JP3617802B2 - 光情報記録媒体及び情報記録方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ光の照射により情報の記録及び再生を行うことができる光情報記録媒体、及びこの光情報記録媒体を用いた情報記録方法に関し、特に、波長550nm以下の短波長レーザを用いて情報を記録するのに適した、例えば追記型の光ディスク(CD−R)や追記型のデジタル・ビデオ・ディスク(DVD−R)のような光情報記録媒体、及びこの光情報記録媒体を用いた情報記録方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、レーザ光により一回限りの情報の記録が可能な追記型光情報記録媒体(光ディスク)は、CD−Rと称され、広く知られている。このCD−R型の光情報記録媒体の代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる色素記録層、金などの金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層をこの順に積層したものである。そしてこの光ディスクへの情報の記録は、近赤外域のレーザ光(通常は780nm付近の波長のレーザ光)を光ディスクに照射することにより行われ、色素記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化(例えば、ピットなどの生成)によりその部分の光学的特性が変化し、情報が記録される。一方、情報の再生は、通常、記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を光ディスクに照射して、色素記録層の光学的特性が変化した部位(記録部分)と変化していない部位(未記録部分)との反射率の違いを検出することにより行われている。
【0003】
また、最近では、CD−Rより高密度の記録が可能な媒体として、追記型デジタル・ビデオ・ディスク(DVD−R)と称される光ディスクが提案され(例えば、「日経ニューメデイア」別冊「DVD」、1995年発行)、実用化されて、大容量記録媒体としての地位を築きつつある。このDVD−Rは、通常、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、光反射層、及び保護層をこの順に積層したディスク2枚を記録層を内側にして貼り合わせた構造、またはこのディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを記録層を内側にして貼り合わせた構造を有しており、透明な円盤状基板には、記録時に照射されるレーザ光をトラッキングするための案内溝(プレグルーブ)が、CD−Rの半分以下(0.74〜0.8μm)という狭い溝幅で形成されている。このDVD−Rでは、情報の記録及び再生は、可視域のレーザ光(通常は630〜680nmの範囲の波長のレーザ光)を光ディスクに照射することにより行われており、このようにCD−Rより短い波長の光で記録を行うことにより、より高密度での記録が可能となっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、昨今のインターネット等の情報ネットワークやハイビジョンTVの急速な普及に伴い、高画質な画像情報が簡単に取り出せるようになってきており、これらの画像情報を安価且つ簡便に記録するために、更に大容量の記録媒体が必要とされている。このため、従来の記録波長(780nmまたは630nm)より更に短波長の光で高密度の記録を行うことができる、より大容量の記録媒体の開発が進められている。
【0005】
例えば、特開平11−53758号公報には、有機色素を含む記録層を備えた光情報記録媒体に波長530nm以下のレーザ光を照射することにより、情報の記録及び再生を行う記録再生方法が開示されている。この方法では、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、又はトリメチンシアニン色素を含む記録層を備えた光情報記録媒体に、青色(波長410nm)又は青緑色(波長515nm)の半導体レーザを用いてレーザ光を照射して情報の記録再生を行っている。しかしながら、特開平11−53758号公報に記載の光ディスクは、記録時に実用上必要とされる感度、反射率、変調度が得られない、という問題があった。
【0006】
本発明は上記事情に鑑み成されたものであり、本発明の目的は、従来の記録波長(780nmまたは630nm)より更に短波長のレーザ光、特に550nm以下のレーザ光の照射により情報の記録及び再生を行うことができ、且つこれら短波長のレーザ光に対して高い反射率を示し、かつ高変調度を与える高感度の光情報記録媒体を提供することにある。また、本発明の他の目的は、より高密度で情報の記録を行うことができる情報記録方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項1に記載の光情報記録媒体は、基板上にレーザ光の照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式(I)で表される色素化合物を含有することを特徴とする。
一般式(I):
【0008】
【化7】
Figure 0003617802
【0009】
[式中、R1、R2及びR3は、各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、またはヘテロ環基を表し、且つ、R 1 、R 2 及びR 3 の少なくとも1つが、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアルキニル基、または置換または無置換のヘテロ環基である。
【0010】
請求項2に記載の光情報記録媒体は、前記一般式(I)のR1、R2及びR3が、各々独立に炭素原子数1乃至20の置換または無置換のアルキル基、炭素原子数2乃至20の置換または無置換のアルケニル基、炭素原子数2乃至20の置換または無置換のアルキニル基、炭素原子数6乃至18の置換または無置換のアリール基、炭素原子数7乃至18の置換または無置換のアラルキル基、または5員もしくは6員の置換または無置換のヘテロ環基を表すことを特徴とする。
【0011】
