JPH10320859A

JPH10320859A - 光磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH10320859A
Application number: JP9127500A
Authority: JP
Inventors: Katsuhisa Araya; 勝久荒谷
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-05-16
Filing date: 1997-05-16
Publication date: 1998-12-04

Abstract

(57)【要約】【課題】再生信号でのノイズを抑えて再生特性の向上
を図り、しかも高記録密度化を可能とする光磁気記録媒
体を提供する。【解決手段】光磁気記録媒体１は、基板２上に金属反
射膜３、第１の誘電体膜６、光磁気記録膜７、第２の誘
電体膜８が順次積層形成されてなる。この金属反射膜３
の表面粗さは、８．０ｎｍ未満である。また、この金属
反射膜３は、少なくともアルミニウムを含む材料、Ａ
ｕ、Ａｇの中の何れか１種よりなり、かつイオンビーム
スパッタまたはマグネトロンスパッタの何れかの方法に
より形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気記録媒体に
関し、詳しくは、基板上に、金属反射膜、第１の誘電体
膜、光磁気記録膜、第２の誘電体膜が順次積層形成され
てなる光磁気ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の光磁気記録媒体は、基板上に第１
の誘電体膜、光磁気記録膜、第２の誘電体膜、金属反射
膜がスパッタ法によりこの順で積層形成されている。そ
して、この光磁気記録媒体においては、上記の誘電体膜
及び光磁気記録膜から記録層が構成され、基板からレー
ザ光を入射させてこの記録層に対して情報信号の記録再
生が行われる。

【０００３】ところで、光磁気記録媒体を高密度容量化
する方法として、光学ピックアップの対物レンズの開口
数を大きくして再生光のスポット径を小さくし、これに
合わせて記録を行うことで高記録密度化する方法が提案
されている。

【０００４】このように対物レンズの開口数を大きくす
ると、再生光が照射されて透過する基板の厚さを薄くす
る必要がある。これは、光学ピックアップの光軸に対し
てディスク面が垂直からズレる角度（チルト角）の許容
量が小さくなるためであり、このチルト角が基板の厚さ
による収差の影響を受け易いためである。従って、光磁
気記録媒体においては、基板の厚さを極力薄くしてチル
ト角による収差の影響をなるべく小さくするようにして
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、今後、
更なる高記録密度化が要求されるものと思われ、基板の
更なる薄型化が必要となってくる。そこで、例えば、一
主面上に凹凸を形成した基板上に金属反射膜を形成し、
この金属反射膜上に記録層として第１の誘電体膜、光磁
気記録膜、第２の誘電体膜を順次積層形成し、さらにこ
の記録層上に光を透過する薄膜である光透過層を設ける
ようにして、この光透過層側からレーザ光を照射して情
報信号を記録再生するような光磁気記録媒体が提案され
ている。これにより、光透過層を薄型化することで対物
レンズの大開口数化に対応可能となる。

【０００６】ところで、上述の光磁気記録媒体において
は、誘電体膜の材料として、窒化珪素、窒化アルミニウ
ム、酸化珪素等が用いられ、光磁気記録膜の材料とし
て、ＴｂＦｅＣｏ、ＤｙｆｅＣｏ、ＧｄＦｅＣｏ等の希
土類遷移金属が用いられている。これらの材料は、アモ
ルファス構造を有し、しかもスパッタリング法により膜
形成された場合に粒子径が小さくなるため、再生信号で
のノイズ等へ影響を及ぼさない。

【０００７】ところが、金属反射膜は、通常スパッタリ
ング法により成膜されるため、表面が粗くされる傾向に
ある。このように金属反射膜の膜表面が粗くされると、
上述したような光磁気記録媒体においては、レーザ光が
光透過層から照射されて記録層を通って誘電体膜と金属
反射膜との接面上で反射されることから、再生信号のノ
イズが増加してしまい、再生特性が劣化してしまうとい
った問題があった。

