、アクリル系、ゴム
系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透
明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好まし
い。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘ
キシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主
成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキル
アクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリ
レート、エチルアクリレート、メチルメタクリレート
と、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリ
ル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシ
ルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど
と、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分
と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混
合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転
移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。

【００３３】上記粘着剤と併用される架橋剤としては、
例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかる
イソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシア
ネート、４−４’−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイ
ソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネー
ト、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソ
シアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等
のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類
とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類
の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用す
ることができる。これらのイソシアネート類の市販され
ている商品としては、日本ポリウレタン社製、コロネー
トＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネー
ト２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；
武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−
１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０
２；住友バイエル社製、デスモジュールＬ、デスモジュ
ールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等
を挙げることができる。

【００３４】＜光反射層＞光反射層は情報の再生時にお
ける反射率の向上の目的で、基板と記録層との間に設け
られる任意の層である。光反射層は、レーザ光に対する
反射率が高い光反射性物質を蒸着、スパッタリング又は
イオンプレーティングすることにより前記基板上に形成
することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０
〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とす
ることが好ましい。なお、前記反射率は、７０％以上で
あることが好ましい。

【００３５】反射率が高い光反射性物質としては、Ｍ
ｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃ
ｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、
Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃ
ｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐ
ｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス
鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独
で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、又は
合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいもの
は、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びス
テンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ
あるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、
Ａｇあるいはこれらの合金である。

【００３６】＜その他の層＞本発明の光情報記録媒体に
は、更に、種々の中間層が設けられてもよい。例えば、
光反射層と記録層との間には、反射率や密着性を向上さ
せるための中間層を設けてもよい。

【００３７】本発明の光情報記録媒体のレーザ光が入射
する側の表面粗さは、使用するカバー層の表面粗さ、基
板の表面粗さ、光反射層の作成条件、記録層の種類、製
膜条件、接着層の種類、塗布条件、保護層の種類塗布条
件等で、適宜、決定される。

【００３８】本発明の光情報記録媒体は、例えば、次の
ようにして情報の記録、再生が行われる。まず、光情報
記録媒体を所定の線速度（０．５〜１０ｍ／秒）、又
は、所定の定角速度にて回転させながら、カバー層側か
ら対物レンズを介して青紫色レーザ（例えば、波長４０
５ｎｍ）などの記録用の光を照射する。この照射光によ
り、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、例
えば、ピットが生成してその光学特性を変えることによ
り情報が記録される。上記のように記録された情報の再
生は、光情報記録媒体を所定の定線速度で回転させなが
ら青紫色レーザ光をカバー層側から照射して、その反射
光を検出することにより行うことができる。

【００３９】５００ｎｍ以下の発振波長を有するレーザ
光源としては、例えば、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発
振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長４２
５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができる。
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用さ
れる対物レンズのＮＡは０．７以上が好ましく、０．８
５以上がより好ましい。

【００４０】

【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳述する
が、本発明はこれらによって制限されるものではない。

【００４１】（実施例１）厚さ１．１ｍｍ、外径１２０
ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のグループ（溝深さ
３０ｎｍ、幅１５ｎｍ、トラックピッチ３４０ｎｍ）を
有する射出成形ポリカーボネート樹脂からなる基板のグ
ルーブを有する面上に、調製した色素塗布液を、スピン
コート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化
させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。その
後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、記録層（イ
ングルーブにおける厚さｄ_i：７０ｎｍ、オングルーブ
における厚さｄ_o：５０ｎｍ）を形成した。前記色素塗
布液は、下記化学式で表わされる色素Ｂ：２ｇを、２，
２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に
添加して溶解することで調製した。

【００４２】

【化１】

【００４３】記録層を形成した後、クリーンオーブンに
てアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直
のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持
し、５０℃で１時間保持して行った。

【００４４】その後、記録層上に、ＲＦスパッタリング
によりＺｎＳ−ＳｉＯ₂（ＺｎＳ：ＳｉＯ₂＝８：２（質
量比））からなるバリア層（厚さ５０ｎｍ）を形成し
て、積層体を作製した。バリア層の形成条件は下記の通
りとした。パワー・・・４ｋＷ圧力・・・２×１０^-2ｈＰａ時間・・・１０秒間

