JP2003173566A - 再生時間制限型光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 再生時間を制限することで、情報の半永久的
な拡散を防ぐことが可能な再生時間制限型光ディスクを
提供する。 【解決手段】 追記型の光ディスクであって、再生時間
とともに記録されたデータの再生特性が低下し正確に再
生できなくなるように、再生時間が制限されていること
を特徴とする再生時間制限型光ディスクである。前記再
生特性の低下は、ジッタの増加によるものであることが
好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、追記型の光ディス
クであって、特に、再生時間が制限された再正時間制限
型光ディスクに関する。 【０００２】 【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータ等の普及
に伴って記録密度のより高い光ディスク（光記録媒体）
が求められている。記録密度を高めるには、照射される
レーザ光の光径を小さく絞ることが有効であり、また波
長が短いレーザ光ほど光径を小さく絞ることができるた
め、高密度化に有利であることが理論的に知られてい
る。従って、従来から一般的に用いられている７８０ｎ
ｍより短波長のレーザ光を用いて記録再生を行うための
光ディスクの開発が進められており、例えば、追記型の
デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−
Ｒ）と称される光ディスクが提案されている。この光デ
ィスクは、直径が１２０ｍｍあるいは直径が８０ｍｍの
透明な円盤状基板上に、色素を含有する記録層、そして
通常は記録層の上にさらに反射層および保護層を設けて
なるディスクを二枚、あるいは該ディスクとほぼ同じ寸
法の円盤状保護基板とをそれぞれ記録層を内側にして接
着剤で貼り合わせた構造となるように製造されている。 【０００３】追記型のＤＶＤ−Ｒへの情報の記録は、可
視レーザ光（通常は６００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の波
長のレーザ光）を照射して記録層を局所的に発熱変形さ
せて、ピットを形成させることにより行われる。一方、
情報の読み取り（再生）は通常、記録用のレーザ光と同
じ波長のレーザ光を照射して、記録層が発熱変形された
部位（記録部分）と変形されない部位（未記録部分）と
の反射率の違いを検出することにより行われている。 【０００４】追記型ＤＶＤ−Ｒは、情報の記録回数は１
回限りであり、厳しい環境下に保存されない限り半永久
的に記録が保持され、何回でも再生することができると
いう特徴を有している。映像、情報等を連続したピット
列として保存しているＤＶＤ−ＲＯＭも同様にデータを
半永久的に保存できる。このような特徴は、データを半
永久的に保存したい場合には、非常に優れた特性といえ
る。 【０００５】しかし、高額なソフトウェアや映像情報等
を配布する場合には、必ずしも記録されたデータが半永
久的に保存できない方が良いことがある。例えば、情
報の半永久的な拡散を防ぎたい場合、高い品位を維持
した状態で正確なコピーを許可したくない場合、試験
的にソフトウェアを配布する場合、限定された数のパ
ソコンにのみインストール可能としたい場合、等では正
確に再生できる時間や回数を制限したい場合がある。と
ころが、再生時間または再生回数を制限し、意図的に再
生特性を劣化させることのできる光ディスクは、これま
で存在しなかった。 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】以上から、本発明は、
再生時間を制限することで、情報の半永久的な拡散を防
ぐことが可能な再生時間制限型光ディスクを提供するこ
とを目的とする。 【０００７】 【課題を解決するための手段】上記課題は、以下に示す
本発明により解決することができる。すなわち、本発明
は、 ＜１＞ 追記型の光ディスクであって、再生時間ととも
に記録されたデータの再生特性が低下し正確に再生でき
なくなるように、再生時間が制限されていることを特徴
とする再生時間制限型光ディスクである。 【０００８】＜２＞ 前記再生特性の低下が、ジッタの
増加によるものであることを特徴とする＜１＞に記載の
再生時間制限型光ディスクである。 ＜３＞ 前記ジッタと前記再生時間との関係が、下記式
（１）の関係を満たすことを特徴とする＜２＞に記載の
再生時間制限型光ディスクである。 式（１）：σ／Ｔ＝（（Ｄ×Ｐ）＋ｂ）×ｌｎ（ｔ）＋
ａ （上記式（１）中、ｔは再生時間（ｓｅｃ）の合計を示
し、σ／Ｔはｔ時間経過後のジッタ値を示す。また、Ｐ
は再生に使用するレーザー光のパワー（ｍＷ）を示し、
Ｄは０．１５〜１．０の再生劣化係数を示し、ａは６．
５〜８．５で初期ジッター値から定まる定数を示し、ｂ
は０．００３〜０．１の再生劣化定数を示す。） 【０００９】＜４＞ ＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載
の再生時間制限型光ディスクの製造方法であって、少な
くとも、基板上に色素を含有する色素塗布液を塗布し、
不完全な乾燥を行って記録層を形成する記録層形成工程
を有することを特徴とする再生時間制限型光ディスクの
製造方法である。 【００１０】 【発明の実施の形態】本発明の光ディスクは、追記型の
光ディスクであって、所望の再生時間を経過した後は、
