JP2003025726A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 １倍速の記録速度に対応する光記録媒体に使
用される色素と同一の色素を記録層に含有する光記録媒
体であって、２倍速以上の高速記録に対してもジッター
が良好で記録パワーを低く抑えることが可能な光記録媒
体を提供する。 【解決手段】 記録層に少なくとも色素Ａおよび色素Ｂ
を含有し、前記色素Ａの記録レーザー波長における屈折
率（ｎ_A）および消衰係数（ｋ_A）と、前記色素Ｂの記録
レーザー波長における屈折率（ｎ_B）および消衰係数
（ｋ_B）と、が下記（１）〜（６）の関係を有し、記録
速度を２倍以上とする場合に、前記記録速度を２倍以上
としない場合より前記記録層中の前記色素Ｂの混合比率
を大きくすることを特徴とする光記録媒体である。 （１）２．０≦ｎ_A≦２．５ （２）０．０１≦ｋ_A≦０．０９ （３）２．０≦ｎ_B≦２．５ （４）０．０１≦ｋ_B≦０．０９ （５）ｎ_A＜ｎ_B （６）ｋ_A＜ｋ_B

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体に関
し、特に、高速記録に対応した追記型の光記録媒体に関
する。 【０００２】 【従来の技術】従来から、レーザ光によりー回限りの情
報の記録が可能な光記録媒体（ライトワンス型の光ディ
スク、所謂ＣＤ−Ｒ型の光ディスク）が知られている。
このタイプの光ディスクの代表的な構造は、透明な円盤
状基板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からな
る反射層、さらに樹脂製の保護層をこの順に積層したも
のである。そしてこの光ディスクへの情報の記録は、近
赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレー
ザ光）を照射して記録層を局所的に発熱変形させて、ピ
ットを形成させることにより行われる。−方、情報の読
み取り（再生）は通常、記録用のレーザ光と同じ波長の
レーザ光を照射して、記録層が発熱変形された部位（記
録部分）と変形されない部位（未記録部分）との反射率
の違いを検出することにより行われている。 【０００３】近年、パーソナルコンピュータ等の普及に
伴って記録密度のより高い光記録媒体が求められてい
る。記録密度を高めるには、照射されるレーザ光の光径
を小さく絞ることが有効であり、また波長が短いレーザ
光ほど光径を小さく絞ることができるため、高密度化に
有利であることが理論的に知られている。従って、従来
から一般的に用いられている７８０ｎｍより短波長のレ
ーザ光を用いて記録再生を行うための光ディスクの開発
が進められており、例えば、追記型デジタル・ヴァーサ
タイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディ
スクが提案されている。この光ディスクは、直径が１２
０ｍｍあるいは直径が８０ｍｍの透明な円盤状基板上
に、色素からなる記録層、そして通常は記録層の上にさ
らに光反射層および保護層を設けてなるディスクを二
枚、あるいは該ディスクと略同じ寸法の円盤状保護基板
とをそれぞれ記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた
構造となるように製造されている。そしてＤＶＤ−Ｒ
は、可視レーザ光（通常は６００ｎｍ〜７００ｎｍの範
囲の波長のレーザ光）を照射することにより、記録およ
び再生が行われ、ＣＤ−Ｒ型の光ディスクより高密度の
記録が可能であるとされている。 【０００４】従来から、ＣＤ−Ｒ型の光ディスクにおい
ては、その記録層に含有する色素化合物として、シアニ
ン色素が用いられている。このような色素の例は、特開
昭６４−４０３８２号公報、あるいは「機能性色素の最
新応用技術」（シー・エム・シー、１９９６年４月発
行、第３章の６）に記載されている色素がある。 【０００５】近年、情報処理量の増大に伴って、情報を
高速度で記録再生が可能な光記録媒体の開発が望まれて
いる。情報を高速で記録するためには、４倍速、６倍
速、さらに１２倍速等と、記録時の線速度を上げること
が必要になるが、このように線速度を上げていくと、こ
れまで知られているＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒで使用されて
いる、あるいは使用が提案されている色素を用いた場合
には、ジッタの悪化や記録パワーの上昇等、安定な記録
特性が得られにくくなる等の問題が生じてしまう。 【０００６】高速で情報を記録する場合、等速（１倍
速）で記録する場合と比べて、高パワーの記録レーザー
が必要となる。一方、媒体としては、記録感度の向上が
求められる。記録感度を向上させるためには記録波長で
の消衰を大きくする必要があり、そのためには、色素構
造を変えることが必要となる。特開平１１−１３４７０
８号公報では、色素の主減量過程での減量の傾きが２％
／℃以上で、総減量が３０％以上である有機色素を用い
る光記録媒体が開示されている。しかし、当該光記録媒
体では、記録速度に応じて前記有機色素を変えるもので
あり、等速および高速記録の両方に適用できる有機色素
については、開示されておらず、色素コストが高くなる
