JPH04111241A - 情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、レーザ光による情報の記録及び／又は再生が
可能な情報記録媒体、及びその製造方法に関するもので
ある。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビーム
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。

この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・ディ
スク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリ
ーとして使用され得るものである。これらの情報記録媒
体のうちで、音楽等のオーディオ再生用としてコンパク
トディスク（ＣＤ）が広く実用化されている。コンパク
トディスクは、製造時に基板上に形成されたピット列か
らなる情報を再生するためにのみ使用される。すなわち
、コンパクトディスクは、適当なプラスチック材料を成
形してスパイラル状にピットを形成し、そしてその表面
に反射層として金属層を形成することにより製造される
。このように、コンパクトディスクは再生専用の記録媒
体である。

コンパクトディスクの情報の読み取りは、ディスクを回
転させながらレーザビームを照射することにより行なわ
れる。情報はディスク上のピットの有無による反射光量
の変化を検知して再生される。再生のみのコンパクトデ
ィスクは、ＣＤ規格に基づいて、ＣＤを１．２〜ｆ、４
ｍ／秒の定線速度で回転させながら読み取る（再生する
）ように作られており、信号面内径４６ｍｍおよび信号
面外径１１６ｍｍの範囲内で、トラックピッチ１．６μ
ｍにて最大約７４分の記録時間を有することが要求され
ている。

前述のように、オーディオ用ＣＤは現在広く使用されて
いる。従って、オーディオ用ＣＤの再生に用いられる市
販のＣＤプレーヤも広く一般に使用されているので、大
量生産による価格の低下および性能の向上が実現してい
る。

また、情報の書き込み（記録）が可能なりＲＡＷ　（Ｄ
ｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　Ａｆｔｅｒ　Ｗｒｉｔｅ　）型
の情報記録媒体についても開発され一部実用化されてい
る。このようなりＲＡＷ型の情報記録媒体（光ディスク
）は、基本構造として、プラスチック、ガラス等からな
る円盤状の透明基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ
、Ｉ　ｎ、Ｔｅ等の金属または半金属からなる記録層又
は色素からなる記録層とを有する。光ディスクへの情報
の記録は、例えば、レーザビームを光ディスクに照射す
ることにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を吸
収して局所的に温度上昇する結果、ピット形成等の物理
的変化あるいは相変化等の化学的変化を生じてその光学
的特性を変えることにより情報が記録される。光ディス
クからの情報の読み取り（再生）もまた、レーザビーム
を光ディスクに照射することなどにより行なわれ、記録
層の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検
出することにより情報が再生される。

上記光ディスクへの情報の記録及び再生のためのレーザ
ビームの照射は、通常ディスク表面の所定の位置に行わ
れる。レーザビームを案内して照射予定位置に正確にだ
どる（一般にトラッキングと呼ばれる）ようにするため
、凹溝のトラッキングガイド（プリグルーブ）が基板の
表面に設けられることが一般的である。

ところで、色素を含む記録層は、一般にプリグルーブが
形成された基板上に色素を含む溶液を塗布し乾燥するこ
とによって形成されているが、その場合、グルーブ底部
の色素記録層膜厚はランド部の色素記録層膜厚よりも厚
くなる。そのため、基板のプリグルーブ溝の形状を反映
して形成された色素記録層の表面の溝の深さは、基板の
プリグルーブ溝の深さよりも浅くなり、記録層に情報を
記録してプリグルーブに記録ピットを形成させたとき、
色素記録層の表面の溝の上部（基板のランド部を反映し
た部分）と溝の底部との位相差が小さくなるために、記
録ピットの変調度が小さくなるという問題点がある。

そのために、基板のプリグルーブの深さを大きくして色
素記録層の表面に形成される溝の深さを相対的に深くす
ることによって記録ピットの変調度を大きくすることが
考えられるが、その場合は般に反射率が低下する傾向に
あり、一般のＣＤプレーヤを用いて再生するために反射
率が不十分になる恐れがある。

基板のグルーブ底部の色素記録層膜厚とランド部の色素
記録層膜厚とがほぼ同じになると、基板のプリグルーブ
の深さを小さくすることができ、これらの問題点を同時
に解決した変調度及び反射率が共に大きい情報記録媒体
になる。