ジッタ等が増加して記録されたデータの再生特性が低下
し、正確に再生することができなくなるように、再生時
間が制限されている。所望の再生時間で再生が不可能に
なるように当該再生時間を制御することで、拡散される
情報の制限を図ったり、高品位で正確なコピーをするこ
とができる回数を制限することが可能となる。また、試
験的にソフトウェアを配布する場合や所定数のコンピュ
ータにのみインストール可能としたい場合等に、正確に
再生できる時間や回数を制限することが可能となる。 【００１１】所望の再生時間で再生が不可能になるよう
に再生時間を制御するには、ジッタと再生時間との関係
が、下記式（１）の関係を満たすように設定することが
好ましい。 式（１）：σ／Ｔ＝（（Ｄ×Ｐ）＋ｂ）×ｌｎ（ｔ）＋
ａ （上記式（１）中、ｔは再生時間（ｓｅｃ）の合計を示
し、σ／Ｔはｔ時間経過後のジッタ値を示す。また、Ｐ
は再生に使用するレーザー光のパワー（ｍＷ）を示し、
Ｄは０．１５〜１．０の再生劣化係数を示し、ａは６．
５〜８．５で初期ジッター値から定まる定数を示し、ｂ
は０．００３〜０．１の再生劣化定数を示す。なお前記
ｔは、所望の再生時間ともいう。） 【００１２】初期ジッタ値ａ、再生劣化定数ｂ、再生劣
化係数Ｄは、光ディスク特性測定装置によって、同じ工
程条件によるディスクを評価することによって、定める
ことができる。例えば、ＰＵＬＳＴＥＣ社（パルステッ
ク社）のＤＤＵ−１０００にて、再生時間とジッタとの
関係を求め、これに上記式（１）をあてはめることによ
って求めることができる。 【００１３】例えば、１時間後に再生特性を低下させて
再生不可能な状態とするには、光ディスク基板のグルー
ブ溝幅、深さを調整することによって、初期ジッタ値ａ
を７．９％程度にする。色素塗布後の乾燥時間、温度を
調整することにより、再生劣化定数ｂ、再生劣化係数Ｄ
がそれぞれ、０．１および１．０程度となる条件を見つ
ける。この条件で作製された光ディスクの同一トラック
をレーザー光のパワーＰを０．７ｍＷとして、情報の再
生を行えば、１時間後には再生不可能となる程に再生特
性が低下する。 【００１４】初期ジッタ値ａ、再生劣化定数ｂおよび再
生劣化係数Ｄといった条件は、製造した光ディスクによ
り決定される。また、上記式（１）から明らかなよう
に、レーザー出力Ｐを大きくすると、良好に再生できる
回数（時間）を短くすることができる。従って、上記条
件一定とした光ディスクを製造した後は、所望の再生時
間までに、ジッタが増加して、再生することができなく
なるように、上記式（１）に上記条件と所望の再生時間
を代入して、レーザー出力Ｐの値を算出し、算出したレ
ーザー出力Ｐで再生を続ければ、前記所望の時間に再生
を不可能なものとすることができる。 【００１５】一方、レーザー光のパワーＰの値を一定と
する場合、光ディスクを製造する際に、初期ジッタ値
ａ、再生劣化定数ｂおよび再生劣化係数Ｄのいずれか１
以上の条件を一定とし、その他の条件を適宜設定するこ
とで、所望の再生時間経過後のジッタの値を調整し、再
生時間を制限することもできる。上記条件を設定するに
は、後述するように、記録層に含有させる色素の種類や
記録層の形成条件を変化させることが好ましい。 【００１６】以上のような光ディスクは、同じトラック
を再生し続ける程、そのトラックを再生すること（デー
タを再生（復元）すること）が難しくなる。具体的に
は、記録したデータの再生回数（時間）を増す毎に徐々
にジッターが増加し、ＤＶＤドライブやプレイヤーでの
再生時に、データに誤データが含まれる率が高くなった
り、画像にモザイク状のノイズが入る。従って、光ディ
スクが再生不可能になる状態（正確に再生できなくなる
状態）とは、上記のような現象が起こる場合をいうが、
実質的には、ジッタが規格の８．０％を大きく上回り、
１１％程度以上に達する場合をいう。 【００１７】前記所望の再生時間ｔとは、再生するため
のレーザー光を光ディスクのトラックに照射した累積時
間をいう。所望の再生時間ｔは、記録されたデータ（情
報）の長期にわたる拡散を防ぐという観点から、１時間
〜１０時間とすることが好ましく、１時間〜２時間とす
ることがより好ましい。なお、所望の再生時間ｔを厳密
に制御することは実際上困難であるため、当該所望の再
生時間ｔという場合は、当該「ｔ」に対し、±９０％の
時間的な幅（好ましくは、±５０％）を有していてもよ
いものとする。 【００１８】以上のような本発明の再生時間制限型光デ
ィスクは、従来の光ディスクと同様の構成を有する。す
なわち、基板上に、少なくとも、色素を含有する記録層
と、反射層と、が形成されている。以下、本発明の再生
時間制限型光ディスクの構成を説明する。 【００１９】（基板）基板上には、トラッキング用溝ま
たはアドレス信号等の情報を表す溝（プレグルーブ）が
形成されている。プレグルーブの溝幅は４５０ｎｍ以下
であることが好ましく、４００ｎｍ以下であることがよ
り好ましく、３５０ｎｍ以下であることがさらに好まし
い。溝幅が４５０ｎｍを超えると、ピットの不均一な広
がりを防止することができないことがある。また、溝幅
の下限は５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がよ
り好ましく、１５０ｎｍ以上がさらに好ましい。溝深さ
は３００ｎｍ以下であることが好ましく、２５０ｎｍ以
下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であるこ
