JP2003067989A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カバー層の厚みムラが少なく、低パワーでの
記録においても変調度が大きく、安定した記録再生特性
を有する光情報記録媒体の製造方法を提供する。 【解決手段】波長が３８０〜５００ｎｍのレーザー光で
記録再生する光情報記録媒体の製造方法であって、厚み
が０．２ｍｍ以下のシートに、１３．３３Ｐａ以下の真
空下で、温度を１５０〜３００℃とし、圧力を０．５〜
１０ｋｇ／ｃｍ²として、スタンパーの溝形状を転写し
カバー層を形成するカバー層形成工程、溝形状を転写後
のカバー層表面に記録層を形成する記録層形成工程、該
記録層表面に光反射層を形成する光反射層形成工程、及
び該該光反射層表面に接着層を介して基板を形成する基
板形成工程、を有する光情報記録媒体の製造方法であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体に
関し、特にヒートモードによる追記型の光情報記録媒体
の製造方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来から、レーザ光により一回限りの情
報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知ら
れている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−
Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基
板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からなる光
反射層、さらに樹脂製の保護層（カバー層）がこの順に
積層したものである。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記
録は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波
長のレーザ光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行わ
れ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度
上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの
生成）によりその部分の光学的特性が変化することによ
り情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）も
また記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光をＣＤ−Ｒ
に照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変
化した部位（記録部分）と変化していない部位（未記録
部分）との反射率の違いを検出することにより行われて
いる。 【０００３】近年、記録密度のより高い光情報記録媒体
が求められている。このような要望に対して、追記型デ
ジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）
と称される光ディスクが提案されている（例えば、「日
経ニューメディア」別冊「ＤＶＤ」、１９９５年発
行）。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光のトラッ
キングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒの半
分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成
された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有す
る記録層、光反射層、および保護層をこの順に積層した
ディスク２枚を記録層を内側にして貼り合わせた構造、
あるいはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを
記録層を内側にして貼り合わせた構造を有している。そ
して、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録および再生は、可
視レーザ光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の
波長のレーザ光）を照射することにより行われており、
ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。 【０００４】最近、インターネット等のネットワークや
ハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴ
Ｖ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓ
ｉｏｎ）の放映開始も間近にひかえている。このような
状況の下で、画像情報を安価簡便に記録することができ
る大容量の記録媒体が必要とされている。ＤＶＤ−Ｒは
現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たし
ているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であ
り、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要で
ある。このため、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長の光で高
密度の記録を行なうことができる、より大容量の記録媒
体の開発が進められている。 【０００５】例えば、特開平４−７４６９０号公報、特
開平７−３０４２５６号公報、特開平７−３０４２５７
号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３
７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−
３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同
１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３
号公報、同２０００−１０８５１３号公報、同２０００
−１１３５０４号公報、同２０００−１４９３２０号公
報、同２０００−１５８８１８号公報、および同２００
０−２２８０２８号公報には、有機色素を含む記録層を
有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層
側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザ光を照射するこ
とにより、情報の記録および再生を行う記録再生方法が
開示されている。これらの方法では、ポルフィリン化合
