JP2005100600A - 光記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【課題】 高速記録時の熱干渉が小さく、良好なジッタが得られる光記録媒体を提供する。
【解決手段】 同心円状又は螺旋状のグルーブを有する基板のグルーブを有する面側に色素を含有する記録層が形成された光記録媒体であって、 情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、前記基板の記録ピット形成領域に対応する領域が凸状又は凹状に変形し、前記凸状部の最大高さが3nm以上15nm以下又は前記凹状部の最大深さが3nm以上15nm以下であり、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じることを特徴とする光記録媒体である。
【選択図】 なし
【解決手段】 同心円状又は螺旋状のグルーブを有する基板のグルーブを有する面側に色素を含有する記録層が形成された光記録媒体であって、 情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、前記基板の記録ピット形成領域に対応する領域が凸状又は凹状に変形し、前記凸状部の最大高さが3nm以上15nm以下又は前記凹状部の最大深さが3nm以上15nm以下であり、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じることを特徴とする光記録媒体である。
【選択図】 なし
Description
本発明は、光記録媒体に関し、特に、色素を含有する記録層を有し、高密度かつ高速記録が可能な光記録媒体に関する。
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光記録媒体(光ディスク)が知られている。この光ディスクは、追記型CD(所謂CD−R)とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのCD−Rへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光(通常は780nm付近の波長のレーザー光)をCD−Rに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化(例えば、ピットの生成)が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り(再生)もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位(記録部分)と変化しない部位(未記録部分)との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
近年、記録密度のより高い光記録媒体が求められている。このような要望に対して、追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク(所謂DVD−R)と称される光ディスクが提案されている。このDVD−Rは、照射されるレーザー光のトラッキングのための案内溝(プレグルーブ)がCD−Rに比べて半分以下(0.74〜0.8μm)と狭く形成された透明な円盤状基板上に、色素からなる記録層、そして通常は該記録層の上に光反射層、そしてさらに必要により保護層を設けてなるディスクを二枚、あるいは該ディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを該記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。DVD−Rへの情報の記録再生は、可視レーザー光(通常は、630nm〜680nmの範囲の波長のレーザー光)を照射することにより行われ、CD−Rより高密度の記録が可能であるとされている。
このようなDVD−Rにおいて、近年、高速記録の要求が高まっており、高速記録に対応した光記録媒体が提案されている。例えば、記録線速度が10.5m/s(DVD−Rで3倍相当)で、記録パワーが14mW以下、アシンメトリーβ≦0%で熱干渉を抑制する光記録媒体が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。しかし、該光記録媒体は、記録線速度が10.5m/sを超えると熱干渉が発生しジッタが悪化するという問題がある。また、高速記録特性の向上のため、波長350〜630nmに吸収極大を有する色素と、波長630〜900nmに吸収極大を有する色素とを混合して記録層を形成した光記録媒体が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。しかし、該光記録媒体においても、高速記録時に熱干渉が発生し、ジッタが悪化するという問題がある。
特開2002−260227号公報
特開2003−34078号公報
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、高速記録時の熱干渉が小さく、良好なジッタが得られる光記録媒体を提供することにある。
本発明の目的は、高速記録時の熱干渉が小さく、良好なジッタが得られる光記録媒体を提供することにある。
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
<1> 同心円状又は螺旋状のグルーブを有する基板のグルーブを有する面側に色素を含有する記録層が形成された光記録媒体であって、情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、前記基板の記録ピット形成領域に対応する領域が凸状又は凹状に変形し、前記凸状部の最大高さが3nm以上15nm以下又は前記凹状部の最大深さが3nm以上15nm以下であり、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じることを特徴とする光記録媒体である。
<2> 前記グルーブの半値幅をW、前記記録ピットの空隙の半径方向の大きさをAとしたとき、W>Aであることを特徴とする前記<1>に記載の光記録媒体である。
<3> 前記グルーブのトラックピッチが0.4〜0.9μmであり、かつ前記記録ピットの最小ピット長が0.5μm以下であることを特徴とする前記<1>または<2>に記載の光記録媒体である。
<4> 前記記録層の色素として、二量体型オキソノール色素を用いることを特徴とする前記<1>から<3>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<5> 前記二量体型オキソノール色素が、下記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする前記<4>に記載の光記録媒体である。
