JP4299681B2 - 光情報記録方法 - Google Patents

Description

本発明は、光情報記録方法に関し、特に、ヒートモードによる追記型光情報記録媒体の光情報記録方法に関する。

従来、レーザ光により１回限りの情報の記録が可能な追記型光情報記録媒体は、ＣＤ−Ｒと称され、広く知られている。市販のＣＤプレーヤを用いて再生できる利点を有しており、また最近では、パーソナルコンピュータの普及に伴ってその需要も増大している。また、ＣＤ−Ｒより大容量の記録が可能な媒体として、デジタル・ハイビジョンの録画などに対応するための追記型デジタル・ヴァーザタイル・ディスク（ＤＶＤ−Ｒ）も実用化されている。

これら追記型光情報記録媒体の構造の１つとしては、円盤状基板上に、Ａｕなどからなる光反射層と、有機化合物からなる記録層と、更に、該記録層に接着させるための接着層を含むカバー層と、が順次積層されたものが知られている。レーザ光が前記樹脂層側から照射されることで、記録及び再生を行うことができる。追記型光情報記録媒体への情報の記録は、記録層のレーザ光照射部分がその光を吸収して局所的に発熱変形（例えば、ピットなどの生成）することにより行われる。一方、情報の再生は、通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を追記型光情報記録媒体に照射して、記録層が発熱変形した部位（記録部分）と変形していない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより行われている。

最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も開始された。このような状況の下で、画像情報を安価簡便に記録することができる大容量の光情報記録媒体が必要とされている。上記のＤＶＤ−Ｒは現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たしているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であり、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要である。このため、光情報記録媒体は、更に、短波長の光で高密度の記録を行なうことができる、より大容量の記録媒体の開発が進められている。特に、１回限りの情報の記録が可能な追記型光情報記録媒体は、大容量の情報の長期保存又はバックアップ用としての使用頻度が高まりつつあるため、その開発に対する要求は強い。

通常、光情報記録媒体の高密度化は、記録及び再生用レーザの短波長化、対物レンズの高ＮＡ化によりビームスポットを小さくすることで達成することができる。最近では、波長６８０ｎｍ、６５０ｎｍ及び６３５ｎｍの赤色半導体レーザから、更に超高密度の記録が可能となる波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの青紫色半導体レーザ（以下、青紫色レーザと称する。）まで開発が急速に進んでおり、それに対応した光情報記録媒体の開発も行われている。特に、青紫色レーザの発売以来、該青紫色レーザと高ＮＡピックアップを利用した光記録システムの開発が検討されており、相変化する記録層を有する書換型光情報記録媒体及び光記録システムは、既に、ＤＶＲシステム（「ＩＳＯＭ２０００」２１０〜２１１頁）として発表されている。これにより、書換型光情報記録媒体における高密度化の課題に対しては、一定の成果が得られた。

一方、追記型の光情報記録媒体においても、上述のような青紫色レーザと高ＮＡピックアップを利用した光記録システムに対応したものが知られている。具体的には、記録層に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザ光を照射することにより、情報の記録及び再生を行う光情報記録媒体が知られている（例えば、特許文献１〜１５参照。）。この光情報記録媒体は、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等を含有する記録層を備え、青色（波長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録及び再生を行うことができる。

しかしながら、本発明者らの検討によれば、上記の各公報に記載された追記型の光情報記録媒体において、光情報記録媒体自体の層構成や記録に用いるレーザ光の出力などをファクターとする光情報記録方法によっては、実用上必要とされる安定した記録再生特性を備える光情報記録媒体を得ることができない場合があり、大きな課題となっていた。
特開平４−７４６９０号公報 特開平７−３０４２５６号公報 特開平７−３０４２５７号公報 特開平８−１２７１７４号公報 特開平１１−５３７５８号公報 特開平１１−３３４２０４号公報 特開平１１−３３４２０５号公報 特開平１１−３３４２０６号公報 特開平１１−３３４２０７号公報 特開２０００−４３４２３号公報 特開２０００−１０８５１３号公報 特開２０００−１１３５０４号公報 特開２０００−１４９３２０号公報 特開２０００−１５８８１８号公報 特開２０００−２２８０２８号公報

