JP2003317331A - 光情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 再生時の偏芯が低減された光情報記録媒体お
よびその製造方法を提供する。 【解決手段】 トラックピッチ２００〜４００ｎｍ、溝
深さ１０〜１５０ｎｍのグルーブが形成され、中心孔お
よび位置決め溝を有する基板上に、波長５００ｎｍ以下
のレーザ光により情報の記録が可能な記録層を前記位置
決め溝より外側に形成して積層体を作製する積層体作製
工程と、外径が前記基板より小さく内径が前記基板の中
心孔より大きいカバーシートを、前記位置決め溝により
貼り合わせの位置を調整して、前記積層体の前記記録層
上に貼り合わせる貼り合わせ工程と、を有することを特
徴とする光情報記録媒体の製造方法である。上記製造方
法により製造されたことを特徴とする光情報記録媒体で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体お
よびその製造方法に関し、特に、ヒートモードによる追
記型の光情報記録媒体およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、レーザ光により一回限りの情
報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知ら
れている。この光情報記録媒体は、追記型ＣＤ（所謂Ｃ
Ｄ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤
状基板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からな
る光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層した
ものである。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近
赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレー
ザ光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層
の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物
理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）によ
りその部分の光学的特性が変化することにより情報が記
録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用
のレーザ光と同じ波長のレーザ光をＣＤ−Ｒに照射する
ことにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位
（記録部分）と変化していない部位（未記録部分）との
反射率の違いを検出することにより行われている。

【０００３】近年、記録密度のより高い光情報記録媒体
が求められている。このような要望に対して、追記型デ
ジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）
と称される光情報記録媒体が提案されている（例えば、
「日経ニューメディア」別冊「ＤＶＤ」、１９９５年発
行）。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザ光のトラッ
キングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒの半
分以下（０．７４〜０．８μｍ）という狭い溝幅で形成
された透明な円盤状基板上に、通常、有機色素を含有す
る記録層、光反射層、および保護層をこの順に積層した
ディスクを２枚を記録層を内側にして貼り合わせた構
造、あるいはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基板
とを記録層を内側にして貼り合わせた構造を有してい
る。そして、このＤＶＤ−Ｒへの情報の記録および再生
は、可視レーザ光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの
範囲の波長のレーザ光）を照射することにより行われて
おり、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能である。

【０００４】最近、インターネット等のネットワークや
ハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴ
Ｖ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌｅｖｉｓ
ｉｏｎ）の放映も開始されるようになった。このような
状況の下で、画像情報を安価簡便に記録することができ
る大容量の記録媒体が必要とされている。ＤＶＤ−Ｒは
現状では大容量の記録媒体としての役割を十分に果たし
ているが、大容量化、高密度化の要求は高まる一方であ
り、これらの要求に対応できる記録媒体の開発も必要で
ある。このため、ＤＶＤ−Ｒよりもさらに短波長の光で
高密度の記録を行なうことができる、より大容量の記録
媒体の開発が進められている。

【０００５】例えば、特開平４−７４６９０号公報、特
開平７−３０４２５６号公報、特開平７−３０４２５７
号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３
７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−
３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同
１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３
号公報、同２０００−１０８５１３号公報、同２０００
−１１３５０４号公報、同２０００−１４９３２０号公
報、同２０００−１５８８１８号公報、および同２００
０−２２８０２８号公報には、有機色素を含む記録層を
有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層
側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザ光を照射するこ
とにより、情報の記録および再生を行う記録再生方法が
開示されている。これらの方法では、ポルフィリン化合
物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色
素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル
骨格色素、クマリン化合物、ナフタロシアニン化合物等
を含有する記録層を備えた光情報記録媒体に、青色（波
長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）または青緑色（波長５１５
ｎｍ）のレーザ光を照射することにより情報の記録およ
び再生を行っている。