物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色
素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル
骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等
を含有する記録層を備えた光ディスクに、青色（波長４
３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）
のレーザ光を照射することにより情報の記録および再生
を行っている。 【０００６】一方、ＤＶＤとして相変化型の光ディスク
が知られているが、これは、記録層としてＧｅＳｂＴｅ
等の合金層を採用し、記録層にレーザー光で瞬間的に加
熱して、結晶状態からアモルファス状態に相変化させ、
相変化により変わる反射率を利用して記録再生する方式
である。最近、この相変化型のＤＶＤを用いて、青紫レ
ーザーにより記録再生をおこなうＤＶＲシステムが発表
された（「ＩＳＯＭ２０００」２１０〜２１１頁）。こ
のシステムにより、高密度化という課題に対しては一定
の成果が達成された。 【０００７】このような光ディスクの製造は、一般に、
溝を設けた基板の表面に反射層を形成し、その上に記録
層を形成し、さらにその上にカバー層を形成することに
よって行う。この製造方法によると、溝に沿って反射層
が形成されているため、反射層が溝の影響を受け、特に
グルーブにおいて反射率が低くなる。また、カバー層を
形成する手法として、スタンパーに紫外線硬化樹脂を塗
り、紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化させ、その
後剥離して形成するという２P法が知られているが、カ
バー層の厚みムラは１００μｍで±１μｍ以内と厳格な
要求があり、２P法ではこの要求を満足するのが困難で
ある。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】本発明は以上の従来の
問題点に鑑み、以下の目的を達成することを課題とす
る。即ち、本発明の目的は、カバー層の厚みムラが少な
く、低パワーでの記録においても変調度が大きく、安定
した記録再生特性を有する光情報記録媒体の製造方法を
提供することにある。 【０００９】 【課題を解決するための手段】前記課題を解決する手段
は以下の通りである。即ち、波長が３８０〜５００ｎｍ
のレーザー光で記録再生する光情報記録媒体の製造方法
であって、厚みが０．２ｍｍ以下のシートに、１３．３
３Ｐａ以下の真空下で、温度を１５０〜３００℃とし、
圧力を０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ²として、スタンパーの
溝形状を転写しカバー層を形成するカバー層形成工程；
溝形状を転写後のカバー層表面に記録層を形成する記録
層形成工程；該記録層表面に光反射層を形成する光反射
層形成工程；及び該該光反射層表面に接着層を介して基
板を形成する基板形成工程；を有することを特徴とする
光情報記録媒体の製造方法である。 【００１０】上記のような製造方法の特に好ましい態様
は以下の通りである。 （１） 前記カバー層が、ポリカーボネート、又は３酢
酸セルロースからなる。 （２） 前記カバー層に形成された溝のトラックピッチ
が３００〜６００ｎｍで、溝深さが４０ｎｍ〜１５０ｎ
ｍである。 （３） 前記記録層が、有機色素からなる層である。 【００１１】 【発明の実施の形態】以下、本発明による光情報記録媒
体の製造方法の実施形態について説明する。先ず、本発
明の製造方法により得られる光情報記録媒体について説
明する。該光情報記録媒体は、カバー層表面に、記録層
と、光反射層と、接着層と、基板とをこの順に有し、必
要に応じてその他の層を有してなる。以下、カバー層及
び各層について説明する。 【００１２】＜カバー層＞カバー層は、光情報記録媒体
内部への水分の侵入を防ぐために形成され、透明な材質
であれば特に限定されないが、光透過性に優れ、かつ後
述の溝形状の転写の容易性から、ポリカーボネート、ま
たは三酢酸セルロースであり、より好ましくは、２３℃
５０％ＲＨでの吸湿率が５％以下の材料から選ばれる。
なお、「透明」とは、記録光および再生光の光に対し
て、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明
であることを意味する。 【００１３】本発明においては、カバー層の厚みは０．
２ｍｍ以下であり、下限は０．０２ｍｍ程度である。よ
り好ましい厚さは０．０５〜０．１５ｍｍである。カバ
ー層の記録層側表面には、後述するスタンパーによる所
定の溝形状が転写されている。より具体的には、トラッ
キング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす
凹凸（プレグルーブ）が形成されている。より高い記録
密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、
より狭いトラックピッチのプレグルーブを形成すること
が好ましい。プレグルーブのトラックピッチは、３００
〜６００μｍであることが好ましい。また、プレグルー
ブの深さ（溝深さ）は、４０〜１５０ｎｍの範囲である
ことが好ましい。 【００１４】＜記録層＞記録層は、上記カバー層上に形
成され、波長３８０〜５００ｎｍのレーザ光により情報
の記録再生が可能で、３００〜４５０ｎｍに吸収極大を
持ち、記録レーザー波長での吸光度が０．０７以上であ
る有機溶剤溶解性化合物を含有していることが好まし
い。なお、「記録レーザー波長」とは、光記録媒体に照
射するレーザーの波長をいい、ＤＶＤの場合は、６３５
ｎｍ、６５０ｎｍ、ＤＶＲの場合は、４０５ｎｍであ
る。また、「吸光度」とは、有機溶剤溶解性化合物が、
アモルファス膜状態で光の吸収する度合を表す量であ
り、吸収によってその光の強さがＩ₀→Ｉになったとき
吸光度Ａ＝ｌｏｇ₁₀（Ｉ₀／Ｉ）で与えられる。 【００１５】また、前記有機溶剤溶解性化合物は、記録
層中に５０〜１００質量％含有されていることが好まし
く、７０〜１００質量％含有されていることがより好ま
しい。５０質量％未満とすると、吸収が少なくなり、記
録特性がとれなくなることがある。 【００１６】前記有機溶剤溶解性化合物としては、フタ
ロシアニン化合物、ポリフィリン系化合物、トリアゾー
ル系化合物、アミノブタジエン系化合物、シアニン系化
合物等でこれらの少なくとも一種であることが好まし
く、フタロシアニン化合物としては、アルコキシ置換
体、スルホンアミド置換体、スルフォモイル置換体、ス
ルホン酸置換体のついてものの少なくとも一種であるこ
とが好ましい。 【００１７】また、特開平４−７４６９０号公報、特開
平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公
報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０
５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３