また、基板上に予めピットが形成されたＲＯＭ領域と、
レーザ光の照射によりデータ再生用のピットが形成され
る記録可能領域とを有する情報記録媒体が提案されてい
る（特開平２−４２６５２号公報参照）。この情報記録
媒体においては、色素からなるレーザ吸収層が記録可能
領域にのみ設けられ、プリピットが形成されたＲＯＭ領
域には色素からなるレーザ吸収層は設けられていない。

その理由は、プリピットが形成された領域に色素からな
るレーザ吸収層を設けると、プレピット信号の変調度が
小さくなりＲＯＭ領域の情報を実用的に再生することが
できなくなるためである。

即ち、色素からなるレーザ吸収層は一般に色素の溶液を
塗布し乾燥することによって形成されるものであり、プ
リピット形成領域に色素溶液を塗布すると、前記のプリ
グルーブ形成領域への色素溶液の塗布の場合と同様に、
ピット部（穴部）のレーザ吸収層の膜厚がピット間部（
ピットとピットとの間の部分で、前記ランド部に相当す
る）のレーザ吸収層の膜厚よりも大きくなり、そのため
に、基板のピット部の形状を反映して形成されたレーザ
吸収層の表面の穴の深さは、基板のピットの深さよりも
浅くなり、ピット部とピット間部との位相差が小さくな
るために、プリピットの変調度が小さくなるのである。

しかしながら、特開平２−４２６５２号公報に記載され
ているような、プリピット部（ＲＯＭ領域）に色素層を
設けず、記録可能領域にのみ色素層を設けた情報記録媒
体においては、色素層が設けられた部分と色素層が設け
られていない部分との境界部において、境界を再現性よ
く形成することが困難であるとか、色素層のエツジ部で
膜厚が不均一になり易いとかの問題があり、円環状の色
素層の偏心が生じ易いなどの問題がある。更に、実際上
、ＲＯＭ領域とその外周側の記録可能領域との二つの領
域に分かれた情報記録媒体しか製造することができず、
ＲＯＭ領域の内周側にも追加して記録可能領域を設けた
り、ＲＯＭ領域と記録可能領域を混在させて設けたりす
ることが極めて困難であり、ＲＯＭ領域へ予め記録して
おくアプリケーションソフトやその利用方法などが制限
され、実用上不便であるという問題点もある。

基板のプリピット部の色素層膜厚とピット間部の色素層
膜厚とがほぼ同じになると、プリピットの位相差が大き
くなり従ってプリピットの変調度の大きい情報記録媒体
になる。

プリピット部に色素からなるレーザ光吸収層を形成して
もプリピットの変調度が大きいと、プリピット形成領域
（ＲＯＭ領域）及びプリグルーブ形成領域（記録可能領
域）の両方に、色素を含む光吸収層を形成することが可
能になり、上記のような問題点が解消される。

本発明者らは、上記のように、基板のグルーブ底部の色
素層膜厚とランド部の色素層膜厚とがほぼ同じであるか
、プリピットが更に設けられている場合はプリピット部
の色素層膜厚とピット間部の色素層膜厚とがほぼ同じで
ある色素層の上に、エンハンス層を設けると、反射率が
増大し、感度及び変調度が向上することを見出した。

従来、例えば、特開平２−８７３４２号公報には、色素
からなる光吸収層の上にエンハンス層を設けた光情報記
録媒体が開示されているが、この光情報記録媒体におい
ては色素からなる光吸収層の膜厚は、従来公知の方法で
形成されているので、前記のように基板のグルーブ底部
の色素層膜厚がランド部の色素層膜厚よりも厚いために
、反射率は増大したとしても変調度が小さく十分満足で
きないものであった。

［発明の目的］ 本発明は、レーザ光を照射して情報を記録した後、反射
率、変調度及び感度が高＜ＣＤ規格を満足する再生信号
を得ることができ、トラッキング特性が良好な情報記録
媒体を提供することを目的とする。

また、本発明は、プリピットが形成された領域にも色素
を含む光吸収層か形成されており、しかもプリピットが
形成された領域からＣＤ規格を満足する再生信号を得る
ことができる情報記録媒体を提供することを目的とする
。

更に、本発明は、上記のような優れた特長を有する情報
記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。