そこで、本発明の目的は、安定した記録再生特性を付与可能な光情報記録方法を提供することにある。

上記目的は、以下に示す本発明により達成される。
すなわち、本発明の光情報記録方法は、トラックピッチが２００〜４００ｎｍのプリグルーブを有する基板上に設けられた色素記録層側の表面に、粘着層又は接着層を介してカバー層が設けられた光情報記録媒体に、該カバー層側からレーザ光を照射し、当該色素記録層中の信号ピット部に空隙を形成することで記録を行う光情報記録方法であって、
前記空隙の幅を５０〜２５０ｎｍの範囲とし、且つ、前記色素記録層の厚さに対して前記空隙の高さの占める割合を２０〜９５％の範囲とすることを特徴とする。
本発明の光情報記録方法に用いる光情報記録媒体は、基板と色素記録層との間に光反射層を有することが好ましい。また、光情報記録媒体が、後述する一般式（Ｉ）で表されるフタロシアニン色素を含有する有機記録層を有することが好ましい。更に、光情報記録媒体が、２０〜５００ｎｍの厚みの色素記録層を有することが好ましい。
本発明の光情報記録方法において、レーザ光の光源が、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザであることが好ましい。また、レーザ光のパルス幅が、実際に記録しようとする長さに対して２０〜９０％であることが好ましい。更に、レーザ光のパワーが、線速が５±０．５ｍ／ｓの場合、２〜１２ｍＷの範囲であることが好ましい。
また、本発明の光情報記録方法において、前記レーザ光の照射は対物レンズを介して行われ、該対物レンズのＮＡが０．７以上であることが好ましい。

本発明によれば、安定した記録再生特性を付与可能な光情報記録方法を提供することができる。

以下、本発明の光情報記録方法及び該光情報記録方法に使用される光情報記録媒体について詳細に説明する。
本発明の光情報記録方法は、トラックピッチが２００〜４００ｎｍのプリグルーブを有する基板上に設けられた色素記録層側の表面に、粘着層又は接着層を介してカバー層が設けられた光情報記録媒体に、該カバー層側からレーザ光を照射し、当該色素記録層中の信号ピット部に空隙を形成することで記録を行う光情報記録方法であって、前記空隙の幅を５０〜２５０ｎｍの範囲とし、且つ、前記色素記録層の厚さに対して前記空隙の高さの占める割合を２０〜９５％の範囲とすることを特徴とする。

＜（未記録の）光情報記録媒体＞
まず、本発明の光情報記録方法に使用される、未記録の光情報記録媒体について説明する。
かかる未記録の光情報記録媒体は、基板上に設けられた色素記録層側の表面に、粘着層又は接着層を介してカバー層が設けられたものであり、その他、任意の層として、光反射層やバリア層が設けられてもよい。

（基板）
基板は、例えば、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。この中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネートやアモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
基板の厚さは、１．１±０．３ｍｍの範囲であることが好ましい。

基板の表面には、トラッキング用溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が形成されている。このプリグルーブは、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形或いは押出成形する際に、直接基板上に形成されることが好ましい。
また、プリグルーブの形成を、プリグルーブ層を設けることにより行ってもよい。プリグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル及びテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（又はオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。プリグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた母型（スタンパ）上に上記のアクリル酸エステル及び重合開始剤からなる混合液を塗布し、更に、この塗布液層上に基板を載せたのち、基板又は母型を介して紫外線を照射するにより塗布層を硬化させて基板と塗布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離することにより得ることができる。プリグルーブ層の層厚は一般に、０．０１〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．０５〜５０μｍの範囲である。

基板は、より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのプリグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。本発明において、基板のプリグルーブのトラックピッチは、２００〜４００ｎｍの範囲とし、２５０〜３５０ｎｍの範囲とすることがより好ましい。
また、プリグルーブの溝深さは１０〜１５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、２０〜１００ｎｍの範囲とすることがより好ましく、３０〜８０ｎｍの範囲とすることが更に好ましい。また、その半値幅は、５０〜２５０ｎｍの範囲にあることが好ましく、１００〜２００ｎｍの範囲であることがより好ましい。

なお、後述の光反射層や色素記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。

下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。

（光反射層）
光反射層は情報の再生時における反射率の向上の目的で、基板と有機色素記録層との間に設けられる任意の層である。光反射層は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより前記基板上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。

反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属或いはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、或いは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ或いはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇ或いはこれらの合金である。