４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同
２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１
５８８１８号公報等に記載されている色素を併用するこ
とができる。さらに、上記色素には限定されず、トリア
ゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メ
ロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシ
アニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ
化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベン
ゾトリアゾール化合物等の有機化合物も好適に用いられ
る。これらの化合物の中では、シアニン化合物、アミノ
ブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、フタロ
シアニン化合物が特に好ましい。 【００１８】＜光反射層＞光反射層には、レーザ光に対
する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射
率としては、７０％以上である。反射率の高い光反射性
物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、
Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａ
ｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇ
ｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金
属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これら
の光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種
以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これ
らのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、
Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ま
しくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であ
り、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金
である。 【００１９】＜接着層＞接着層は、上記記録層と、後述
する基板との密着性を向上させるために形成される任意
の層である。接着層を構成する材料としては、光硬化性
樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するた
め、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光
硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「Ｓ
Ｄ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂
（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、接
着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μ
ｍの範囲が好ましく、５〜５００μｍの範囲がより好ま
しく、１０〜１００μｍの範囲が特に好ましい。 【００２０】接着層を形成する材料の他の例を挙げる。
該材料は、放射線照射により硬化可能な樹脂であって、
分子中に２個以上の放射線官能性の２重結合を有する樹
脂であり、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、
メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリ
ル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類などが
あげられる。好ましくは２官能以上のアクリレート化合
物、メタクリレート化合物である。 【００２１】２官能の具体例としては、エチレングリコ
ールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレ
ート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエ
チレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアク
リレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロ
ピレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジ
メタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、
ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレン
グリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコー
ルジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート
などに代表される脂肪族ジオールにアクリル酸、メタク
リル酸を付加させたものを用いることができる。 【００２２】また、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなど
のポリエーテルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸
を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメ
タクリレートや公知の二塩基酸、グリコールから得られ
たポリエステルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸
を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステル
メタクリレートも用いることができる。さらに、公知の
ポリオール、ジオールとポリイソシアネートを反応させ
たポリウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させ
たポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレ
ートを用いてもよい。 【００２３】また、ビスフェノールＡ、ビスフェノール
Ｆ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦ
やこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、
メタクリル酸を付加させたものやイソシアヌル酸アルキ
レンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸ア
ルキレンオキサイド変性ジメタアクリレート、トリシク
ロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカ
ンジメタノールジメタクリレートなどの環状構造を有す
るものも用いることができる。 【００２４】前記放射線としては、電子線および紫外線
を使用することができる。紫外線を使用する場合には以
下の化合物に光重合開始剤を添加することが必要とな
る。光重合開始剤として芳香族ケトンが使用される。芳
香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源と
して通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる。
２５４，３１３，８６５ｎｍの波長において吸光係数の
比較的大なるものが好ましい。その代表例としては、ア
セトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエー
テル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケター
ル、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチル
フェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、２−２ジエトキシアセトフェノン、Ｍｉｃｈ
ｌｅｒ’ｓケトンなどがあり、種々の芳香族ケトンが使
用できる。芳香族ケトンの混合比率は、化合物（ａ）１
００質量部に対し０．５〜２０質量部、好ましくは２〜
１５質量部、さらに好ましくは３〜１０質量部である。
紫外線硬化型接着剤としてあらかじめ光開始剤を添加し
たものが市販しており、それを使用してもかまわない。
紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は２
０〜２００Ｗ／ｃｍのランプを用い速度０．３ｍ／分〜
２０ｍ／分で使用される。基体と水銀灯との距離は一般
に１〜３０ｃｍであることが好ましい。 【００２５】電子線加速器としてはスキャニング方式、
ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が
採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得ら
れるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、
加速電圧が１００〜１０００ｋＶ、好ましくは１５０〜
３００ｋＶであり、吸収線量として０．５〜２０Ｍｒａ
ｄ、好ましくは１〜１０Ｍｒａｄである。加速電圧が１
０ｋＶ以下の場合は、エネルギーの透過量が不足し１０
００ｋＶを超えると重合に使われるエネルギー効率が低
下しコスト的に好ましくない。 【００２６】＜基板＞基板としては、従来の光情報記録
媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意
に選択して使用することができる。具体的には、ガラ
ス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリ
オレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等
を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよ
い。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価
格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオ
レフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好まし
い。また、基板の厚さは、０．５〜１．４ｍｍとするこ
とが好ましい。 【００２７】なお、光反射層側の基板表面には、平面性
の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成すること
が好ましい。該下塗層の材料としては、例えば、ポリメ
チルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合
体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルア
ルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・
ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレ
ン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオ
レフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩
化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高
分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙
げることができる。下塗層は、上記材料を適当な溶剤に
溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液を
スピンコート、ディップコート、エクストルージョンコ
ート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形
成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００
５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０
μｍの範囲である。 【００２８】また、本発明の光情報記録媒体において
は、光反射層と記録層との間に、記録層の特性に応じて
誘電体層または光透過層を形成することができる。例え
ば、記録層との接着性向上のための光透過層を設けても
よく、相変化型の記録層を設けた場合には、放熱のため
の誘電体層を設けてもよい。誘電体層としては、Ｚｎ、
Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化
物、炭化物、硫化物からなる材料を使用することが好ま
しく、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂のようなものであってもよい。
光透過層としては、レーザー波長で９０％以上の透過率
