JP2003168246A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高反射率と、高変調度とを両立した、低エラ
ーレートの光情報記録媒体を提供することにある。もつ
光情報記録媒体を提供する。 【解決手段】 第１の基板上に、少なくとも、色素記録
層、反射層、接着層、及び第２の基板をこの順に有する
光情報記録媒体であって、前記接着層を構成する接着剤
のガラス転移温度が８０℃以下であることを特徴とする
光情報記録媒体である。接着剤としては紫外線硬化樹脂
が好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体に
関し、特にヒートモードによる追記型光情報録媒体に関
する。 【０００２】 【従来の技術】従来から、レーザー光により一回限りの
情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知
られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ
−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状
基板上に有機色素からなる色素記録層、金等の金属から
なる反射層、さらに樹脂製の保護層（カバー層）がこの
順に積層したものである。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報
の記録は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近
の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより
行われ、色素記録層の照射部分がその光を吸収して局所
的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、
ピットの生成）によりその部分の光学的特性が変化する
ことにより情報が記録される。一方、情報の読み取り
（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザ
ー光をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、色素記録
層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化して
いない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出する
ことにより行われている。 【０００３】近年、記録密度のより高い光情報記録媒体
が求められている。このような要望に対して、追記型デ
ジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）
と称される光ディスクが提案されている（例えば、「日
経ニューメディア」別冊「ＤＶＤ」、１９９５年発
行）。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光のトラッ
キングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒの半
分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成
された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有す
る色素記録層、反射層、および保護層をこの順に積層し
たディスク２枚を色素記録層を内側にして貼り合わせた
構造、あるいはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基
板とを色素記録層を内側にして貼り合わせた構造を有し
ている。そして、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録および
再生は、可視レーザー光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０
ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することにより
行われており、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能であ
る。 【０００４】このような光情報記録媒体において、反射
率と変調度は二律背反の関係にあり、反射率と変調度と
を両方同時に高くすることが困難である。例えば、溝深
さを深くすると、変調度は高くなるが、反射率は低くな
る。また、低速から高速まで様々な記録速度に対応した
光情報記録媒体の開発が進められている。このような光
情報光媒体においては、高速で記録したときに高変調度
が得られるが、低速で記録したとき高変調度が得られに
くい問題がある。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の従来
の問題点に鑑みてなされたものであり、以下の目的を達
成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、高反
射率と、高変調度とを両立した、低エラーレートの光情
報記録媒体を提供することにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】前記課題を解決する手段
は以下の通りである。即ち、第１の基板上に、少なくと
も、色素記録層、反射層、接着層、及び第２の基板をこ
の順に有する光情報記録媒体であって、前記接着層を構
成する接着剤のガラス転移温度が８０℃以下であること
を特徴とする光情報記録媒体である。 【０００７】前記接着層を構成する接着剤としては、紫
外線硬化樹脂を用いることができる。 【０００８】 【発明の実施の形態】以下、本発明の光情報記録媒体の
実施の形態について説明する。本発明の光情報記録媒体
は、第１の基板上に、少なくとも、色素記録層、反射
層、接着層、及び第２の基板をこの順に有する光情報記
録媒体であって、接着層を構成する接着剤のガラス転移
温度が８０℃以下であることを特徴としている。以下、
先ず基板及び各層について説明する。 【０００９】＜基板（第１の基板、第２の基板）＞基板
としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用い
られている各種の材料を任意に選択して使用することが
できる。具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリ
メチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキ
シ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；
アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望に
よりこれらを併用してもよい。また、第１の基板の材料
と第２の基板の材料は同一でも異なっていてもよい。上
記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の
点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィ
ンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。ま
た、基板の厚さは、０．５〜１．４ｍｍとすることが好
ましい。 【００１０】基板には、トラッキング用の案内溝または
アドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）が
形成される。プレグルーブのトラックピッチは、４００
〜９００ｎｍとすることが好ましく、４５０〜８５０ｎ
ｍとすることがより好ましく、５００〜８００ｎｍとす
ることがさらに好ましい。また、プレグルーブの深さ
（溝深さ）は、８０〜１８０ｎｍとすることが好まし
く、１００〜１７０ｎｍとすることがより好ましく、１
１０〜１６０ｎｍとすることがさらに好ましい。さら
に、プレグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍとす
ることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがよ
り好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることがさらに好
ましい。 【００１１】また、色素記録層が設けられる側の基板表
面には、平面性の改善、接着力の向上及び色素記録層の
変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよい。下
塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレー
ト、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無
水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メ
チロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共
重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロ
ース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエ
ステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合
体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；及び
シランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることが
できる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解又は分
散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコー
ト、ディップコート、エクストルージョンコートなどの
塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形成す
ることができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２
０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲で
設けられる。 【００１２】＜反射層＞色素記録層の上には特に情報の
再生時における反射率の向上の目的で反射層が設けられ
る。反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対す
る反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓ
ｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍ
ｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、
Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａ
ｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓ
ｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を
挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、
Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステン
レス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、
あるいは二種以上の組み合わせて用いてもよい。又は合
金として用いてもよい。特に好ましくはＡｕ、Ａｇもし
くはその合金である。反射層は、例えば、上記光反射性
物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティング
することにより色素記録層の上に形成することができ
る。反射層の層厚は、一般的には１０〜８００ｎｍの範
囲、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましく
は５０〜３００ｎｍの範囲で設けられる。 【００１３】＜色素記録層＞色素記録層に用いる色素は
特に限定されない。使用可能な色素の例としては、シア
ニン色素、フタロシアニン色素、イミダゾキノキサリン
系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレ
ニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなど
の金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノ
ン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系
色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色
素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウ
ム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。こ
れらの色素のうちでは、シアニン色素、フタロシアニン
系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、
オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン系色素が
好ましい。 【００１４】色素記録層を形成するための塗布液の溶剤
の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなど
のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタ
ン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素
化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シク
ロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチ
ルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、
ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノー
ル、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，
３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶
剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを
挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性
を考慮して単独又は二種以上を適宜併用することができ
る。好ましくは、２，２，３，３−テトラフロロプロパ
ノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中に
は、所望により褪色防止剤や結合剤を添加してもよい
し、更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、そして潤滑
剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。 【００１５】褪色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４
−１４６１８９号等の各公報に記載されている。 【００１６】結合剤の例としては、ゼラチン、セルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ
樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホル
ムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの
合成有機高分子を挙げることができる。結合剤を使用す
る場合に、結合剤の使用量は、一般に色素１００質量部
に対して０．２〜２０質量部、好ましくは、０．５〜１
０質量部、更に好ましくは１〜５質量部である。 【００１７】上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考
慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用す
ることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ
吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて
添加してもよい。 【００１８】結合剤を使用する場合に、結合剤の例とし