<1> 同心円状又は螺旋状のグルーブを有する基板のグルーブを有する面側に色素を含有する記録層が形成された光記録媒体であって、情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、前記基板の記録ピット形成領域に対応する領域が凸状又は凹状に変形し、前記凸状部の最大高さが3nm以上15nm以下又は前記凹状部の最大深さが3nm以上15nm以下であり、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じることを特徴とする光記録媒体である。
<2> 前記グルーブの半値幅をW、前記記録ピットの空隙の半径方向の大きさをAとしたとき、W>Aであることを特徴とする前記<1>に記載の光記録媒体である。
<3> 前記グルーブのトラックピッチが0.4〜0.9μmであり、かつ前記記録ピットの最小ピット長が0.5μm以下であることを特徴とする前記<1>または<2>に記載の光記録媒体である。
<4> 前記記録層の色素として、二量体型オキソノール色素を用いることを特徴とする前記<1>から<3>のいずれかに記載の光記録媒体である。
<5> 前記二量体型オキソノール色素が、下記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする前記<4>に記載の光記録媒体である。
<6> 前記記録層の色素として、前記二量体オキソノール色素と、該二量体型オキソノール色素よりも最大吸収波長が長い色素とを混合して用いることを特徴とする前記<4>または<5>に記載の光記録媒体である。
本発明によれば、高速記録時の熱干渉が小さく、良好なジッタが得られる光記録媒体を提供することができる。
本発明の光記録媒体は、同心円状又は螺旋状のグルーブを有する基板のグルーブを有する面側に色素を含有する記録層が形成された光記録媒体であって、情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、前記基板の記録ピット形成領域に対応する領域が凸状又は凹状に変形し、前記凸状部の最大高さが3nm以上15nm以下又は前記凹状部の最大深さが3nm以上15nm以下であり、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じることを特徴としている。
以下、本発明の光記録媒体について説明する。
以下、本発明の光記録媒体について説明する。
<光記録媒体>
本発明の光記録媒体は、その一形態としては、DVD−R等の情報の記録再生が可能な追記型の光記録媒体である。また、DVD−Rと同様の層構成を有し、青紫色レーザーで記録再生を行うHD DVD−Rにも適用することができる。
本発明の光記録媒体は、その一形態としては、DVD−R等の情報の記録再生が可能な追記型の光記録媒体である。また、DVD−Rと同様の層構成を有し、青紫色レーザーで記録再生を行うHD DVD−Rにも適用することができる。
DVD−R等の光記録媒体では、2枚の基板(第1の基板、第2の基板)を貼り合わせてなり、少なくとも第1の基板には、記録層が形成されている。その他に、反射層、保護層等が適宜形成されていることが好ましい。また、第2の基板にも、第1の基板と同様に、記録層、光反射層等が順次形成された構成としてもよく、いわゆる保護基板(ダミー基板)として層を形成しない構成としてもよい。
以下、DVD−R等の光記録媒体を例に、本発明の光記録媒体の上記基板および各層について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
以下、DVD−R等の光記録媒体を例に、本発明の光記録媒体の上記基板および各層について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
[基板]
基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス;ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;アルミニウム等の金属;等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、0.5〜1.4mmとすることが好ましい。
基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス;ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;アルミニウム等の金属;等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、0.5〜1.4mmとすることが好ましい。
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸(グルーブ、ランド)が、螺旋状又は同心円状に形成されている。グルーブのトラックピッチは、0.4〜0.9μmとすることが好ましく、0.45〜0.85μmとすることがより好ましく、0.50〜0.80μmとすることがさらに好ましい。また、グルーブの深さ(溝深さ)は、50〜150nmとすることが好ましく、85〜135nmとすることがより好ましく、100〜130nmとすることがさらに好ましい。さらに、グルーブの半値幅は、200〜400nmとすることが好ましく、280〜380nmとすることがより好ましく、250〜350nmとすることがさらに好ましい。
また、グルーブとグルーブとの間のランドと呼ばれる領域には、通常、予め決められた規則に従って配置されたランドプリピット(LPP)が形成される。このLPPの位置を検出することによって、アドレス情報の取得及びデータ記録時の位置決めが行われる。
また、記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上及び記録層の変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質;及びシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に0.005〜20μmの範囲、好ましくは0.01〜10μmの範囲で設けられる。
[記録層]
DVD−Rの場合、記録層に用いる色素は特に限定されないが、使用可能な色素の例としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、、オキソノール系色素、Ni、Crなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうちでは、シアニン色素、フタロシアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン系色素が好ましい。