とがさらに好ましい。溝深さが３００ｎｍより深いと反
射率が低下することがある。また、溝深さの下限は５０
ｎｍ以上が好ましく、７０ｎｍ以上がより好ましく、８
０ｎｍ以上がさらに好ましい。溝深さが５０ｎｍより浅
いと、ピットの不均一な広がりを防止することができな
い。トラックピッチは１２００ｎｍ以下であることが好
ましく、１０００ｎｍ以下がであることがより好まし
く、９００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。ま
た、トラックピッチの下限は１００ｎｍ以上が好まし
く、２００ｎｍ以上がより好ましく、３００ｎｍ以上が
さらに好ましい。 【００２０】基板（後述する保護基板も含む）は、従来
の光ディスクの基板として用いられている各種の材料か
ら任意に選択することができる。基板材料としては、例
えば、ガラス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリ
レート等のアクリル樹脂；ポり塩化ビニル、塩化ビニル
共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモル
ファスポリオレフィンおよびポリエステル等を挙げるこ
とができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、
これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板
として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、
寸法安定性および価格等の点からポリカーボネートが好
ましい。基板は、その直径が１２０±３ｍｍで厚みが
０．６±０．１ｍｍ；あるいはその直径が８０±３ｍｍ
で厚みが０．６±０．１ｍｍ；のものが一般に用いられ
る。 【００２１】このプレグルーブは、ポリカーボネート等
の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形する際に直接基
板上に形成することが好ましい。また、プレグルーブの
形成を、プレグルーブ層を設けることにより行ってもよ
い。プレグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノ
エステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエス
テルのうち少なくとも一種のモノマー（またはオリゴマ
ー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた
母型（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステルおよ
び重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布
液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫
外線を照射することにより塗布層を硬化させて基板と塗
布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離する
ことにより得ることができる。プレグルーブ層の層厚
は、一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好まし
くは０．１〜５０μｍの範囲である。 【００２２】後述する記録層が設けられる側の基板表面
には、平面性の改善および接着力の向上および記録層の
変質防止等の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗
層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合
体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロー
ス、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエス
テル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、
エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシ
ランカップリング剤等の表面改質剤を挙げることができ
る。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散
して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、
ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法
を利用して基板表面に塗布することにより形成すること
ができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍ
の範囲であり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲で
ある。 【００２３】（記録層）基板上（又は下塗層）のプレグ
ルーブが形成されているその表面上には、色素を含有す
る記録層が形成される。 【００２４】記録層に含有される色素としては、従来の
追記型光ディスクの記録層に使用される色素を使用する