（色素記録層）
色素記録層は、記録及び再生時に用いられるレーザ光の波長領域に極大吸収を有する色素を含有していることが好ましい。
用いられる色素としては、例えば、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素に加え、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、特開平１１−５３７５８号公報、特開平１１−３３４２０４号公報、特開平１１−３３４２０５号公報、特開平１１−３３４２０６号公報、特開平１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、特開２０００−１０８５１３号公報、特開２０００−１５８８１８号公報の各公報に記載されている化合物及び色素、更に、トリアゾール化合物、トリアジン色素、メロシアニン色素、アミノブタジエン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、ベンゾトリアゾール化合物等が挙げられる。
これらの中でも、シアニン色素、アミノブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、フタロシアニン色素が好ましい。

本発明においては、色素記録層に、下記一般式（Ｉ）で表される構造を有するフタロシアニン色素を含有していることが特に好ましい。

一般式（Ｉ）中、Ｒ^α1〜Ｒ^α8及びＲ^β1〜Ｒ^β8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリール基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のヘテロ環基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシル基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数１〜１０のヘテリルスルホニル基、炭素数１〜２５の置換若しくは無置換のカルバモイル基、炭素数０〜３２の置換若しくは無置換のスルファモイル基、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１５のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシルアミノ基、又は炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のスルホニルアミノ基を表す。また、Ｒ^α1〜Ｒ^α8のすべてが水素原子であることはなく、Ｒ^α1〜Ｒ^α8及びＲ^β1〜Ｒ^β8のうち少なくとも８つは水素原子である。Ｍは、２個の水素原子、２価〜４価の金属原子、２価〜４価のオキシ金属原子、又は配位子を有する２価〜４価の金属原子を表す。

一般式（Ｉ）におけるＲ^α1〜Ｒ^α8及びＲ^β1〜Ｒ^β8の好ましいものとしては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル）、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリール基（例えば、フェニル、ｐ−メトキシフェニル、ｐ−オクタデシルフェニル）、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−オクチルオキシ）、炭素数６〜１０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基（フェノキシ、ｐ−エトキシフェノキシ）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、ｎ−オクチルスルホニル）、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基（例えば、トルエンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、炭素数０〜２０の置換若しくは無置換のスルファモイル基（メチルスルファモイル基、ｎ−ブチルスルファモイル）、炭素数１〜１７のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル）、炭素数７〜１５の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、ｍ−クロロフェニルカルボニル）、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ｎ−ヘキシルアミノ）、炭素数１〜１８のスルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ、ｎ−ブタンスルホニルアミノ）である。

中でも、Ｒ^α1〜Ｒ^α8及びＲ^β1〜Ｒ^β8のより好ましいものは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０のスルファモイル基、炭素数１〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシルアミノ基、炭素数１〜１８のスルホニルアミノ基である。
更に好ましいものは、Ｒ^α1〜Ｒ^α8が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のスルファモイル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、炭素数１〜１８のスルホニルアミノ基であり、Ｒ^β1〜Ｒ^β8が、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子である。
特に好ましいものは、Ｒ^α1〜Ｒ^α8が、それぞれ独立に、水素原子、スルホ基、炭素数１〜２０の無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の無置換のアリールスルホニル基、炭素数７〜２０の無置換のスルファモイル基であり、Ｒ^β1〜Ｒ^β8が、水素原子である。

前記一般式（Ｉ）における、Ｒ^α1及びＲ^α2のいずれか一方、Ｒ^α3及びＲ^α4のいずれか一方、Ｒ^α5及びＲ^α6のいずれか一方、Ｒ^α7及びＲ^α8のいずれか一方の計４つの置換基は、同時に水素原子ではないことが好ましい。

一般式（Ｉ）におけるＲ^α1〜Ｒ^α8及びＲ^β1〜Ｒ^β8は、更に置換基を有していてもよく、その導入可能な置換基の例としては、以下に記載のものを挙げることができる。
炭素数１〜２０の鎖状又は環状の置換若しくは無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基）、炭素数６〜１８の置換若しくは無置換のアリール基（例えば、フェニル基、クロロフェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、１−ナフチル基）、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアルケニル基（例えば、ビニル基、２−メチルビニル基）、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアルキニル基（例えば、エチニル基、２−メチルエチニル基、２−フェニルエチニル基）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、サリチロイル基、ピバロイル基）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基）、炭素数６〜２０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、１−ナフトキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、ブチルチオ基、ベンジルチオ基、３−メトキシプロピルチオ基）、炭素数６〜２０の置換若しくは無置換のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、４−クロロフェニルチオ基）、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、炭素数６〜２０の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、パラトルエンスルホニル基）、炭素数１〜１７の置換若しくは無置換のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ｎ−ブチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基）、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、炭素数２〜１０の置換若しくは無置換のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基）、炭素数２〜１０の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基）、及び５員若しくは６員の置換若しくは無置換のヘテロ環基（例えば、ピリジル基、チエニル基、フリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基等の芳香族ヘテロ環基；ピロリジン環基、ピペリジン環基、モルホリン環基、ピラン環基、チオピラン環基、ジオキサン環基、ジチオラン環基等のヘテロ環基）。