DVD−Rの場合、記録層に用いる色素は特に限定されないが、使用可能な色素の例としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、、オキソノール系色素、Ni、Crなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうちでは、シアニン色素、フタロシアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン系色素が好ましい。
記録層を形成するための塗布液の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミドなどのアミド;シクロヘキサンなどの炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル;エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール;2,2,3,3−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独又は二種以上を適宜併用することができる。好ましくは、2,2,3,3−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中には、所望により褪色防止剤や結合剤を添加してもよいし、更に酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、そして潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
褪色防止剤の代表的な例としては、ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平2−300288号、同3−224793号、及び同4−146189号等の各公報に記載されている。
結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質;及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素100質量部に対して0.2〜20質量部、好ましくは、0.5〜10質量部、更に好ましくは1〜5質量部である。このようにして調製される塗布液中の色素の濃度は、一般に0.01〜10質量%の範囲にあり、好ましくは0.1〜5質量%の範囲にある。
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に20〜500nmの範囲にあり、好ましくは30〜300nmの範囲にあり、より好ましくは50〜200nmの範囲にある。
また、塗布温度としては、23〜50℃であれば特に問題はないが、好ましくは24〜40℃、さらに好ましくは25〜37℃である。
また、塗布温度としては、23〜50℃であれば特に問題はないが、好ましくは24〜40℃、さらに好ましくは25〜37℃である。
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭58−175693号公報、同59−81194号公報、同60−18387号公報、同60−19586号公報、同60−19587号公報、同60−35054号公報、同60−36190号公報、同60−36191号公報、同60−44554号公報、同60−44555号公報、同60−44389号公報、同60−44390号公報、同60−54892号公報、同60−47069号公報、同63−209995号公報、特開平4−25492号公報、特公平1−38680号公報、および同6−26028号公報等の各公報、ドイツ特許350399号明細書、そして日本化学会誌1992年10月号第1141頁等に記載のものを挙げることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭58−175693号公報、同59−81194号公報、同60−18387号公報、同60−19586号公報、同60−19587号公報、同60−35054号公報、同60−36190号公報、同60−36191号公報、同60−44554号公報、同60−44555号公報、同60−44389号公報、同60−44390号公報、同60−54892号公報、同60−47069号公報、同63−209995号公報、特開平4−25492号公報、特公平1−38680号公報、および同6−26028号公報等の各公報、ドイツ特許350399号明細書、そして日本化学会誌1992年10月号第1141頁等に記載のものを挙げることができる。
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通常0.1〜50質量%の範囲であり、好ましくは、0.5〜45質量%の範囲、更に好ましくは、3〜40質量%の範囲、特に好ましくは5〜25質量%の範囲である。
[反射層]
記録層の上には特に情報の再生時における反射率の向上の目的で反射層が設けられる。反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi、Ndなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al及びステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組み合わせて用いてもよい。又は合金として用いてもよい。特に好ましくはAu、Agもしくはその合金である。反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には10〜800nmの範囲、好ましくは20〜500nmの範囲、更に好ましくは50〜300nmの範囲で設けられる。
記録層の上には特に情報の再生時における反射率の向上の目的で反射層が設けられる。反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi、Ndなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al及びステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組み合わせて用いてもよい。又は合金として用いてもよい。特に好ましくはAu、Agもしくはその合金である。反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には10〜800nmの範囲、好ましくは20〜500nmの範囲、更に好ましくは50〜300nmの範囲で設けられる。
[接着層]
接着層は、反射層と、保護層又は保護基板との間に形成される層である。
接着層を構成する接着剤としては、紫外線硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような紫外線硬化性樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業(株)製の「SD−640」、「SD−347」等のUV硬化性樹脂(UV硬化性接着剤)を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、1〜1000μmの範囲が好ましく、5〜500μmの範囲がより好ましく、10〜100μmの範囲が特に好ましい。
