JP2003187504A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ジッタ−が良好で、ノイズが少なく、安定し
た記録再生特性をもつ光情報記録媒体の製造方法を提供
する。 【解決手段】 トラックピッチが２００〜４００ｎｍ
で、溝深さが２０〜１５０ｎｍで、波長が４５０ｎｍ以
下の光で記録再生する光情報記録媒体の製造方法であっ
て、基板上に金属反射層を形成する金属反射層形成工
程；該金属反射層上に有機色素系の記録層を形成する記
録層形成工程；及び該記録層上に０．０１〜０．５ｍｍ
のカバー層を形成するカバー層形成工程；をこの順に有
し、前記金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー
層形成工程開始までの時間が１２時間以下である光情報
記録媒体の製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体の
製造方法に関し、特にヒートモードによる追記型光情報
録媒体の製造方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来から、レーザー光により一回限りの
情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知
られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ
−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状
基板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からなる
光反射層（金属反射層）、さらに樹脂製の保護層（カバ
ー層）がこの順に積層したものである。そしてこのＣＤ
−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光（通常は７
８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射す
ることにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収
して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化
（例えば、ピットの生成）によりその部分の光学的特性
が変化することにより情報が記録される。一方、情報の
読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長
のレーザー光をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、
記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化
していない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出
することにより行われている。 【０００３】近年、記録密度のより高い光情報記録媒体
が求められている。このような要望に対して、追記型デ
ジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）
と称される光ディスクが提案されている（例えば、「日
経ニューメディア」別冊「ＤＶＤ」、１９９５年発
行）。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光のトラッ
キングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒの半
分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成
された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有す
る記録層、光反射層（金属反射層）、および保護層をこ
の順に積層したディスク２枚を記録層を内側にして貼り
合わせた構造、あるいはこのディスクと同じ形状の円盤
状保護基板とを記録層を内側にして貼り合わせた構造を
有している。そして、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録お
よび再生は、可視レーザー光（通常は、６３０ｎｍ〜６
８０ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することに
より行われており、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能で
ある。 【０００４】最近、インターネット等のネットワークや
ハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴ
Ｖ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓ
ｉｏｎ）の放映開始も間近にひかえている。このような
状況の下で、画像情報を安価簡便に記録することができ
る大容量の記録媒体が必要とされている。ＤＶＤ−Ｒは
現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たし
ているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であ
り、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要で
ある。このため、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長の光で高
密度の記録を行なうことができる、より大容量の記録媒
体の開発が進められている。 【０００５】例えば、特開平４−７４６９０号公報、特
開平７−３０４２５６号公報、特開平７−３０４２５７
号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３
７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−
３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同
１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３
号公報、同２０００−１０８５１３号公報、同２０００
−１１３５０４号公報、同２０００−１４９３２０号公
報、同２０００−１５８８１８号公報、および同２００
０−２２８０２８号公報には、有機色素を含む記録層を
有する光情報記録媒体において、記録層側から金属反射
層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザー光を照射す