また、Ｒ^α1〜Ｒ^α8及びＲ^β1〜Ｒ^β8に導入可能な置換基として好ましいものは、炭素数１〜１６の鎖状又は環状の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリール基、炭素数１〜１６の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、ハロゲン原子、炭素数２〜１７の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のカルバモイル基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアシルアミノ基である。
より好ましいものは、炭素数１〜１０の鎖状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１０の置換若しくは無置換のアリール基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜１０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、塩素原子、炭素数２〜１１の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜７の置換若しくは無置換のカルバモイル基、炭素数１〜８の置換若しくは無置換のアシルアミノ基である。
更に好ましいものとしては、炭素数１〜８の鎖状分岐又は環状の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数１〜８の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数３〜９の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、フェニル基、塩素原子である。
最も好ましいものは、炭素数１〜６の無置換のアルコキシ基である。

一般式（Ｉ）におけるＭは、２価〜４価の金属原子であることが好ましく、中でも、銅原子、ニッケル原子、又はパラジウム原子が好ましく、更に、銅原子又はニッケル原子がより好ましく、特に、銅原子が好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物（フタロシアニン色素）は、任意の位置で結合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位は互いに同一でも異なっていてもよい。また、一般式（Ｉ）で表される化合物は、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セルロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。

以下に、本発明で用いられる一般式（Ｉ）で表されるフタロシアニン色素の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
下記表１〜表７において、例えば、Ｒ^x／Ｒ^y（ｘ及びｙは、α１〜α８、β１〜β８のいずれかを表わす）という表記はＲ^x又はＲ^yのいずれか一方という意味を表しており、従ってこの表記のある化合物は置換位置異性体の混合物である。また、無置換の場合、即ち水素原子が置換している場合は表記を省略している。

本発明において色素記録層に含有する色素として、一般式（Ｉ）で表されるフタロシアニン色素を使用する場合、１種を単独で使用してもよく、また、構造の異なったものを複数種混合して用いてもよく、更に、他の色素と併用してもよい。特に、色素記録層の結晶化を防ぐ目的で、置換基の置換位置が異なる異性体の混合物を使用することが好ましい。

色素記録層は、前述した色素と、所望により結合剤と、を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を上述の基板又は光反射層の表面に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成することができる。更に、塗布液中には、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、及び潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加されてもよい。
また、色素や結合剤を溶解処理する方法としては、超音波処理、ホモジナイザー処理、ディスパー処理、サンドミル処理、スターラー攪拌処理等の方法を適用することができる。

塗布液に使用する溶剤としては、例えば、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素及び結合剤の溶解性を考慮して単独で用いてもよいし、二種以上を適宜併用することもできる。

結合剤の例としては、例えば、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；及びポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。色素記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、色素に対して０．０１〜５０倍量（質量比）の範囲であることが好ましく、０．１〜５倍量の範囲であることがより好ましい。結合剤を色素記録層に含有させることにより色素記録層の保存安定性を改良することも可能である。

このようにして調製される塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。色素記録層は単層でも重層でもよい。色素記録層の層厚は、一般に、２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。
また、塗布温度としては、２３〜５０℃であれば特に問題はないが、好ましくは２４〜４０℃、更に好ましくは２５〜３７℃である。

色素記録層には、該色素記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。

前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の含有量は、色素記録層の全固形分中、通常、０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。

形成された色素記録層の表面には、カバー層との密着性と、色素の保存性を高めるために、バリア層が形成されていてもよい。バリア層は、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｍ、Ｍｏ、Ｇｅ等のいずれか１原子以上からなる酸化物、窒化物、炭化物、硫化物等の材料からなる層であり。また、バリア層は、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂のようにハイブリット化されたものでもよい。バリア層は、スパッタリング、蒸着イオンプレーティング等により形成すること可能で、その厚さは、１〜１００ｎｍとすることが好ましい。

