JP2003257083A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ピットの生成による基板のトラッキング方向
の変形（特に高さ方向の変化）を均一にし、ピットの始
まり部分と終わり部分との裾切れを良好なものとするこ
とで、ジッターが低い光情報記録媒体を提供する。 【解決手段】 基板上に形成されたピット中央部のトラ
ッキング方向の断面において、前記ピットの底部に生成
した突出部のうち、高さが最大である最大突出部の高さ
と前記突出部の平均高さとの差が７ｎｍ以下であること
を特徴とする光情報記録媒体である。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光を用い
て情報の記録および再生を行うことができる光情報記録
媒体であって、記録層に色素を含有し、高速で情報の記
録および再生を行うことができる追記型の光情報記録媒
体に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来から、レーザ光により一回限りの情
報の記録が可能な光情報記録媒体（ライトワンス型の光
ディスク、所謂ＣＤ−Ｒ型の光ディスク）が知られてい
る。このタイプの光ディスクの代表的な構造は、透明な
円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金や銀等の金
属からなる反射層、さらに樹脂製の保護層をこの順に積
層したものである。そしてこの光ディスクへの情報の記
録は、近赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波
長のレーザ光）を照射して記録層を局所的に発熱変形さ
せて、ピットを形成させることにより行われる。一方情
報の読み取り（再生）は通常、記録用のレーザ光と同じ
波長のレーザ光を照射して、記録層が発熱変形された部
位（記録部分）と変形されない部位（未記録部分）との
反射率の違いを検出することにより行われている。 【０００３】近年、パーソナルコンピュータ等の普及に
伴って記録密度のより高い光情報記録媒体が求められて
いる。記録密度を高めるには、照射されるレーザ光の光
径を小さく絞ることが有効であり、また波長が短いレー
ザ光ほど光径を小さく絞ることができるため、高密度化
に有利であることが理論的に知られている。従って、従
来から一般的に用いられている７８０ｎｍより短波長の
レーザ光を用いて記録再生を行うための光ディスクの開
発が進められており、例えば、追記型デジタル・ヴァー
サタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光デ
ィスクが提案されている。この光ディスクは、直径が１
２０ｍｍあるいは直径が８０ｍｍの透明な円盤状基板上
に、色素からなる記録層、そして通常は記録層の上にさ
らに光反射層および保護層を設けてなるディスクを二
枚、あるいは該ディスクと略同じ寸法の円盤状保護基板
とをそれぞれ記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた
構造となるように製造されている。前記ＤＶＤ−Ｒは、
可視レーザ光（通常は６００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の
波長のレーザ光）を照射することにより、記録および再
生が行われ、ＣＤ−Ｒ型の光ディスクより高密度の記録
が可能であるとされている。 【０００４】従来から、ＣＤ−Ｒ型の光ディスクにおい
ては、その記録層に含有する色素化合物としてシアニン
色素を使用する追記型の光情報記録媒体が知られてい
る。このような色素の例としては、特開昭６４−４０３
８２号公報、あるいは「機能性色素の最新応用技術」
（シー・エム・シー、１９９６年４月発行、第３章の
６）に記載されているものがある。 【０００５】追記型の光情報記録媒体では、情報の記録
を案内溝部へのピットの生成という形で行っており、そ
のピット部分における基板の形状の変形は、色素の分解
による光学特性の変化とともに再生特性に大きな影響を
与える。これまでも特開平４−３５８３３１号公報に記
載されているように、ピット部の基板の溝側面の形状を
規定した光情報記録媒体はあるが、より高速で記録再生
特性を向上させるためには、溝側面の形状を一定の範囲
としても不十分であった。 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】以上から、本発明の目
的は、ピットの生成による基板のトラッキング方向の変
形（特に高さ方向の変化）を均一にし、ピットの始まり
部分と終わり部分との裾切れを良好なものとすること
で、ジッターが低い光情報記録媒体を提供することであ
る。 【０００７】 【課題を解決するための手段】上記目的は、以下に示す
本発明により達成される。すなわち、本発明は、基板上
に形成されたピット中央部のトラッキング方向の断面に
おいて、前記ピットの底部に生成した突出部のうち、高
さが最大である最大突出部の高さと前記突出部の平均高
さとの差が７ｎｍ以下であることを特徴とする光情報記
録媒体である。 【０００８】 【発明の実施の形態】本発明の光情報記録媒体は、基板
上に、少なくとも、色素を含有する記録層と、反射層
と、が形成された構成となっている。また、本発明の光
情報記録媒体は、レーザー光の照射により基板上に形成
されるピットの底部に存在する突出部が、下記一定の条
件を満たすものである。すなわち、ピットの中央部であ
ってトラッキング方向の断面において、前記ピットの底
部に生成した突出部のうち、高さが最大である最大突出
部の高さと前記突出部の平均高さとの差が７ｎｍ以下と
なっている。突出部の高さをこのように規定すること
で、トラッキング方向の変形（特に高さ方向の変化）を
均一にし、ピットの始まり部分と終わり部分との裾切れ
を良好なもととすることが可能となり、ジッターを低く
することができる。突出部の高さを上記のようにするに
は、基板に形成された案内溝の溝幅や溝深さを適切に規
定したり、記録層に使用する色素の熱分解特性を適切に
考慮すればよい。以下、本発明の光情報記録媒体の具体
的な構成を説明する。 【０００９】（基板）基板上には、トラッキング用溝ま