ることにより、情報の記録および再生を行う記録再生方
法が開示されている。これらの方法では、ポルフィリン
化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系
色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニ
ル骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物
等を含有する記録層を備えた光ディスクに、青色（波長
４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎ
ｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録および
再生を行っている。 【０００６】一方、ＤＶＤとして相変化型の光ディスク
が知られているが、これは、記録層としてＧｅＳｂＴｅ
等の合金層を採用し、記録層にレーザー光で瞬間的に加
熱して、結晶状態からアモルファス状態に相変化させ、
相変化により変わる反射率を利用して記録再生する方式
である。最近、この相変化型のＤＶＤを用いて、青紫レ
ーザーにより記録再生をおこなうＤＶＲシステムが発表
された（「ＩＳＯＭ２０００」２１０〜２１１頁）。こ
のシステムにより、高密度化という課題に対しては一定
の成果が達成された。 【０００７】以上の光情報記録媒体の製造において、Ｄ
ＶＤ−Ｒ、ＣＤ−Ｒの場合においては、一般に、基板上
に記録層を形成し、その上に金属反射層を形成する。そ
のため、金属反射層の記録層側の面は空気に晒されるこ
とはない。一方、ＤＶＲの場合においては、基板上に金
属反射層を形成し、その上に記録層を形成するため、金
属反射層の記録層側の面は、記録層を形成するまでの
間、空気に晒されることになる。金属反射層は、一般
に、Ａｇ、Ａｌ等の金属をスパッタ法によって成膜し形
成されるが、形成された層が空気に晒されることにより
表面が空気中の水分や温度の影響により酸化され、金属
反射層表面の粗さを悪化させるという問題があった。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の従来
の問題点に鑑みてなされたものであり、以下の目的を達
成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、ジッ
タ−が良好で、ノイズが少なく、安定した記録再生特性
をもつ光情報記録媒体の製造方法を提供することにあ
る。 【０００９】 【課題を解決するための手段】前記課題を解決する手段
は以下の通りである。即ち、トラックピッチが２００〜
４００ｎｍで、溝深さが２０〜１５０ｎｍで、波長が４
５０ｎｍ以下の光で記録再生する光情報記録媒体の製造
方法であって、基板上に金属反射層を形成する金属反射
層形成工程；該金属反射層上に有機色素系の記録層を形
成する記録層形成工程；及び該記録層上に０．０１〜
０．５ｍｍのカバー層を形成するカバー層形成工程；を
この順に有し、前記金属反射層形成工程の終了直後から
前記カバー層形成工程開始までの時間が１２時間以下で
あることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法であ
る。 【００１０】前記金属反射層形成工程の終了直後から前
記カバー層形成工程開始までの保存温度は２０〜４０℃
で、保存湿度は３０〜８０％とすることが好ましい。 【００１１】前記金属反射層はスパッタ法で形成するこ
とが好ましい。また、前記有機色素系の記録層は、塗布
法で形成することが好ましい。 【００１２】 【発明の実施の形態】以下、本発明の光情報記録媒体の
製造方法の実施の形態について説明する。本発明の光情
報記録媒体の製造方法は、トラックピッチが２００〜４
００ｎｍで、溝深さが２０〜１５０ｎｍで、波長が４５
０ｎｍ以下の光で記録再生する光情報記録媒体の製造方
法であって、基板上に金属反射層を形成する金属反射層
形成工程と、該金属反射層上に有機色素系の記録層を形
成する記録層形成工程と、該記録層上に０．０１〜０．
５ｍｍのカバー層を形成するカバー層形成工程とをこの
順に有し、前記金属反射層形成工程の終了直後から前記
カバー層形成工程開始までの時間が１２時間以下である
ことに特徴を有する。以下、先ず本発明の製造方法によ
って製造される光情報記録媒体の基板及び各層について
説明する。 【００１３】＜基板＞基板としては、従来の光情報記録
媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意
に選択して使用することができる。具体的には、ガラ
ス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリ
オレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等
を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよ
い。前記材料の中では、耐久性、耐湿性、寸法安定性お
よび低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファ
スポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に
好ましい。また、基板の厚さは、１．１±０．３ｍｍと
することが好ましい。 【００１４】基板には、トラッキング用の案内溝または
アドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）が
形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣ
Ｄ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチ
のプレグルーブが形成された基板を用いることが好まし
い。プレグルーブのトラックピッチは、２８０〜３４ｎ
ｍである。また、プレグルーブの深さ（溝深さ）は、２
０〜１５０ｎｍの範囲である。 【００１５】なお、後述する金属反射層が設けられる側
の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的
で、下塗層を形成することが好ましい。該下塗層の材料
としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリ
ル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン
酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールア
クリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、ク
ロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ
塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポ
リイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン
・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリ
ング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。下塗層
は、前記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液
を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコ
ート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板
表面に塗布することにより形成することができる。下塗
層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあ
り、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。 【００１６】＜金属反射層＞金属反射層には、レーザ光
に対する反射率が高い光反射性金属が用いられる。当該
反射率としては、７０％以上である。反射率の高い光反
射性金属としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈ
ｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃ
ｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓ
ｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属およ
び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。
これらの光反射性金属は単独で用いてもよいし、あるい
は二種以上の組合せで、または合金として用いてもよ
い。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐ
ｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼であ
る。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれら
の合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこ
れらの合金である。 【００１７】＜記録層＞記録層は、前記金属反射層上に
形成され、波長が４５０ｎｍ以下のレーザ光により情報
の記録再生が可能な有機色素系の記録物質の層である。
前記有機色素としては、トリアゾール系化合物、フタロ
シアニン化合物、ポリフィリン系化合物、アミノブタジ
エン系化合物、シアニン系化合物等でこれらの少なくと
も一種であることが好ましく、フタロシアニン化合物と
しては、アルコキシ置換体、スルホンアミド置換体、ス
ルフォモイル置換体、スルホン酸置換体のついてものの
少なくとも一種であることが好ましい。 【００１８】また、特開平４−７４６９０号公報、特開
平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公
報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０
５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３
４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同
２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１
５８８１８号公報等に記載されている色素を併用するこ
とができる。さらに、前記色素には限定されず、トリア
ゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メ
ロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシ
アニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ
化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベン
ゾトリアゾール誘導体等の有機化合物も好適に用いられ
る。これらの化合物の中では、シアニン化合物、アミノ
ブタジエン化合物、、ベンゾトリアゾール化合物、フタ
ロシアニン化合物が特に好ましい。 【００１９】＜接着層＞接着層は、前記記録層と、後述
するカバー層との密着性を向上させるために形成される
任意の層である。接着層を構成する材料としては、光硬
化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止す
るため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このよう
な光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工
業（株）製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−６６１」、
「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着
剤）を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾
力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好まし
く、５〜５００μｍの範囲がより好ましく、１０〜１０
０μｍの範囲が特に好ましい。 【００２０】接着層を形成する材料の他の例を挙げる。
該材料は、放射線照射により硬化可能な樹脂であって、
分子中に２個以上の放射線官能性の２重結合を有する樹
脂であり、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、
メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリ
ル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類などが
あげられる。好ましくは２官能以上のアクリレート化合
物、メタクリレート化合物である。 【００２１】２官能の具体例としては、エチレングリコ
ールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレ
ート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエ
チレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアク
リレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロ
ピレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジ
メタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、
ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレン
グリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコー
ルジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート
などに代表される脂肪族ジオールにアクリル酸、メタク
リル酸を付加させたものを用いることができる。 【００２２】また、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなど
のポリエーテルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸
を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメ
タクリレートや公知の二塩基酸、グリコールから得られ
たポリエステルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸
を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステル
メタクリレートも用いることができる。さらに、公知の
ポリオール、ジオールとポリイソシアネートを反応させ
たポリウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させ
たポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレ
ートを用いてもよい。 【００２３】また、ビスフェノールＡ、ビスフェノール
Ｆ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦ
やこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、
メタクリル酸を付加させたものやイソシアヌル酸アルキ
レンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸ア
ルキレンオキサイド変性ジメタアクリレート、トリシク
ロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカ
ンジメタノールジメタクリレートなどの環状構造を有す
るものも用いることができる。 【００２４】前記放射線としては、電子線および紫外線
を使用することができる。紫外線を使用する場合には以
下の化合物に光重合開始剤を添加することが必要とな
る。光重合開始剤として芳香族ケトンが使用される。芳
香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源と
して通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる。
２５４，３１３，８６５ｎｍの波長において吸光係数の
比較的大なるものが好ましい。その代表例としては、ア
セトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエー
テル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケター
ル、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチル
フェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、２−２ジエトキシアセトフェノン、Ｍｉｃｈ
ｌｅｒ’ｓケトンなどがあり、種々の芳香族ケトンが使
用できる。芳香族ケトンの混合比率は、化合物（ａ）１
００質量部に対し０．５〜２０質量部、好ましくは２〜
１５質量部、さらに好ましくは３〜１０質量部である。
紫外線硬化型接着剤としてあらかじめ光開始剤を添加し
たものが市販しており、それを使用してもかまわない。
紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。水銀灯は２
０〜２００Ｗ／ｃｍのランプを用い速度０．３ｍ／分〜
２０ｍ／分で使用される。基体と水銀灯との距離は一般
に１〜３０ｃｍであることが好ましい。 【００２５】電子線加速器としてはスキャニング方式、
ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が
採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得ら
れるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、
加速電圧が１００〜１０００ｋＶ、好ましくは１５０〜
３００ｋＶであり、吸収線量として０．５〜２０Ｍｒａ
ｄ、好ましくは１〜１０Ｍｒａｄである。加速電圧が１
０ｋＶ以下の場合は、エネルギーの透過量が不足し１０
００ｋＶを超えると重合に使われるエネルギー効率が低
下しコスト的に好ましくない。 【００２６】＜カバー層＞カバー層は、層厚が０．０１
〜０．５ｍｍであって、光情報記録媒体内部への水分の
侵入を防ぐために形成され、記録再生に使用するレーザ
ー光の透過率が８０％以上の材質であれば特に限定され
ないが、ポリカーボネート、三酢酸セルロース、ポリエ
チレンテレフタレート等が挙げられ、好ましくはポリカ
ーボネート、三酢酸セルロース等であり、より好ましく
は、２３℃５０％ＲＨでの吸湿率が５％以下の材料であ
る。 【００２７】前記カバー層の層厚は、より好ましくは、
０．０５〜０．５ｍｍであり、さらに好ましくは、０．
０８〜０．１３ｍｍである。 【００２８】また、本発明の光情報記録媒体において
は、金属反射層と記録層との間に、記録層の特性に応じ
て誘電体層または光透過層を形成することができる。例
えば、記録層との接着性向上のための光透過層を設けて
もよく、相変化型の記録層を設けた場合には、放熱のた
めの誘電体層を設けてもよい。誘電体層としては、Ｚ
ｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、
酸化物、炭化物、硫化物からなる材料を使用することが