（カバー層）
カバー層は、接着層又は粘着層を介して（接着剤又は粘着剤を使用して）色素記録層側の表面に形成される。
カバー層は、記録及び再生に使用されるレーザー光に対して、透過率８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。また、カバー層は、その表面粗さＲａが５ｎｍ以下である樹脂シートであることが好ましく、その樹脂シートとしては、ポリカーボネート（帝人社製ピュアエース、帝人化成社製パンライト）、３酢酸セルロース、（富士フイルム社製フジタック）、ＰＥＴ（東レ社製ルミラー）が挙げられ、ポリカーボネート、３酢酸セルロースがより好ましい。また、カバー層の表面粗さＲａは、樹脂の種類、製膜方法、含有するフィラーの有無や有無などによって決まる。なお、カバー層の表面粗さＲａは、例えば、ＷＹＫＯ社製ＨＤ２０００によって測定される。

カバー層の厚さは、記録及び再生のために照射されるレーザ光の波長やＮＡにより、適宜、規定されるが、０．０３〜０．１５ｍｍの範囲が好ましく、０．０５〜０．１２ｍｍがより好ましい。また、カバー層と、接着層又は粘着層と、を合せた厚さは、０．０９〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることがより好ましい。

カバー層を形成する際に用いられる接着層や粘着層は、柔軟性を備えているため、記録時に色素記録層の記録ピット部において発生する熱による空隙が形成される際、層自体が変形し、空隙の形成を妨げないという機能を有する。
ここで、空隙（ピット）の形成と、接着層や粘着層の変形と、の関係について、図１を用いて説明する。なお、図１は、空隙が形成された状態の光情報記録媒体を軸方向に切断した際の要部概略断面図である。図１に示す光情報記録媒体は、基板１０上に、光反射層２０と、色素記録層３０と、バリア層４０と、粘着層（又は接着層）５０と、を順次備え、更に粘着層５０上には、図示されないカバー層が設けられているものとする。

図１に示すような構成の光情報記録媒体に対して、色素記録層中の信号ピット部にレーザ光が照射されると、剛性の高い、基板１０及び光反射層２０の形状には変化が起きないものの、空隙６０が形成された領域（記録ピット部）の色素記録層３０が、バリア層４０を図１の下方に押し出し、柔軟性の高い、粘着層５０に凹状に変形を起こさせる。このように、粘着層（又は接着層）が空隙の形成を妨げない機能を有することにより、良好なピットが形成されることとなり、記録再生特性が安定するもの思われる。

接着層に一定以上の柔軟性を付与するため、接着層に用いられる接着剤としては、ガラス転移温度（Ｔｇ）が８０℃以下であるものことが好ましく、３０℃以下であることがより好ましく、０℃以下であることが更に好ましい。なお、接着剤のガラス転移温度とは、硬化後の接着剤のガラス転移温度を指す。
また、粘着層に一定以上の柔軟性を付与するため、粘着層に用いられる粘着剤も、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を調整し、粘着層の硬度を制御することが好ましい。
なお、これらの接着剤や粘着剤の他にも、カバー層を吸着させる機能を有していれば、エラストマーなどを用いてもかまわない。

前記接着剤としては、例えば、ＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特に、ＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。
接着層を設ける方法は、特に限定されないが、例えば、色素記録層側の表面上に所定量塗布し、カバー層を貼り合わせた後、スピンコートにより接着剤を、積層体とカバー層との間に均一になるように広げて、硬化させてもよい。
塗布する接着剤の量は、最終的に形成される接着層の厚さが、０．１〜１００μｍの範囲、好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、より好ましくは１０〜３０μｍの範囲になるように調整する。

接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、若しくは、メチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサから積層体表面やカバー層に供給してもよい。また、作製される光情報記録媒体の反りを防止するため、用いるＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。

前記粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。

上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製、デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。

粘着剤は、色素記録層側の表面に所定量、均一に塗布し、カバー層を貼り合わせた後硬化させてもよいし、カバー層の色素記録層側に当接する面に、所定量を均一に塗布し、ディスク型積層体の色素記録層側の表面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。
また、カバー層に、予め、粘着層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。

（その他の層）
本発明に用いられる光情報記録媒体には、上述の任意の層に加えて、更に、種々の中間層が設けられてもよい。例えば、光反射層と色素記録層との間には、反射率や密着性を向上させるための中間層を設けてもよい。

