JP2000215523A

JP2000215523A - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JP2000215523A
Application number: JP11008330A
Authority: JP
Inventors: Yoshihisa Usami; 由久宇佐美
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-01-14
Filing date: 1999-01-14
Publication date: 2000-08-04

Abstract

(57)【要約】【課題】より高精度で記録可能な高密度光情報記録媒体
を提供する。また、安価な材料を使用して製造すること
ができる高性能な高密度光情報記録媒体を提供する。【解決手段】基板上に、有機色素を含有する光吸収層
と、反射層とを有する光情報記録媒体において、該基板
に、溝幅が４５０ｎｍ以下であり、かつ、溝傾斜部幅が
１８０ｎｍ以下であるプレグルーブが形成されてなり、
該反射層の記録レーザ波長での消衰係数ｋが４以上であ
る。前記反射層の主成分がアルミニウムであることが好
ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
情報の記録及び再生を行うことができる光情報記録媒体
に関し、詳しくは、高精度で記録可能な追記型の高密度
光情報記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、追記型の光情報記録媒体としてＣ
Ｄ−Ｒが開発され実用化されていた。さらに高容量の追
記型媒体としてＤＶＤ−Ｒも開発されている。これらは
再生専用タイプであるＣＤやＤＶＤのＲＯＭ型媒体との
コンバチビリティーを保ち、ＲＯＭ型媒体の再生機で再
生可能なように設計されている。

【０００３】ＲＯＭ型媒体の製造工程においては、非常
に高精度のレーザカッター等で構成したマスタリング装
置を使用してピットの形成された原盤（スタンパ）を作
製し、これを忠実に転写する射出成形工程によってレプ
リカ基板を作製するため、高精度を保ちながら基板上に
ピットを形成することができる。

【０００４】一方、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒは、簡便な記
録装置を用い、ユーザサイドで情報を記録するシステム
を前提とした媒体である。そのため、ＲＯＭ型媒体の場
合と比較して、ピット形状の精度が低くなってしまう。
この結果、ジッターと呼んでいるピットばらつきの増大
を引き起し、再生時にうまく再生できないといった問題
を発生し易くなる。ジッターの増大により直ちに再生が
不可能になるわけではないが、再生装置の再生精度が低
下している場合や過酷な再生環境で再生した場合等に再
生が不可能になるおそれが大きい。

【０００５】また、従来、ＣＤ−Ｒの反射層には金や銀
といった高価な貴金属が使用されてきた。ＣＤ−Ｒで金
や銀を使用してきた理由は、高い反射率を実現するため
である。ＣＤ−Ｒでは、記録層としてある程度レーザ光
を吸収する層を付加する必要があり、媒体全体として反
射率を確保するために、反射層には記録レーザ波長（約
７８０ｎｍ）において反射率の高い金や銀といった素材
を使用せざるを得なかった。加えて、この反射層は、蒸
着材料（ターゲット）をプラズマ中のイオンでたたき出
し基板に付着させるスパッタリングという方法で作製す
るのが一般的であるが、付着効率が悪く、用いたターゲ
ットの半分も基板に付着させることができない。このた
め、媒体にかかるコストが高くなるという問題もあっ
た。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】追記型の光情報記録媒
体において、反射層は、高い反射率で記録光を反射する
ものであり、金や銀といった高反射率の材料を使用した
場合には、光の吸収は殆どない。一方、記録を行う光吸
収層は、記録光を吸収して熱が発生し、光吸収層を形成
する材料の融解、気化、変形、分解、変質、空洞形成等
といった物理的および／または化学的な変化が起こり、
ピットの形成に至る。このように、反射層は熱を吸収せ
ず温度はあまり上昇しないのに対し、光吸収層は温度が
上昇するといった状況では、ピット部に大きな熱勾配が
生ずることになる。このように、大きな熱勾配がある
と、その熱分布は不安定になり易く、同じエネルギーを
与えても、ある時には大きなピットが形成され、ある時
には小さなピットが形成されるといったように、ピット
サイズの不揃いが生ずることになる。これが、再生時の
ジッターの増大となって問題を起す。