といった問題がある。 【０００７】 【発明が解決しようとする課題】以上から、本発明の目
的は、１倍速の記録速度に対応する光記録媒体に使用さ
れる色素と同一の色素を記録層に含有する光記録媒体で
あって、２倍速以上の高速記録に対してもジッターが良
好で記録パワーを低く抑えることが可能な光記録媒体を
提供することである。 【０００８】 【課題を解決するための手段】上記目的は、以下に示す
本発明により達成される。すなわち、本発明は、記録層
に少なくとも色素Ａおよび色素Ｂを含有し、前記色素Ａ
の記録レーザー波長における屈折率（ｎ_A）および消衰
係数（ｋ_A）と、前記色素Ｂの記録レーザー波長におけ
る屈折率（ｎ_B）および消衰係数（ｋ_B）と、が下記
（１）〜（６）の関係を有し、記録速度を２倍以上とす
る場合に、前記記録速度を２倍以上としない場合より前
記記録層中の前記色素Ｂの混合比率を大きくすることを
特徴とする光記録媒体である。 （１）２．０≦ｎ_A≦２．５ （２）０．０１≦ｋ_A≦０．０９ （３）２．０≦ｎ_B≦２．５ （４）０．０１≦ｋ_B≦０．０９ （５）ｎ_A＜ｎ_B （６）ｋ_A＜ｋ_B 【０００９】また、本発明の好ましい実施態様は、以下
の通りである。 ＜１＞ 前記記録レーザー波長が、６００〜７００ｎｍ
である。 ＜２＞ 前記色素Ａと前記色素Ｂとの質量比が、１０
０：２０〜２０：１００である。 ＜３＞ 前記色素Ａおよび前記色素Ｂのそれぞれが、オ
キソノール系の色素である。 【００１０】 【発明の実施の形態】本発明の光記録媒体は、基板上
に、少なくとも、色素を含有する記録層と、反射層と、
が形成されている。以下、本発明の光記録媒体の具体的
な構成を説明する。 【００１１】（基板）基板上には、トラッキング用溝ま
たはアドレス信号等の情報を表す溝（プレグルーブ）が
形成されている。プレグルーブの溝幅は４５０ｎｍ以下
であることが好ましく、４００ｎｍ以下がより好まし
く、３５０ｎｍ以下がさらに好ましい。溝幅が４５０ｎ
ｍを超えると、ピットの不均一な広がりを防止すること
ができないことがある。また、溝幅の下限は５０ｎｍ以
上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましく、１５０
ｎｍ以上がさらに好ましい。溝深さは３００ｎｍ以下で
あることが好ましく、２５０ｎｍ以下がより好ましく、
２００ｎｍ以下がさらに好ましい。溝深さが３００ｎｍ
より深いと反射率が低下することがある。また、溝深さ
の下限は５０ｎｍ以上が好ましく、７０ｎｍ以上がより
好ましく、８０ｎｍ以上がさらに好ましい。溝深さが５
０ｎｍより浅いと、ピットの不均一な広がりを防止する
ことができない。トラックピッチは１２００ｎｍ以下で
あることが好ましく、１０００ｎｍ以下がより好まし
く、９００ｎｍ以下がさらに好ましい。また、トラック
ピッチの下限は１００ｎｍ以上が好ましく、２００ｎｍ
以上がより好ましく、３００ｎｍ以上がさらに好まし
い。 【００１２】基板（後述する保護基板も含む）は、従来
の光記録媒体の基板として用いられている各種の材料か
ら任意に選択することができる。基板材料としては、例
えば、ガラス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリ
レート等のアクリル樹脂；ポり塩化ビニル、塩化ビニル
共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモル
ファスポリオレフィンおよびポリエステル等を挙げるこ
とができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、
これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板
として使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、
寸法安定性および価格等の点からポリカーボネートが好
ましい。基板は、その直径が１２０±３ｍｍで厚みが
０．６±０．ｌｍｍ；あるいはその直径が８０±３ｍｍ
で厚みが０．６±０．ｌｍｍ；のものが一般に用いられ
る。 【００１３】このプレグルーブは、ポリカーボネート等
の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形する際に直接基
板上に形成することが好ましい。また、プレグルーブの
形成を、プレグルーブ層を設けることにより行ってもよ
い。プレグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノ
エステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエス
テルのうち少なくとも一種のモノマー（またはオリゴマ
ー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた
母型（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステルおよ
び重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布
液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫
外線を照射することにより塗布層を硬化させて基板と塗