好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂のようなものであってもよ
い。光透過層としては、レーザー波長で９０％以上の透
過率があるものであれば如何なる材料をも使用すること
ができる。 【００２９】前記誘電体層または光透過層は、従来公知
の方法により形成することができる。誘電体層の厚さ
は、１〜１００ｎｍとすることが好ましく、光透過層の
厚さは、２〜５０ｎｍとすることが好ましい。 【００３０】また、記録層とカバー層との間に中間層を
設けてもよく、中間層を構成する材料としては、上述の
誘電体層を構成する材料が好ましい。 【００３１】＜光情報記録媒体の製造方法＞以上の光情
報記録媒体は、本発明の光情報記録媒体の製造方法によ
って製造することができる。以下に本発明の光情報記録
媒体の製造方法の各工程について説明する。 【００３２】（金属反射層形成工程）本工程は、基板上
に金属反射層を形成する工程であり、前述した光反射性
金属を基板上に層状に形成する。該光反射性金属の形成
手法としては、スパッタ法、蒸着、またはイオンプレー
ティング等が挙げられ、中でもスパッタ法が好ましい。
金属反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範
囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好まし
い。 【００３３】（記録層形成工程）記録層は、前記有機色
素系の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解し
て記録層塗布液を調製し、次いでこの記録層塗布液を基
板表面に形成された金属反射層上に塗布して塗膜を形成
したのち乾燥することにより形成する。記録層塗布液中
の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範
囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より
好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは
０．５〜３質量％の範囲である。また、記録物質等を溶
解処理する方法としては、超音波処理、ホモジナイザ
ー、加温等の方法を適用することができる。 【００３４】記録層塗布液を調製する際の溶剤として
は、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、セロソルブ
アセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジク
ロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等
の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；
メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノ
ール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタ
ノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，
３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶
剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙
げることができる。 【００３５】前記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考
慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用す
ることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ
吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて
添加してもよい。 【００３６】結合剤を使用する場合、結合剤の例として
は、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジ
ン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化
水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹
脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等
のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエ
チレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の
初期縮合物等の合成有機高分子；等を挙げることができ
る。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合
剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜
５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１〜
５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製さ
れる塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１
０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の
範囲にある。 【００３７】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げるこ
とができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記
録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、
好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好まし
くは５０〜１００ｎｍの範囲にある。また、塗布温度と
しては、２３〜５０℃であれば特に問題はないが、好ま
しくは２４〜４０℃、さらに好ましくは２５〜３７℃で
ある。 【００３８】ディスクの反りを防止するため、塗布膜へ
の紫外線の照射はパルス型の光照射器（好ましくは、Ｕ
Ｖ照射器）を用いて行うのが好ましい。パルス間隔はｍ
ｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。
１パルスの照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃ
ｍ²以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ²以下がより好まし
い。また、照射回数は特に制限されないが、２０回以下
が好ましく、１０回以下がより好ましい。 【００３９】記録層には、該記録層の耐光性を向上させ
るために、種々の褪色防止剤を含有させることができ
る。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチ
ャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、
既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用す
ることができる。その具体例としては、特開昭５８−１
７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０
−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６
０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同
６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、
同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公
報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号
公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９
号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５
４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同
６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３
９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号
第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。 【００４０】前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止
剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通
常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．
５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量
％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲であ
る。 【００４１】（カバー層形成工程）カバー層は、接着層
を構成する光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液
を調製した後、この塗布液を所定温度で記録層上に塗布
して塗布膜を形成し、該塗布膜上に、例えばプラスチッ
クの押出加工で得られた三酢酸セルロースフィルム（Ｔ
ＡＣフィルム）をラミネートし、ラミネートしたＴＡＣ
フィルムの上から光を照射して塗布膜を硬化させて、形
成される。前記ＴＡＣフィルムとしては、紫外線吸収剤
を含むものが好ましい。カバー層の厚さは、０．０１〜
０．２ｍｍの範囲であり、好ましくは０．０３〜０．１
ｍｍの範囲、より好ましくは０．０５〜０．０９５ｍｍ
の範囲である。 【００４２】本発明においては、前記金属反射層形成工
程の終了直後から、記録層形成工程を経て、前記カバー
層形成工程開始までの時間（以下、「経過時間」と呼ぶ
場合がある。）を１２時間以下としている。経過時間を
１２時間以下とすることにより、金属反射層の表面に対
しての空気の影響が少なく、金属反射層の表面粗さを小
さくすることができ、ジッタを小さくすることができる
とともにノイズを少なくすることができる。経過時間が
１２時間を超えると空気中の水分や温度の影響により金
属反射層が酸化され表面粗さが悪化し好ましくない。前
記経過時間は、より好ましくは、６時間以下であり、さ
らに好ましくは３時間以下である。 【００４３】前記経過時間における保存温度は、２０〜
４０℃が好ましく、２０〜２５℃がより好ましい。ま
た、経過時間における保存湿度は、３０〜８０％が好ま
しく、３０〜５０％がより好ましい。経過時間における
保存温度を２０〜４０℃、及び保存湿度を３０〜８０％
とすることにより、金属反射層の表面粗さをより小さく
することができる。 【００４４】 【実施例】以下、本発明を、実施例を挙げて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。 【００４５】（実施例１）厚さ１．１ｍｍ、直径１２０
ｍｍのスパイラル状のグルーブ（トラックピッチ：３０
０ｎｍ、溝深さ：４０ｎｍ、溝幅：１５０ｎｍ）を有す
る射出成形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボ
ネート、商品名：パンライトＡＤ５５０３）基板のグル
ーブを有する面上に、Ａｇを、スパッタパワー０．２ｋ
Ｗ、Ａｒ流量５０ｃｍ³／ｓｅｃ．のスパッタ条件でス
パッタして１００ｎｍの層厚の反射層を形成した。その
後、オラゾールブルーＧＮ（ｃｉｂａファインケミカル
社製）を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール
と混合し２時間超音波を照射して溶解し色素塗布液を調
製した。この色素塗布液をスピンコート法により回転数
を３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃５
０％ＲＨの条件で塗布し記録層を形成した。。その後、
２３℃５０％ＲＨで２時間アニールを行い、ＵＶ効果接
着剤（大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ３４７、色素
への溶解性：０．０５質量％）をスピンコート法により
１００〜３００ｒｐｍで塗布し、ポリカーボネートシー
ト（帝人製ピュアエース、膜厚７０μｍ）を重ね合わ
せ、回転数を３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化
させながら全面に接着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプに
て紫外線を照射して硬化させ、１００μｍのカバー層を
形成し、実施例１の光情報記録媒体を得た。なお、反射
層形成直後からカバー層形成開始までの経過時間を１時