【０００８】そこで、本発明は、従来の実情に鑑みて提
案されたものであり、再生信号でのノイズを抑えて再生
特性の向上を図り、しかも高記録密度化を可能とする光
磁気記録媒体を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために完成された本発明に係る光磁気記録媒体は、基板
上に、金属反射膜、第１の誘電体膜、光磁気記録膜、第
２の誘電体膜が順次積層形成されてなり、金属反射膜の
表面粗さが、８．０ｎｍ未満であることを特徴とする。

【００１０】ここで、上記金属反射膜は、少なくともア
ルミニウムを含む材料、Ａｕ、Ａｇの中の何れか１種よ
りなり、この金属反射膜が、イオンビームスパッタまた
はマグネトロンスパッタの何れかの方法により形成され
ていることが好ましい。

【００１１】また、特に上記少なくともアルミニウムを
含む材料中には、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉのうちの少な
くとも１種が含まれていると好ましい。

【００１２】また、本発明に係る光磁気記録媒体は、基
板上に形成された金属反射膜が、第１の金属反射膜と第
２の金属反射膜とから形成された２層構造であり、しか
も第１の金属反射膜の表面粗さが第２の金属反射膜の表
面粗さよりも小さくなされていると好ましい。

【００１３】以上のように構成された本発明に係る光磁
気記録媒体では、金属反射膜の表面粗さが８．０ｎｍ未
満となされていることにより、光透過層側からレーザ光
を入射させても金属反射膜の膜表面の粗さが十分抑えら
れているため、再生信号のノイズを抑えることができ
て、再生特性の向上を図ることができ、また高記録密度
化をも可能となる。

【００１４】また、金属反射膜が、少なくともアルミニ
ウムを含む材料、Ａｕ、Ａｇの中の何れか１種よりな
り、この金属反射膜が、イオンビームスパッタまたはマ
グネトロンスパッタの何れかの方法により形成されてい
ることによって、金属反射膜の膜表面の粗さを十分抑え
ることができて、その結果効果的に再生信号のノイズを
抑えることが可能となり、再生特性の向上を図ることが
できる。

【００１５】特に、本発明に係る光磁気記録媒体におけ
る金属反射膜が、第１の金属反射膜と第２の金属反射膜
との２層構造となされ、しかも第１の金属反射膜の表面
粗さが第２の金属反射膜の表面粗さよりも小さくされて
いることにより、光学的に必要とされる厚さを十分確保
しながらも、金属反射膜の膜表面の粗さを効果的に抑え
ることができて、その結果反射率の低下を抑えて、信号
劣化を防ぐことができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明す
る。

【００１７】本発明を適用した光磁気記録媒体１は、図
１に示すように、基板２上に、金属反射膜３、記録層
４、光透過層５がこの順で積層形成されてなる。

【００１８】基板２は、図１に示すように、溝状の凹部
である案内溝２ａと、丘状の凸部２ｂとを有する。基板
２の材料としては、ポリカーボネート樹脂やメタクリル
樹脂が主に用いられる。さらに熱的特性の良い材料とし
ては、変性したポリカーボネート樹脂が用いられる。そ
の他の材料としては、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹
脂、エポキシ樹脂等のプラスチック材料や、ガラス材料
が用いられる。

【００１９】金属反射膜３は、基板２に形成された案内
溝２ａや凸部２ｂを覆うように形成されている。

【００２０】特に、本発明に用いられる金属反射膜３の
表面粗さは、８．０ｎｍ未満である。また、表面粗さが
８．０ｎｍ以上であると、再生信号のノイズが増加し、
再生特性の劣化が起こってしまう。

【００２１】なお、ここで表面粗さとは、以下に示すよ
うに測定した値と定義する。先ず、金属反射膜３上の傷
や付着物のない表面上２×２ｍｍ²の範囲内に対して、
スキャニングトンネリングマイクロスコープを用いて、
表面上に形成された凹凸の高さを測定する。そして、高
さが１０〜１００ｎｍの凹凸が形成されている粗さのう
ち、特にその高さ、つまり粗さが大きいもの１０箇所の
平均値を、金属反射膜３の表面粗さと定義した。