があるものであれば如何なる材料をも使用することがで
きる。 【００２９】上記誘電体層または光透過層は、従来公知
の方法により形成することができる。誘電体層の厚さ
は、１〜１００ｎｍとすることが好ましく、光透過層の
厚さは、２〜５０ｎｍとすることが好ましい。 【００３０】［光情報記録媒体の製造方法］次に、以上
の光情報記録媒体を製造する本発明の製造方法について
詳述する。 【００３１】＜カバー層形成工程＞ポリカーボネート、
または三酢酸セルロースのシートを用意し、１３．３３
Ｐａ以下の真空下で、温度を１５０〜３００℃とし、圧
力を０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ²として、スタンパーの溝
形状をシートに転写しカバー層を形成する。具体的に
は、シートを、スタンパーとシリコンウエハーとで挟み
込み、上記条件下で転写しカバー層を形成する。 【００３２】前記シートとしては、ポリカーボネート、
または三酢酸セルロースが特に好ましいが、その他に
も、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタ
レート等も用いることができる。 【００３３】カバー層形成工程における真空度として
は、より好ましくは、１Ｐａ以下であり、さらに好まし
くは、０．１Ｐａ以下である。真空度が１３．３３Ｐａ
を超えると、空気が残りやすくなり、転写の効率が悪く
なって形成される溝の質が低下するようになる。 【００３４】また、カバー層形成工程における温度とし
ては、より好ましくは、１８０〜２８０℃であり、さら
に好ましくは、２００〜２４０℃である。温度が１５０
℃未満、及び３００℃を超えると、溝形状を転写するこ
とができない。 【００３５】カバー層形成工程における圧力は、より好
ましくは、１．０〜９ｋｇ／ｃｍ²であり、さらに好ま
しくは、２〜８ｋｇ／ｃｍ²である。圧力が０．５ｋｇ
／ｃｍ²未満では、グルーブを形成することができな
い。また、１０ｋｇ／ｃｍ²を超えると、シートが破断
してしまう。 【００３６】カバー層形成工程において、以上の条件で
スタンパーの溝形状を転写することにより、光情報記録
媒体の変調度を大きくすることができるとともに、カバ
ー層の厚みムラを少なくすることができる。 【００３７】＜記録層形成工程＞記録層は、上記色素
（有機溶剤溶解性化合物等）等の記録物質を、結合剤等
と共に適当な溶剤に溶解して記録層塗布液を調製し、次
いでこの記録層塗布液を、スタンパーの溝形状が転写さ
れたカバー層上に塗布して塗膜を形成したのち乾燥する
ことにより形成される。記録層塗布液中の記録物質の濃
度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ま
しくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．
５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％
の範囲である。また、記録物質等を溶解処理する方法と
しては、超音波処理、ホモジナイザー、加温等の方法を
適用することができる。 【００３８】記録層塗布液を調製する際の溶剤として
は、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等
のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、
１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化
水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロ
ヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエ
ーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プ
ロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセ
トンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テト
ラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができ
る。 【００３９】上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考
慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用す
ることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ
吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて
添加してもよい。 【００４０】結合剤を使用する場合に、結合剤の例とし
ては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロ
ジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭
化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系
樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル
等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリ
エチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導
体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹
脂の初期縮合物等の合成有機高分子；等を挙げることが
できる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、
結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍
量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．
１〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調
製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１
〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量
％の範囲にある。 【００４１】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げるこ
とができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記
録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、