間とし、その時の保存温度及び保存湿度を、それぞれ、
２３℃、５０％とした 【００４６】（実施例２）反射層形成直後からカバー層
形成開始までの経過時間を６時間、その時の保存温度及
び保存湿度を、それぞれ、２３℃、５０％としたこと以
外は、実施例１と同様にして実施例２の光情報記録媒体
を得た。 【００４７】（実施例３）反射層形成直後からカバー層
形成開始までの経過時間を１２時間、その時の保存温度
及び保存湿度を、それぞれ、２３℃、５０％としたこと
以外は、実施例１と同様にして実施例３の光情報記録媒
体を得た。 【００４８】（実施例４）反射層形成直後からカバー層
形成開始までの経過時間を１時間、その時の保存温度及
び保存湿度を、それぞれ、４０℃、５０％としたこと以
外は、実施例１と同様にして実施例４の光情報記録媒体
を得た。 【００４９】（実施例５）反射層形成直後からカバー層
形成開始までの経過時間を１時間、その時の保存温度及
び保存湿度を、それぞれ、４０℃、８０％としたこと以
外は、実施例１と同様にして実施例５の光情報記録媒体
を得た。 【００５０】（実施例６）実施例１において、反射層の
形成に用いたＡｇの代わりにＡｌを用い、スパッタパワ
ー３．０ｋＷ、Ａｒ流量５０ｃｍ³／ｓｅｃ．のスパッ
タ条件でスパッタし、１００ｎｍの層厚の反射層を形成
したこと以外は実施例１と同様にして実施例６の光情報
記録媒体を得た。 【００５１】（実施例７）反射層形成直後からカバー層
形成開始までの経過時間を１時間、その時の保存温度及
び保存湿度を、それぞれ、４５℃、５０％としたこと以
外は、実施例１と同様にして実施例７の光情報記録媒体
を得た。 【００５２】（実施例８）反射層形成直後からカバー層
形成開始までの経過時間を１時間、その時の保存温度及
び保存湿度を、それぞれ、４０℃、９０％としたこと以
外は、実施例１と同様にして実施例８の光情報記録媒体
を得た。 【００５３】（比較例１）反射層形成直後からカバー層
形成開始までの経過時間を１３時間としたこと以外は、
実施例１と同様にして比較例１の光情報記録媒体を得
た。 【００５４】（比較例２）経過時間における保存温度及
び保存湿度を、それぞれ、４０℃、５０％としたこと以
外は、比較例１と同様にして比較例２の光情報記録媒体
を得た。 【００５５】（比較例３）経過時間における保存温度及
び保存湿度を、それぞれ、４０℃、８０％としたこと以
外は、比較例１と同様にして比較例３の光情報記録媒体
を得た。 【００５６】（比較例４）経過時間における保存温度及
び保存湿度を、それぞれ、４５℃、５０％としたこと以
外は、比較例１と同様にして比較例２の光情報記録媒体
を得た。 【００５７】（比較例５）経過時間における保存温度及
び保存湿度を、それぞれ、４０℃、９０％としたこと以
外は、比較例１と同様にして比較例２の光情報記録媒体
を得た。 【００５８】［評価］以上の各実施例及び比較例で得ら
れた光情報記録媒体に対し、以下の（１）〜（３）に示
す評価を行った。評価結果を表１に示す。 【００５９】（１）反射層表面の基準面から１５ｎｍに
おける平均突起径 反射層形成後であって、カバー層形成前の光情報記録媒
体を以下の測定条件で原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定
し、平均表面粗さｓＲａを求めこれを基準面とし、この
基準面から１５ｎｍの高さにおける平均突起径Ｄｖを求
めた。平均突起径Ｄｖとは、突起の断面を円とみなした
ときの直径の平均値である。この値が大きいものほど表
面の突起が大きく、表面が粗い。 ［測定条件］ 装置：セイコーインスツルメンツ社製 ＳＰＡ５００ モード：ＡＦＭモード（コンタクトモード） 測定用探針：ＳＩ ＡＦ０１（バネ定数：０．１Ｎ／
ｍ） 測定範囲：１０μｍ角 スキャンライン：５１２×５１２ スキャンスピード：２Ｈｚ 【００６０】（２）ジッタ評価 カバー層を形成した光情報記録媒体を、波長４０５ｎｍ
のレーザー光を照射し、レンズ開口率ＮＡが０．８５の
ピックアップを搭載した記録再生評価機（パルステック
社製、ＤＤＵ１０００）により、クロック周波数６６Ｍ
Ｈｚ／線速５．６ｍ／ｓｅｃ．にて１−７ＰＰ変調信号
を記録再生し、タイムインターバルアナライザーにてジ
ッタを測定した。 【００６１】（３）ノイズ評価 カバー層を形成した光情報記録媒体を、「（２）ジッタ
評価」で用いた記録再生機により、（２）と同様に記録
再生し、未記録部の反射率をオシロスコープで測定し、
［信号の振幅／信号の大きさ］を未記録ノイズとした。 【００６２】 【表１】 【００６３】なお、表１において、特に良好な記録再生
特性を有する場合を◎、良好な記録再生特性を有する場
合を○、やや劣るものの実用上問題のない場合を△、実
用上問題のある場合を×として、各実施例及び比較例に
おいて得られた光情報記録媒体を評価した。 【００６４】表１より、反射層形成後、カバー層形成ま
での経過時間を１２時間以下とした実施例１〜６の光情
報記録媒体は、反射層の表面粗さ、ジッタ、及びノイズ
がいずれも小さいことが分かる。特に、経過時間におけ
る保存温度及び保存湿度を、それぞれ、２０〜４０℃、
３０〜８０％に保った実施例１〜６においては、より良
好な結果が得られた。これに対して、経過時間が１２時
間を超えた比較例１〜５の光情報記録媒体においては、
反射層の表面粗さ、ジッタ、及びノイズがいずれも大き
く良好な結果が得られなかった。 【００６５】 【発明の効果】本発明によれば、ジッタ−が良好で、ノ
イズが少なく、安定した記録再生特性をもつ光情報記録
媒体の製造方法を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/24 ５６１ Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｙ (72)発明者 石田 寿男 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA41 EA43 FA01 FA12 GA00 5D029 JA04 JB28 JB47 LB07 WB11 WB17 5D090 AA01 BB03 CC14 EE11 GG07 5D121 EE01 EE22 EE27 EE30

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 トラックピッチが２００〜４００ｎｍ
   で、溝深さが２０〜１５０ｎｍで、波長が４５０ｎｍ以
   下の光で記録再生する光情報記録媒体の製造方法であっ
   て、 基板上に金属反射層を形成する金属反射層形成工程；該
   金属反射層上に有機色素系の記録層を形成する記録層形
   成工程；及び該記録層上に０．０１〜０．５ｍｍのカバ
   ー層を形成するカバー層形成工程；をこの順に有し、 前記金属反射層形成工程の終了直後から前記カバー層形
   成工程開始までの時間が１２時間以下であることを特徴
   とする光情報記録媒体の製造方法。