接着層は、反射層と、保護層又は保護基板との間に形成される層である。
接着層を構成する接着剤としては、紫外線硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような紫外線硬化性樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業(株)製の「SD−640」、「SD−347」等のUV硬化性樹脂(UV硬化性接着剤)を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、1〜1000μmの範囲が好ましく、5〜500μmの範囲がより好ましく、10〜100μmの範囲が特に好ましい。
接着層を構成する接着剤の他の例を挙げる。該接着剤は、放射線照射により硬化可能な樹脂であって、分子中に2個以上の放射線官能性の二重結合を有する樹脂であり、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類などが挙げられる。好ましくは2官能以上のアクリレート化合物、メタクリレート化合物である。
2官能の具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレートなどに代表される脂肪族ジオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものを用いることができる。
また、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメタクリレートや公知の二塩基酸、グリコールから得られたポリエステルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレートも用いることができる。
さらに、公知のポリオール、ジオールとポリイソシアネートを反応させたポリウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレートを用いてもよい。
さらに、公知のポリオール、ジオールとポリイソシアネートを反応させたポリウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレートを用いてもよい。
また、ビスフェノールA、ビスフェノールF、水素化ビスフェノールA、水素化ビスフェノールFやこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものやイソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレートなどの環状構造を有するものも用いることができる。
前記放射線としては、電子線および紫外線を使用することができる。紫外線を使用する場合には以下の化合物に光重合開始剤を添加することが必要となる。光重合開始剤として芳香族ケトンが使用される。芳香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源として通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる。254,313,865nmの波長において吸光係数の比較的大なるものが好ましい。その代表例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−2ジエトキシアセトフェノン、Michler’sケトンなどがあり、種々の芳香族ケトンが使用できる。芳香族ケトンの混合比率は、紫外線硬化樹脂100質量部に対し0.5〜20質量部、好ましくは2〜15質量部、さらに好ましくは3〜10質量部である。紫外線硬化型接着剤としてあらかじめ光開始剤を添加したものが市販しており、それを使用してもかまわない。紫外線光源としては、水銀ランプ又はメタルハライドランプが用いられる。該ランプとしては20〜300W/cmのものを用い、0.1〜20秒間照射される。基板とランプとの距離は一般に1〜30cmであることが好ましい。
電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が100〜1000kV、好ましくは150〜300kVであり、吸収線量として0.5〜20Mrad、好ましくは1〜10Mradである。加速電圧が10kV以下の場合は、エネルギーの透過量が不足し1000kVを超えると重合に使われるエネルギー効率が低下しコスト的に好ましくない。
[保護層、保護基板]
保護層又は保護基板は、水分の侵入やキズの発生を防止する。保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業(株)製の「SD−640」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、SD−347(大日本インキ化学工業(株)製)、SD−694(大日本インキ化学工業(株)製)、SKCD1051(SKC社製)等を使用することができる。保護層の厚さは、1〜200μmの範囲が好ましく、5〜150μmの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光および再生光に対して、該光を透過する(透過率:90%以上)ほどに透明であることを意味する。
保護層又は保護基板は、水分の侵入やキズの発生を防止する。保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業(株)製の「SD−640」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、SD−347(大日本インキ化学工業(株)製)、SD−694(大日本インキ化学工業(株)製)、SKCD1051(SKC社製)等を使用することができる。保護層の厚さは、1〜200μmの範囲が好ましく、5〜150μmの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光および再生光に対して、該光を透過する(透過率:90%以上)ほどに透明であることを意味する。
保護層は、スピンコート法により形成することができる。スピンコートする際の回転数は、均一な層形成の防止の観点から、50〜8000rpmとすることが好ましく、100〜5000rpmとすることがより好ましい。
なお、保護層に紫外線硬化樹脂を使用した場合は、スピンコート法により保護層を形成した後、該保護層上から紫外線照射ランプ(メタルハライドランプ)により紫外線を照射して、紫外線硬化樹脂を硬化させる。
また、形成する保護層の厚みムラを無くすため、樹脂を硬化させる前に一定時間放置する等の処理を適宜行ってもよい。