ことができるが、ジッタの増加等による再生特性の低下
を促進する観点から、下記化学式で表わされる再生時間
制限用色素（Ａ）および（Ｂ）を少なくとも１種使用す
ることが好ましい。 【００２５】 【化１】 ・・・色素（Ａ） 【００２６】 【化２】 ・・・色素（Ｂ） 【００２７】上記再生時間制限用色素は、再生レーザー
光の波長で経時的に変成しやすいため、再生特性を低下
させやすいという特性を有するものと考えられる。 【００２８】また、当該再生時間制限用色素は、従来の
追記型光ディスクの記録層に使用される色素と併用して
もよく、その場合、再生時間制限用色素の混合割合を増
減させることにより、再生可能な時間を制限することが
できる。 【００２９】前記従来の追記型光ディスクの記録層に使
用される色素としては、シアニン色素、オキソノール色
素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等
が挙げられ、また、特開平４−７４６９０号公報、特開
平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公
報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０
５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３
４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同
２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１
５８８１８号公報等に記載されている色素も好適に挙げ
られる。 【００３０】記録層の形成は、例えば、前記色素の他、
所望により退色防止剤および結合剤等を溶剤に溶解して
色素塗布液を調製し、次いでこの色素塗布液を基板のプ
レグルーブが形成されているその表面に塗布して塗膜を
形成した後、乾燥することにより行うことができる（記
録層形成工程）。 【００３１】記録層形成用の塗布液の溶剤としては、酢
酸ブチル、２−メトキシエチルアセテート等のエステ
ル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−
ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素：ジ
メチルホルムアミド等のアミド；シクロヘキサン等の炭
化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキ
サン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イ
ソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコー
ル等のアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロ
パノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリ
コールエーテル類等を挙げることができる。上記溶剤は
使用する化合物の溶解性を考慮して単独または二種以上
を組み合わせて用いることができる。色素塗布液中には
さらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、および潤滑剤
等の各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。 【００３２】前記退色防止剤の代表的な例としては、ニ
トロソ化合物、金属錯体、ジアンモニウム塩、およびア
ルミニウム塩等を挙げることができる。これらの例は、
特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９８号、あ
るいは同４−１４６１８９号等の各公報に記載されてい
る。退色防止剤を使用する場合には、その使用量は、色
素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であ
り、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、さらに好
ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に５〜２５質量％
の範囲である。 【００３３】前記結合剤の例としては、例えばゼラチ
ン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等
の天然有機高分子物質；およびポリウレタン、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレ
ン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等の
ビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル
酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩
素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴ
ム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬
化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子を挙げること
ができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合
に、結合剤の使用量は、色素１００質量部に対して０．
２〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部、さら
に好ましくは１〜５質量部である。このようにして調製
される塗布液中の色素の濃度は一般に０．０１〜１０質
量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲
にある。 【００３４】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げるこ
とができる。 【００３５】塗布後、乾燥温度を４０〜６０℃（好まし
くは４５〜５５℃）とし、乾燥時間を０．５〜２時間
（好ましくは１〜２時間）とする不完全な乾燥（不完全
なアニール）を行う。かかる不完全な乾燥により、前記
溶剤の一部を記録層中に残留させることで、光ディスク
の再生時間に応じて、徐々に再生特性が低下する光ディ
スクを作製することができる。すなわち、上記乾燥時間
および乾燥温度の範囲内で、乾燥温度が高く乾燥時間が
長いほど、残留する溶剤の量が少なくなるため再生時間
を長くすることが可能で、逆に、乾燥温度が低く乾燥時
間が短いほど、残留する溶剤の量が多くなるため再生時
間を短くすることが可能となり、再生特性の低下の程度
を調整することができる。また、前記再生時間制限用色
素を記録層に含有させて上記不完全な乾燥を行えば、再
生特性の低下をより急速に進行させることができ、再生
時間をより短く制限することができる。 【００３６】前記不完全な乾燥は、その乾燥温度が低
く、乾燥時間短いため、基板の反り量を小さくすること
ができる等、基板に与える影響を低減させることができ
る。このため、ＤＶＤ光ディスクの機械特性の規格（ラ
ジアルチルト値：±０．８ｄｅｇ、タンジェンシャルチ
ルト値：±０．３ｄｅｇ、面振れ量：０．３ｍｍ）を超
える不良品の発生率を低くすることができる。 【００３７】記録層は単層でも重層でもよい。記録層の
その溝部での層厚は、厚過ぎるとピットが広がり易くな
るため、４０〜２３０ｎｍの範囲にあることが好まし
く、６０〜２００ｎｍの範囲がより好ましく、７０〜１
８０ｎｍの範囲がさらに好ましい。 【００３８】記録層と後述する反射層との間には、反射
率向上と感度向上のために、中間層を設けてもよい。中
間層に用いられる材料としては、ＳｉＯ₂、ＳｉＮ、Ｍ
ｇＦ₂、ＴｉＯ₂等の無機物質；ブタジエンゴム等の有機
物質；を挙げることができる。この中間層は、真空成膜
法やスピンコート法等を適用して形成することができ
る。 【００３９】（反射層）反射層は、前記記録層の上に、
特に情報の再生時における反射率の向上の目的で形成さ
れる。反射層の材料である光反射性物質は、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｒｈ、Ｓｂ、Ｍｇ、Ｐをといった金属
および半金属を主成分として用いることが好ましい。コ
スト、取り扱い易さ等を考慮すると、この中でも、Ａ
ｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｒｈ、Ｓｂが好ましく、Ａｇ、
Ａｕ、Ａｌが特に好ましい。これらの物質は単独で用い
てもよいし、あるいは二種以上の組み合わせ、または合
金として用いてもよい。ここで、「主成分」とは反射層
材料中に５０％以上含有されていることを意味し、７０
％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好ましい。 【００４０】また、耐蝕防止等の目的で、上記材料の他
に、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｓ
ｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｃｄ、
Ｉｎ、Ｓｎ、Ｔｅ、ランタノイド、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｉ
ｒ、Ｔｉ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｔｈ等の金属および半金属を含
んでいてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｂ、
Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｇｅ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、ランタノイ
ド、Ｈｆ、Ｗ、Ｂｉ、Ｔｈであり、より好ましくはＣ、
Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｂｉである。 【００４１】反射層は、例えば上記反射性物質を、蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングするこ
とにより記録層の上に形成することができる（反射層形
成工程）。保存性を向上させる目的、あるいは、外観を
変える目的で、反射層は上記材料を単層で積層してもよ
く、２種以上の材料を多層に積層してもよい。反射層の
層厚は、好ましくは１０〜３５０ｎｍの範囲であり、よ