請求項3に記載の光情報記録媒体は、前記一般式(I)のR 1 、R 2 及びR 3 が、各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、またはヘテロ環基を表し、且つ、R 1 、R 2 及びR 3 の少なくとも1つが、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環基であることを特徴とする。
【0012】
請求項4に記載の光情報記録媒体は、前記一般式(I)のR 1 、R 2 及びR 3 が、各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、またはヘテロ環基を表し、且つ、R 1 、R 2 及びR 3 の少なくとも1つが、置換または無置換のアリール基であることを特徴とする。
【0013】
請求項5に記載の光情報記録媒体は、前記一般式(I)のR1、R2及びR3が、置換または無置換のアリール基であることを特徴とする。
【0014】
請求項6に記載の光情報記録媒体は、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の発明において、前記一般式(I)のR1、R2またはR3が、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、またはアリールチオ基により置換されていることを特徴とする。
【0015】
請求項7に記載の光情報記録媒体は、基板上にレーザ光の照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式( II )で表される色素化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
一般式( II ):
【0016】
【化8】
Figure 0003617802
【0017】
[式中、R4、R5及びR6は、それぞれ独立に1価の置換基を表し、p、q及びrは、それぞれ独立に0乃至4の整数を表す。]
【0018】
請求項8に記載の光情報記録媒体は、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の発明において、前記基板が一方の表面に0.3〜0.8μmのトラックピッチでプレグルーブが設けられた透明な円盤状基板であり、該基板のプレグルーブが形成された側の表面に前記記録層が設けられていることを特徴とする。
【0019】
請求項9に記載の光情報記録媒体は、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の発明において、前記記録層上に金属からなる光反射層が設けられていることを特徴とする。
【0020】
請求項10に記載の光情報記録媒体は、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の発明において、前記記録層上方に保護層が設けられていることを特徴とする。
【0021】
請求項11に記載の情報記録方法は、請求項1乃至10のいすれか1項に記載の光情報記録媒体に、波長550nm以下のレーザ光を照射して情報を記録することを特徴とする。
【0022】
本発明の光情報記録媒体は、前記一般式(I)で表される色素化合物を記録層の記録材料として用いることにより、従来の記録波長(780nmまたは630nm)より更に短波長のレーザ光、特に550nm以下のレーザ光の照射により情報の記録及び再生を行うことができ、且つこれら短波長のレーザ光に対しても高い感度を示し、高い反射率、そして高い変調度を与える等、良好な記録再生特性を有している。また、本発明の情報記録方法は、上記の通り、短波長のレーザ光に対しても高い感度を有する光情報記録媒体を用いて情報を記録するので、より高密度で情報の記録を行うことができる。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の光情報記録媒体及び情報記録方法について詳細に説明する。
【0024】
本発明の光情報記録媒体は、基板上にレーザ光の照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であり、この記録層が下記一般式(I)で表される色素化合物を含有することを特徴としている。まず、この一般式(I)で表される色素化合物について説明する。
一般式(I):
【0025】
【化9】
Figure 0003617802
【0026】
[式中、R1、R2及びR3は、各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、またはヘテロ環基を表し、且つ、R 1 、R 2 及びR 3 の少なくとも1つが、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアルキニル基、または置換または無置換のヘテロ環基である。
【0027】
前記一般式(I)において、R1、R2及びR3で表されるアルキル基として好ましいものは、炭素原子数1乃至20の鎖状または環状の置換基を有していてもよいアルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ter−ブチル、メトキシエチル、ヒドロキシエチル、n−ペンチル、イソペンチル、シクロヘキシル)であり、更に好ましくは炭素原子数1乃至6のアルキル基であり、特にメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、メトキシエチルが好ましい。
【0028】
前記一般式(I)において、R1、R2及びR3で表されるアルケニル基は、炭素原子数2〜20が好ましく、更に炭素原子数2〜8が好ましく、例えばビニル、2−プロペニル、2−メチルプロペニル、1,3−ブタジエニルを挙げることができる。
【0029】
前記一般式(I)において、R1、R2及びR3で表されるアルキニル基は、炭素原子数2〜20が好ましく、更に炭素原子数2〜8が好ましく、例えばエチニル、プロピニル、3,3−ジメチルブチニルを挙げることができる。
【0030】
前記一般式(I)において、R1、R2及びR3で表されるアリール基として好ましいものは、炭素原子数6乃至18の置換基を有していてもよいアリール基(例えば、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、1−アントラセニル)であり、更に好ましくはフェニル、1−ナフチルまたは2−ナフチルであり、特にフェニルが好ましい。
【0031】