なお、保護層に紫外線硬化樹脂を使用した場合は、スピンコート法により保護層を形成した後、該保護層上から紫外線照射ランプ(メタルハライドランプ)により紫外線を照射して、紫外線硬化樹脂を硬化させる。
また、形成する保護層の厚みムラを無くすため、樹脂を硬化させる前に一定時間放置する等の処理を適宜行ってもよい。
DVD−Rの場合は、保護層に代わって、紫外線硬化樹脂等からなる接着層および保護基板としての基板(厚さ:0.6mm程度、材質については前記基板と同様)を積層することができる。
すなわち、反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂(大日本インキ化学工業(株)製SD640、SD661、SD694等)をディスク上に吐出し、例えば、保護基板としてのポリカーボネート基板(厚さ:0.6mm)を載置し、スピンコートと同様に高回転で紫外線硬化樹脂を振り切った後、基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化して貼り合わせる。接着層の厚みは20〜60μmである。
すなわち、反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂(大日本インキ化学工業(株)製SD640、SD661、SD694等)をディスク上に吐出し、例えば、保護基板としてのポリカーボネート基板(厚さ:0.6mm)を載置し、スピンコートと同様に高回転で紫外線硬化樹脂を振り切った後、基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化して貼り合わせる。接着層の厚みは20〜60μmである。
<光情報記録方法>
本発明の光記録媒体への情報記録は、次のようにして行われる。まず、未記録の本発明の光記録媒体を所定の線速度にて回転させながら、対物レンズを介してレーザー光などの記録用の光を照射する。この照射光により、記録層の色素がその光を吸収して局所的に温度上昇し、記録ピットが形成され、その光学特性が変わることにより情報が記録される。
本発明の光記録媒体への情報記録は、次のようにして行われる。まず、未記録の本発明の光記録媒体を所定の線速度にて回転させながら、対物レンズを介してレーザー光などの記録用の光を照射する。この照射光により、記録層の色素がその光を吸収して局所的に温度上昇し、記録ピットが形成され、その光学特性が変わることにより情報が記録される。
レーザー光の記録波形は、1つのピットの形成する際には、パルス列でも1パルスでもかまわない。実際に記録しようとする長さ(ピットの長さ)に対する割合が重要である。
レーザー光のパルス幅としては、実際に記録しようとする長さに対して20〜95%の範囲が好ましく、30〜90%の範囲がより好ましく、35〜85%の範囲が更に好ましい。ここで、記録波形がパルス列の場合には、その和が上記の範囲にあることを指す。
レーザー光のパルス幅としては、実際に記録しようとする長さに対して20〜95%の範囲が好ましく、30〜90%の範囲がより好ましく、35〜85%の範囲が更に好ましい。ここで、記録波形がパルス列の場合には、その和が上記の範囲にあることを指す。
レーザー光のパワーとしては、記録線速度によって異なるが、例えば、線速度が14m/sの場合、15.0〜20.0mWの範囲が好ましく、16.5〜19.5mWの範囲がより好ましく、17.0〜19.0mWの範囲が更に好ましい。また、線速度が2倍になった場合には、レーザー光のパワーの好ましい範囲は、それぞれ21/2倍となる。
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズのNAは0.62以上が好ましく、0.65以上がより好ましい。
本発明においては、記録光として300〜700nmの範囲の発振波長を有する半導体レーザーを用いることができる。
本発明の光記録媒体においては、情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、基板の記録ピットの形成領域に対応する領域が、最大高さが3nm以上15nm以下の凸状又は最大深さが3nm以上15nm以下の凹状に変形し、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じる。本発明の光記録媒体は、記録層の記録ピット形成領域に生じる空隙(形状は、例えば、球状や空豆状)による屈折率減少が大きな位相差を発生し、溝部の記録層を、例えば、50〜150nmと薄くしても十分な変調度が得られる。また、特に、線速度が28m/s以上(DVD−Rで8倍速相当)の高速記録時における熱干渉が小さく、良好なジッタが得られる。
記録層にレーザー光が照射されると、記録層の色素が発熱し、この発熱が基板にまでおよび基板の記録層側の面が変形する。該基板は、凸状に変形することも、凹状に変形することもある。前記最大高さとは、基板が凸状に変形した場合の凸部の最大の高さであり、前記最大深さとは、基板が凹状に変形した場合の凹部の最大の深さである。前記最大高さ又は最大深さは、4〜12nmであることが好ましく、5〜10nmであることがより好ましい。
基板の記録ピット形成領域に対応する領域の変形(最大高さ又は最大深さ)が前記範囲内となり、かつ記録層の記録ピット形成領域に空隙を生じさせるには、例えば、記録層に用いる色素を適宜選択することにより実現することができる。当該色素としては、分解時の発熱量が小さく、分解時に気体を発生するという性質を有する色素が好ましく、具体的には、色素内にニトロ基などの発熱量の大きな置換基や、過塩素酸イオン等を含まない色素が好ましい。
より具体的には、前記記録層に用いる色素として、二量体型オキソノール色素を用いることが好ましい。二量体型オキソノール色素を用いることにより、低速記録(1倍速記録)においても変調度を大きくすることができる。
前記二量体型オキソノール色素としては、下記一般式(1)で表される化合物であることが好ましい。
一般式(1)のR11、R12、Rl3、R14はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、および置換または無置換のヘテロ環基のいずれかを表す。R11、R12、R13、R14で表される置換または無置換のアルキル基としては、炭素数が1〜20のアルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、プチル、i−ブチル、t−ブチル、i−アミル、シクロプロピル、シクロへキシル、ベンジル、フェネチル)が挙げられる。また、R11、R12、R13、R14が各々アルキル基を表す場合には、それらが互いに連結して炭素環(例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル、2−メチルシクロへキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなど)または複素環(例えばピペリジル、クロマニル、モルホリルなど)を形成していてもよい。R11、R12、R13、R14で表されるアルキル基として好ましくは、炭素数1〜8の、鎖状アルキル基または環状アルキル基であり、最も好ましくは炭素数1〜5の鎖状(直鎖状または分岐鎖状)アルキル基、R11とR12およびR13とR14がそれぞれ結合して環をなした炭素数1〜8の環状アルキル基(好ましくはシクロへキシル環)、炭素数1〜20の置換アルキル基(例えば、ベンジル、フェネチル)である。