［発明の要旨コ 本発明は、プリグルーブか形成された円盤状の基板−４
二に、レーザ光を照射して再生用のピットを形成するこ
とにより情報の記録が可能な色素を含む光吸収層か設け
らね、該光吸収層上にエンハンス層が設けられ、更に該
エンハンス層上に金属からなる反射層が設けられてなる
情報記録媒体であって、グルーブ底部の光吸収層の光学
的膜Ｆとラント部の光吸収層の光学的膜厚との差かλ／
８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であること
を特徴とする情報記録媒体である。

また、本発明は、プリピット及びプリグルーブか形成さ
れた円盤状の基板−トに、レーザ光を照射して再生用の
ピットを形成することにより情報の記録が可能な色素を
含む光吸収層が設けられ、註光吸収層上にエンハンス層
が設けられ、更に該エンハンス層上に金属からなる反射
層が設けられてなる情報記録媒体でありで、ピット部の
光吸収層の光学的膜厚とピット間部の光吸収層の光学的
膜厚との差がλ／８（但し、λは再生用レーザ光の波長
）以下であり、グルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚と
ランド部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／８（但し
、λは再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴と
する情報記録媒体である。

また、本発明は、プリグルーブ又はプリピット及びプリ
グルーブが形成された円盤状の基板上に、色素を溶剤に
溶解して調製した色素溶液であって、該色素溶液の塗布
温度において該色素溶液から該溶剤を蒸発させることに
より色素の析出が始まったときの色素懸濁溶液の体積の
、該色素溶液の元の体積に対する比率として定義される
濃縮限界が９９〜２０％である色素溶液を、スピンコー
ト法により塗布し乾燥することによって、グルーブ底部
の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚との差がλ／８（
但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であり、プリピ
ットが形成された基板の場合にはピット部の光学的膜厚
とピット間部の光学的膜厚との差がλ／８（但し、入は
再生用レーザ光の波長）以下である、レーザ光を照射し
て再ど［用のピットを形成することにより情報の記録が
可能な光吸収層を、該基板のプリグルーブ又はプリピッ
ト及びプリグルーブが形成された面上に形成し、次いで
、該光吸収層上にエンハンス層を設け、更に該エンハン
ス層上に金属°からなる反射層を設けることを特徴とす
る情報記録媒体の製造方法である。

−Ｆ記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通
りである。

１）上記グルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚とランド
部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／１６（但し、λ
は再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴とする
上記情報記録媒体。

２）上記ピット部の光吸収層の光学的ｇＮとピット間部
の光吸収層の光学的膜厚との差かλ／１６（但し、入は
再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴とする上
記情報記録媒体。

３）上記光吸収層の、上記ランド部及び上記ピット間部
の膜厚が、４０〜４００ｎｍであることを特徴とする上
記情報記録媒体。

４）上記エンハンス層が、６０〜４００℃、好ましくは
１００〜３００℃、更に好ましくは１００〜２５０℃の
範囲内のガラス転移温度、６０〜５００℃、好ましくは
１００〜４００℃、更に好ましくは１００〜３５０℃の
範囲内の融点、８０〜６００℃、好ましくは１２０〜５
００℃、更に好ましくは１２０〜４５０℃の範囲内の沸
点又は分解点、及び、１．１〜１．８、好ましくは１゜
２〜１．７、更に好ましくは１．３〜１．６の範囲内の
再生用レーザ光の波長での屈折率を有する物質からなる
ことを特徴とする上記情報記録媒体。

５）上記エンハンス層が、ポリブタジェン、シリコン系
樹脂又はフッ素系樹脂を含む層であることを特徴とする
上記情報記録媒体。

６）上記エンハンス層の、上記グルーブ底部及び上記ピ
ット部の膜厚が、５０〜６００ｎｍであることを特徴と
する上記情報記録媒体。

７）上記エンハンス層の、上記ランド部及び上記ピット
間部の膜厚が、５０〜６００ｎｍであることを特徴とす
る上記情報記録媒体。

８）上記プリグルーブが０．２〜１．４μｍの半値幅と
、５〜７０ｎｍの深さを有することを特徴とする上記情
報記録媒体。

９）上記プリピットが０．２〜１．４μｍの半値幅と、
６０〜３００ｎｍの深さを有することを特徴とする上記
情報記録媒体。

１０）上記プリグルーブの深さが、上記プリピットの深
さよりも、光路長で表わしてλ／１６以上短いことを特
徴とする上記情報記録媒体。

１１）ミラ一部の反射率に対するグルーブ底部の反射率
の比率が、７０％以上であることを特徴とする上記情報
記録媒体。

１２）上記反射層の上に、更に保護層が形成されている
ことを特徴とする上記情報記録媒体。

上記本発明の情報記録媒体の製造方法の好ましい態様は
以下の通りである。

１）上記グルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚とランド
部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／１６（但し、λ
は再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴とする
上記情報記録媒体の製造方法。