【００２２】このように、本発明に用いられる金属反射
膜３においては、表面粗さを所定範囲に抑えているた
め、光透過層５からレーザ光が入射して金属反射膜３の
表面で反射しても、その反射光が金属反射膜３の表面粗
さから受ける影響が小さくて済むことから、その結果再
生信号のノイズを抑えることができて、再生特性の向上
を図り、しかも高記録密度化を実現することができる。

【００２３】ここで、金属反射膜３の膜厚は、光学的に
十分な厚さである４５ｎｍ以上となされていることが好
ましい。

【００２４】また、この金属反射膜３は、少なくともア
ルミニウムを含む材料、Ａｕ、Ａｇの中の何れか１種よ
りなる。さらに、金属反射膜３は、この材料をイオンビ
ームスパッタまたはマグネトロンスパッタの何れかの方
法により形成されている。

【００２５】ここで、特に、反射特性の観点からは、少
なくともアルミニウムを含む材料を用いることが好まし
い。また、この少なくともアルミニウムを含む材料は、
Ｆｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉのうちの少なくとも１種が含ま
れていても良い。このような少なくともアルミニウムを
含む材料を用いることによって、表面粗さを抑制するこ
とができ、その結果再生信号のノイズをより効果的に低
減することができる。また、特に、マグネトロンスパッ
タにより成膜する場合、アルミニウムを含む材料にＦ
ｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉのうちの少なくとも１種を含有さ
せて用いるようにした方が、表面粗さの抑制の点からよ
り好ましい。

【００２６】しかしながら、アルミニウムを含む材料
に、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉ等を過剰に添加すると、反
射率の低下や熱伝導率の低下が生じてしまい、キャリア
レベルが低下して信号品質の劣化問題が生じることがあ
る。

【００２７】そこで、金属反射膜３を、基板２上に第１
の金属反射膜３ａと第２の金属反射膜３ｂとが順次積層
形成された２層構造とし、かつ、第１の金属反射膜３ａ
の表面粗さを第２の金属反射膜３ｂの表面粗さよりも小
さくすることにより、上述の問題を解決することができ
る。つまり、上述の２層構造を有する金属反射膜３は、
その膜表面の粗さを極力抑えることができて、その結果
反射率の低下や熱伝導率の低下を抑えることができて、
キャリアレベルの低下を防ぎ、信号品質の劣化を回避す
ることができる。ここで、特に、表面粗さの小さい材料
を用いて第１の金属反射膜３ａを形成し、反射率及び熱
伝導率が高い材料を用いて第２の金属反射膜３ｂを形成
すると、上述の効果を顕著に実現することができて、好
ましい。

【００２８】具体的には、第１の金属反射膜３ａは、少
なくともアルミニウムを含む材料、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｕ、
Ｐｔのうちの何れか１種よりなり、かつ第２の金属反射
膜３ｂは、少なくともアルミニウムを含む材料、少なく
ともＡｇを含む材料のうちの何れか１種よりなることが
好ましい。ここで、上記少なくともアルミニウムを含む
材料中には、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉのうちの少なくと
も１種が含まれていても良い。

【００２９】通常、表面粗さの観点からは、金属反射膜
の膜厚が薄いほうが望ましいが、膜厚が薄くなるに伴っ
て、ノイズレベルが増加する傾向にある。ここで増加す
るノイズとは、表面粗さに起因するノイズではなく、金
属反射膜の膜厚が光学的に十分な厚さではないため、膜
厚の微少な変化や微少な表面酸化の影響により、局所的
に反射率が不均一であることに起因するノイズである。

【００３０】したがって、本発明に使用される金属反射
膜３は、表面粗さの異なる第１及び第２の金属反射膜３
ａ、３ｂを順次積層させて形成し、このとき表面粗さの
小さい方を第１の金属反射膜３ａとした２層構造とし、
しかも光学的に十分厚くなされることにより、表面粗さ
が十分抑えられ、上述のようなノイズが少なく、反射率
が高いものとなる。その結果、再生出力を向上すること
が可能となる。