一般式(1)のR11、R12、R13、R14で表される置換または無置換のアリール基としては、炭素数6〜20のアリール基(例えば、フェニル、ナフチル)が挙げられる。R11、R12、R13、R14で表されるアリール基として好ましくは、炭素数6〜10のアリール基である。
一般式(1)のR11、R12、R13、R14で表される置換または無置換のヘテロ環基は炭素原子、窒素原子、酸素原子、あるいは硫黄原子から構成される5〜6員環の飽和又は不飽和のヘテロ環基であり、例えばピリジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ピペリジル基、トリアジル基、ピロリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、フラニル基、チオフェニル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基などが挙げられる。またこれらがベンゾ縮環したもの(例えばキノリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾキサゾリル基など)でもよい。R11、R12、R13、R14で表される置換または無置換のヘテロ環基として好ましくは、炭素数6〜10の置換または無置換のヘテロ環基である。
一般式(1)のR11、R12、R13、R14で表される置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、および置換または無置換のヘテロ環基の置換基としては後述の置換基群Sが挙げられる。
Sで示される置換基としては、炭素数1〜20のアルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、カルボキシメチル、エトキシカルボニルメチル)、炭素数7〜20のアラルキル基(例えば、ベンジル、フェネチル)、炭素数1〜8のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ)、炭業数6〜20のアリール基(例えば、フェニル、ナフチル)、炭素数6〜20のアリールオキシ基(例えば、フェノキシ、ナフトキシ)、ヘテロ環基(例えば、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、2−ピロリジノン−1−イル、2−ピペリドン−1−イル、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル、2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル、スクシンイミド、フタルイミド、マレイミド)、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、沃素)、カルボキシル基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル)、シアノ基、炭素教2〜10のアシル基(例えば、アセチル、ピバロイル)、炭素数1〜10のカルバモイル(例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル)、アミノ基、炭素数1〜20の置換アミノ基(例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ビス(メチルスルホニルエチル)アミノ、N−エチル−N’−スルホエチルアミノ)、スルホ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭業数1〜10のアルキルスルホニルアミノ基(例えば、メチルスルホニルアミノ)、炭素数1〜10のカルバモイルアミノ基(例えば、カルバモイルアミノ、メチルカルバモイルアミノ)、炭素数1〜10のスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル)、炭素数1〜10のスルフィニル基(例えば、メタンスルフィニル)、および炭素数0〜10のスルファモイル基(例えば、スルファモイル、メタンスルファモイル)が含まれる。カルボキシル基およびスルホ基の場合にはそれらは塩の状態であってもよい。
一般式(1)のR21、R22、R3はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロ環基、ハロゲン原子、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、シアノ基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のカルバモイル基、アミノ基、置換アミノ基、スルホ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基、置換または無置換のカルバモイルアミノ基、置換または無置換のアルキルスルホニル基、置換または無置換のアリールスルホニル基、置換または無置換のスルフィニル基および置換または無置換のスルファモイル基のいずれかを表す。R21、R22、R3として好ましくは、水素原子、置換または無置換の炭素数1〜20のアルキル基、置換または無置換の炭素数2〜20のヘテロ環基、置換または無置換の炭素数1〜20のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数6〜20のアリール基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは、水素原子、置換または無置換の炭素数1〜10のアルキル基、置換または無置換の炭素数1〜10のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数2〜10ヘテロ環基、ハロゲン原子が好ましく、最も好ましくは水素原子、無置換の炭素数1〜5のアルキル基、無置換の炭素数1〜5のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数2〜6のヘテロ環基およびハロゲン原子のいずれかである。R21、R22、R3は更に置換基を有しても良く、置換基としては前述の置換基群Sが挙げられる。
mが0であり、R21、R22が両方とも水素原子であることが好ましい。また、mが1であり、R21、R22、R3がいずれも水素原子であることが好ましい。