＜光情報記録方法＞
本発明の光情報記録方法は、上述した未記録の光情報記録媒体に、カバー層側からレーザ光を照射し、当該色素記録層中の信号ピット部に空隙を形成することで記録を行う光情報記録方法であって、前記空隙の幅を５０〜２５０ｎｍの範囲とすることを特徴とする。かかる空隙の幅は、下限値としては、１００ｎｍ以上であることがより好ましく、１５０ｎｍ以上であることが更に好ましい。また、上限値としては、２３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
なお、上記の上限値及び下限値は、それぞれが任意で組み合わせることができる。
ここで、空隙の幅を上記の範囲に制御する手段としては、記録を行う際の、レーザ光のパルス幅及び／又はパワーを調整する方法が挙げられる。

ここで、本発明における「空隙の幅」とは、グルーブの幅方向における空隙の幅の最大値（平均値）を指す。この空隙は、球状であったり、空豆状であったりする。この空隙の幅の最大値とは、グルーブの幅方向に空隙の最も広がった部分を指すものである（図１におけるＷ_maxに相当する）。
測定方法としては、まず、記録後の光情報記録媒体から色素記録層を境にカバー層を剥離する。これにより、色素記録層は、基板側に残留する部分と、カバー層側に付着する部分と、に分離することになる。その後、その基板側に残留した色素記録層に形成された空隙を電子顕微鏡で観察することで、本発明における空隙の幅の最大値を測定するものとする。この最大値の平均を求めるために、同条件で形成された空隙を１０〜１０００個程度測定することが好ましく、５０〜２００個程度測定することがより好ましい。

また、本発明の光情報記録方法は、色素記録層の厚さに対して前記空隙の高さの占める割合を２０〜９５％の範囲とすることも要する。かかる空隙の高さの占める割合は、下限値としては、４０％以上であることがより好ましく、６０％以上であることが更に好ましい。また、上限値としては、９０％以下であることがより好ましく、８５％以下であることが更に好ましい。
なお、上記の上限値及び下限値は、それぞれが任意で組み合わせることができる。
ここで、色素記録層の厚さに対して空隙の高さの占める割合を上記の範囲に制御する手段としては、記録を行う際の、レーザ光のパルス幅及び／又はパワーを調整する方法が挙げられる。

ここで、本発明における「空隙の高さの占める割合」とは、色素記録層の厚さに対して、空隙幅の中心部（図１における１／２Ｗ_maxに相当する）の、同方向における空隙の高さの最大値が占める割合を指す。この空隙の高さの最大値とは、空隙の色素記録層の厚さ方向に最も広がった部分を指すものである。より具体的には、図１に示すように、空隙６０が形成された部分（信号ピット部）の色素記録層の厚さ（空隙６０を含む）Ｔ₃₀に対して、空隙６０の高さの最大値Ｔ₆₀が示す割合を指す。
空隙の高さの最大値の測定方法としては、ＦＩＢ（Ｆｏｒｃｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅａｍ）を用いて空隙が形成されている色素記録層の断面（光情報記録媒体の軸方向の断面）を切り出し、電子顕微鏡で観察して測定する方法が用いられる。かかる方法では、必ずしも空隙の最も広がった部分を切断できるとは限らないため、同条件にて形成した空隙を所定の個数（例えば、１０〜１０００個程度、好ましくは５０〜２００個程度）切断し、空隙の最も広がった部分（空隙の高さの最大値）を求めることとする。次に、同じ断面から、色素記録層の厚さ（空隙を含む）を測定し、その色素記録層の厚さに対して空隙の高さの占める割合を算出する。

本発明における光情報記録方法は、具体的には、例えば、次のようにして行われる。まず、未記録の光情報記録媒体を所定の線速度（２〜６０ｍ／秒）、又は、所定の定角速度にて回転させながら、カバー層側から対物レンズを介して青紫色レーザ光（例えば、波長４０５ｎｍ）などの記録用の光を照射する。この照射光により、色素記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、所望の空隙（ピット）が生成してその光学特性が変わることにより情報が記録される。

レーザ光の光源としては、例えば、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができる。
また、かかるレーザ光のパルス幅及びパワーの少なくともいずれか一方の出力条件を以下のようにすることにより、上述のような空隙を形成することができる。