【０００７】また、ピット形成時、ピット部は高温にな
り、液体状および／または気体状になるものと考えられ
る。このとき、その部分の圧力は高くなっており、上
下、左右、前後にピットの形成は進もうとする。例え
ば、フラットな基板上にレーザを集光させ照射させると
均等に広がったピットが形成されるはずであるが、実際
にはピット部周囲の光吸収層は不均一であり広がり方に
バラツキが出てしまう。ここで、不均一性というのは、
微細な基板上凹凸や、色素分子の配向度合い、反射層微
結晶のサイズまたは配向度合いといったものである。こ
のように、広がり方にバラツキが出ると、最終的に形成
されるピットサイズにもバラツキが出て、最終的なジッ
ターは大きなものとなってしまう。

【０００８】本発明は、上記の追記型の光情報記録媒体
におけるピット形成時の熱勾配や不均一性により生じる
記録精度の低下という問題を解決すべくなされたもので
あり、本発明の目的は、より高精度で記録可能な高密度
光情報記録媒体を提供することにある。また、本発明の
他の目的は、安価な材料を使用して製造することができ
る高性能な高密度光情報記録媒体を提供することにあ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、ピット形成部付近の熱勾配を抑えるためには、反
射層にもある程度熱を吸収する素材を用いることが好ま
しいこと、また、プレグルーブの溝形状を制御しピット
の広がりを制限することによりピット部周囲の光吸収層
の不均一性の影響を少なくできることを知見し、本発明
を完成するに至った。

【００１０】即ち、（１）本発明の光情報記録媒体は、
基板上に、有機色素を含有する光吸収層と、反射層とを
有する光情報記録媒体において、該基板に、溝幅が４５
０ｎｍ以下であり、かつ、溝傾斜部幅が１８０ｎｍ以下
であるプレグルーブが形成されてなり、該反射層の記録
レーザ波長での消衰係数ｋが４以上であることを特徴と
する。（２）前記反射層の主成分がアルミニウムであることが
好ましい。（３）前記プレグルーブの溝深さが５０〜３００ｎｍで
あることが好ましい。（４）前記反射層の厚さが１０〜３５０ｎｍであること
が好ましい。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の光情報記録媒体は、基板
上に、有機色素を含有する光吸収層と、反射層とを有す
る記録媒体であって、その基板に、溝幅が４５０ｎｍ以
下であり、かつ、溝傾斜部幅が１８０ｎｍ以下であるプ
レグルーブが形成されており、その反射層の記録レーザ
波長での消衰係数ｋが４以上であることを特徴としてい
る。基板に設けられるプレグルーブの溝幅を狭くし、溝
傾斜部幅を狭く（溝の傾斜を大きく）することにより、
ピットの広がりを制限し、ピット部周囲の光吸収層の不
均一性によりピットの広がりがバラツクことを防止でき
ると推定される。また、反射層の記録レーザ波長での消
衰係数ｋが４以上とすることで、反射層における光吸収
量が増加してピット形成時に反射層の温度がある程度上
昇し、光吸収層との熱勾配が小さくなり、ピットサイズ
のバラツキを防止できると推定される。

【００１２】本発明の光情報記録媒体の具体的な構成を
以下に説明する。基板（または下塗層）上には、トラッ
キング用溝またはアドレス信号等の情報を表す溝（プレ
グルーブ）が形成されている。図１はプレグルーブの形
状を表す概略断面図である。Ｄは溝深さであり、溝形成
前の基板表面から溝の最も深い箇所までの距離である。
Ｗは溝幅であり、Ｄ／２の深さでの溝の幅である。溝傾
斜部幅は、溝形成前の基板表面からＤ／１０の深さでの
溝幅Ｗ１と溝の最も深い箇所からＤ／１０の高さでの溝
幅Ｗ２との差である。