【０００６】また、現在使用されているＣＤ−Ｒシステ
ムとの互換性という観点から、２つの異なる波長領域の
レーザ光で記録および再生が可能な光情報記録媒体が提
案されている。例えば、特開２０００−１４１９００号
公報、同２０００−１５８８１６号公報、同２０００−
１８５４７１号公報、同２０００−２８９３４２号公
報、同２０００−３０９１６５号公報には、ＣＤ−Ｒに
用いられる色素とＤＶＤ−Ｒで用いられる色素とを混合
して用いることによって、７８０ｎｍ付近の近赤外域の
レーザ光、および６５０ｎｍ付近の可視レーザ光の何れ
のレーザ光によっても記録および再生が可能な光情報記
録媒体が提案されている。

【０００７】しかしながら、本発明者の検討によれば、
上記公報に記載された光情報記録媒体では、波長４５０
ｎｍ以下の短波長レーザ光の照射により情報を記録する
場合には、実用上必要とされる感度を得ることができ
ず、また、反射率や変調度等の他の記録特性も満足でき
るレベルではなく、さらに改良を要することが判明し
た。特に、上記公報に記載された光情報記録媒体では、
波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射した場合に記録特
性の低下が確認された。

【０００８】また、上記公報に記載された光情報記録媒
体ではその最表面層にカバーシートが形成されている。
当該カバーシートは、その内周ボスを基板の内周ボスに
合わせて貼り合わせていた。しかし、内周ボスを合わせ
て貼り合わせようとすると、これらを精度良く貼り合わ
せることが難しく、カバーシートの内周の一部が基板の
中心孔より内側にはみ出てしまうことがあった。カバー
シートの一部が基板の中心孔より内側にはみ出た状態で
再生を行うと、偏芯が大きくなって、正確に再生するこ
とができない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】以上から、本発明は、
再生時の偏芯が低減された光情報記録媒体およびその製
造方法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的は、以下に示す
本発明により達成される。すなわち、本発明は、トラッ
クピッチ２００〜４００ｎｍ、溝深さ１０〜１５０ｎｍ
のグルーブが形成され、中心孔および位置決め溝を有す
る基板上に、波長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報
の記録が可能な記録層を前記位置決め溝より外側に形成
して積層体を作製する積層体作製工程と、外径が前記基
板の外径より小さく、内径が前記基板の中心孔より大き
いカバーシートを、前記位置決め溝により貼り合わせの
位置を調整して、前記積層体の前記記録層上に貼り合わ
せる貼り合わせ工程と、を有することを特徴とする光情
報記録媒体の製造方法である。また、本発明は、上記の
製造方法により製造されたことを特徴とする光情報記録
媒体である。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の光情報記録媒体は、所定
のグルーブが形成され、中心孔および位置決め溝を有す
る基板上に記録層等を形成して積層体を作製し（積層体
作製工程）、所定の大きさのカバーシートを、前記位置
決め溝によりその貼り合わせ位置を調整して、前記記録
層上に貼り合わせて（貼り合わせ工程）、製造される。
以下、当該貼り合わせ工程を中心に本発明の光情報記録
媒体ついて詳細に説明する。

【００１２】＜貼り合わせ工程＞貼り合わせ工程は、後
述する積層体の記録層上に、該記録層等の光情報記録媒
体の内部を保護するために、カバー層としてのカバーシ
ートを貼り合わせる工程である。カバーシートと積層体
との貼り合わせは、接着剤または粘着剤を介して行うこ
とが好ましい。

【００１３】前記カバーシートとしては、透明な材質で
あれば特に限定されないが、好ましくは、ポリカーボネ
ート、三酢酸セルロース、ポリメチルメタクリレート、
ポリ塩化ビニル等の材質からなることが好ましい。な
お、「透明」とは、カバーシートが記録光および再生光
を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であるこ
とを意味する。カバーシートの厚さは、０．０３〜０．
１５ｍｍの範囲であることが好ましく、０．０５〜０．
１０ｍｍの範囲であることがより好ましく、０．０７〜
０．０９８ｍｍの範囲であることがさらに好ましい。こ
のような範囲とすることにより、貼り合わせ工程におけ
るカバーシートの取り扱いが容易となり、しかも、コマ
収差を抑えることができるという効果が得られる。