mが0であり、R21、R22が両方とも水素原子であることが好ましい。また、mが1であり、R21、R22、R3がいずれも水素原子であることが好ましい。
一般式(1)のmは0以上の整数を表し、好ましくは0〜5(0以上5以下)の整数であり、更に好ましくは0〜3の整数であり、特に好ましくは0〜2の整数である。
一般式(1)において、上記mが2以上の場合、複数のR3は同じでも異なってもよく、それぞれ独立に水素原子又は前記の置換基を表す。
一般式(1)においてZx+は陽イオンを表し、xは1以上の整数を表す。
Zx+で表される陽イオンとして好ましくは、第4級アンモニウムイオンであり、更に好ましくは、特開2000−52658号公報の一般式(I−4)で表される4,4’−ビピリジニウム陽イオンおよび特2002−59652号公報に開示されている4,4’−ビピリジニウム陽イオンである。一般式(1)においてxは1または2が好ましい。
Zx+で表される陽イオンとして好ましくは、第4級アンモニウムイオンであり、更に好ましくは、特開2000−52658号公報の一般式(I−4)で表される4,4’−ビピリジニウム陽イオンおよび特2002−59652号公報に開示されている4,4’−ビピリジニウム陽イオンである。一般式(1)においてxは1または2が好ましい。
以下に、前記一般式(1)で表される化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
前記記録層の色素として、前記二量体オキソノール色素と、該二量体型オキソノール色素よりも最大吸収波長が長い色素(以下、「長波色素」と呼ぶ。)を混合して用いることが好ましい。前記二量体オキソノール色素に、当該長波色素を混合することにより、記録感度を向上させることができる。
前記長波色素としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、、オキソノール系色素、Ni、Crなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物等が挙げられ、中でも特に、オキソノール系色素が好ましい。
二量体型オキソノール色素と長波色素とを混合して用いる場合、二量体型オキソノール色素(A)と長波色素(B)との混合比(A:B(質量比))は、60:40〜99:1とすることが好ましく、70:30〜98:2とすることがより好ましい。
また、本発明においては、グルーブの半値幅をW、前記記録ピットの空隙の半径方向の大きさをAとしたとき、W>Aであることが好ましい。W>Aとすることにより、隣接するグルーブに対しての記録ピットの干渉を防ぐことができノイズなどの発生を抑えることができる。
W>Aの条件を満足させることは、例えば、既述の「分解時の発熱量が小さく、分解時に気体を発生するという性質を有する色素(具体的には、色素内にニトロ基などの発熱量の大きな置換基や、過塩素酸イオン等を含まない色素)」を用い、かつ、溝部の記録層の厚みを50〜150nmとすることで実現することができる。
W>Aの条件を満足させることは、例えば、既述の「分解時の発熱量が小さく、分解時に気体を発生するという性質を有する色素(具体的には、色素内にニトロ基などの発熱量の大きな置換基や、過塩素酸イオン等を含まない色素)」を用い、かつ、溝部の記録層の厚みを50〜150nmとすることで実現することができる。
本発明の光記録媒体においては、グルーブのトラックピッチが0.4〜0.9μm以下で、かつ記録ピットのピット長(周方向のピットの長さ)が0.5μm以下となるように記録することが好ましい。当該条件を満足することにより、より高密度で記録することが可能となる。当該トラックピッチ及び記録ピットは、それぞれ、より好ましくは、0.45〜0.85μm、0.25〜0.48μmであり、さらに好ましくは、0.5〜0.8μm、0.30〜0.45μmである。
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
射出成形にて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状(螺旋状)のグルーブ(深さ:130nm、幅300nm、トラックピッチ:0.74μm)を有する厚さ0.6mm、直径120mmの基板を成形した。下記色素A1.0gと下記色素B0.5gとを、2,2,3,3−テトラフルオロペンタノール100mlに溶解して塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により上記基板のグルーブが形成された面上に塗布し、記録層を形成した。次に、記録層上に銀をスパッタして膜厚約150nmの反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂を接着剤として用いてダミー基板と貼り合わせて光ディスク(光記録媒体)を作製した。
射出成形にて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状(螺旋状)のグルーブ(深さ:130nm、幅300nm、トラックピッチ:0.74μm)を有する厚さ0.6mm、直径120mmの基板を成形した。下記色素A1.0gと下記色素B0.5gとを、2,2,3,3−テトラフルオロペンタノール100mlに溶解して塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により上記基板のグルーブが形成された面上に塗布し、記録層を形成した。次に、記録層上に銀をスパッタして膜厚約150nmの反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂を接着剤として用いてダミー基板と貼り合わせて光ディスク(光記録媒体)を作製した。
[実施例2]
射出成形にて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状(螺旋状)のグルーブ(深さ:120nm、幅300nm、トラックピッチ:0.74μm)を有する厚さ0.6mm、直径120mmの基板を成形した。前記色素B0.1875gと下記色素C1.0625gとを、2,2,3,3−テトラフルオロペンタノール100mlに溶解して塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により上記基板のグルーブが形成された面上に塗布し、記録層を形成した。次に、記録層上に銀をスパッタして膜厚約120nmの反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂を接着剤として用いてダミー基板と貼り合わせて光ディスク(光記録媒体)を作製した。