【００３１】記録層４は、図１に示すように、第１の誘
電体膜６、光磁気記録膜７、第２の誘電体膜８がこの順
で基板２を覆うように積層形成されてなる。また、光磁
気記録媒体１は、この記録層４に対して、情報信号の記
録再生が行われる。

【００３２】この記録層４を形成する光磁気記録膜７の
材料としては、ＴｂＦｅＣｏ系材料等が用いられる。

【００３３】また、第１の誘電体膜６や第２の誘電体膜
８の材料としては、ＳｉＮ等が用いられる。

【００３４】また、光透過層５は、この記録層４、詳し
くは第２の誘電体膜８を被覆するように積層形成され
る。そして、この光透過層５からレーザ光を入射させて
情報信号の記録再生が行われる。ここで、光透過層５の
材料としては、紫外線硬化樹脂が挙げられる。

【００３５】

【実施例】以下、本発明の好適な実施例について実験結
果に基づいて説明する。

【００３６】実施例１先ず、トラックピッチＴｐが０．７０μｍ、案内溝の深
さｄが５３ｎｍであるガラス製の基板を用意した。

【００３７】次に、この基板上に、Ａｌをイオンビーム
スパッタリングによって成膜して、膜厚が６０ｎｍであ
り、表面粗さＲｍａｘが６．０ｎｍである金属反射膜を
形成した。

【００３８】そして、この金属反射膜上に、Ｓｉ₃Ｎ₄か
らなる膜厚３５ｎｍの第１の誘電体膜、ＴｂＦｅＣｏか
らなる膜厚１７ｎｍの光磁気記録膜、Ｓｉ₃Ｎ₄からなる
膜厚９０ｎｍの第２の誘電体膜を順次マグネトロンスパ
ッタリングによって成膜した。次に、この第２の誘電
体膜上に紫外線硬化樹脂からなる膜厚１００μｍの光透
過層を形成し、光磁気記録媒体を作製した。ここで、こ
の光磁気記録媒体においては、記録再生領域を案内溝間
である凸部２ｂとする。

【００３９】このようにして作製した光磁気記録媒体に
対して、波長６４０ｎｍ、ＮＡ０．８０である光学系を
用いて、線速度を４．３ｍ／ｓとし、分解能帯域幅を３
０ｋＨｚとし、周波数を１．６ＭＨｚとした測定条件に
て、光磁気記録媒体のノイズレベルの測定を行った。こ
の結果を表１に示す。

【００４０】実施例２基板上に、Ａｕをマグネトロンスパッタリングによって
成膜して、膜厚が６０ｎｍであり、かつ表面粗さＲｍａ
ｘが５．９ｎｍである金属反射膜を形成した以外は、実
施例１と同様にして光磁気記録媒体を作製した。そし
て、この光磁気記録媒体に対して、実施例１と同様にし
てノイズレベルを測定した。この結果を表１に示す。

【００４１】実施例３基板上に、Ａｇをマグネトロンスパッタリングによって
成膜して、膜厚が６０ｎｍであり、かつ表面粗さＲｍａ
ｘが５．７ｎｍである金属反射膜を形成した以外は、実
施例１と同様にして光磁気記録媒体を作製した。そし
て、この光磁気記録媒体に対して、実施例１と同様にし
てノイズレベルを測定した。この結果を表１に示す。

【００４２】比較例１基板上に、Ａｌをマグネトロンスパッタリングによって
成膜して、膜厚が６０ｎｍであり、かつ表面粗さＲｍａ
ｘが８．２ｎｍである金属反射膜を形成した以外は、実
施例１と同様にして光磁気記録媒体を作製した。そし
て、この光磁気記録媒体に対して、実施例１と同様にし
てノイズレベルを測定した。この結果を表１に示す。