【００１４】カバーシートの外径（Ｄ_A）は基板の外径
（Ｄ_B）より小さくする。具体的には、Ｄ_B−Ｄ_Aの値を
０．３ｍｍ以上とすることが好ましく、０．５ｍｍ以上
とすることがより好ましく、０．７ｍｍ以上とすること
がさらに好ましい。記録層の外周を覆うことを考慮する
と、カバーシートの外径（Ｄ_A）と記録エリア（記録
層）の外径Ｄ_Cとの差（Ｄ_A−Ｄ_C）は、０．３ｍｍ以上
とすることが好ましく、０．５ｍｍ以上とすることがよ
り好ましく、０．７ｍｍ以上とすることがさらに好まし
い。

【００１５】また、カバーシートの内径（ｄ_A）は基板
の中心孔（ｄ_B）の径より大きくする。具体的には、ｄ_A
−ｄ_Bの値を１ｍｍ以上とすることが好ましく、３ｍｍ
以上とすることがより好ましく、５ｍｍ以上とすること
がさらに好ましい。カバーシートの内径が大きすぎると
記録エリアにかかってしまい、特性が悪化してしまうこ
とがある。また、記録エリアのぎりぎりまで大きくする
と、カバーシートの端面が少し剥がれただけで、記録エ
リアが露出してしまうことがある。従って、カバーシー
トの内径（ｄ_A）と記録エリアの内径ｄ_Cとの差（ｄ_A−
ｄ_C）は、１ｍｍ以上とすることが好ましく、３ｍｍ以
上とすることがより好ましく、５ｍｍ以上とすることが
さらに好ましい。

【００１６】カバーシートを積層体に貼り合わせる際、
本発明の製造方法では、基板に予め形成された位置決め
溝により、カバーシートの貼り合わせ位置を調整する。
貼り合わせ位置の調整としては、図１に示すようにして
行うことができる。

【００１７】まず、図１に示すように、スピンコーター
１の平面テーブル２上に積層体３を記録層３０などが図
面上、上になるように載置する。積層体３の基板３ａ上
にはカバーシート４の貼り合わせ位置の調整に使用され
る位置決め溝３ｂが形成されている。載置された積層体
３上に接着剤を塗布し、吸着パッド５により吸着保持さ
れたカバーシート４を降下させて、吸着パッド５に設け
られた位置決めチャック５ａが、位置決め溝３ｂに挿入
されるされるように、積層体３上にカバーシート４を載
置する。このように、位置決めチャック５ａと位置決め
溝３ｂとを一定の位置に設け、位置決めチャック５ａが
位置決め溝３ｂに挿入されるように調整してこれを載置
する限り、カバーシート４と積層体３とを、一定位置に
精度良く貼り合わせることができる。その結果、従来の
ように、基板（積層体）の中心孔とカバーシートの中心
孔とにより位置決めするよりも、高い精度でこれらを貼
り合わせることが可能となるので、カバーシートの一部
が基板の中心孔より内側にはみ出ることがなくなり、光
情報記録媒体の再生の際の偏芯を低減させることが可能
となる。

【００１８】吸着パッド５において、カバーシート４を
吸着させる手段としては、吸着面に微小の孔を設け、該
孔内を減圧することでカバーシート４を吸着する真空吸
着手段や、カバーシート４に静電気を帯びさせて電気的
引力によりこれを吸着する静電吸着手段等を採用するこ
とが好ましい。また、カバーシート４の貼り合わせ面に
予め粘着剤が付与されている場合は、接着剤を積層体３
に塗布する必要はない。

【００１９】位置決めチャック５ａは、位置決め溝３ｂ
に挿入できる形状とし、位置決めチャック５ａの長さＬ
は、位置決め溝３ｂに完全に挿入された状態でカバーシ
ート４が積層体３上面とほぼ接するように調節すること
が好ましい。かかる構成とすることで、位置決めチャッ
ク５ａが位置決め溝３ｂに完全に挿入させて、吸着パッ
ド５からカバーシート４を脱着させると、積層体３上の
所望の位置にカバーシート４を精度よく載置させること
が可能となり、また、カバーシート４の端面が積層体３
の記録層等と接することを防ぐことができるため、記録
層等に傷が発生することを防ぐことが可能となる。な
お、位置決め溝３ｂの詳細については、後述する。