ては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロ
ジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭
化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系
樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル
等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリ
エチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導
体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹
脂の初期縮合物等の合成有機高分子；等を挙げることが
できる。色素記録層の材料として結合剤を併用する場合
に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０
１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは
０．１〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにし
て調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．
０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５
質量％の範囲にある。 【００１９】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げるこ
とができる。色素記録層は単層でも重層でもよい。ま
た、色素記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範
囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、
より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。また、
塗布温度としては、２３〜５０℃であれば特に問題はな
いが、好ましくは２４〜４０℃、さらに好ましくは２５
〜３７℃である。 【００２０】色素記録層には、該色素記録層の耐光性を
向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させること
ができる。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素ク
エンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとし
ては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを
利用することができる。その具体例としては、特開昭５
８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、
同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公
報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号
公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１
号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５
５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３
９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７
０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４
−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、お
よび同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３
５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１
０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができ
る。 【００２１】前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止
剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通
常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．
５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量
％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲であ
る。 【００２２】＜接着層＞接着層は、反射層と第２の基板
との間に形成される層である。本発明においては、接着
層を構成する接着剤として、ガラス転移温度が８０℃以
下のものを用いる。前記接着剤のガラス転移温度を８０
℃以下とすることにより変調度を高くすることができ
る。これは、接着層を構成する接着剤のガラス転移温度
が８０℃以下と比較的低温であり、接着層が一定以上の
柔軟性を有するため、記録時に色素記録層（記録ピット
部）において発生する熱による変形を大きくすることが
できるためと考えられる。前記接着剤のガラス転移温度
は、好ましくは、７０℃以下であり、より好ましくは５
０℃以下である。ガラス転移温度が８０℃を超えると、
色素記録層（記録ピット部）の変形を大きくすることが
できず、変調度を高くすることができない。なお、接着
剤のガラス転移温度とは、硬化後の接着剤のガラス転移
温度を指す。 【００２３】接着層を構成する接着剤としては、紫外線
硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止
するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このよ
うな紫外線硬化性樹脂としては、例えば、大日本インキ
化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４
７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げる
ことができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせ
るため、１〜１０００μｍの範囲が好ましく、５〜５０
０μｍの範囲がより好ましく、１０〜１００μｍの範囲
が特に好ましい。 【００２４】接着層を構成する接着剤の他の例を挙げ
る。該接着剤は、放射線照射により硬化可能な樹脂であ
って、分子中に２個以上の放射線官能性の２重結合を有
する樹脂であり、アクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド
類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル
類などがあげられる。好ましくは２官能以上のアクリレ
ート化合物、メタクリレート化合物である。 【００２５】２官能の具体例としては、エチレングリコ
ールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレ
ート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエ
チレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアク
リレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロ
ピレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジ
メタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、
ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレン
グリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコー
ルジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート
などに代表される脂肪族ジオールにアクリル酸、メタク
リル酸を付加させたものを用いることができる。 【００２６】また、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなど
のポリエーテルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸
を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメ
タクリレートや公知の二塩基酸、グリコールから得られ
たポリエステルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸
を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステル
メタクリレートも用いることができる。さらに、公知の
ポリオール、ジオールとポリイソシアネートを反応させ
たポリウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させ
たポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレ
ートを用いてもよい。 【００２７】また、ビスフェノールＡ、ビスフェノール
Ｆ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦ
やこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、
メタクリル酸を付加させたものやイソシアヌル酸アルキ
レンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸ア
ルキレンオキサイド変性ジメタアクリレート、トリシク
ロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカ
ンジメタノールジメタクリレートなどの環状構造を有す
るものも用いることができる。 【００２８】前記放射線としては、電子線および紫外線
を使用することができる。紫外線を使用する場合には以
下の化合物に光重合開始剤を添加することが必要とな
る。光重合開始剤として芳香族ケトンが使用される。芳
香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源と
して通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる。
２５４，３１３，８６５ｎｍの波長において吸光係数の
比較的大なるものが好ましい。その代表例としては、ア
セトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエー
テル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケター
ル、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチル
フェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、２−２ジエトキシアセトフェノン、Ｍｉｃｈ
ｌｅｒ’ｓケトンなどがあり、種々の芳香族ケトンが使
用できる。芳香族ケトンの混合比率は、化合物（ａ）１
００質量部に対し０．５〜２０質量部、好ましくは２〜
１５質量部、さらに好ましくは３〜１０質量部である。
紫外線硬化型接着剤としてあらかじめ光開始剤を添加し
たものが市販しており、それを使用してもかまわない。
紫外線光源としては、水銀ランプ又はメタルハライドラ
ンプが用いられる。該ランプとしては２０〜３００Ｗ／
ｃｍのものを用い、０．１〜２０秒間照射される。基体
とランプとの距離は一般に１〜３０ｃｍであることが好
ましい。 【００２９】電子線加速器としてはスキャニング方式、
ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が
採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得ら
れるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、
加速電圧が１００〜１０００ｋＶ、好ましくは１５０〜
３００ｋＶであり、吸収線量として０．５〜２０Ｍｒａ
ｄ、好ましくは１〜１０Ｍｒａｄである。加速電圧が１
０ｋＶ以下の場合は、エネルギーの透過量が不足し１０
００ｋＶを超えると重合に使われるエネルギー効率が低
下しコスト的に好ましくない。 【００３０】 【実施例】以下に、本発明の実施例を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。 【００３１】（実施例１）射出成形機（住友重機械工業
（株）製）にスタンパを設置した上で、ポリカーボネー
ト樹脂を材料として、スパイラル状のグルーブ（溝深
さ：１５０ｎｍ、溝幅：３００ｎｍ、トラックピッチ：
０．７４μｍ）を有する厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍ
ｍの基板１（第１の基板）を成形した。同時に、基板１
と同様の基板２（第２の基板）を成形した。 【００３２】下記色素Ａ０．６ｇと下記色素Ｂ０．６ｇ
とを２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール１０
０ｃｍ²に溶解した溶液を、スピンコート法により基板
１のグルーブが形成された面上に塗布し色素記録層を形
成した。次に、色素記録層上に銀をスパッタして約１５
０ｎｍ積層し反射層を形成した。この反射層上に、接着
剤として紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）
製、ダイキュアクリアＳＤ−６６１）をスピンコート法
により内周側にドーナツ状に塗布し、その上に基板２を
載せ紫外線硬化樹脂を振り切り、基板２を通して紫外線
を照射することにより紫外線硬化樹脂を硬化させ、基板
２を接着した。以上のようにして実施例１の光情報記録
媒体を得た。 【００３３】 【化１】【００３４】（実施例２）接着剤として、ＤＳＭ ＤＥ
ＳＯＴＥＣＨ製 Ｄｅｓｏｌｉｔｅ６５０−２１を用い
たこと以外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を作
製した。 【００３５】（比較例１〜３）接着剤として、大日本イ
ンキ化学工業（株）製ダイキュアクリアＳＤ−６４０
（比較例１）、ＳＤ−６９４（比較例２）、ＳＤ−３１
８（比較例３）を用いたこと以外は実施例１と同様にし
て光情報記録媒体を作製した。 【００３６】［評価］前記各実施例及び比較例の光情報
記録媒体を、エキスパートマグネティクス社製ＤＶＤＴ
−Ｒを用いて、１倍速記録特性を評価した。結果を表１
に示す。なお、最適記録パワー、反射率、変調度、アシ
ンメトリ、ジッター、及びＰＩエラー（訂正可能なエラ
ー）についての評価は以下の通りである。 【００３７】（１）最適記録パワー 記録パワーを６〜１２ｍＷまで変化させながら記録した
場合における、ジッターが最も小さくなる記録パワー。 （２）反射率 （１）における記録パワーで記録した部分の最も高い反
射率（Ｒ１４Ｈ）。 （３）変調度 （１）における記録パワーで記録した部分の１４Ｔ変調
度（Ｉ１４／Ｉ１４Ｈ）。 （４）アシンメトリ （１）における記録パワーで記録した部分のアシンメト
リ（Ａｓｙｍ）。 （５）ジッター （１）における記録パワーにて記録した部分のジッタ
ー。 （６）ＰＩエラー （１）における記録パワーにてＤＶＤＴ−Ｒで記録を行
い、Ａｕｄｉｏ Ｄｅｖｅｌｏｐｅｍｅｎｔ社製ＤＶＤ
ＣＡＴＳにて再生することで測定した。 【００３８】 【表１】 【００３９】表１より、接着層のガラス転移温度が８０
℃以下の実施例１及び２の光情報記録媒体では、比較例
１〜３の光情報記録媒体よりも１割以上高い変調度が得
られた。なお、反射率に関しては、実施例と比較例とは
測定誤差範囲内であり、ほぼ同じである。また、実施例
１及び２の光情報記録媒体は、比較例１〜３の光情報記
録媒体と比較してＰＩエラーが小さく、低エラーレート
であることを示している。 【００４０】 【発明の効果】本発明によれば、高反射率と、高変調度
とを両立した、低エラーレートの光情報記録媒体を提供
することができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 第１の基板上に、少なくとも、色素記録
   層、反射層、接着層、及び第２の基板をこの順に有する
   光情報記録媒体であって、 前記接着層を構成する接着剤のガラス転移温度が８０℃
   以下であることを特徴とする光情報記録媒体。