布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離する
ことにより得ることができる。プレグルーブ層の層厚
は、一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好まし
くは０．１〜５０μｍの範囲である。 【００１４】後述する記録層が設けられる側の基板表面
には、平面性の改善および接着力の向上および記録層の
変質防止等の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗
層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合
体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロー
ス、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエス
テル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、
エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシ
ランカップリング剤等の表面改質剤を挙げることができ
る。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散
して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、
ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法
を利用して基板表面に塗布することにより形成すること
ができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍ
の範囲であり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲で
ある。 【００１５】（記録層）基板上（又は下塗層）のプレグ
ルーブが形成されているその表面上には、少なくとも２
種の色素（色素Ａおよび色素Ｂ）を含有する記録層が形
成される。前記色素Ａの記録レーザー波長における屈折
率（ｎ_A）および消衰係数（ｋ_A）と、前記色素Ｂの記録
レーザー波長における屈折率（ｎ_B）および消衰係数
（ｋ_B）と、は下記（１）〜（６）の関係を有してい
る。 （１）２．０≦ｎ_A≦２．５（好ましくは、２．１≦ｎ_A
≦２．４） （２）０．０１≦ｋ_A≦０．０９（好ましくは、０．０
１≦ｋ_A≦０．０８、より好ましくは、０．０２≦ｋ_A≦
０．０７） （３）２．０≦ｎ_B≦２．５（好ましくは、２．１≦ｎ_B
≦２．４） （４）０．０１≦ｋ_B≦０．０８（好ましくは、０．０
１≦ｋ_B≦０．０８、より好ましくは、０．０２≦ｋ_B≦
０．０７） （５）ｎ_A＜ｎ_B （６）ｋ_A＜ｋ_B 【００１６】一般に、記録レーザー波長での吸収が大き
いと感度は大きくなるが、反射率が小さくなってしま
う。逆に、吸収が小さいと反射率は大きくなるが、感度
が小さくなってしまう。そこで、上記範囲で、屈折率お
よび消衰係数の異なる色素を含有することで、高い反射
率を維持しながら高感度を示す光記録媒体を得ることが
できる。 【００１７】色素Ａおよび色素Ｂの屈折率および消衰係
数は以下の方法により測定することができる。鏡面レプ
リカに、盤面のおよそ半分の領域をカバーするように色
素Ａまたは色素Ｂの溶液を置き、スピンコートして層を
形成し、日本分光製自動波長スキャンエリプソメータ
（ＭＥＬ−３０Ｓ型）で多入射角測定後、集束状況のよ
い光学定数（屈折率および消衰係数）を求め、それを求
める屈折率および消衰係数とする。 【００１８】また、記録速度を２倍以上とする場合に、
前記記録速度を２倍以上としない場合より前記記録層中
の前記色素Ｂの混合比率を大きくすることにより、記録
速度に応じて色素を変えることなく、１倍速（等速）の
記録速度に対応する光記録媒体に使用される色素と同一
の色素を使用しても、２倍速以上の高速記録に対して良
好なジッターで記録パワーを低く抑えることができる。
例えば、記録速度が１倍速の場合に、色素Ａと色素Ｂと
を混合する際の質量比が７５：２５であるとすると、色
素Ｂの混合比率を増加（例えば、６６：３４）させるこ
とで、記録速度が２倍速以上の場合でも良好なジッター
で記録パワーを低く抑えることができる。これは、色素
Ｂが色素Ａより屈折率および消衰係数が高いため、その
比率を増加させることで、反射率の高い色素Ａの特性を
維持しつつ、色素Ｂの特性である高感度を発揮できるた
め、高速記録に対しても充分な記録特性を発揮できるも
のと考えられる。 【００１９】また、色素Ａと色素Ｂとを混合する際の質
量比は、１００：２０〜２０：１００であることが好ま
しく、８０：２０〜２０：８０であることがより好まし
い。１００：２０未満では、記録感度が低く、良好なジ
ッター得られないことがあり、２０：１００を超える
と、反射率が大幅に低下してしまうことがある。また、
色素Ａおよび色素Ｂは、記録層を形成する際に調製する
塗布液中に０．５〜２質量％含有されていることが好ま
しく、０．７〜１．８質量％含有されていることがより
好ましい。０．５質量％未満では、最適な色素膜厚を得