【００２０】カバーシート４を積層体３上に載置した後
は、平面テーブル２を回転させて接着剤をカバーシート
４と積層体３との間の全面に広げる。その後、必要に応
じて紫外線等を照射して接着剤等を硬化させて、カバー
シート４と積層体３とが貼り合わされた光情報記録媒体
が作製される。

【００２１】積層体３の記録層（該記録層上にバリア層
等の層が形成されている場合は、これらの層）をカバー
シート上に貼り合わせる際の雰囲気の温度および湿度
（相対湿度、以下同様）は、それぞれ、１８℃以上およ
び３５％ＲＨ以上とすることが好ましい。１８℃未満ま
たは３５％ＲＨ未満では、貼り合わせに必要な化学的、
物理的に十分反応が進まなかったり、常温常湿に放置す
るとストレス緩和が生じて、製造後の光情報記録媒体に
反りが発生し、実用に供することができない場合があ
る。また、記録層に色素が含有されている場合、このス
トレスが記録特性に悪影響を及ぼすことがある。より好
ましい温度は２０℃以上であり、さらに好ましくは２２
℃以上、特に好ましくは２３℃以上である。また、より
好ましい湿度は３２％ＲＨ以上であり、さらに好ましく
は３５％ＲＨ以上、特に好ましくは３８％ＲＨ以上であ
る。

【００２２】温度が高すぎると接着剤や粘着剤の変性が
起こったり、光情報記録媒体の特性が変化したり、常温
に戻したときの反りが発生したりすることがあり好まし
くない。また、記録層に色素が含有される場合、記録特
性の変化が大きくなることがあり、特に好ましくない。
さらに、記録層に色素が含まれる場合、色素中の含水率
が高まり、記録特性に悪影響を及ぼすことがあり特に好
ましくない。従って、温度の上限は、５０℃以下とする
ことが好ましく、より好ましくは４０℃以下、さらに好
ましくは３５℃以下である。また、湿度が高すぎると機
器の一部に結露が発生したり、常温に戻したときの反り
が発生したりすることがあり好ましくない。従って、湿
度の上限は、８０％ＲＨ以下とすることが好ましく、よ
り好ましくは７０％ＲＨ以下、さらに好ましくは６５％
ＲＨ以下である。

【００２３】接着剤としては、ＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化
樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特に、
ＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。接着剤は、例
えば、積層体３の貼り合わせ面（記録層等）上に所定量
塗布し、カバーシート４を貼り合わせた後、スピンコー
トにより接着剤を、積層体３とカバーシート４との間に
均一になるように広げて、硬化させることが好ましい。
塗布する接着剤の量は、最終的に形成される接着層の厚
さが、０．１〜１００μｍの範囲、好ましくは２〜５０
μｍの範囲、より好ましくは５〜３０μｍの範囲になる
ように調整する。

【００２４】接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合
は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、もしくはメチルエチル
ケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を
調製し、ディスペンサから積層体３表面に供給してもよ
い。また、作製される光情報記録媒体の反りを防止する
ため、接着層を構成するＵＶ硬化樹脂は、硬化収縮率の
小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂として
は、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ
−６４０」などのＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。

【００２５】既述のように、カバーシート４として、粘
着剤が貼り合わせ面に塗布されたものを使用することも
できる。当該粘着剤としては、アクリル系粘着剤や、天
然ゴム、スチレン−イソプレン−スチレン共重合体（Ｓ
ＩＳ）、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体（Ｓ
ＢＳ）等のゴム系粘着剤を適宜選択して用いることがで
きる。当該粘着剤は、カバーシートの貼り合わせ面に予
め塗布されていることが好ましい。粘着剤の塗布量とし
ては、接着剤の場合と同様とすることが好ましい。

【００２６】また、平面テーブル２としては、既述のス
ピンコーター１に設けられている平面テーブル２に限定
されず、カバーシート４と積層体３とを貼り合わせる際
にこれらの平面性を保って固定できるものであればよ
い。