【００４３】比較例２基板上に、ＡｌＴｉ_0.9（原子％）をマグネトロンスパ
ッタリングによって成膜して、膜厚が６０ｎｍであり、
かつ表面粗さＲｍａｘが８．０ｎｍである金属反射膜を
形成した以外は、実施例１と同様にして光磁気記録媒体
を作製した。そして、この光磁気記録媒体に対して、実
施例１と同様にしてノイズレベルを測定した。この結果
を表１に示す。

【００４４】

【表１】

【００４５】＜実施例１〜実施例３、比較例１及び比較
例２の結果の検討＞表１の結果から、表面粗さＲｍａｘ
が８．０ｎｍ未満である金属反射膜を有する実施例１〜
実施例４の光磁気記録媒体は、表面粗さＲｍａｘが８．
０ｎｍ以上である金属反射膜を有する比較例１及び比較
例２よりも、ノイズレベルが低く、信号対ノイズ比ＣＮ
Ｒが大きくなっている。このことから、金属反射膜の表
面粗さＲｍａｘを８．０ｎｍ未満とすることによって、
ノイズを抑えることができ、その結果再生特性の向上を
図ることができると判明した。

【００４６】また、成膜手段として、マグネトロンスパ
ッタリングだけでなく、イオンビームスパッタリング等
のように通常のスパッタ法に比べて基板上へ入射する原
子エネルギーを高くする成膜方法を用いても、上述の効
果を実現することが可能であるとわかった。

【００４７】さらに、金属反射膜の材料として、Ａｌに
限らず、例えばＡｕやＡｇ等を用いても、上述の効果を
実現することが可能であるとわかった。

【００４８】実施例４基板上に、ＡｌＴｉ_3.0（原子％）をマグネトロンスパ
ッタリングによって成膜して、膜厚が６０ｎｍであり、
かつ表面粗さＲｍａｘが６．７ｎｍである金属反射膜を
形成した以外は、実施例１と同様にして光磁気記録媒体
を作製した。そして、この光磁気記録媒体に対して、実
施例１と同様にしてノイズレベルを測定した。この結果
を表２に示す。

【００４９】実施例５基板上に、ＡｌＴｉ₁₀（原子％）をマグネトロンスパッ
タリングによって成膜して、膜厚が６０ｎｍであり、か
つ表面粗さＲｍａｘが３．７ｎｍである金属反射膜を形
成した以外は、実施例１と同様にして光磁気記録媒体を
作製した。そして、この光磁気記録媒体に対して、実施
例１と同様にしてノイズレベルを測定した。この結果を
表２に示す。

【００５０】実施例６基板上に、ＡｌＣｒ_3.0（原子％）をマグネトロンスパ
ッタリングによって成膜して、膜厚が６０ｎｍであり、
かつ表面粗さＲｍａｘが５．９ｎｍである金属反射膜を
形成した以外は、実施例１と同様にして光磁気記録媒体
を作製した。そして、この光磁気記録媒体に対して、実
施例１と同様にしてノイズレベルを測定した。この結果
を表２に示す。

【００５１】実施例７基板上に、ＡｌＣｒ₁₀（原子％）をマグネトロンスパッ
タリングによって成膜して、膜厚が６０ｎｍであり、か
つ表面粗さＲｍａｘが３．６ｎｍである金属反射膜を形
成した以外は、実施例１と同様にして光磁気記録媒体を
作製した。そして、この光磁気記録媒体に対して、実施
例１と同様にしてノイズレベルを測定した。この結果を
表２に示す。

【００５２】実施例８基板上に、ＡｌＦｅ_3.0（原子％）をマグネトロンスパ
ッタリングによって成膜して、膜厚が６０ｎｍであり、
かつ表面粗さＲｍａｘが６．１ｎｍである金属反射膜を
形成した以外は、実施例１と同様にして光磁気記録媒体
を作製した。そして、この光磁気記録媒体に対して、実
施例１と同様にしてノイズレベルを測定した。この結果
を表２に示す。