るための塗布乾燥時間が長くなることがあり、２質量％
を超えると、最適な色素膜厚よりも得られる色素膜厚が
厚く形成され、良好な記録特性が得られにくくなること
がある。 【００２０】前記色素Ａおよび色素Ｂとしては、それぞ
れ、オキソノール系色素、シアニン系色素、アゾ系色
素、フタロシアニン系色素、ピロメテン系色素等が挙げ
られ、オキソノール系色素、シアニン系色素、アゾ系色
素が好ましく、高記録感度であり、かつ良好なジッター
が得られるという観点から、オキソノール系色素が特に
好ましい。より具体的には、色素Ａとしては下記化学式
（１）〜（４）で表わされる色素を挙げることができ、
色素Ｂとしては下記化学式（５）〜（１０）で表わされ
る色素を挙げることができる。 【００２１】 【化１】化学式（１）： 【００２２】 【化２】化学式（２）： 【００２３】 【化３】化学式（３）： 【００２４】 【化４】化学式（４）：【００２５】 【化５】化学式（５）： 【００２６】 【化６】化学式（６）： 【００２７】 【化７】化学式（７）： 【００２８】 【化８】化学式（８）： 【００２９】 【化９】化学式（９）： 【００３０】 【化１０】化学式（１０）： 【００３１】記録層の形成は、例えば、有機色素の他、
所望により退色防止剤および結合剤等を溶剤に溶解して
塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板のプレグルー
ブが形成されているその表面に塗布して塗膜を形成した
後、乾燥することにより行うことができる。記録層形成
用の塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、２−メトキシ
エチルアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケト
ン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロ
ホルム等の塩素化炭化水素：ジメチルホルムアミド等の
アミド；シクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフ
ラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタ
ノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブ
タノール、ジアセトンアルコール等のアルコール；２，
２，３，３−テトラフロロプロパノール等のフッ素系溶
剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル等のグリコールエーテル類等を挙げ
ることができる。上記溶剤は使用する化合物の溶解性を
考慮して単独または二種以上を組み合わせて用いること
ができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収
剤、可塑剤、および潤滑剤等の各種の添加剤を目的に応
じて添加してもよい。 【００３２】前記退色防止剤の代表的な例としては、ニ
トロソ化合物、金属錯体、ジアンモニウム塩、およびア
ルミニウム塩等を挙げることができる。これらの例は、
特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９８号、あ
るいは同４−１４６１８９号等の各公報に記載されてい
る。退色防止剤を使用する場合には、その使用量は、色
素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であ
り、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、さらに好
ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に５〜２５質量％
の範囲である。 【００３３】前記結合剤の例としては、例えばゼラチ
ン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等
の天然有機高分子物質；およびポリウレタン、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレ
ン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等の
ビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル
酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩
素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴ
ム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬
化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子を挙げること
ができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合
に、結合剤の使用量は、色素１００質量部に対して０．
２〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部、さら