り好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲、さらに好ましく
は４０〜２５０ｎｍの範囲である。反射層の層厚が３５
０ｎｍを超えると、光吸収の効果が不十分となり、ま
た、膜質も低下する場合がある。１０ｎｍより薄いと反
射率が低くなり過ぎたり、反射層上に保護層を積層する
場合に、記録層に含まれる材料が、保護層に用いられる
材料と相互作用して化学変化を起こし、劣化する場合が
ある。反射層は一層でもよいが、媒体中に複数の反射層
を形成してもよい。 【００４２】（保護層）反射層の上には、記録層等を物
理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられて
いてもよい。この保護層は、基板の記録層が設けられて
いない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられて
もよい。保護層に用いられる材料としては、例えば、Ｓ
ｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機
物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等
の有機物質を挙げることができる。 【００４３】保護層は、例えば、プラスチックの押出加
工で得られたフィルムを、接着層を介して、反射層上お
よび／または基板上にラミネートすることにより形成す
ることができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、
塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に
溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾
燥することによっても形成することができる（以上、保
護層形成工程）。前記ＵＶ硬化性樹脂の場合には、その
ままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した
後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させる
ことによっても形成することができる。これらの塗布液
中には、さらに帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等
の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の
硬度は、ピットの保護層方向への不均一な広がりを防止
するため、鉛筆の引掻き硬度でＦ以上であることが好ま
しく、Ｈ以上がより好ましい。保護層の層厚は２．５〜
２３μｍの範囲にあることが好ましく、より好ましくは
３．５〜２０μｍ、さらに好ましくは４．０〜１５μｍ
である。 【００４４】反射層と保護層との間には、反射率の向上
等、光学特性を調整するために、中間層を設けてもよ
い。中間層に用いられる材料としては、例えば、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物
質を挙げることができる。中間層は、蒸着、スパッタリ
ング等の真空成膜により形成することができる。 【００４５】以上の工程により、例えば、二枚の基板の
それぞれに、記録層、および反射層、そして所望により
保護層等を設けて、二枚の積層体を作製し、作製した二
枚の積層体を各々の記録層が内側となるように接着剤等
で貼り合わせることにより、二つの記録層を持つＤＶＤ
−Ｒ型の光ディスクを製造することができる。また上記
一枚の積層体と、該積層体の基板と同材質で略同じ寸法
の円盤状の保護基板と、をその記録層が内側となるよう
に接着剤等で貼り合わせることにより、片側のみに記録
層を持つＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクを製造することがで
きる。 【００４６】なお、前記接着剤として、前記保護層の形
成に用いたＵＶ硬化性樹脂を用いてもよいし、合成接着
剤を用いもよい。合成接着剤としては、カチオン硬化型
エポキシ樹脂のような遅効型接着剤や紫外線硬化型アク
リレート樹脂のようなスピン硬化型接着剤を挙げること
がでる。この接着剤の層（以下、「接着層」ということ
がある）に保護層の機能を兼用させることもできる。接
着層の厚さは、反りを防止するため、５〜５５μｍの範
囲が好ましく、より好ましくは１０〜４７μｍ、さらに
好ましくは１３〜４０μｍである。また、二枚の積層体
の貼り合わせは、その他に両面テープ等を用いて行って
もよい。いずれの態様のＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクにお
いてもその全体の厚みは、１．２±０．２ｍｍとなるよ
うに調整することが好ましい。 【００４７】前記保護層と前記接着層との間には、保存
性や接着性を向上させるために、バッファー層を設けて
もよい。バッファー層に用いられる材料としては、例え
ば、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等
の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性
樹脂等の有機物質を挙げることができる。このバッファ
ー層は、真空成膜やスピンコート等を利用して形成する