【００１３】プレグルーブの溝幅は４５０ｎｍ以下であ
り、４００ｎｍ以下が好ましく、３５０ｎｍ以下がより
好ましい。溝幅が４５０ｎｍを超えると、ピットの不均
一な広がりを防止することができない。また、溝幅の下
限は５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好
ましく、１５０ｎｍ以上がさらに好ましい。溝傾斜部幅
は１８０ｎｍ以下であり、１６０ｎｍ以下が好ましく、
１５０ｎｍ以下がより好ましい。溝傾斜部幅が１８０ｎ
ｍを超えると、溝の傾斜がなだらかになりピットの不均
一な広がりを防止することができない。また、溝傾斜部
幅の下限は２０ｎｍ以上が好ましく、４０ｎｍ以上がよ
り好ましく、５０ｎｍ以上がさらに好ましい。

【００１４】溝深さは３００ｎｍ以下であることが好ま
しく、２５０ｎｍ以下がより好ましく、２００ｎｍ以下
がさらに好ましい。溝深さが３００ｎｍより深いと反射
率が低下する。また、溝深さの下限は５０ｎｍ以上が好
ましく、７０ｎｍ以上がより好ましく、８０ｎｍ以上が
さらに好ましい。溝深さが５０ｎｍより浅いと、ピット
の不均一な広がりを防止することができない。トラック
ピッチは１２００ｎｍ以下であることが好ましく、１０
００ｎｍ以下がより好ましく、９００ｎｍ以下がさらに
好ましい。また、トラックピッチの下限は１００ｎｍ以
上が好ましく、２００ｎｍ以上がより好ましく、３００
ｎｍ以上がさらに好ましい。

【００１５】基板（保護基板も含む）は、従来の光情報
記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任
意に選択することができる。基板材料としては、例え
ば、ガラス；ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレ
ート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共
重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルフ
ァスポリオレフィンおよびポリエステル等を挙げること
ができ、所望によりそれらを併用してもよい。なお、こ
れらの材料はフィルム状としてまたは剛性のある基板と
して使うことができる。上記材料の中では、耐湿性、寸
法安定性および価格などの点からポリカーボネートが好
ましい。基板は、その直径が１２０±３ｍｍで厚みが
０．６±０．１ｍｍ、あるいはその直径が８０±３ｍｍ
で厚みが０．６±０．１ｍｍのものが一般に用いられ
る。

【００１６】このプレグルーブは、ポリカーボネートな
どの樹脂材料を射出成形あるいは押出成形する際に直接
基板上に形成することが好ましい。また、プレグルーブ
の形成を、プレグルーブ層を設けることにより行っても
よい。プレグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモ
ノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエ
ステルのうち少なくとも一種のモノマー（またはオリゴ
マー）と光重合開始剤との混合物を用いることができ
る。プレグルーブ層の形成は、例えば、まず精密に作ら
れた母型（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステル
および重合開始剤からなる混合液を塗布し、更にこの塗
布液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介して
紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて基板と
塗布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離す
ることにより得ることができる。プレグルーブ層の層厚
は、一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好まし
くは０．１〜５０μｍの範囲である。

【００１７】光吸収層が設けられる側の基板表面には、
平面性の改善および接着力の向上および光吸収層の変質
防止などの目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層
の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、ア
クリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレ
イン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合
体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロー
ス、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエス
テル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、
エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；およびシ
ランカップリング剤などの表面改質剤をあげることがで
きる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解または分
散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコー
ト、ディップコート、エクストルージョンコートなどの
塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形成す
ることができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２
０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの
範囲である。

【００１８】基板上（又は下塗層）のプレグルーブが形
成されているその表面上には、有機色素を含有する光吸
収層が設けられる。有機色素としては、シアニン系色
素、アゾ系色素、フタロシアニン系色素、オキソノール
系色素、ピロメテン系色素が挙げられ、シアニン系色
素、アゾ系色素、オキソノール系色素が好ましく、シア
ニン系色素、オキソノール系色素が特に好ましい。