【００５３】実施例９基板上に、ＡｌＦｅ₁₀（原子％）をマグネトロンスパッ
タリングによって成膜して、膜厚が６０ｎｍであり、か
つ表面粗さＲｍａｘが３．２ｎｍである金属反射膜を形
成した以外は、実施例１と同様にして光磁気記録媒体を
作製した。そして、この光磁気記録媒体に対して、実施
例１と同様にしてノイズレベルを測定した。この結果を
表２に示す。

【００５４】実施例１０基板上に、ＡｌＦｅ₁₀（原子％）からなる膜厚３０ｎｍ
の第１の金属反射膜と、この第１の金属反射膜上にＡｌ
からなる膜厚３０ｎｍの第２の金属反射膜とを、マグネ
トロンスパッタリングによって成膜して、表面粗さＲｍ
ａｘが３．５ｎｍである金属反射膜を形成した以外は、
実施例１と同様にして光磁気記録媒体を作製した。そし
て、この光磁気記録媒体に対して、実施例１と同様にし
てノイズレベルを測定した。この結果を表２に示す。

【００５５】

【表２】

【００５６】＜実施例４〜実施例１０、比較例１及び比
較例２の結果の検討＞表２の結果から、金属反射膜が、
表面粗さＲｍａｘ８．０ｎｍ以下であり、かつＦｅ、Ｃ
ｒ、Ｔｉ、Ｓｉのうち少なくとも１種が含まれたアルミ
ニウムを含有する実施例５〜実施例１０は、ノイズレベ
ルが低減し、信号対ノイズ比が大きいことがわかった。
このことから、金属反射膜がＦｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉの
少なくとも１種類をアルミニウムを含有することによ
り、ノイズレベルの低減が図れることが判明した。ここ
で、上記Ｆｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉの少なくとも１種類の
含有量が、アルミニウムに対して３．０原子％以上であ
れば、ノイズレベル低減の効果があるとわかった。

【００５７】しかしながら、実施例４〜実施例９に示す
ように、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉの添加量の増加に伴
い、反射率の低下、または、熱伝導率の低下による再生
時の温度上昇により、キャリアレベルが低下するため、
信号対ノイズ比や、信号品質の劣化が生じる。

【００５８】そこで、実施例１０のように、金属反射膜
を第１及び第２の金属反射膜の２層構造とし、しかも第
１の金属反射膜の表面粗さが第２の表面粗さよりも小さ
くされていることにより、このキャリアレベルの低下を
防ぐことができる。金属反射膜を第１及び第２の金属反
射膜の２層構造とした実施例４は、比較例１及び比較例
２よりも、ノイズレベルが低く、信号対ノイズ比ＣＮＲ
が大きくなっている。しかも、２層構造の金属反射膜を
有する実施例１０は、金属反射膜が２層構造でない実施
例９と同量の金属不純物を含有するにもかかわらず、信
号対ノイズ比ＣＮＲが著しく大きいかった。

【００５９】このように、金属反射膜が、表面粗さが小
さい材料からなる第１の金属反射膜と、反射率や熱伝導
率の高い材料からなる第２の金属反射膜とを基板上に順
次成膜することによって形成された２層構造とされ、し
かも光学的に十分な厚さが確保されていることにより、
金属反射膜の表面粗さが十分抑えられ、その結果反射率
の低下や熱伝導率の低下を抑えることができて、キャリ
アレベルの低下を抑えることができる。さらに、信号対
ノイズ比ＣＮＲを大きくし、信号品質の劣化を防ぐこと
ができると判明した。

【００６０】実施例１１基板上に、Ａｌをマグネトロンスパッタリングによって
成膜して、膜厚が４５ｎｍであり、かつ表面粗さＲｍａ
ｘが６．３ｎｍである金属反射膜を形成した以外は、実
施例１と同様にして光磁気記録媒体を作製した。そし
て、この光磁気記録媒体に対して、実施例１と同様にし
てノイズレベルを測定した。この結果を表３に示す。