たはアドレス信号等の情報を表す案内溝（プレグルー
ブ）が形成されている。プレグルーブの溝幅は５０〜４
５０ｎｍであることが好ましく、１００〜４００ｎｍが
より好ましい。溝幅を５０〜４５０ｎｍとすることで、
ピットの広がりを有効に防止することができる。溝深さ
は８０〜３００ｎｍであることが好ましく、８０〜２０
０ｎｍがより好ましい。溝深さが３００ｎｍより深いと
反射率が低下することがあり、５０ｎｍ浅いとピットの
不均一な広がりを防止することができないことがある。 【００１０】基板（後述する保護基板も含む）は、従来
の光情報記録媒体の基板として用いられている各種の材
料から任意に選択することができる。基板材料として
は、例えば、ガラス；ポリカーボネート；ポリメチルメ
タクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；
アモルファスポリオレフィンおよびポリエステル等を挙
げることができ、所望によりそれらを併用してもよい。
なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性のあ
る基板として使うことができる。上記材料の中では、耐
湿性、寸法安定性および価格等の点からポリカーボネー
トが好ましい。基板は、その直径が１２０±３ｍｍで厚
みが０．６±０．１ｍｍ；あるいはその直径が８０±３
ｍｍで厚みが０．６±０．１ｍｍ；のものが一般に用い
られる。 【００１１】前記プレグルーブは、ポリカーボネート等
の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形する際に直接基
板上に形成することが好ましい。また、プレグルーブの
形成を、プレグルーブ層を設けることにより行ってもよ
い。プレグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノ
エステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエス
テルのうち少なくとも一種のモノマー（またはオリゴマ
ー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作られた
母型（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステルおよ
び重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布
液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫
外線を照射することにより塗布層を硬化させて基板と塗
布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離する
ことにより得ることができる。プレグルーブ層の層厚
は、一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好まし
くは０．１〜５０μｍの範囲である。 【００１２】後述する記録層が設けられる側の基板表面
には、平面性の改善および接着力の向上および記録層の
変質防止等の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗
層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合
体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロー
ス、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエス
テル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、
エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシ
ランカップリング剤等の表面改質剤をあげることができ
る。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分散
して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコー
ト、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗
布法を利用して基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範
囲である。 【００１３】（記録層）基板上（又は下塗層）のプレグ
ルーブが形成されているその表面上には、色素を含有す
る記録層が形成される。前記色素としては、オキソノー
ル系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、フタロシアニ
ン系色素、ピロメテン系色素等の種々の色素が使用可能
であるが、記述のようにピットの底部の突出部の高さを
所望の範囲とするには、当該色素の熱分解時の発熱量が
小さいことが好ましい。このような色素の具体例として
は、下記化学式（１）および下記化学式（２）で表わさ
れるものを単独もしくは混合して使用することが好まし
い。また、このような色素は、記録層中に５０〜９９．
７質量％含有されていることが好ましく、７０〜９９．
７質量％含有されていることがより好ましい。 【００１４】 【化１】 ・・・化学式（１） 【００１５】 【化２】 ・・・化学式（２） 【００１６】記録層の形成は、例えば、有機色素の他、
所望により退色防止剤および結合剤等を溶剤に溶解して
塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板のプレグルー
ブが形成されているその表面に塗布して塗膜を形成した
のち乾燥することにより行うことができる。記録層形成
用の塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、２−メトキシ
エチルアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケト
ン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロ
ホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等の
アミド；シクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフ
ラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタ
ノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブ
タノール、ジアセトンアルコール等のアルコール；２，
２，３，３−テトラフロロプロパノール等のフッ素系溶
剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル等のグリコールエーテル類等を挙げ
ることができる。上記溶剤は使用する化合物の溶解性を
考慮して単独または二種以上を組み合わせて用いること
ができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収
剤、可塑剤、および潤滑剤等の各種の添加剤を目的に応
じて添加してもよい。 【００１７】前記退色防止剤の代表的な例としては、ニ
トロソ化合物、金属錯体、ジアンモニウム塩、およびア
ミニウム塩等を挙げることができる。これらの例は、例
えば、特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９３
号、あるいは同４−１４６１８９号等の各公報に記載さ
れている。退色防止剤を使用する場合には、その使用量
は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲
であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、さら
に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に５〜２５質
量％の範囲である。 【００１８】前記結合剤の例としては、例えばゼラチ
ン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等
の天然有機高分子物質；およびポリウレタン、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレ
ン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等の
ビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル
酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩
素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴ
ム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬
化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子を挙げること
ができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合
に、結合剤の使用量は、色素１００質量部に対して０．
２〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部、さら
に好ましくは１〜５質量部である。このようにして調製
される塗布液中の色素の濃度は一般に０．０１〜１０質
量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲
にある。 【００１９】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げるこ
とができる。記録層は単層でも重層でもよい。記録層の
その溝部での層厚は、厚過ぎるとピットが広がり易くな
るため、４０〜２３０ｎｍの範囲にあることが好まし
く、６０〜２００ｎｍの範囲がより好ましく、７０〜１
８０ｎｍの範囲がさらに好ましい。 【００２０】記録層を形成した後は、アニール処理を施
してもよい。当該アニール処理としては、記録層を形成
した基板に対し、温度を４０〜８０℃とし、この温度で
１〜１２時間保持する。このようなアニール処理を施す
ことにより、塗布した記録層塗布液中の溶剤が蒸発する
ため、記録層が安定しジッターをより良好なものとする
ことができる。 【００２１】（反射層）反射層は、前記記録層の上に、
特に情報の再生時における反射率の向上の目的で形成さ
れる。反射層の材料である光反射性物質は、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｒｈ、Ｓｂ、Ｍｇ、Ｐｔといった金属
および半金属を主成分として用いることが好ましい。コ
スト、取り扱い易さ等を考慮すると、この中でも、Ａ
ｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｒｈ、Ｓｂが好ましく、Ａｇ、
Ａｕ、Ａｌが特に好ましい。これらの物質は単独で用い
てもよいし、あるいは二種以上の組み合わせ、または合
金として用いてもよい。ここで、主成分とは反射層材料
中に少なくとも５０％以上含有されていることを意味
し、７０％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好
ましい。 【００２２】また、耐蝕防止等の目的で、上記材料の他
に、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｓ
ｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｃｄ、
Ｉｎ、Ｓｎ、Ｔｅ、ランタノイド、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｉ
ｒ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｔｈ等の金属および半金属を含
んでいてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｂ、
Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｇｅ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、ランタノイ
ド、Ｈｆ、Ｗ、Ｂｉ、Ｔｈであり、より好ましくはＣ、
Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｂｉである。 【００２３】反射層は、例えば上記反射性物質を、蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングするこ
とにより記録層の上に形成することができる。保存性を
向上させる目的、あるいは、外観を変える目的で、反射
層は上記材料を単層で積層してもよく、２種以上の材料
を多層に積層してもよい。反射層の層厚は、好ましくは
１０〜３５０ｎｍの範囲であり、より好ましくは３０〜
３００ｎｍの範囲、さらに好ましくは４０〜２５０ｎｍ
の範囲である。反射層の層厚が３５０ｎｍを超えると、
光吸収の効果が不十分となり、また、膜質も低下する。
１０ｎｍより薄いと反射率が低くなり過ぎたり、反射層
上に保護層を積層する場合に、記録層に含まれる材料
が、保護層に用いられる材料と相互作用して化学変化を
起こし、劣化する場合がある。 【００２４】（保護層）反射層の上には、記録層等を物
理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられて
いてもよい。この保護層は、基板の記録層が設けられて
いない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられて
もよい。保護層に用いられる材料としては、例えば、Ｓ
ｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機
物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等
の有機物質を挙げることができる。 【００２５】保護層は、例えば、プラスチックの押出加
工で得られたフィルム（保護基板）を、接着層を介し
て、反射層上および／または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布
液を塗布し、乾燥することによっても形成することがで
きる。前記ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしく
は適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布
液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって
も形成することができる。これらの塗布液中には、さら
に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤
を目的に応じて添加してもよい。保護層の硬度は、ピッ
トの保護層方向への不均一な広がりを防止するため、鉛
筆の引掻き硬度でＦ以上であることが好ましく、Ｈ以上
がより好ましい。保護層の層厚は２．５〜２３μｍの範
囲にあることが好ましく、より好ましくは３．５〜２０
μｍ、さらに好ましくは４．０〜１５μｍである。 【００２６】反射層と保護層との間には、反射率の向上
等、光学特性を調整するために、中間層を設けてもよ
い。中間層に用いられる材料としては、例えば、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物
質を挙げることができる。また、この中間層は、蒸着、
スパッタリング等の真空成膜により形成することができ
る。 【００２７】以上のようにして、基板上に記録層、およ
び反射層、そして所望により保護層等を設けた積層体を
作製することができる。そして得られた二枚の積層体を
各々の記録層が内側となるように接着剤等で貼り合わせ
ることにより、二つの記録層を持つＤＶＤ−Ｒ型の光情
報記録媒体を製造することができる。また得られた一枚
の積層体と、該積層体の基板と略同じ寸法の円盤状の保
護基板とを、その記録層が内側となるように接着剤等で
貼り合わせることにより、片側のみに記録層を持つＤＶ
Ｄ−Ｒ型の光情報記録媒体を製造することができる。 【００２８】なお、前記接着剤として、前記保護層の形
成に用いたＵＶ硬化性樹脂を用いてもよいし、合成接着
剤を用いもよい。合成接着剤としては、カチオン硬化型
エポキシ樹脂のような遅効型接着剤や紫外線硬化型アク
リレート樹脂のようなスピン硬化型接着剤を挙げること
ができ、遅効型接着剤がより好ましい。この接着剤の層
に保護層の機能を兼用させることもできる。接着剤層の
厚さは、反りを防止するため、５〜５５μｍの範囲が好
ましく、より好ましくは１０〜４７μｍ、さらに好まし
くは１３〜４０μｍである。また、二枚の積層体の貼り
合わせは、その他に両面テープ等を用いて行ってもよ
い。いずれの態様のＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体にお
いてもその全体の厚みは、１．２±０．２ｍｍとなるよ
うに調整することが好ましい。 【００２９】保護層と接着層との間には、保存性や接着
性を向上させるために、バッファー層を設けてもよい。
バッファー層に用いられる材料としては、例えば、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物
質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の
有機物質を挙げることができる。このバッファー層は、
真空成膜やスピンコート等を利用して形成することがで
きる。 【００３０】本発明の光情報記録媒体を用いた情報の記
録は、例えば、次のようにして行われる。まず、光情報
記録媒体を所定の定線速度または所定の定角速度にて回
転させながら、基板側から半導体レーザ光等の記録用の
レーザ光を光学系を通して集光し、照射する。レーザ光