【００１９】光吸収層の形成は、例えば、有機色素の
他、所望により退色防止剤及び結合剤などを溶剤に溶解
して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板のプレグ
ルーブが形成されているその表面に塗布して塗膜を形成
したのち乾燥することにより行うことができる。光吸収
層形成用の塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、セロソ
ルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケト
ン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロ
ホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドな
どのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒ
ドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテ
ル；エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノー
ル、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアル
コール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールな
どのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエ
ーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用す
る化合物の溶解性を考慮して単独または二種以上を組み
合わせて用いることができる。塗布液中には更に酸化防
止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、及び潤滑剤などの各種の添
加剤を目的に応じて添加してもよい。

【００２０】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジアンモニウム塩、及びアミニウ
ム塩などを挙げることができる。これらの例は、例え
ば、特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９３
号、あるいは同４−１４６１８９号等の各公報に記載さ
れている。退色防止剤を使用する場合には、その使用量
は、色素の量に対して、通常０．１〜５０重量％の範囲
であり、好ましくは、０．５〜４５重量％の範囲、更に
好ましくは、３〜４０重量％の範囲、特に５〜２５重量
％の範囲である。

【００２１】結合剤の例としては、例えばゼラチン、セ
ルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天
然有機高分子物質；およびポリウレタン、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン
等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビ
ニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸
メチルなどのアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩
素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴ
ム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬
化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げるこ
とができる。光吸収層の材料として結合剤を併用する場
合に、結合剤の使用量は、色素１００重量部に対して
０．２〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部、
更に好ましくは１〜５重量部である。このようにして調
製される塗布液中の色素の濃度は一般に０．０１〜１０
重量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５重量％の範
囲にある。

【００２２】塗布方法としては、スプレー法、スピンコ
ート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート
法、ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げる
ことができる。光吸収層は単層でも重層でもよい。光吸
収層のその溝部での層厚は、厚過ぎるとピットが広がり
易くなるため、４０〜２３０ｎｍの範囲にあることが好
ましく、６０〜２００ｎｍの範囲がより好ましく、７０
〜１８０ｎｍの範囲がさらに好ましい。

【００２３】光吸収層と反射層との間には、反射率向上
と感度向上のために、中間層を設けてもよい。中間層に
用いられる材料としては、ＳｉＯ₂、ＳｉＮ、Ｍｇ
Ｆ₂、ＴｉＯ₂等の無機物質、ブタジエンゴム等の有機
物質を挙げることができる。この中間層は、真空成膜や
スピンコート等を利用して形成することができる。

【００２４】上記光吸収層の上に、特に情報の再生時に
おける反射率の向上の目的で、反射層が設けられる。本
発明においては、記録精度向上の目的から、その反射層
の記録レーザ波長での消衰係数ｋが４以上であることを
特徴としている。反射層の記録レーザ波長での消衰係数
ｋは５以上がより好ましい。

【００２５】消衰係数ｋとは、記録レーザ波長に対する
反射層の複素屈折率の虚数部の絶対値であり、光吸収率
の指標となる値であるが、本発明においては、記録レー
ザ波長に対する反射層の透過率及び反射率の測定値から
下記の方法に従い求めた値を意味する。

【００２６】消衰係数ｋは、吸収係数αを用いて下記式
（１）により表される。ｋ＝αλ／４π 式(1) （式中、λは記録レーザ波長である。）一方、反射層の吸収係数αと膜厚ｄの積である光学濃度
αｄは、実際に測定した反射層側からの入射光に対する
透過率Ｔ₀および反射率Ｒ₀、反射層側とは反対側から
の入射光に対する反射率Ｒ₀'、基板のみでの反射率Ｒ_s
を用い、下記式(2)により求めることができる。 αｄ＝ln(1/T₀)＋ln(1-R₀)＋ln(1-R₀'＋1/2Rs) 式(2) 従って、記録レーザ波長に対する反射層の消衰係数ｋ
は、式(1)に式(2)を代入した下記式(3) により求めるこ
とができる。ｋ＝λ[ln(1/T₀) ＋ln(1-R₀)＋ln(1-R₀'＋1/2Rs)] ／4 πd 式(3) なお、基板のみでの反射率Ｒ_sは、記録媒体の内、反射
層が設けられていない部分での反射率である。