【００６１】実施例１２基板上に、Ａｌをマグネトロンスパッタリングによって
成膜して、膜厚が６０ｎｍであり、かつ表面粗さＲｍａ
ｘが８．２ｎｍである金属反射膜を形成した以外は、実
施例１と同様にして光磁気記録媒体を作製した。そし
て、この光磁気記録媒体に対して、実施例１と同様にし
てノイズレベルを測定した。この結果を表３に示す。

【００６２】比較例３基板上に、Ａｌをマグネトロンスパッタリングによって
成膜して、膜厚が１５ｎｍであり、かつ表面粗さＲｍａ
ｘが３．０ｎｍである金属反射膜を形成した以外は、実
施例１と同様にして光磁気記録媒体を作製した。そし
て、この光磁気記録媒体に対して、実施例１と同様にし
てノイズレベルを測定した。この結果を表３に示す。

【００６３】比較例４基板上に、Ａｌをマグネトロンスパッタリングによって
成膜して、膜厚が３０ｎｍであり、かつ表面粗さＲｍａ
ｘが３．８ｎｍである金属反射膜を形成した以外は、実
施例１と同様にして光磁気記録媒体を作製した。そし
て、この光磁気記録媒体に対して、実施例１と同様にし
てノイズレベルを測定した。この結果を表３に示す。

【００６４】

【表３】

【００６５】＜実施例１１、実施例１２、比較例３及び
比較例４の結果の検討＞表３の結果から、金属反射膜の
膜厚が４５ｎｍ以上である実施例１１及び実施例１２
は、膜厚が４５ｎｍ以下である比較例３及び比較例４よ
りも、ノイズレベルが低減されている。

【００６６】このように、金属反射膜の膜厚が４５ｎｍ
以上であることによって、光学的に十分な厚みが確保さ
れるため、膜厚の微少な変化や微少な表面酸化によって
局所的に反射率が不均一となることに起因するノイズ
を、防止することができるとわかった。つまり、本発明
を適用した光磁気記録媒体の金属反射膜の膜厚は、４５
ｎｍ以上であることが、光学的な観点から好ましいとい
えた。

【００６７】実施例１３トラックピッチが１．１μｍである基板を用い、波長６
９０ｎｍ、ＮＡ０．５５である光学系を用いた以外は、
実施例１と同様にして、光磁気記録媒体を作製してノイ
ズレベルを測定した。この結果を表４に示す。

【００６８】実施例１４トラックピッチが１．１μｍである基板を用い、波長６
９０ｎｍ、ＮＡ０．５５である光学系を用いた以外は、
実施例２と同様にして、光磁気記録媒体を作製してノイ
ズレベルを測定した。この結果を表４に示す。

【００６９】実施例１５トラックピッチが１．１μｍである基板を用い、波長６
９０ｎｍ、ＮＡ０．５５である光学系を用いた以外は、
実施例３と同様にして、光磁気記録媒体を作製してノイ
ズレベルを測定した。この結果を表４に示す。

【００７０】実施例１６トラックピッチが１．１μｍである基板を用い、波長６
９０ｎｍ、ＮＡ０．５５である光学系を用いた以外は、
実施例１０と同様にして、光磁気記録媒体を作製してノ
イズレベルを測定した。この結果を表４に示す。

【００７１】比較例５トラックピッチが１．１μｍである基板を用い、波長６
９０ｎｍ、ＮＡ０．５５である光学系を用いた以外は、
比較例１と同様にして、光磁気記録媒体を作製してノイ
ズレベルを測定した。この結果を表４に示す。

【００７２】比較例６トラックピッチが１．１μｍである基板を用い、波長６
９０ｎｍ、ＮＡ０．５５である光学系を用いた以外は、
比較例２と同様にして、光磁気記録媒体を作製してノイ
ズレベルを測定した。この結果を表４に示す。