レーザ光の記録波形は、１つのピットの形成する際には、パルス列でも１パルスでもかまわない。実際に記録しようとする長さ（ピットの長さ）に対する割合が重要である。
レーザ光のパルス幅としては、実際に記録しようとする長さに対して２０〜９５％の範囲が好ましく、３０〜９０％の範囲がより好ましく、３５〜８５％の範囲が更に好ましい。ここで、記録波形がパルス列の場合には、その和が上記の範囲にあることを指す。
パルス幅が９５％より大きいと、形成されたピット（空隙）が大きくなりすぎてしまい、目的の再生パルス幅が長くなりすぎる。また、ジッタの悪化をも招く場合がある。
また、パルス幅が２０％より小さいと、形成されたピット（空隙）が小さすぎて、目的の再生パルス幅より短くなりすぎる。また、ジッタの悪化をも招く場合がある。
なお、記録がパルス長変調の場合、実際に記録しようとする長さによってパルス幅の割合が変化する。良好な記録（ピットの形成）を行うためには、少なくとも一部のパルス幅の割合が上記の範囲内にあることが好ましい。

レーザ光のパワーとしては、記録線速によって異なるが、線速が５±０．５ｍ／ｓの場合、２〜１２ｍＷの範囲が好ましく、３〜１０ｍＷの範囲がより好ましく、４〜８ｍＷの範囲が更に好ましい。また、線速が２倍になった場合には、レーザ光のパワーの好ましい範囲は、それぞれ２^1/2倍となる。
パワーが１２ｍＷより大きいと、形成されたピット（空隙）が大きくなりすぎて、クロストークやジッタの増加を招く場合がある。
また、パルス幅が２ｍＷより小さいと、充分な再生信号振幅が得られなかったり、ジッタが増加したりする場合がある。

更に、レーザ光の他の条件としては、リムインテンシティが、下限値として、４０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましい。また、リムインテンシティの上限値は、８０％以下であることが好ましく、７０％以下であることがより好ましい。かかるリムインテンシティが４０％より小さいと、ジッタの増加を招く場合があり、対して、ムインテンシティが８０％より大きいと、レーザパワーが不足することがある。

また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズのＮＡは０．７以上が好ましく、０．８５以上がより好ましい。

このように、本発明の光情報記録方法により記録された光情報記録媒体は、空隙（ピット）が良好に形成されているということになり、その記録再生特性が優れ、かつ、安定したものとなる。
本発明の光情報記録方法により記録された光情報記録媒体は、所定の定線速度で回転させながら青紫色レーザ光をカバー層側から照射して、その反射光を検出することにより情報の再生を行うことができる。

以下、本発明を実施例によって更に詳述するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。

（実施例１）
＜光情報記録媒体の製造＞
厚さ１．１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のグルーブ（溝深さ４０ｎｍ、幅１５０ｎｍ、トラックピッチ３４０ｎｍ）を有する射出成形ポリカーボネート樹脂（パンライトＡＤ５５０３、帝人社製）からなる基板のグルーブを有する面上に、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングによりＡｇＰｄＤｕ合金からなる光反射層（厚さ１２０ｎｍ）を形成した。

下記化学式で表わされる色素Ａ（ｎ＝１．８８、ｋ＝０．０４２）：２．５ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素塗布液を調製した。調製した色素塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で光反射層上に塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、色素記録層（イングルーブの厚さ１２０ｎｍ、オングルーブの厚さ１００ｎｍ）を形成した。
ここで、イングルーブ及びオングルーブの厚さは、色素塗布液を塗布後、ＦＩＢにて断面を切断し、ＳＥＭ（加速電圧１ｋＶ、５万倍、７０度傾斜観察）で観察した断面形状から測定した。

色素記録層を形成した後、クリーンオーブンにて、８０℃１時間のアニール処理を施した。
その後、色素記録層上に、ＲＦスパッタリングによりＺｎＳ−ＳｉＯ₂（ＺｎＳ：ＳｉＯ₂＝８：２（質量比））からなるバリア層（厚さ５ｎｍ）を形成して、積層体を作製した。

その後、形成されたバリア層上に、粘着剤を用いてポリカーボネートからなるカバー層（ピュアエース、帝人社製、厚さ８０μｍ）を貼り合せ、実施例１の光情報記録媒体を作製した。この際、粘着層の厚さは２０μｍであり、カバー層と接着層とで合せて、１００μｍであった。