【００２７】反射層の材料である光反射性物質は、反射
層自身の記録レーザ波長での消衰係数ｋが４以上である
限り、特に制限はないが、Ａｌ、Ｚｎ、Ｒｈ、Ｓｂ、Ｍ
ｇ、Ｐｔといった記録レーザ波長での消衰係数ｋが４以
上の金属及び半金属を主成分として用いることが好まし
い。コスト、取り扱い易さ等を考慮すると、この中で
も、Ａｌ、Ｚｎ、Ｒｈ、Ｓｂが好ましく、Ａｌが特に好
ましい。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるい
は二種以上の組み合わせで、または合金として用いても
よい。ここで、主成分とは反射層材料中に少なくとも５
０％以上含有されていることを意味し、７０％以上がよ
り好ましく、８５％以上がさらに好ましい。

【００２８】反射層は、反射層自身の記録レーザ波長で
の消衰係数ｋが４以上である限りにおいて、耐蝕防止等
の目的で、上記材料の他に、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｓ
ｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、
Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔ
ｃ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｔｅ、ラン
タノイド、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｉｒ、Ａｕ、Ｔｌ、Ｐｂ、
Ｂｉ、Ｔｈなどの金属及び半金属を含んでいてもよい。
これらのうちで好ましいものは、Ｂ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓ
ｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｓｒ、
Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、ランタノイド、Ｈｆ、Ｗ、Ａ
ｕ、Ｂｉ、Ｔｈであり、より好ましくはＣ、Ｎ、Ｏ、Ｓ
ｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｕ、Ｂｉである。

【００２９】反射層は、例えば上記反射性物質を、蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングするこ
とにより光吸収層の上に形成することができる。本発明
においては、保存性を向上させる目的、あるいは、外観
を変える目的で、反射層は上記材料を単層で積層しても
よく、２種以上の材料を多層に積層してもよい。反射層
の層厚は、１０〜３５０ｎｍの範囲が好ましく、より好
ましくは３０〜３００ｎｍの範囲、更に好ましくは４０
〜２５０ｎｍの範囲である。反射層の層厚が３５０ｎｍ
を超えると、光吸収の効果が不十分となり、また、膜質
も低下する。１０ｎｍより薄いと反射率が低くなり過ぎ
たり、反射層上に保護層を積層する場合に、記録層に含
まれる材料が、保護層に用いられる材料と相互作用して
化学変化を起こし、劣化する場合がある。

【００３０】反射層は一層でも良いが、媒体中に複数の
反射層を形成しても良い。例えば、図２に示すように、
第１基板１上に、第１光吸収層２、第１反射層３、接着
層４、第２反射層５、第２光吸収層６、第２基板７をこ
の順に積層し、ディスクの両面側から記録または再生を
行うことができる。また、図３に示すように、第１基板
１１上に、第１光吸収層１２、第１反射層１３、接着層
１４、保護層１８、第２光吸収層１５、第２反射層１
６、第２基板１７をこの順に積層し、ディスクの片面側
から異なる光吸収層について記録または再生を行うこと
ができる。

【００３１】反射層の上には、光吸収層などを物理的お
よび化学的に保護する目的で保護層が設けられていても
よい。この保護層は、基板の光吸収層が設けられていな
い側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよ
い。保護層に用いられる材料としては、例えば、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄などの
無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹
脂等の有機物質を挙げることができる。

【００３２】保護層は、たとえばプラスチックの押出加
工で得られたフィルムを接着層を反射層上及び／または
基板上にラミネートすることにより形成することができ
る。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法
により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布
液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥すること
によっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場
合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液
を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して
硬化させることによっても形成することができる。これ
らの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ
吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
保護層の硬度は、ピットの保護層方向への不均一な広が
りを防止するため、鉛筆の引掻き硬度でＦ以上であるこ
とが好ましく、Ｈ以上がより好ましい。保護層の層厚は
２．５〜２３μｍの範囲にあることが好ましく、より好
ましくは３．５〜２０μｍ、さらに好ましくは４．０〜
１５μｍである。