【００４５】その後、形成されたバリア層上に、ＵＶ硬
化接着剤（大日本インキ社製ｅｘ８２０４）を、ノズル
を固定したまま積層体を略１周させることで環状にディ
スペンスした。そして、ポリカーボネートからなるカバ
ー層（帝人社製ピュアエース、外径１２０ｍｍ、内径１
５ｍｍ、厚さ８５μｍ）を中心を合わせて載せ、回転数
５０００ｒｐｍで３秒間回転させ、接着剤を全面に広
げ、かつ、余分な接着剤を振り飛ばした。そして、回転
させながら、紫外線を照射し、接着剤を硬化させ、実施
例１の光情報記録媒体を作製した。この際、接着層の厚
さは１５μｍであり、カバーシートと接着層とで合せ
て、１００μｍであった。なお、接着層には気泡が生じ
ることなく貼り合わせることができた。

【００４６】（光情報記録媒体の記録特性評価） −Ｃ／Ｎ（搬送波対雑音比）− 得られた光情報記録媒体を、４０５ｎｍのレーザ、Ｎ
Ａ：０．８５ピックアップを搭載した記録再生評価機
（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を使用し、記録
パワー５ｍＷ、線速５ｍ／ｓの条件で６００ｎｍのピッ
トを形成し、スペクトルアナライザを用いてＣ／Ｎを測
定した。測定結果は、実施例１の光情報記録媒体のＣ／
Ｎは、５２ｄＢであった。

【００４７】（実施例２）実施例１において、基板と記
録層との間に、銀（Ａｇ）からなる光反射層（厚さ１２
０ｎｍ）で形成した他は、実施例１と同様にして、実施
例２光情報記録媒体を作製した。作製された光情報記録
媒体を、実施例１と同様の実験を行い、記録特性を評価
した。その結果、実施例２の光情報記録媒体のＣ／Ｎ
は、５０ｄＢであった。

【００４８】（比較例１）実施例１において、記録層を
真空蒸着法によって形成した他は、実施例１と同様にし
て、比較例１の光情報記録媒体を作製した。作製された
光情報記録媒体を、実施例１と同様の実験を行い、記録
特性を評価した。その結果、比較例１の光情報記録媒体
のＣ／Ｎは、４０ｄＢ以下であった。

【００４９】本発明の実施例１及び２の光情報記録媒体
は、記録特性のＣ／Ｎが良好であることが判明した。こ
れは、塗布法により記録層を形成したことにより、記録
層中の色素の変性が見られず、レーザ光の照射により得
られた熱エネルギーが、ピットを形成するために効果的
に用いられているためと考えられる。また、光反射層が
形成されている実施例２の光情報記録媒体は、全体の反
射率が向上するものの、ピットが形成されている領域と
形成されていない領域とでの反射率の差が相対的に小さ
くなるが、実施例１の光情報記録媒体は、ピットが形成
されている領域と形成されていない領域とでの反射率の
差が大きいままであるため、実施例２の光情報記録媒体
よりも記録特性が良好になったと思われる。一方、比較
例１の光情報記録媒体は、実施例１及び２の光情報記録
媒体と比較して、Ｃ／Ｎが著しく劣っていることがわか
る。これは、記録層を蒸着法で形成しているため、蒸着
法における加熱工程で色素が変性を起こし、良好なピッ
トを形成することができなかったためと推測される。

【００５０】

【発明の効果】本発明によれば、優れた記録特性を有す
る光情報記録媒体、及び、記録層を塗布法により形成す
ることで、前記光情報記録媒体を製造することのできる
光情報記録媒体の製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光情報記録媒体の記録層の厚さを示
すための要部拡大断面図である。

【符号の説明】

１０基板２０記録層ｄ_i イングルーブにおける記録層の厚さｄ_o オングルーブにおける記録層の厚さ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】トラックピッチ２００〜４００ｎｍ、溝
深さ１０〜１５０ｎｍのグルーブが形成された基板上
に、記録層と、カバー層とがこの順に設けられ、該カバ
ー層側から波長５００ｎｍ以下のレーザ光を照射される
ことで記録及び再生を行う光情報記録媒体であって、イングルーブにおける前記記録層の厚さｄ_iが、オング
ルーブにおける前記記録層の厚さｄ_oよりも大きいこと
を特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】請求項１の光情報記録媒体の製造方法で
あって、前記記録層が塗布法により形成されることを特徴とする
光情報記録媒体の製造方法。