好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好まし
くは５０〜１００ｎｍの範囲にある。また、塗布温度と
しては、２３〜５０℃であれば特に問題はないが、好ま
しくは２４〜４０℃、さらに好ましくは２５〜３７℃で
ある。 【００４２】粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃
の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好まし
く、２５〜３７℃の範囲がさらに好ましい。ディスクの
反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス
型の光照射器（好ましくは、ＵＶ照射器）を用いて行う
のが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、
μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの照射光量は特
に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ²以下が好ましく、２
ｋＷ／ｃｍ²以下がより好ましい。また、照射回数は特
に制限されないが、２０回以下が好ましく、１０回以下
がより好ましい 【００４３】記録層には、該記録層の耐光性を向上させ
るために、種々の褪色防止剤を含有させることができ
る。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチ
ャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、
既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用す
ることができる。その具体例としては、特開昭５８−１
７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０
−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６
０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同
６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、
同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公
報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号
公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９
号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５
４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同
６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３
９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号
第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。 【００４４】前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止
剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通
常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．
５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量
％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲であ
る。 【００４５】＜光反射層形成工程＞光反射層は、前述し
た光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプ
レーティングすることにより記録層上に形成することが
できる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎ
ｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好
ましい。 【００４６】このように、本発明の製造方法は、溝を設
けたカバー層に記録層、光反射層を形成するという、従
来の製造方法とは逆のプロセスであり、カバー層の溝に
沿って記録層が形成されるため、その上に形成される光
反射層は溝の影響を受けず、反射率の低下を抑えること
ができる。 【００４７】＜基板形成工程＞基板は、接着層を構成す
る光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し
た後、この塗布液を所定温度で記録層上に塗布して塗布
膜を形成し、該塗布膜上に、例えばプラスチックの押出
加工で得られた三酢酸セルロースフィルム（ＴＡＣフィ
ルム）をラミネートし、ラミネートしたＴＡＣフィルム
の上から光を照射して塗布膜を硬化させて、形成され
る。前記ＴＡＣフィルムとしては、紫外線吸収剤を含む
ものが好ましい。基板の厚さは、０．３〜０．０１ｍｍ
の範囲であり、好ましくは０．２〜０．０３ｍｍの範
囲、より好ましくは０．１５〜０．０５ｍｍの範囲であ
る。 【００４８】 【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。 【００４９】（実施例１〜８）カバー層として、厚さ
０．１ｍｍのポリカーボネートシート（ピュアエース帝
人社製膜厚１００ミクロン）を、スタンパー（深さ７５
ｎｍ、幅０．１１μｍ，トラックピッチ０．３ｎｍ）と
鏡面のシリコンウエハーとで挟み込んだものを真空下
（１３．３３Ｐａ（１０^-1ｔｏｒｒ）以下）で、各実施
例毎に、表１に示す温度および圧力（熱転写条件）で処
理し溝を転写させた。次に、オラツールプルＧＮ（フタ
ロシアニンｃｉｂａスペシャリティケミカル社製）を、
２，２，３，３，−テトラフルオロプロパノールと混合
し２％として、２時間超音波を照射して溶解し色素塗布
液を調製した。この色素塗布液をスピンコート法により
上記溝を転写したカバー層の表面に回転数を３００ｒｐ
ｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃５０％
ＲＨの条件で塗布し記録層を形成した。その後、銀を８
０ｎｍスパッタし、ＵＶ硬化接着剤（大日本インキ化学
社製ＳＤ−３４７）をスピンコート法により１００〜３
００ｒｐｍで塗布し光反射層を形成し、１．１ｍｍのポ
リカーボネート基板（帝人社製ポリカーボネート商品名
パンライトＡＤ５５０３）を重ね合わせ、その後３００
ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら全面に接
着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線を照射して
硬化させ、サンプルを作製した。 【００５０】 【表１】 【００５１】（実施例９〜１３）カバー層として、厚さ
０．１ｍｍの３酢酸セルロースシート（富士写真フイル
ム（株）製、膜厚１００ミクロン）を、スタンパー（深
さ７５ｎｍ、幅０．１１μｍ，トラックピッチ０．３ｎ
ｍ）と鏡面のシリコンウェハーとで挟み込んだものを真
空下（１３．３３Ｐａ（１０^-1ｔｏｒｒ）以下）で、各
実施例毎に、表１に示す温度および圧力（熱転写条件）
で処理し溝を転写させた。次に、オラゾールプルＧＮ
（フタロシアニンｃｉｂａスペシャリティケミカル社
製）を、２，２，３，３，−テトラフルオロプロパノー
ルと混合し２％として２時間超音波を照射して溶解し色
素塗布液を調整した。この色素塗布液をスピンコート法
により上記溝を転写したカバー層の表面に回転数を３０
０ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃
５０％ＲＨの条件で塗布し記録層を形成した。その後、
銀を８０ｎｍスパッタし、ＵＶ硬化接着剤（大日本イン
キ化学社製ＳＤ−３４７）をスピンコート法により１０
０〜３００ｒｐｍで塗布し光反射層を形成し、１．１ｍ
ｍのポリカーボネート基板（帝人社製ポリカーボネー
ト、商品名パンライトＡＤ５５０３）を重ね合わせ、そ
の後３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させなが
ら全面に、接着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外
線を照射して硬化させ、サンプルを作製した。 【００５２】（比較例１〜４）表１に示す熱転写条件に
変えた以外は、実施例１〜８と同様にサンプルを作製し
た。 【００５３】（比較例５〜７）表１に示す熱転写条件に
変えた以外は、実施例９〜１３と同様にサンプルを作製
した。 【００５４】（比較例８）厚さ１．１ｍｍ、直径１２０
ｍｍのスパイラル状のグルーブ（深さ７５ｎｍ、幅０．
１１μｍ，トラックピッチ０．３ｍｍ）を有する射出成
形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネート、
商品名パンライトＡＤ５５０３）基板のグルーブを有す
る面上に、Ａｇをスパッタして１００ｍｍの膜厚の光反
射層を形成した。次に、スーパークリーン（フタロシア
ニンｃｉｂａスペシャリティケミカル社製）を２，２，
３，３，−テトラフルオロプロパノールと混合し２％と
して２時間超音波を照射して溶解し色素塗布液を調製し
た。この色素塗布液をスピンコート法により回転数を３
００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら２３
℃５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２５℃で１時
間保存し、ＳｉＯ₂膜をスパッタして９０ｎｍの膜厚の
光透過膜を形成した。続いて、ＵＶ硬化接着剤（大日本
インキ化学社製ＳＤ−３４７）をスピンコート法により
１００〜３００ｒｐｍで塗布し、ポリカーボネートシー
ト（ピュアエース帝人社製膜厚８０ミクロン）を重ね合
わせ、３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させな
がら全面に接着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外
線をパルス照射して硬化させ、サンプルを作製した。 【００５５】（比較例９）厚さ１．１ｍｍ、直径１２０
ｍｍのスパイラル状のグルーブ（深さ７５ｎｍ、幅０．
１１μｍ，トラックピッチ０．３ｎｍ）を有する射出成
形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネート、
商品名パンライトＡＤ５５０３）基板のグルーブを有す
る面上に、Ａｇをスパッタして１００ｎｍの膜厚の反射
層を形成した。次に、オラゾールブルＧＮ（フタロシア
ニンｃｉｂａスペシャリティケミカル社製）を、２，
２，３，３，−テトラフルオロプロパノ一ルと混合し２
％として２時間超音波照射して溶解し色素塗布液を調製
した。この色素塗布液をスピンコート法により回転数を
３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら２
３℃５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２５℃で１
時間保存し、ＵＶ硬化接着剤（大日本インキ化学社製Ｓ
Ｄ−３４７）をスピンコート法により１００〜３００ｒ
ｐｍで塗布し、ポリカーボネートシート（ピュアエース
帝人社製膜厚８０ミクロン）を重ね合わせ、３００ｒｐ
ｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら全面に接着剤
を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線をパルス照射し
て硬化させサンプルを作製した。 【００５６】（評価）以上の実施例１〜１３、及び比較
例１〜８の光情報記録媒体を、４０５ｎｍのレーザー光
を射出するＤＤＵ−１０００（パルステック社製）を用
いて、３Ｔ−１４Ｔ信号を８ｍＷで記録し、全体の変調
度を測定した。その測定結果を表１に示す。比較例１〜
９の光情報記録媒体では、低パワーにおける記録での変
調度が５０未満と小さかったのに対し、熱転写条件が本
発明の範囲内である実施例１〜１３の光情報記録媒体
は、変調度が５０以上と大きかった。 【００５７】 【発明の効果】本発明によれば、カバー層の厚みムラが
少なく、低パワーでの記録においても変調度が大きく、
安定した記録再生特性を有する光情報記録媒体の製造方
法を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 斉藤 真二 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 5D121 AA01 AA04 AA05 DD06 EE28 GG10

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 波長が３８０〜５００ｎｍのレーザー光
   で記録再生する光情報記録媒体の製造方法であって、 厚みが０．２ｍｍ以下のシートに、１３．３３Ｐａ以下
   の真空下で、温度を１５０〜３００℃とし、圧力を０．
   ５〜１０ｋｇ／ｃｍ²として、スタンパーの溝形状を転
   写しカバー層を形成するカバー層形成工程；溝形状を転
   写後のカバー層表面に記録層を形成する記録層形成工
   程；該記録層表面に光反射層を形成する光反射層形成工
   程；及び該該光反射層表面に接着層を介して基板を形成
   する基板形成工程；を有することを特徴とする光情報記
   録媒体の製造方法。