の照射により、記録層の照射部分がその光を吸収して局
所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化（いわ
ゆるピットの生成）が生じてその光学特性を変えること
により、情報が記録される。 【００３１】レーザ光の照射により基板上に生成したピ
ットは、既述のように、その中央部のトラッキング方向
の断面において、前記ピットの底部に生成した突出部の
うち、高さが最大である最大突出部の高さと前記突出部
の平均高さとの差が７ｎｍ以下となっている。これは以
下のようにして確認することができる。まず、光情報記
録媒体を１０ｍｍ角に切りだし、ピットが形成されてい
る基板をエタノール等の溶媒中で洗浄して反射層および
記録層を除去して基板表面を露出させる。ＡＦＭ（原子
間力顕微鏡）により、例えば、２．５μｍ角でピット形
状を観察する。このとき、１つのピットの中央部のトラ
ッキング方向の断面を観察し、底部に生成している突出
部のうち、高さが最も最大なものを最大突出部とし、底
部に生成している突出部の平均高さを求める。そして、
最大突出部の高さと前記突出部の平均高さとの差を求め
る。なお、前記「中央部」とは、グルーブのトラッキン
グ方向における中心線上に該当する部分をいう。 【００３２】本発明の光情報記録媒体は、１倍速（記録
線速度：３．４９ｍ／ｓ）だけでなく、２倍速以上の高
速記録条件においてもジッターの最小値（いわゆるボト
ムジッター）が１０％以下と高精度での記録が可能であ
る。これは、いわゆるピットの裾切れが良いためと考え
られる。 【００３３】記録光としては、可視域のレーザ光、通常
６００ｎｍ〜７００ｎｍ（好ましくは６２０〜６８０ｎ
ｍ、さらに好ましくは、６３０〜６６０ｎｍ）の範囲の
発振波長を有する半導体レーザービームが用いられる。
また記録光は、ＮＡが０．５５〜０．７の光学系を通し
て集光されることが好ましい。 【００３４】上記のように記録された情報の再生は、光
情報記録媒体を所定の定線速度で回転させながら記録時
と同じ波長を持つ半導体レーザ光を基板側から照射し
て、その反射光を検出することにより行うことができ
る。 【００３５】 【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 【００３６】（実施例１）射出成形機（住友重機械工業
（株）製）を用いて、ポリカーボネート樹脂を、スパイ
ラル状の案内溝（溝深さ１５０ｎｍ、溝幅３００ｎｍ、
トラックピッチ０．７４μｍ）を有する厚さ０．６ｍ
ｍ、直径１２０ｍｍの基板に成形した。既述の化学式
（１）で表わされる色素１ｇと、既述の化学式（２）で
表わされる色素０．２４ｇと、を２，２，３，３−テト
ラフルオロペンタノール１２０ｇ中に添加し、２時間超
音波照射してこれらを溶解した塗布液を調製した。この
塗布液をスピンコート法により上記基板の案内溝が形成
された面上に塗布した。その後、８０℃で２時間アニー
ル処理を施して残留溶剤を揮発させて記録層を形成し
た。記録層上に、ＤＣマグネトロンスパッタにより、銀
をスパッタリングして膜厚１８０ｎｍの反射層を形成し
た。該反射層上に、接着剤（ＤＩＣ（大日本インキ化学
工業（株））：ＳＤ６４０）をスピンコート法で塗布
し、保護層としてのダミー基板（ポリカーボネート製、
厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍ）を貼り合わせて光情
報記録媒体を作製した。 【００３７】（比較例１）溝深さ１９０ｎｍおよび溝幅
２８０ｎｍのスパイラル状の案内溝を有する基板と、下
記化学式（３）に表わされる色素を使用した以外は、実
施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。 【００３８】 【化３】 【００３９】（光情報記録媒体の評価）実施例１および
比較例１で作製した光情報記録媒体について、ＤＤＵ１
０００（パルステック社製）を用い、レーザー波長６５
７ｎｍ、レーザー開口度（ＮＡ）０．６、バイアスパワ
ー０．７ｍＷ、記録速度７．９８ｍ／ｓで、ランダム信
号を書きこみ、ジッター、１４Ｔ変調度、最適記録パワ
ーを測定した。結果を表１に示す。 【００４０】また、前記ランダム信号を書きこんだ実施
例１および比較例１の光情報記録媒体を１０ｍｍ角に切
りだし、ピットが形成されている基板をエタノール中で
洗浄して反射層および記録層を除去して基板表面を露出
させた。ＡＦＭ（ＤＩ社製：ＮａｎｏＳｃｏｐｅ II
I）によりタッピングモード、２．５μｍ角でピット形
状を観察した。なお、探針はＮＣＨ型Ｓｉ単結晶探針を
使用した。ピット形状の観察は、まず、歪みを補正後、
ピット形成による溝中央部でトラッキング方向に沿って
断面図を求めた。次に、この断面図を使用してピット部
分における溝底部の最大突出部の高さと突出部の平均高
さとの差を４つのピット（ｎ１〜ｎ４）について求め
た。結果を表１に示す。なお、表１中の「ジッターの判
定」における○は、ジッターが８％未満の場合を意味
し、×は、ジッターが８％以上の場合を意味する。ま
た、「変調度の判定」における○は、１４Ｔ変調度が
０．６以上の場合を意味する。 【００４１】 【表１】 【００４２】表１より、実施例１の光情報記録媒体は、
最大突出部の高さと突出部の平均高さとの差がいずれの
ピットに対しても７未満であり、比較例１よりもジッタ
ーが低く、従って、最適記録パワーも低いものであっ
た。また、実施例１の光情報記録媒体は、ピットの始ま
り部分と終わり部分との裾切れが明確であり良好なもの
であった。 【００４３】 【発明の効果】本発明によれば、ピットの生成による基
板のトラッキング方向の変形（特に高さ方向の変化）を
均一にし、ピットの始まり部分と終わり部分との裾切れ
を良好なものとすることで、ジッターが低い光情報記録
媒体を提供することができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 基板上に形成されたピット中央部のトラ
   ッキング方向の断面において、前記ピットの底部に生成
   した突出部のうち、高さが最大である最大突出部の高さ
   と前記突出部の平均高さとの差が７ｎｍ以下であること
   を特徴とする光情報記録媒体。