【００７３】

【表４】

【００７４】＜実施例１３〜実施例１６、比較例５及び
比較例６の結果の検討＞表４の結果から、実施例１３〜
実施例１６、比較例５及び比較例６は、表１の結果に示
される実施例１〜実施例３、比較例１及び比較例２より
も、ノイズレベルが表面粗さに依存していないことがわ
かった。これは、ビームスポットが小さくなるに伴っ
て、ビームスポット径に対する金属反射膜表面の粒子の
相対的な大きさが大きくなるためである。通常、ビーム
スポット径は、λ／ＮＡに比例する。そこで、本発明の
ように表面粗さを規定してノイズレベルを低減する光磁
気記録媒体においては、このλ／ＮＡが０．６４／０．
８０（＝０．８）以下であるときに、特に顕著な効果が
生じるといえる。

【００７５】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
係る光磁気記録媒体では、金属反射膜、第１の誘電体
膜、光磁気記録膜、第２の誘電体膜が積層形成されてな
り、この金属反射膜の表面粗さが８．０ｎｍ未満となさ
れていることにより、光透過層側からレーザ光を入射さ
せても金属反射膜の膜表面の粗さが十分抑えられている
ため、再生信号のノイズを抑えることができて、再生特
性の向上を図ることができ、また高記録密度化をも可能
となる、高品質な光磁気記録媒体とすることができる。

【００７６】また、金属反射膜が、少なくともアルミニ
ウムを含む材料、Ａｕ、Ａｇの中の何れか１種よりな
り、かつ、イオンビームスパッタまたはマグネトロンス
パッタの何れかの方法により形成されているため、効果
的に金属反射膜の表面粗さを抑えることができて、その
結果再生信号のノイズを抑えることができ、再生特性の
向上を図ることができる。

【００７７】特に、本発明に係る光磁気記録媒体によれ
ば、金属反射膜が、第１の金属反射膜と第２の金属反射
膜との２層構造となされ、しかも第１の金属反射膜の表
面粗さが第２の金属反射膜の表面粗さよりも小さくされ
るとともに、光学的に必要とされる厚さを十分確保する
ことにより、反射率の低下を抑えることができて、信号
劣化を防ぐことができ、高品質な光磁気記録媒体を提供
することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した光磁気記録媒体の一例を示す
断面図である。

【符号の説明】

１光磁気記録媒体、２基板、３金属反射膜、４
記録層、５光透過層、６第１の誘電体膜、７光磁
気記録膜、８第２の誘電体膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、金属反射膜、第１の誘電体
膜、光磁気記録膜、第２の誘電体膜が順次積層形成され
てなり、上記金属反射膜の表面粗さが、８．０ｎｍ未満であるこ
とを特徴とする光磁気記録媒体。
【請求項２】上記金属反射膜は、少なくともアルミニ
ウムを含む材料、Ａｕ、Ａｇの中の何れか１種よりな
り、上記金属反射膜が、イオンビームスパッタまたはマグネ
トロンスパッタの何れかの方法により形成されているこ
とを特徴とする請求項１記載の光磁気記録媒体。
【請求項３】上記少なくともアルミニウムを含む材料
中に、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉのうちの少なくとも１種
が含まれていることを特徴とする請求項２記載の光磁気
記録媒体。
【請求項４】上記金属反射膜は、基板上に、第１の金
属反射膜と第２の金属反射膜とが順次積層形成されてな
り、上記第１の金属反射膜の表面粗さは、上記第２の金属反
射膜の表面粗さよりも小さいことを特徴とする請求項１
記載の光磁気記録媒体。
【請求項５】上記第１の金属反射膜は、少なくともア
ルミニウムを含む材料、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｕ、Ｐｔのうち
の何れか１種よりなり、上記第２の金属反射膜は、少なくともアルミニウムを含
む材料、少なくともＡｇを含む材料のうちの何れか１種
よりなることを特徴とする請求項４記載の光磁気記録媒
体。
【請求項６】上記少なくともアルミニウムを含む材料
中に、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉのうちの少なくとも１種
が含まれていることを特徴とする請求項５記載の光磁気
記録媒体。
【請求項７】上記金属反射膜の膜厚が４５ｎｍ以上で
あることを特徴とする請求項１記載の光磁気記録媒体。