射出成形にて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状(螺旋状)のグルーブ(深さ:120nm、幅300nm、トラックピッチ:0.74μm)を有する厚さ0.6mm、直径120mmの基板を成形した。前記色素B0.1875gと下記色素C1.0625gとを、2,2,3,3−テトラフルオロペンタノール100mlに溶解して塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により上記基板のグルーブが形成された面上に塗布し、記録層を形成した。次に、記録層上に銀をスパッタして膜厚約120nmの反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂を接着剤として用いてダミー基板と貼り合わせて光ディスク(光記録媒体)を作製した。
[実施例3]
実施例2において、色素Cの代わりに、下記色素Dを用いたこと以外は、実施例2と全く同様にして、光ディスクを作製した。
実施例2において、色素Cの代わりに、下記色素Dを用いたこと以外は、実施例2と全く同様にして、光ディスクを作製した。
[比較例1]
色素A及び色素Bの代わりに下記色素Eを用いて塗布液を調製し、該塗布液を用いて記録層を形成したこと以外は実施例1と同様にして比較例1の光ディスクを作製した。
色素A及び色素Bの代わりに下記色素Eを用いて塗布液を調製し、該塗布液を用いて記録層を形成したこと以外は実施例1と同様にして比較例1の光ディスクを作製した。
[評価]
(光記録媒体の評価)
ディスクドライブ装置(DDU−1000、パルステック工業(株)製、レーザー波長:660nm、開口率:0.60)を用いて。転送レート44〜89Mbpsまで変えて、8−16変調信号を表1に示す線速度で記録した。記録パワーはそれぞれの光記録媒体で、ジッタが最も小さくなる記録パワーに設定した。その後、記録レーザー波長と同波長のレーザーを用いて再生し、ジッタを測定した。結果を表1に示す。
また、転送レート(11.08Mbps)、線速度3.49m/sで8−16変調信号を記録し、そのときの記録感度と14T変調度とを測定した。結果を表2に示す。
(光記録媒体の評価)
ディスクドライブ装置(DDU−1000、パルステック工業(株)製、レーザー波長:660nm、開口率:0.60)を用いて。転送レート44〜89Mbpsまで変えて、8−16変調信号を表1に示す線速度で記録した。記録パワーはそれぞれの光記録媒体で、ジッタが最も小さくなる記録パワーに設定した。その後、記録レーザー波長と同波長のレーザーを用いて再生し、ジッタを測定した。結果を表1に示す。
また、転送レート(11.08Mbps)、線速度3.49m/sで8−16変調信号を記録し、そのときの記録感度と14T変調度とを測定した。結果を表2に示す。
(記録ピット部断面解析)
ディスクドライブ装置(DDU−1000)で記録後、記録部をFIB(Focused Ion Bean System)加工を施し、SEMで断面形状を観察し、空隙の有無を確認した。結果を表1に示す。
ディスクドライブ装置(DDU−1000)で記録後、記録部をFIB(Focused Ion Bean System)加工を施し、SEMで断面形状を観察し、空隙の有無を確認した。結果を表1に示す。
(記録ピット部の基板変形解析)
記録済みの光記録媒体の基板を剥がし、基板に付着している色素を溶剤で洗浄した上で、基板変形の最大高さ及び最大深さを原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定した。洗浄の溶剤は、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールを使用した。また、AFMとしては、セイコーインスツルメンツ(株)製SPA−500、探針NCH−10V(日本ビーコ(株)製)を用いた。測定結果を表1に示す。
記録済みの光記録媒体の基板を剥がし、基板に付着している色素を溶剤で洗浄した上で、基板変形の最大高さ及び最大深さを原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定した。洗浄の溶剤は、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールを使用した。また、AFMとしては、セイコーインスツルメンツ(株)製SPA−500、探針NCH−10V(日本ビーコ(株)製)を用いた。測定結果を表1に示す。
表1より、線速度14m/s(44Mbps)及び28m/s(89Mbps)のいずれの記録速度においても、基板が凸状部(凹状部)の最大高さ(深さ)が3nm以上15nm以下に変形し、かつ空隙が生じた実施例1〜3の光記録媒体は、比較例と比較してジッタが小さかったことが分かる。すなわち、本発明の光記録媒体は、高速記録においても、良好なジッタが得られることが分かる。
また、表2より線速度3.49m/sの低速記録においても、実施例1〜3の光記録媒体は、比較例1と比較して、感度、ジッタ、及び変調度のいずれについても良好な結果が得られた。
また、表2より線速度3.49m/sの低速記録においても、実施例1〜3の光記録媒体は、比較例1と比較して、感度、ジッタ、及び変調度のいずれについても良好な結果が得られた。
Claims (6)
- 同心円状又は螺旋状のグルーブを有する基板のグルーブを有する面側に色素を含有する記録層が形成され、レーザー光を照射して情報の記録再生を行う光記録媒体であって、
情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、前記基板の記録ピット形成領域に対応する領域が凸状又は凹状に変形し、前記凸状部の最大高さが3nm以上15nm以下又は前記凹状部の最大深さが3nm以上15nm以下であり、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じることを特徴とする光記録媒体。 - 前記グルーブの半値幅をW、前記記録ピットの空隙の半径方向の大きさをAとしたとき、W>Aであることを特徴とする請求項1に記載の光記録媒体。
- 前記グルーブのトラックピッチが0.4〜0.9μmであり、かつ前記記録ピットの最小ピット長が0.5μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の光記録媒体。
- 前記記録層の色素として、二量体型オキソノール色素を用いることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の光記録媒体。
- 前記二量体型オキソノール色素が、下記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする請求項4に記載の光記録媒体。
- 前記記録層の色素として、前記二量体オキソノール色素と、該二量体型オキソノール色素よりも最大吸収波長が長い色素とを混合して用いることを特徴とする請求項4または5に記載の光記録媒体。
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