に好ましくは１〜５質量部である。このようにして調製
される塗布液中の色素の濃度は一般に０．０１〜１０質
量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲
にある。 【００３４】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げるこ
とができる。記録層は単層でも重層でもよい。記録層の
その溝部での層厚は、厚過ぎるとピットが広がり易くな
るため、４０〜２３０ｎｍの範囲にあることが好まし
く、６０〜２００ｎｍの範囲がより好ましく、７０〜１
８０ｎｍの範囲がさらに好ましい。 【００３５】記録層と後述する反射層との間には、反射
率向上と感度向上のために、中間層を設けてもよい。中
間層に用いられる材料としては、ＳｉＯ₂、ＳｉＮ、Ｍ
ｇＦ₂、ＴｉＯ₂等の無機物質、ブタジエンゴム等の有機
物質を挙げることができる。この中間層は、真空成膜や
スピンコート等を利用して形成することができる。 【００３６】（反射層）反射層は、前記記録層の上に、
特に情報の再生時における反射率の向上の目的で形成さ
れる。反射層の材料である光反射性物質は、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｒｈ、Ｓｂ、Ｍｇ、Ｐをといった金属
および半金属を主成分として用いることが好ましい。コ
スト、取り扱い易さ等を考慮すると、この中でも、Ａ
ｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｒｈ、Ｓｂが好ましく、Ａｇ、
Ａｕ、Ａｌが特に好ましい。これらの物質は単独で用い
てもよいし、あるいは二種以上の組み合わせ、または合
金として用いてもよい。ここで、「主成分」とは反射層
材料中に５０％以上含有されていることを意味し、７０
％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好ましい。 【００３７】また、耐蝕防止等の目的で、上記材料の他
に、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｓ
ｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｃｄ、
Ｉｎ、Ｓｎ、Ｔｅ、ランタノイド、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｉ
ｒ、Ｔｉ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｔｈ等の金属および半金属を含
んでいてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｂ、
Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｇｅ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、ランタノイ
ド、Ｈｆ、Ｗ、Ｂｉ、Ｔｈであり、より好ましくはＣ、
Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｂｉである。 【００３８】反射層は、例えば上記反射性物質を、蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングするこ
とにより記録層の上に形成することができる。保存性を
向上させる目的、あるいは、外観を変える目的で、反射
層は上記材料を単層で積層してもよく、２種以上の材料
を多層に積層してもよい。反射層の層厚は、好ましくは
１０〜３５０ｎｍの範囲であり、より好ましくは３０〜
３００ｎｍの範囲、さらに好ましくは４０〜２５０ｎｍ
の範囲である。反射層の層厚が３５０ｎｍを超えると、
光吸収の効果が不十分となり、また、膜質も低下する。
１０ｎｍより薄いと反射率が低くなり過ぎたり、反射層
上に保護層を積層する場合に、記録層に含まれる材料
が、保護層に用いられる材料と相互作用して化学変化を
起こし、劣化する場合がある。 【００３９】反射層は一層でもよいが、媒体中に複数の
反射層を形成してもよい。例えば、図１に示すように、
第１基板１上に、第１記録層２、第１反射層３、接着層
４、第２反射層５、第２記録層６、第２基板７をこの順
に積層し、ディスクの両面側から記録または再生を行う
ことができる。また、図２に示すように、第１基板１１
上に、第１記録層１２、第１反射層１３、接着層１４、
保護層１８、第２記録層１５、第２反射層１６、第２基
板１７をこの順に積層し、ディスクの片面側から異なる
記録層について記録または再生を行うことができる。 【００４０】（保護層）反射層の上には、記録層等を物
理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられて
いてもよい。この保護層は、基板の記録層が設けられて
いない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられて
もよい。保護層に用いられる材料としては、例えば、Ｓ
ｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機