【００２７】以上の貼り合わせ工程により、再生時の偏
芯が抑制された光情報記録媒体が製造される。

【００２８】ところで、貼り合わせ工程でカバーシート
４と貼り合わされる積層体３は、積層体作製工程を経て
製造される。具体的には、トラックピッチ２００〜４０
０ｎｍ、溝深さ１０〜１５０ｎｍのグルーブが形成さ
れ、中心孔および位置決め溝（図１の符号３ｂ）を有す
る基板上に、波長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報
の記録が可能な記録層を形成する記録層形成工程等を経
て製造される。ここで、基板と記録層との間に光反射層
を形成する光反射層形成工程等を設けたり、記録層上に
バリア層等の種々の層を形成する工程を適宜設けてもよ
い。以下、積層体作製工程の具体例として、基板上に、
光反射層、記録層を形成した積層体の製造方法について
説明する。

【００２９】＜積層体作製工程＞ （光反射層形成工程）光反射層形成工程は、後述する基
板のグルーブが形成された面に光反射性物質からなる光
反射層を形成する工程である。

【００３０】前記基板としては、従来の光情報記録媒体
の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選
択して使用することができる。具体的には、ガラス；ポ
リカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフ
ィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げ
ることができ、所望によりこれらを併用してもよい。上
記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の
点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネー
トが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。ま
た、基板の厚さは、１．１±０．３ｍｍとすることが好
ましい。

【００３１】基板表面には、トラッキング用の案内溝ま
たはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（グルーブ）が
形成されている。プリグルーブのトラックピッチは、２
００〜４００ｎｍの範囲にとすることを必須とし、好ま
しくは、２５０〜３５０ｎｍの範囲とする。また、プリ
グルーブの深さ（溝深さ）は、１０〜１５０ｎｍの範囲
とすることを必須とし、好ましくは、５０〜１００ｎｍ
の範囲とする。上記のようなトラックピッチおよび溝深
さとすることで、従来のＣＤ−Ｒ（コンパクトディス
ク）やＤＶＤ−Ｒ（デジタルヴァーサタイルディスク）
より高い記録密度を達成することができる。

【００３２】また、基板の中心には中心孔が設けられて
おり、中心から２０〜４０ｍｍ（好ましくは、２１〜３
８ｍｍ）の範囲には既述の位置決め溝が設けられてい
る。当該位置決め溝の断面形状（幅や深さ等）は、図１
でいう位置決めチャックが挿入できる形状であれば特に
限定されない。位置決め溝は、１ヶ所または複数に断続
的に形成されていてもよいが、実際性を考慮すると、基
板の内周と同心円状に設けられていることが好ましい。
位置決め溝は、スタンパで基板を作製する際にグルーブ
などと一体的に形成することができる。

【００３３】なお、後述する光反射層が設けられる側の
基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、
下塗層を形成することが好ましい。該下塗層の材料とし
ては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸
・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共
重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリ
ルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロル
スルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化
ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイ
ミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢
酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤
等の表面改質剤；を挙げることができる。下塗層は、上
記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製
した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、
エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に
塗布することにより形成することができる。下塗層の層
厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ま
しくは０．０１〜１０μｍの範囲である。

【００３４】光反射層は、レーザ光に対する反射率が高
い光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプ
レーティングすることにより基板上に形成することがで
きる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍ
の範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ま
しい。なお、前記反射率は、７０％以上であることが好
ましい。

【００３５】反射率が高い光反射性物質としては、Ｍ
ｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃ
ｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、
Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃ
ｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐ
ｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレ
ス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単
独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、ま
たは合金として用いてもよい。これらのうちで好ましい
ものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌお
よびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましく
は、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。

【００３６】（記録層形成工程）記録層形成工程は、前
記光反射層上に波長５００ｎｍ以下のレーザ光により情
報の記録が可能な記録層を形成する工程である。当該記
録層には、記録物質としての色素を含有していることが
好ましい。当該記録層に含有される色素としては、波長
５００ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録を可能とす
る色素であれば特に限定されず、例えば、シアニン色
素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フ
タロシアニン色素等が挙げられる。

【００３７】また、特開平４−７４６９０号公報、特開
平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公
報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０
５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３
４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同
２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１
５８８１８号公報等に記載されている色素も好適に用い
られる。