ことができる。 【００４８】本発明の光ディスクを用いた情報の記録
は、例えば、次のように行われる。まず、光ディスクを
所定の定線速度または所定の定角速度にて回転させなが
ら、基板側から半導体レーザ光等の記録用のレーザ光を
光学系を通して集光し、照射する。レーザ光の照射によ
り、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度
上昇し、物理的あるいは化学的な変化が生じてその光学
特性を変えることにより、情報が記録される。 【００４９】記録用のレーザ光としては、可視域のレー
ザ光、通常６００ｎｍ〜７００ｎｍ（好ましくは６２０
〜６８０ｎｍ、さらに好ましくは、６３０〜６６０ｎ
ｍ）の範囲の発振波長を有する半導体レーザービームが
用いられる。また記録光は、ＮＡが０．５５〜０．７の
光学系を通して集光されることが好ましい。また、記録
用のレーザ光の出力は、前記所望の再生時間にもよる
が、２．０ｍＷ以下とすることが好ましく、１．０ｍＷ
以下とすることがより好ましい。 【００５０】上記のように記録された情報の再生は、光
ディスクを所定の定線速度で回転させながら記録時と同
じ波長を持つ半導体レーザ光を基板側から照射して、そ
の反射光を検出することにより行うことができる。 【００５１】 【実施例】本発明を以下に示す実施例により具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 【００５２】（実施例１）射出成型機（住友重機械工業
（株）製）を用いて、ポリカーボネート樹脂を、スパイ
ラル状のグルーブ（溝深さ１５０ｎｍ、溝幅３００ｎ
ｍ、トラックピッチ０．７４μｍ））を有する外径φ１
２０ｍｍ、内径φ１５ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの透明な基
板を作製した。 【００５３】下記化学式で表わされる色素Ａ０．２５ｇ
および色素Ｂ０．０６ｇをフッ素アルコール（２，２，
３，３テトラフルオロプロパノール溶剤）３０ｇに混合
し、１時間超音波処理を施して溶解し、色素塗布液を調
製した。 【００５４】 【化３】 ・・・色素（Ａ） 【００５５】 【化４】 ・・・色素（Ｂ） 【００５６】温度２５℃、相対湿度４５％ＲＨにて、調
製した色素塗布液をスピンコート法によって、前記基板
のグルーブが形成されている面に塗布し、恒温槽中で５
５℃、２時間保持（不完全な乾燥）し、厚さ７０ｎｍの
記録層を形成した（記録層形成工程）。 【００５７】形成した記録層上に、ＤＣマグネトロンス
パッタにより銀をスパッタリングして、厚さ８０ｎｍの
反射層を形成した。 【００５８】以上のようにして記録層および反射層が形
成された基板をスピンコーターにセットし、ＵＶ硬化接
着剤を前記反射層上に塗布しスピンコートし接着層を形
成した。前記基板と同一の基板をダミー基板とし、該ダ
ミー基板を前記接着層上に設置した。ＵＶ照射を１５分
間行い、２枚の基板を接着固定し、再生時間制限型光デ
ィスクを作製した。 【００５９】光ディスク機械特性測定機（ジャパン・イ
ー・エム（株）ＤＬＤ−４０００）にて、最大ラジアル
チルト値を測定したところ−０．７０ｄｅｇであり、最
大タンジェンシャルチルト値を測定したところ０．２５
ｄｅｇであった。また、面振れ量は０．２ｍｍであっ
た。さらに、引き剥がし試験によって１．９６Ｎ（２０
０ｇｆ）以上の接着強度があることが確認された。 【００６０】作製した再生時間制限型光ディスクを光デ
ィスク検査装置ＤＤＵ−１０００（ＰＵＬＳＴＥＣ社
製）により評価したところ、初期ジッター値ａは、７．
９であった。この光ディスクを再生パワー０．７ｍＷで
再生し続けることで再生劣化係数Ｄおよび再生劣化定数
ｂを測定したところ、それぞれ、０．８５および０．１
であった。正確に再生できる時間（所望の再生時間）ｔ
が０．５時間となるように、再生に使用するレーザー光
（波長：６５１ｎｍ）の出力Ｐを１．０ｍＷとし、再生
を行った。その結果、０．５時間後にジッタが１３％と
なり、画像にノイズが発生して再生不可能な状態（正確
に再生できない状態）となった。 【００６１】上記初期ジッター値ａ、再生劣化係数Ｄお
よび再生劣化定数ｂ並びに再生に使用するレーザー光
（波長：６５１ｎｍ）の出力Ｐおよび所望の再生時間ｔ
を下記式（１）に代入したところ、ジッタσ／Ｔが１５
％となり、上記結果とほぼ一致していた。 式（１）：σ／Ｔ＝（（Ｄ×Ｐ）＋ｂ）×ｌｎ（ｔ）＋
ａ 【００６２】上記実施例から、本発明の再生時間制限型
光ディスクによれば、所望の時間に再生時間を制限する
ことができることが確認された。 【００６３】 【発明の効果】本発明によれば、再生時間を制限するこ
とで、情報の半永久的な拡散を防ぐことが可能な再生時
間制限型光ディスクを提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA31 FB42 5D029 JB28 JC01 JC20 5D090 AA01 BB03 CC04 CC14 DD02 EE20 FF09 JJ14 5D121 AA01 EE23

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 追記型の光ディスクであって、再生時間
   とともに記録されたデータの再生特性が低下し正確に再
   生できなくなるように、再生時間が制限されていること
   を特徴とする再生時間制限型光ディスク。