物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等
の有機物質を挙げることができる。 【００４１】保護層は、例えば、プラスチックの押出加
工で得られたフィルムを、接着層を介して、反射層上お
よび／または基板上にラミネートすることにより形成す
ることができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、
塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に
溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾
燥することによっても形成することができる。前記ＵＶ
硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に
溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、Ｕ
Ｖ光を照射して硬化させることによっても形成すること
ができる。これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、
酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて
添加してもよい。保護層の硬度は、ピットの保護層方向
への不均一な広がりを防止するため、鉛筆の引掻き硬度
でＦ以上であることが好ましく、Ｈ以上がより好まし
い。保護層の層厚は２．５〜２３μｍの範囲にあること
が好ましく、より好ましくは３．５〜２０μｍ、さらに
好ましくは４．０〜１５μｍである。 【００４２】反射層と保護層との間には、反射率の向上
等、光学特性を調整するために、中間層を設けてもよ
い。中間層に用いられる材料としては、例えば、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、Ｓｎ０₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物
質を挙げることができる。また、この中間層は、蒸着、
スパッタリング等の真空成膜により形成することができ
る。 【００４３】以上の工程により、基板上に記録層、およ
び反射層、そして所望により保護層等を設けた積層体を
作製することができる。そして得られた二枚の積層体を
各々の記録層が内側となるように接着剤等で貼り合わせ
ることにより、二つの記録層を持つＤＶＤ−Ｒ型の光記
録媒体を製造することができる。また得られた一枚の積
層体と、該積層体の基板と略同じ寸法の円盤状の保護基
板とを、その記録層が内側となるように接着剤等で貼り
合わせることにより、片側のみに記録層を持つＤＶＤ−
Ｒ型の光記録媒体を製造することができる。 【００４４】なお、前記接着剤として、前記保護層の形
成に用いたＵＶ硬化性樹脂を用いてもよいし、合成接着
剤を用いもよい。合成接着剤としては、カチオン硬化型
エポキシ樹脂のような遅効型接着剤や紫外線硬化型アク
リレート樹脂のようなスピン硬化型接着剤を挙げること
がでる。この接着剤の層に保護層の機能を兼用させるこ
ともできる。接着剤層の厚さは、反りを防止するため、
５〜５５μｍの範囲が好ましく、より好ましくは１０〜
４７μｍ、さらに好ましくは１３〜４０μｍである。ま
た、二枚の積層体の貼り合わせは、その他に両面テープ
等を用いて行ってもよい。いずれの態様のＤＶＤ−Ｒ型
の光記録媒体においてもその全体の厚みは、１．２±
０．２ｍｍとなるように調整することが好ましい。 【００４５】保護層と接着層との間には、保存性や接着
性を向上させるために、バッファー層を設けてもよい。
バッファー層に用いられる材料としては、例えば、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物
質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の
有機物質を挙げることができる。このバッファー層は、
真空成膜やスピンコート等を利用して形成することがで
きる。 【００４６】本発明の光記録媒体を用いた情報の記録
は、例えば、次のように行われる。まず、光記録媒体を
所定の定線速度または所定の定角速度にて回転させなが
ら、基板側から半導体レーザ光等の記録用のレーザ光を
光学系を通して集光し、照射する。レーザ光の照射によ
り、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度
上昇し、物理的あるいは化学的な変化が生じてその光学
特性を変えることにより、情報が記録される。 【００４７】本発明の光記録媒体は、既述のように２種
の色素ＡおよびＢを含有し、色素Ｂの混合比率を大きく
することで、１倍速（記録線速度：３．４９ｍ／ｓ）だ
けでなく、２倍速以上の高速記録条件においてもジッタ
ーの最小値（いわゆるボトムジッター）が８％以下と高
精度での記録が可能である。記録光としては、可視域の
レーザ光、通常６００ｎｍ〜７００ｎｍ（好ましくは６
２０〜６８０ｎｍ、さらに好ましくは、６３０〜６６０
ｎｍ）の範囲の発振波長を有する半導体レーザービーム
が用いられる。また記録光は、ＮＡが０．５５〜０．７
の光学系を通して集光されることが好ましい。 【００４８】上記のように記録された情報の再生は、光