【００３８】記録層は、色素等の記録物質を、結合剤等
と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこ
の塗布液を基板表面に形成された光反射層上に塗布して
塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗
布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量
％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範
囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ま
しくは０．５〜３質量％の範囲である。

【００３９】塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸
エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタ
ン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルム
アミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水
素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン
等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプ
ロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等の
アルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノ
ール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコール
エーテル類；等を挙げることができる。上記溶剤は使用
する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種
以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中に
はさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各
種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

【００４０】結合剤を使用する場合に、該結合剤の例と
しては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、
ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の
炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニ
ル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メ
チル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化
ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘
導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性
樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることが
できる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、
結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍
量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．
１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにし
て調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．
０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５
質量％の範囲にある。

【００４１】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げるこ
とができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記
録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、
好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好まし
くは５０〜１００ｎｍの範囲にある。

【００４２】記録層には、該記録層の耐光性を向上させ
るために、種々の褪色防止剤を含有させることができ
る。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチ
ャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、
既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用す
ることができる。その具体例としては、特開昭５８−１
７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０
−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６
０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同
６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、
同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公
報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号
公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９
号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５
４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同
６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３
９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号
第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。

【００４３】前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止
剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質
量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の
範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好
ましくは５〜２５質量％の範囲である。

【００４４】記録層を形成した後は、バリア層として、
Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｍ、Ｍｏ、Ｇｅ等のいずれ
か１以上からなる酸化物、窒化物、炭化物、硫化物等の
材料からなる層を形成してもよい。前記バリア層を構成
する材料としては、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂のようにハイブリ
ット化していてもよい。バリア層は、スパッタリング、
蒸着、イオンプレーティング等により形成すること可能
で、その厚さは、１〜１００ｎｍとすることが好まし
い。

【００４５】以上のようにして、光反射層、記録層等が
形成された積層体が製造される。

【００４６】次に、本発明の光情報記録媒体への情報の
記録方法および記録した情報の再生方法について説明す
る。光情報記録媒体への情報の記録は、例えば、次のよ
うに行われる。まず、光情報記録媒体を定線速度にて回
転させながら、カバーシート側から記録用の５００ｎｍ
以下のレーザ光を照射する。このレーザ光の照射によ
り、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物
理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生
じてその光学的特性が変化する。この光学的特性の変化
により、情報が記録される。

【００４７】５００ｎｍ以下の発振波長を有するレーザ
光源としては、例えば、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発
振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長約４
３０ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができ
る。また、記録密度を高めるために、ピックアップに使
用される対物レンズの開口率（ＮＡ）は０．７以上が好
ましく、０．８５以上がより好ましい。

【００４８】一方、記録された情報の再生は、光情報記
録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら、情報
の記録に使用したレーザと同一波長もしくはそれ以下の
波長のレーザ光をカバーシート側から照射して、その反
射光を検出することにより行うことができる。

【００４９】

【実施例】本発明を以下の実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００５０】〔実施例１〕射出成形により作製したポリ
カーボネート樹脂製の基板のグルーブを有する面上に、
Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリング（Ｕｎａｘｉｓ社
製Ｃｕｂｅ）によりＡｇからなる反射層（厚さ１００ｎ
ｍ）を形成した。なお、上記基板は、厚さ１．１ｍｍ、
外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のグルー
ブ（溝深さ３０ｎｍ、幅１５ｎｍ、トラックピッチ３４
０ｎｍ）を有する。また、基板の中心孔と同心円状の位
置決め溝（幅０．５ｍｍ、深さ０．２ｍｍ）が、外径が
基板の中心から２２ｍｍの位置に設けられていた。

【００５１】下記化学式で表わされる２ｇの色素（化合
物１）を２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１
００ｍｌ中に添加して溶解し、色素塗布液を調製した。
調製した色素塗布液を、スピンコート法により回転数３
００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃５０％
ＲＨの条件で反射層上に塗布した。その後、２３℃５０
％ＲＨで１時間保存して、記録層（溝内での厚さ：１０
０ｎｍ、ランド部での厚さ：７０ｎｍ）を形成した。な
お、記録層は、基板の中心から４４ｍｍ以上の領域に形
成した。