【００３３】反射層と保護層との間には、反射率の向上
等、光学特性を調整するために、中間層を設けてもよ
い。中間層に用いられる材料としては、例えば、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄などの
無機物質を挙げることができる。また、この中間層は、
蒸着、スパッタリング等の真空成膜により形成すること
ができる。

【００３４】以上の工程により、基板上に光吸収層、及
び反射層、そして所望により保護層等を設けた積層体を
作製することができる。そして得られた二枚の積層体を
各々の光吸収層が内側となるように接着剤等で貼り合わ
せることにより、二つの光吸収層を持つＤＶＤ−Ｒ型の
光情報記録媒体を製造することができる。また得られた
積層体と、該積層体の基板と略同じ寸法の円盤状保護基
板とを、その光吸収層が内側となるように接着剤等で貼
り合わせることにより、片側のみに光吸収層を持つＤＶ
Ｄ−Ｒ型の光情報記録媒体を製造することができる。

【００３５】接着剤として、前記保護層の形成に用いた
ＵＶ硬化性樹脂を用いてもよいし、合成接着剤を用いも
よい。合成接着剤としては、カチオン硬化型エポキシ樹
脂のような遅効型接着剤や紫外線硬化型アクリレート樹
脂のようなスピン硬化型接着剤を挙げることができ、遅
効型接着剤がより好ましい。この接着剤の層に保護層の
機能を兼用させることもできる。接着剤層の厚さは、反
りを防止するため、５〜５５μｍの範囲が好ましく、よ
り好ましくは１０〜４７μｍ、さらに好ましくは１３〜
４０μｍである。また、二枚の積層体の貼り合わせは、
その他に両面テープなどを用いて行ってもよい。いずれ
の態様のＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体においてもその
全体の厚みは、１．２±０．２ｍｍとなるように調製す
ることが好ましい。

【００３６】保護層と接着層との間には、保存性や接着
性を向上させるために、バッファー層を設けてもよい。
バッファー層に用いられる材料としては、例えば、Ｓｉ
Ｏ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄などの
無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹
脂等の有機物質を挙げることができる。このバッファー
層は、真空成膜やスピンコート等を利用して形成するこ
とができる。

【００３７】本発明の光情報記録媒体を用いた情報の記
録は、例えば、次のように行われる。まず、光情報記録
媒体を所定の定線速度または所定の定角速度にて回転さ
せながら、基板側から半導体レーザ光などの記録用のレ
ーザ光を光学系を通して集光し、照射する。レーザ光の
照射により、光吸収層の照射部分がその光を吸収して局
所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化が生じ
てその光学特性を変えることにより、情報が記録され
る。

【００３８】本発明の光情報記録媒体は、記録線速度３
〜１０ｍ／ｓという高速記録条件においても、記録パワ
ー５〜２０ｍＷでのジッターの最小値（いわゆるボトム
ジッター）が１０％以下と高精度での記録が可能であ
る。記録光としては、可視域のレーザ光、通常６００ｎ
ｍ〜７００ｎｍ（好ましくは６２０〜６８０ｎｍ、更に
好ましくは、６３０〜６６０ｎｍ）の範囲の発振波長を
有する半導体レーザービームが用いられる。また記録光
は、ＮＡが０．５５〜０．７の光学系を通して集光され
ることが好ましい。

【００３９】上記のように記録された情報の再生は、光
情報記録媒体を所定の定線速度で回転させながら記録時
と同じ波長を持つ半導体レーザ光を基板側から照射し
て、その反射光を検出することにより行うことができ
る。本発明の光情報記録媒体は、通常のＣＤフォーマッ
トの場合の１倍速はもとより、それ以上の高速での記録
再生も可能である。