記録媒体を所定の定線速度で回転させながら記録時と同
じ波長を持つ半導体レーザ光を基板側から照射して、そ
の反射光を検出することにより行うことができる。 【００４９】 【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 【００５０】（１倍速用光記録媒体の作製）射出成形機
（住友重機械工業（株）製）を用いて、ポリカーボネー
ト樹脂を、スパイラル状のグルーブ（深さ１５６ｎｍ、
幅２９０ｎｍ、トラックピッチ０．７４μｍ）を有する
厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板に成形した。屈
折率ｎ_A：２．１、消衰係数ｋ_A：０．０６で既述の化学
式（１）で表わされる色素Ａと、屈折率ｎ_B：２．３、
消衰係数ｋ_B：０．０９で既述の化学式（５）で表わさ
れる色素Ｂと、を質量比で７５：２５となるように２，
２，３，３−テトラフルオロペンタノール１００ｍｌ
に、合計で１．５ｇ溶解した塗布液を調製した。この塗
布液を、スピンコート法により上記基板のグルーブが形
成された面上に塗布し、記録層を形成した。記録層上に
銀をスパッタリングして膜厚１５０ｎｍの反射層を形成
した。該反射層上に、紫外線硬化樹脂（大日本インキ化
学社製 ダイキュアクリアＳＤ−３１８）をスピンコー
ト法で塗布し、メタルハライドランプで紫外線照射する
ことで膜厚７μｍの保護層を形成し、ディスクＡ（厚さ
０．６ｍｍ）を作製した。 【００５１】また、前記基板に記録層を形成せずに銀を
スパッタリングして膜厚１５０ｎｍ反射層を形成し、上
記と同様にして膜厚７μｍの保護層を形成して、記録層
の無いディスクＢ（厚さ０．６ｍｍ）を得た。ディスク
ＡとディスクＢとを貼り合わせて、１枚のディスク（光
記録媒体Ａ）を作製した。なお、前記貼り合わせは、次
のような工程を経て行った。まず、ディスクＡおよびデ
ィスクＢの保護層上に遅効性カチオン重合型接着剤（ソ
ニーケミカル社製 ＳＫ７０００）をスクリーン印刷に
よって塗布した。このとき、スクリーン印刷版のメッシ
ュサイズは３００メッシュを使用した。次に、メタルハ
ライドランプを使用し紫外線照射した直後、ディスクＡ
とディスクＢとを保護層側を貼り合わせ、両面から圧縮
した。約５分間放置後、接着剤は完全に硬化し、厚さ
１．２ｍｍの１枚のディスク（光記録媒体Ａ）を作製し
た。 【００５２】（２倍速用および３倍速用光記録媒体の作
製）色素Ａと色素Ｂとの質量比を６６：３４とした以外
は、１倍速用光記録媒体の作製と同様にして光記録媒体
Ｂを作製した。 【００５３】（光記録媒体の評価）前記光記録媒体Ａを
使用して記録速度を１倍速とし、前記光記録媒体Ｂを使
用して記録速度を２倍速および３倍速とした場合を実施
例１とし、前記光記録媒体Ａを使用して記録速度を１〜
３倍速とした場合を比較例１として、光記録媒体の評価
を行った。結果を表１に示す。なお、評価は、ＤＤＵ１
０００（パルステック社製）評価機を用いてレーザー波
長６５９ｎｍ（ＮＡ０．６）で、８−１６変調信号を前
記光記録媒体に記録して行った。記録パワーは、それぞ
れの媒体で、ジッターが最も小さくなる記録パワーに設
定した。その後、記録レーザー波長と同波長のレーザー
を用いて再生し、ジッターを測定した。 【００５４】 【表１】 【００５５】表１より、実施例１では、色素Ｂの混合比
率を大きくすることにより２倍速以上の高速記録に対し
ても比較例１よりジッターが良好で記録パワーを低く抑
えることができた。 【００５６】 【発明の効果】本発明の光記録媒体は、１倍速の記録速
度に対応する光記録媒体に使用される色素と同一の色素
を記録層に含有し、２倍速以上の高速記録に対してもジ
ッターが良好で記録パワーを低く抑えることができる。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の光記録媒体の層構成の一例を示す概略
断面図である。 【図２】本発明の光記録媒体の層構成の他の一例を示す
概略断面図である。 【符号の説明】 １，１１・・・第１基板 ２，１２・・・第１記録層 ３，１３・・・第１反射層 ４，１４・・・接着層 ５，１６・・・第２反射層 ６，１５・・・第２記録層 ７，１７・・・第２基板 １８・・・保護層

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA31 EA33 FB42 5D029 JA04 JB35 JB45 JC05 5D090 BB03 CC01 DD01 EE01

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 記録層に少なくとも色素Ａおよび色素Ｂ
   を含有し、前記色素Ａの記録レーザー波長における屈折
   率（ｎ_A）および消衰係数（ｋ_A）と、前記色素Ｂの記録
   レーザー波長における屈折率（ｎ_B）および消衰係数
   （ｋ_B）と、が下記（１）〜（６）の関係を有し、 記録速度を２倍以上とする場合に、前記記録速度を２倍
   以上としない場合より前記記録層中の前記色素Ｂの混合
   比率を大きくすることを特徴とする光記録媒体。 （１）２．０≦ｎ_A≦２．５ （２）０．０１≦ｋ_A≦０．０９ （３）２．０≦ｎ_B≦２．５ （４）０．０１≦ｋ_B≦０．０９ （５）ｎ_A＜ｎ_B （６）ｋ_A＜ｋ_B