前記一般式(I)において、R1、R2及びR3で表されるアラルキル基として好ましいものは、炭素原子数7乃至18の置換基を有していてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル、フェネチル、アニシル)であり、特にベンジルが好ましい。
【0032】
前記一般式(I)において、R1、R2及びR3で表されるヘテロ環基として好ましいものは、5員または6員の飽和または不飽和のヘテロ環基であり、含有されるヘテロ原子としては特に窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、炭素原子数は4乃至7が好ましい。例えば、4−ピリジル、2−ピリジル、2−ピラジル、2−イミダゾリル、2−フリル、2−チオフェニル、2−ベンゾオキサゾリル、2−ベンゾチオキサゾリルを挙げることができる。
【0033】
前記一般式(I)において、R1、R2及びR3としては、アリール基またはヘテロ環基が好ましく、R1、R2及びR3の少なくとも1つがアリール基またはヘテロ環基であることが好ましい。また、R1、R2及びR3としては、アリール基がより好ましく、R1、R2及びR3の少なくとも1つがアリール基であることがより好ましく、R1、R2及びR3の全部がアリール基であることが特に好ましい。
【0034】
前記一般式(I)において、R1、R2及びR3の置換基としては、例えば以下に記載のものを挙げることができる。
【0035】
炭素原子数1〜20の鎖状または環状のアルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル)、炭素原子数6〜18のアリール基(例えば、フェニル、クロロフェニル、アニシル、トルイル、2,4−ジ−t−アミル、1−ナフチル)、炭素原子数2〜20のアルケニル基(例えば、ビニル、2−メチルビニル)、炭素原子数2〜20のアルキニル基(例えば、エチニル、2−メチルエチニル、2−フェニルエチニル)、ハロゲン原子(例えば、F、Cl、Br、I)、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、炭素原子数0乃至20の置換または無置換のアミノ基、カルボキシル基、ホルミル基、炭素原子数2乃至20のアシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイル)、炭素原子数1乃至20のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ)、炭素原子数6〜18のアリールオキシ基(例えば、フェノキシ、1−ナフトキシ)、炭素原子数1〜20のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、3−メトキシプロピルチオ)、炭素原子数6〜18のアリールチオ基(例えば、フェニルチオ、4−クロロフェニルチオ)、炭素原子数1〜20のアルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル)、炭素原子数6〜18のアリールスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル)、炭素原子数1〜10のカルバモイル基、炭素原子数1〜10のアミド基、炭素原子数2〜12のイミド基、炭素原子数2〜10のアシルオキシ基、炭素原子数2〜10のアルコキシカルボニル基、ヘテロ環基(例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環などの脂肪族ヘテロ環)。
【0036】
上記置換基としては、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基またはアリールチオ基が好ましく、更にヒドロキシ基、炭素原子数1乃至12のアルコキシ基、炭素原子数6乃至10のアリールオキシ基、炭素原子数1乃至12のアミノ基、炭素原子数2乃至13のアシルアミノ基が好ましく、特にヒドロキシ基が好ましい。
【0037】
前記一般式(I)で表される色素化合物が、下記一般式(II)で表される構造である場合が特に好ましい。
一般式(II):
【0038】
【化10】
Figure 0003617802
【0039】
[式中、R4、R5及びR6は、それぞれ独立に1価の置換基を表し、p、q及びrは、それぞれ独立に0乃至4の整数を表す。]
【0040】
一般式(II)において、R4、R5及びR6で表される置換基としては、一般式(I)におけるR1、R2及びR3の置換基として挙げたものを挙げるこ とができるが、好ましくは、炭素原子数1乃至6のアルキル基(特にメチル、 エチル、n−プロピル、n−ブチル、t−ブチル)、炭素原子数6乃至10の アリール基(特にフェニル)、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基(特にメ トキシ、エトキシ、n−ブトキシ、s−ブトキシ、i−ブトキシ)、アリール オキシ基(特にフェノキシ)及びハロゲン原子(特に塩素原子)であり、特に 好ましくは、炭素原子数1乃至8のアルコキシ基である。
【0041】
一般式(II)において、p、q及びrで表される整数は、それぞれ独立に0、1、及び2が好ましく、1または2がより好ましい。pが2以上の整数のとき複数種のR4を有していてもよく、qが2以上の整数のとき複数種のR5を有していてもよく、rが2以上の整数のとき複数種のR6を有していてもよい。
【0042】
一般式(I)で表される化合物は、任意の位置で結合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位は互いに同一でも異なっていてもよく、またポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セルロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。
【0043】
以下に、一般式(I)で表される化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0044】
【化11】
Figure 0003617802
【0045】
【化12】
Figure 0003617802
【0046】
【化13】
Figure 0003617802
【0047】
【化14】
Figure 0003617802
【0048】
【化15】
Figure 0003617802
【0049】
【化16】
Figure 0003617802