【００４０】また、本発明の光情報記録媒体は、その反
射層の記録レーザ波長での消衰係数ｋが４以上であれ
ば、金や銀に限られず、これらの貴金属に比べて安価な
材料を反射層材料として選択することができるため、原
材料のコストを低く抑えることができる。

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を記載す
る。

【００４１】［実施例１］射出成形により表面にスパイ
ラルプレグルーブを形成したポリカーボネート基板（厚
さ：０．６ｍｍ、外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、
帝人（株）製、商品名「パンライトＡＤ５５０３」）を
作製した。プレグルーブの溝深さ、溝幅、溝ピッチ、溝
傾斜部の幅は、以下の通りである。溝深さ、溝幅、溝ピ
ッチ、溝傾斜部の幅の測定は原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）
で行った。溝深さ：１５０ｎｍ溝幅：３００ｎｍ溝ピッチ：７４０ｎｍ溝傾斜部の幅：１２０ｎｍ（片側６０ｎｍ）

【００４２】下記シアニン色素１ｇを、２，２，３，３
−テトラフルオロ−１−プロパノール１００ｍｌに溶解
し、この光吸収層形成用塗布液を、得られた基板のプレ
グルーブ面に、回転数を３００〜３０００ｒｐｍまで変
化させながらスピンコート法により塗布し、乾燥して光
吸収層を形成した。光吸収層の厚さは、光吸収層の断面
を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察して計測した
ところプレグルーブ内では１３０ｎｍ、ランド部では８
０ｎｍであった。

【００４３】

【化１】

【００４４】次いで、アルゴン雰囲気中での、ＤＣスパ
ッタリングにより、光吸収層上に厚さ約１００ｎｍのＡ
ｌからなる反射層を形成した。反射層の６３５ｎｍのレ
ーザ光に対する消衰係数は５．３であった。

【００４５】更に、反射層上に、ＵＶ硬化性樹脂（商品
名「ＳＤ−３１８」、大日本インキ化学工業（株）製）
を回転数を３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍまで変化させ
ながらスピンコートにより塗布した。塗布後、その上か
ら高圧水銀灯により紫外線を照射して、硬化させ、層厚
８μｍの保護層を形成した。表面硬度は鉛筆の引っかき
硬度で２Ｈであった。このようにして基板上に、光吸収
層、反射層及び保護層が順に設けられた積層体を得た。

【００４６】別に、保護層のみ形成したポリカーボネー
ト製の円盤状保護基板（直径：１２０ｍｍ、厚さ：０．
６ｍｍ）を用意した。上記で得た積層体と保護層のみ形
成した基板とを、基板側が内側となるように重ね合わ
せ、貼り合わせ層の厚さが１７μｍとなるように、ソニ
ーケミカル社製の遅効型接着剤（カチオン硬化型エポキ
シ樹脂）「ＳＫ７０００」を用いて貼り合わせた。以上
の工程により、本発明に従うＤＶＤ−Ｒ型の光ディスク
を製造した。

【００４７】［実施例２］実施例１において、反射層の
金属をＡｌからＡｌ／Ｔａ（９：１）に変えた以外は、
実施例１と同様にして本発明に従うＤＶＤ−Ｒ型の光デ
ィスクを得た。反射層の６３５ｎｍのレーザ光に対する
消衰係数は４．９であった。

【００４８】［実施例３］実施例１において、反射層の
金属をＡｌからＲｈに変えた以外は、実施例１と同様に
して本発明に従うＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクを得た。反
射層の６３５ｎｍのレーザ光に対する消衰係数は５．０
であった。

【００４９】［実施例４］実施例１において、基板に設
けるプレグルーブの溝幅を２４０ｎｍ、溝ピッチを５８
０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして本発明に従
うＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクを得た。

【００５０】［実施例５］実施例１において、反射層の
厚さを２００ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして
本発明に従うＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクを得た。反射層
の６３５ｎｍのレーザ光に対する消衰係数は５．３であ
った。