＜光情報記録媒体の記録、及び記録特性評価（ジッタの測定）＞
作製した光情報記録媒体を、４０５ｎｍレーザ、ＮＡ０．８５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６６ＭＨｚ、線速５．２ｍ／ｓにてランダム信号（４Ｔ信号）を記録し、ＴＩＡ（タイム・インターバル・アナライザー）によりジッタを測定した。結果を表８に示す。なお、用いたレーザ光のパルス幅及びパワーは、表８に記載した。ここで、パルス幅（％）は、４Ｔ信号を記録しようとする際のパルス幅の割合を示す。
また、表８に記載した空隙の幅及び空隙の高さは、上述した測定方法を用いて観察・測定し、算出したものである。

（実施例２及び３、比較例１及び２）
実施例１と同じ方法で作製した未記録の光情報記録媒体に対し、レーザ光のパルス幅及びパワーを表８に記載のように代えてランダム信号を記録した他は、実施例１と同様の光情報記録方法により、情報の記録を行った。また、その際、実施例１と同様にして、ジッタの測定を行った。その結果を表８に併記した。

表８の結果から、比較例１及び２における光情報記録媒体のジッタが測定不能であったのに対し、本発明の光情報記録方法により記録された実施例１〜３における光情報記録媒体は、ジッタが低く押さえられており、良好で安定した記録再生特性を有することが明らかとなった。

空隙が形成された状態の光情報記録媒体を軸方向に切断した際の要部概略断面図である。

符号の説明

１０ 基板
２０ 光反射層
３０ 色素記録層
４０ バリア層
５０ 粘着層（又は接着層）
６０ 空隙
Ｔ₃₀ 色素記録層の厚さ（空隙を含む）
Ｔ₆₀ 空隙の高さの最大値
Ｗ_max 空隙の幅の最大値

Claims (8)

1. トラックピッチが２００〜４００ｎｍのプリグルーブを有する基板上に設けられた色素記録層側の表面に、粘着層又は接着層を介してカバー層が設けられた光情報記録媒体に、該カバー層側からレーザ光を照射し、当該色素記録層中の信号ピット部に空隙を形成することで記録を行う光情報記録方法であって、
   前記空隙の幅を５０〜２５０ｎｍの範囲とし、且つ、前記色素記録層の厚さに対して前記空隙の高さの占める割合を２０〜９５％の範囲とすることを特徴とする光情報記録方法。
2. 前記光情報記録媒体が、基板と色素記録層との間に光反射層を有することを特徴とする請求項１に記載の光情報記録方法。
3. 前記光情報記録媒体が、下記一般式（Ｉ）で表されるフタロシアニン色素を含有する有機記録層を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光情報記録方法。
   

   

   
   ［一般式（Ｉ）中、Ｒ ^α１ 〜Ｒ ^α８ 及びＲ ^β１ 〜Ｒ ^β８ は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリール基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のヘテロ環基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシル基、炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜１４の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基、炭素数１〜１０のヘテリルスルホニル基、炭素数１〜２５の置換若しくは無置換のカルバモイル基、炭素数０〜３２の置換若しくは無置換のスルファモイル基、炭素数２〜２０の置換若しくは無置換のアルコキシカルボニル基、炭素数７〜１５のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２１の置換若しくは無置換のアシルアミノ基、又は炭素数１〜２０の置換若しくは無置換のスルホニルアミノ基を表す。また、Ｒ ^α１ 〜Ｒ ^α８ のすべてが水素原子であることはなく、Ｒ ^α１ 〜Ｒ ^α８ 及びＲ ^β１ 〜Ｒ ^β８ のうち少なくとも８つは水素原子である。Ｍは、２個の水素原子、２価〜４価の金属原子、２価〜４価のオキシ金属原子、又は配位子を有する２価〜４価の金属原子を表す。］
4. 前記光情報記録媒体が、２０〜５００ｎｍの厚みの色素記録層を有することを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光情報記録方法。
5. 前記レーザ光の光源が、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザであることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の光情報記録方法。
6. 前記レーザ光のパルス幅が、実際に記録しようとする長さに対して２０〜９０％であることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の光情報記録方法。
7. 前記レーザ光のパワーが、線速が５±０．５ｍ／ｓの場合、２〜１２ｍＷの範囲であることを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の光情報記録方法。
8. 前記レーザ光の照射は対物レンズを介して行われ、該対物レンズのＮＡが０．７以上であることを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の光情報記録方法。

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