【0050】
【化17】
Figure 0003617802
【0051】
【化18】
Figure 0003617802
【0052】
【化19】
Figure 0003617802
【0053】
【化20】
Figure 0003617802
【0054】
本発明の色素は、ドイツ特許第19750906号明細書、同第4340725号明細書、欧州特許第531258号明細書、特開平7−188188号公報、同7−188189号公報及び同7−188190号公報などに記載の方法に基づいて合成することができる。
【0055】
次に、本発明の光情報記録媒体の構造について説明する。本発明の光情報記録媒体は、基板上に前記一般式(I)で表される色素化合物を含有する記録層を有していれば特に制限はなく、種々の構造の光情報記録媒体とすることができるが、一定のトラックピッチのプレグルーブが形成された円盤状基板上に記録層、光反射層および保護層をこの順に設けた構造、またはこの円盤状基板上に光反射層、記録層および保護層をこの順に設けた構造であることが好ましい。また、一定のトラックピッチのプレグルーブが形成された透明な円盤状基板上に記録層及び光反射層が設けられた2枚の積層体が、それぞれの記録層が内側となるように接合された貼り合わせ構造も好ましい。
【0056】
本発明の光情報記録媒体には、より高い記録密度を達成するために、CD−RやDVD−Rに比べてより狭いトラックピッチのプレグループが形成された基板を用いることが可能であり、トラックピッチは0.3〜0.8μmの範囲にあることが好ましく、0.4〜0.6μmの範囲にあることがより好ましい。
【0057】
円盤状基板上に記録層、光反射層、及び保護層をこの順に設けた光情報記録媒体を例にとり、本発明の光情報記録媒体を、その製造工程に従い詳細に説明する。
【0058】
本発明の光情報記録媒体の基板は、従来の光情報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任意に選択することができる。基板材料としては、例えばガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルなどを挙げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好ましい。
【0059】
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上および記録層の変質防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質;およびシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に0.005〜20μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10μmの範囲である。
【0060】
記録層の形成は、前記色素化合物、更に所望によりクエンチャー、結合剤などを溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行うことができる。塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミドなどのアミド;シクロヘキサンなどの炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル;エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノールジアセトンアルコールなどのアルコール;2,2,3,3−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して、単独であるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【0061】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合には、結合剤の使用量は、一般に色素に対して0.01倍量〜50倍量(質量比)の範囲にあり、好ましくは0.1倍量〜5倍量(質量比)の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の色素の濃度は、一般に0.01〜10質量%の範囲にあり、好ましくは0.1〜5質量%の範囲にある。
【0062】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。記録層の層厚は一般に20〜500nmの範囲にあり、好ましくは50〜300nmの範囲にある。
【0063】
記録層には、記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭58−175693号、同59−81194号、同60−18387号、同60−19586号、同60−19587号、同60−35054号、同60−36190号、同60−36191号、同60−44554号、同60−44555号、同60−44389号、同60−44390号、同60−54892号、同60−47069号、同63−209995号、特開平4−25492号、特公平1−38680号、及び同6−26028号等の各公報、ドイツ特許350399号明細書、そして日本化学会誌1992年10月号第1141頁などに記載のものを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式(III)で表される化合物を挙げることができる。
一般式(III):
【0064】
【化21】
Figure 0003617802
【0065】
(但し、R21は置換基を有していてもよいアルキル基を表わし、そしてQ-はアニオンを表わす。)
【0066】
一般式(III)において、R21は置換されていてもよい炭素原子数1〜8のアルキル基が一般的であり、無置換の炭素原子数1〜6のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子(例、F,Cl)、アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ)、アルキルチオ基(例、メチルチオ、エチルチオ)、アシル基(例、アセチル、プロピオニル)、アシルオキシ基(例、アセトキシ、プロピオニルオキシ)、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル)、アルケニル基(例、ビニル)、アリール基(例、フェニル、ナフチル)を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Q-のアニオンの好ましい例としては、ClO4 -、AsF6 -、BF4 -、及びSbF6 -を挙げることができる。前記一般式(III)で表される化合物例を表1に記載する。