【００５１】［実施例６］実施例１において、反射層の
厚さを５０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして本
発明に従うＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクを得た。反射層の
６３５ｎｍのレーザ光に対する消衰係数は５．３であっ
た。

【００５２】［比較例１］実施例１において、反射層の
金属をＡｌからＡｕに変えた以外は、実施例１と同様に
して比較用のＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクを得た。反射層
の６３５ｎｍのレーザ光に対する消衰係数は３．１であ
った。

【００５３】［比較例２］実施例１において、反射層の
金属をＡｌからＡｇに変えた以外は、実施例１と同様に
して比較用のＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクを得た。反射層
の６３５ｎｍのレーザ光に対する消衰係数は３．５であ
った。

【００５４】［比較例３］実施例１において、基板に設
けるプレグルーブの溝幅を５００ｎｍ、溝ピッチを７４
０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして比較用のＤ
ＶＤ−Ｒ型の光ディスクを得た。

【００５５】［比較例４］実施例１において、基板に設
けるプレグルーブの溝幅を５００ｎｍ、溝ピッチを１６
００ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして比較用の
ＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクを得た。

【００５６】［比較例５］実施例１において、基板に設
けるプレグルーブの溝傾斜部の幅を２００ｎｍ（片側１
００ｎｍ）とした以外は、実施例１と同様にして比較用
のＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクを得た。

【００５７】［光ディスクとしての評価］上記実施例及
び比較例のＤＶＤ−Ｒ型の光ディスクに、ＤＤＵ１００
０（パルステック社製）評価機を用いてレーザ光の波長
６３５ｎｍ（ＮＡ０．６にピックアップ）、定線速度
３．８ｍ／ｓ、変調周波数０．９３５ＭＨｚの信号を記
録パワー９ｍＷで記録した。記録後の光ディスクについ
て、ヒューレット・パッカード社のモジュレーションド
メインアナライザ「５３３１０Ａ」を用いて、３Ｔピッ
トジッターを測定した。３Ｔピットジッターの値が小さ
い程、ピットのバラツキが少ないことを意味する。得ら
れた結果を表１に示す。

【００５８】

【表１】

【００５９】表１の結果から、本発明に従うＤＶＤ−Ｒ
型の光ディスク（実施例１〜６）の場合には、３Ｔピッ
トジッターの値が小さく、安定した記録再生特性が得ら
れることがわかる。一方、比較用のＤＶＤ−Ｒ型の光デ
ィスク（比較例１〜５）の場合には、３Ｔピットジッタ
ーの値がいずれも１１以上と大きく、従ってデジタル信
号の読み誤りが生じ易くなるなど、満足した記録再生特
性が得られないことがわかる。

【００６０】

【発明の効果】本発明によれば、より高精度で記録可能
な高密度光情報記録媒体が提供される。また、安価な材
料を使用して製造することができる高性能な高密度光情
報記録媒体が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】プレグルーブの形状を表す概略断面図であ
る。

【図２】本発明の光情報記録媒体の層構成を示す概略
断面図である。

【図３】本発明の光情報記録媒体の他の層構成を示す
概略断面図である。

【符号の説明】

Ｄ溝深さＷ溝幅１，１１第１基板２，１２第１光吸収層３，１３第１反射層４，１４接着層５，１６第２反射層６，１５第２光吸収層７，１７第２基板１８保護層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、有機色素を含有する光吸収層
と、反射層とを有する光情報記録媒体において、該基板に、溝幅が４５０ｎｍ以下であり、かつ、溝傾斜
部幅が１８０ｎｍ以下であるプレグルーブが形成されて
なり、該反射層の記録レーザ波長での消衰係数ｋが４以
上であることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】前記反射層の主成分がアルミニウムであ
ることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】前記プレグルーブの溝深さが５０〜３０
０ｎｍであることを特徴とする請求項１または２に記載
の光情報記録媒体。
【請求項４】前記反射層の厚さが１０〜３５０ｎｍで
あることを特徴とする請求項１から３までのいずれか１
項に記載の光情報記録媒体。