【００５２】

【化１】

【００５３】記録層を形成した後、クリーンオーブンに
てアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直
のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持
し、４０℃で１時間保持して行った。

【００５４】その後、記録層上に、ＲＦスパッタリング
によりＺｎＳ／ＳｉＯ₂（ＺｎＳ：ＳｉＯ₂＝８：２（質
量比））からなるバリア層（厚さ５０ｎｍ）を形成し
て、積層体を作製した（積層体作製工程）。バリア層の
形成条件は下記の通りとした。 パワー・・・４ｋＷ、 圧力・・・２×１０^-2ｈＰａ、 時間・・・１０秒間

【００５５】作製した積層体をバリア層が上になるよう
にスピンコーターの平面テーブル上に載置した。バリア
層上に接着剤（大日本インキ製 ＳＤ３１８）を環状に
ディスペンスした。

【００５６】ポリカーボネートからなるカバーシート
（帝人製ピュアエース：外径１１９．５ｍｍ、内径２２
ｍｍ、厚さ７５μｍ）を真空吸着パッドで搬送しなが
ら、基板の位置決め溝に真空吸着パッドに設けられた位
置決めチャックが挿入されるように、貼り合わせ位置を
調整しカバーシートを降下させて、バリア層上にカバー
シートを載置した。

【００５７】その後、回転数３００〜５０００ｒｐｍで
３０秒間回転させ、接着剤を全面に広げ、かつ余分な接
着剤を振り飛ばした。回転させながら紫外線を照射し接
着剤を硬化させて、積層体とカバーシートとを貼り合わ
せて（貼り合わせ工程）光情報記録媒体を作製した。作
製した光情報記録媒体の貼り合わせ層（接着剤からなる
層）を観察したところ、厚みは２５μｍで気泡もなく良
好な密着性を有していた。カバー層と接着層との厚さの
合計は概略１００μmであった。

【００５８】〔比較例１〕位置決め溝を使用せず、積層
体および内径１５ｍｍのカバーシートのセンターボス
（内周部）でカバーシートの貼り合わせ位置を調整し
て、これら貼り合わせた以外は、実施例と同様にして光
情報記録媒体を作製した。

【００５９】（光情報記録媒体の評価）実施例１および
比較例１で作製された光情報記録媒体のそれぞれを、寸
法測定機能付顕微鏡（オリンパス社製ＭＭＣＡＬ２１）
により偏芯を測定した。

【００６０】実施例１で作製した光情報記録媒体の偏芯
は、１８μｍであったのに対し、比較例１で作製した光
情報記録媒体の偏芯は、１００μｍを超えていた。これ
は、比較例１の光情報記録媒体では、カバーシートの一
部が基板の中心孔にはみ出していたためで、これに対
し、実施例１の光情報記録媒体では、中心孔へのはみ出
しもなく、精度良くカバーシートを積層体上に貼り合わ
せることができたためといえる。

【００６１】

【発明の効果】本発明によれば、再生時の偏芯が低減さ
れた光情報記録媒体およびその製造方法を提供すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 貼り合わせ工程において使用されるスピンコ
ーターによる貼り合わせ方法を説明する図である。

【符号の説明】

１…スピンコーター ２…平面テーブル ３…積層体 ３ａ…基板 ３ｂ…位置決め溝 ４…カバーシート ５…吸着パッド ５ａ…位置決めチャック ３０…記録層

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 トラックピッチ２００〜４００ｎｍ、溝
   深さ１０〜１５０ｎｍのグルーブが形成され、中心孔お
   よび位置決め溝を有する基板上に、波長５００ｎｍ以下
   のレーザ光により情報の記録が可能な記録層を前記位置
   決め溝より外側に形成して積層体を作製する積層体作製
   工程と、 外径が前記基板の外径より小さく、内径が前記基板の中
   心孔より大きいカバーシートを、前記位置決め溝により
   貼り合わせの位置を調整して、前記積層体の前記記録層
   上に貼り合わせる貼り合わせ工程と、を有することを特
   徴とする光情報記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の製造方法により製造さ
   れたことを特徴とする光情報記録媒体。