【0067】
【表1】
Figure 0003617802
【0068】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常0.1〜50質量%の範囲であり、好ましくは、0.5〜45質量%の範囲、更に好ましくは、3〜40質量%の範囲、特に好ましくは5〜25質量%の範囲である。
【0069】
記録層の上には、情報の再生時における反射率の向上の目的で光反射層を設けることが好ましい。光反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Au金属、Ag金属、あるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ag金属、あるいはAg合金である。好ましいAuまたはAg合金としては、それぞれPt、Cu、及びAlからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を含む合金を挙げることができる。光反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には10〜300nmの範囲にあり、50〜200nmの範囲にあることが好ましい。
【0070】
光反射層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層を設けることが好ましい。なお、DVD−R型の光情報記録媒体の製造の場合と同様の形態、すなわち二枚の基板を記録層を内側にして張り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付設は必要ではない。保護層に用いられる材料の例としては、SiO、SiO2、MgF2、SnO2、Si34等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
【0071】
保護層は、例えばプラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には0.1〜100μmの範囲にある。
【0072】
以上の工程により、基板上に、記録層、光反射層そして保護層が設けられた積層体を製造することができる。
【0073】
次に、本発明の情報記録方法について説明する。上記光情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行れる。まず光情報記録媒体を定線速度(CDフォーマットの場合は1.2〜1.4m/秒)または定角速度にて回転させながら、基板側あるいは保護層側から半導体レーザ光などの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化(例えば、ピットの生成)が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
【0074】
本発明においては、記録光として390〜550nmの範囲のレーザ光が用いられる。好ましい光源としては390〜415nmの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長515nmの青緑色半導体レーザ、中心発振波長850nmの赤外半導体レーザを光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長425nmの青紫色SHGレーザを挙げることができる。中でも記録密度の点で青紫色半導体またはSHGレーザを用いることが特に好ましい。
【0075】
なお、上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザ光を基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【0076】
【実施例】
次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
化合物(1)を2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールに溶解し、記録層形成用塗布液(濃度:1質量%)を得た。この塗布液を表面にスパイラル状のプレグルーブ(トラックピッチ:0.6μm、グルーブ幅:0.3μm、グルーブの深さ:0.15μm)が射出成形により形成されたポリカーボネート基板(直径:120mm、厚さ:0.6mm)のそのプレグルーブ側の表面にスピンコート法により塗布し、記録層(厚さ(プレグルーブ内):約120nm)を形成した。次に、記録層上に銀をスパッタして厚さ約100nmの光反射層を形成した。更に、光反射層上にUV硬化性樹脂(SD318、大日本インキ化学工業(株)製)を塗布し、紫外線を照射して硬化させ、層厚7μmの保護層を形成した。以上の工程により、実施例1の光ディスクを製造した。
【0077】
[実施例2〜10]
化合物(1)を表2に示す化合物に変えた(使用量は変更なし)こと以外は実施例1と同様にして、実施例2〜10の光ディスクを製造した。
【0078】
[比較例1〜4]
化合物(1)を下記に示す比較用色素化合物A〜D(使用量は変更なし)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、比較例1〜4の光ディスクを製造した。
【0079】
【化22】
Figure 0003617802
【0080】
[光ディスクとしての評価]
作製した光ディスクに線速度3.5m/秒で14T−EFM信号を発振波長408nmの青紫色半導体レーザを用いて記録したのち、記録した信号を再生した。最適パワーでの変調度、グルーブ反射率及び感度を測定した。記録及び記録特性評価はパルステック社製「DDU1000」を用いて行った。評価結果を表2に示す。
【0081】
【表2】
Figure 0003617802
【0082】
上記表2の結果から、前記一般式(1)で表される色素化合物を含有する記録層を有する本発明に従う光ディスク(実施例1〜10)は、比較化合物A〜Dを含有する記録層を有する光ディスク(比較例1〜4)に比べて、上記青紫色半導体レーザによる短波長レーザに対して高い反射率を示し、かつ変調度を与え、しかも高感度であることがわかる。従って、本発明に従う光ディスクは、短波長レーザに対して高い記録特性を備えていることがわかる。
【0083】
【発明の効果】
本発明は、記録層に所定の色素化合物を含有したことにより、従来の記録波長(780nmまたは630nm)より更に短波長のレーザ光、特に550nm以下のレーザ光の照射により情報の記録及び再生を行うことができ、且つこれら短波長のレーザ光に対して高い反射率を示し、かつ高変調度を与える高感度の光情報記録媒体が提供される。また、本発明によれば、より高密度で情報の記録を行うことができる情報記録方法が提供される。即ち、CD−RやDVD−Rの場合よりも情報の高密度記録が可能となり、更に大容量の情報の記録が可能な光情報記録媒体を提供することができる。

Claims (11)

  1. 基板上にレーザ光の照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式(I)で表される色素化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
    一般式(I):
    Figure 0003617802
    [式中、R1、R2及びR3は、各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、またはヘテロ環基を表し、且つ、R 1 、R 2 及びR 3 の少なくとも1つが、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアルキニル基、または置換または無置換のヘテロ環基である。
  2. 基板上にレーザ光の照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式(I)で表される色素化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
    一般式(I):
    Figure 0003617802
    [式中、R 1 、R 2 及びR 3 は、各々独立に炭素原子数1乃至20の置換または無置換のアルキル基、炭素原子数2乃至20の置換または無置換のアルケニル基、炭素原子数2乃至20の置換または無置換のアルキニル基、炭素原子数6乃至18の置換または無置換のアリール基、炭素原子数7乃至18の置換または無置換のアラルキル基、または5員もしくは6員の置換または無置換のヘテロ環基を表す。]
  3. 基板上にレーザ光の照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式(I)で表される色素化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
    一般式(I):
    Figure 0003617802
    [式中、R1、R2及びR3は、各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、またはヘテロ環基を表し、且つ、R 1 、R 2 及びR 3 の少なくとも1つが、置換または無置換のアリール基、または置換または無置換のヘテロ環基である。
  4. 基板上にレーザ光の照射により情報の記録が可能な記録層を有する光 情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式(I)で表される色素化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
    一般式(I):
    Figure 0003617802
    [式中、R1、R2及びR3は、各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、またはヘテロ環基を表し、且つ、R 1 、R 2 及びR 3 の少なくとも1つが、置換または無置換のアリール基である。
  5. 基板上にレーザ光の照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式(I)で表される色素化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
    一般式(I):
    Figure 0003617802
    [式中、R 1 、R 2 及びR 3 は、置換または無置換のアリール基である。]
  6. 前記一般式(I)のR1、R2及びR3が、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、またはアリールチオ基により置換されている請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。
  7. 基板上にレーザ光の照射により情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が下記一般式( II )で表される色素化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
    一般式( II ):
    Figure 0003617802
    [式中、R4、R5及びR6は、それぞれ独立に1価の置換基を表し、p、q及びrは、それぞれ独立に0乃至4の整数を表す。]
  8. 前記基板が一方の表面に0.3〜0.8μmのトラックピッチでプレグルーブが設けられた透明な円盤状基板であり、該基板のプレグルーブが形成された側の表面に前記記録層が設けられている請求項1乃至7のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。
  9. 前記記録層上に金属からなる光反射層が設けられている請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。
  10. 前記記録層上方に保護層が設けられている請求項1乃至9のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。
  11. 請求項1乃至10のいすれか1項に記載の光情報記録媒体に、波長550nm以下のレーザ光を照射して情報を記録する情報記録方法。
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