２）上記ピット部の光吸収層の光学的膜厚とピット間部
の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／１６（但し、λは
再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴とする上
記情報記録媒体の製造方法。

３）上記光吸収層の、上記ランド部及び上記ピット間部
の膜厚が、４０〜４００ｎｍであることを特徴とする上
記情報記録媒体の製造方法。

４）上記エンハンス層が、６０〜４００℃、好ましくは
１００〜３００℃、更に好ましくは１００〜２５０℃の
範囲内のガラス転移温度、６０〜５００℃、好ましくは
１００〜４００℃、更に好ましくは１００〜３５０℃の
範囲内の融点、８０〜６００℃、好ましくは１２０〜５
００℃、更に好ましくは１２０〜４５０℃の範囲内の沸
点又は分解点、及び、１．１〜１．８、好ましくは１゜
２〜１．７、更に好ましくは１．３〜１．６の範囲内の
再生用レーザ光の波長での屈折率を有する物質からなる
ことを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

５）上記エンハンス層が、ポリブタジェン、シリコン系
樹脂又はフッ素系樹脂を含む層であることを特徴とする
上記情報記録媒体の製造方法。

６）上記エンハンス層の、上記グルーブ底部及び上記ピ
ット部の膜厚が、５０〜６００ｎｍであることを特徴と
する上記情報記録媒体の製造方法。

７）上記エンハンス層の、上記ランド部及び上記ピット
間部の膜厚が、５０〜６００ｎｍであることを特徴とす
る上記情報記録媒体の製造方法。

８）上記プリグルーブが０．２〜１．４μｍの半値幅と
、５〜７０ｎｍの深さを有することを特徴とする上記情
報記録媒体の製造方法。

９）上記プリピットが０．２〜１．４μｍの半値幅と、
６０〜３００ｎｍの深さを有することを特徴とする上記
情報記録媒体の製造方法。

１０）上記プリグルーブの深さが、上記ブリピットの深
さよりも、光路長で表わしてλ／１６以上短いことを特
徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

１１）上記色素溶液の濃縮限界が、９０〜５０％である
ことを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

１２）上記溶剤が単一の溶剤であることを特徴とする上
記情報記録媒体の製造方法。

１３）上記溶剤が、使用する色素の良溶剤（好ましくは
、色素溶液の塗布温度において使用する色素を２重量％
以上溶解し得る溶剤）と、該良溶剤と相溶性である使用
する色素の貧溶剤（好ましくは、色素溶液の塗布温度に
おいて使用する色素を２重量％以上溶解しない溶剤）と
の混合物であることを特徴とする上記情報記録媒体の製
造方法。

１４）上記色素溶液中の上記色素の濃度が０゜５〜１５
重量％であることを特徴とする上記情報記録媒体の製造
方法。

１５）上記色素溶液を、０〜１００℃の温度て、３００
〜１０．０００ｒ、ｐ、ｍ、の上記基板の回転数で塗布
することを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

１６　）　−Ｆ記エンハンス層を塗布により形成するこ
とを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

１７）ミラ一部の反射率に対するプリグルーブ部の反射
率の比率か、７０％以上である情報記録媒体を製造する
ことを特徴とする−［記情報記録媒体の製造方法。

１８）上記反射層の上に、更に保護層を形成させること
を特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

［発明の効果］ 本発明の情報記録媒体は、色素を含む光吸収層の光学的
膜厚が、グルーブ底部とランド部とで差が少ないので、
プリグルーブの深さを浅くしても光吸収層の表面の溝の
深さが十分大きく、レーザ光を照射して情報を記録した
後、反射率、変調度及び感度が共に高（ＣＤ規格を満足
する再生信号を得ることができ、トラッキング特性が良
好であるという顕著に優れた情報記録媒体である。

また、本発明の情報記録媒体は、プリピットが形成され
た領域にも色素を含む光吸収層が形成されており、しか
もプリピットが形成された領域からＣＤ規格を満足する
再生信号を得ることができるので、上記光吸収層の膜厚
を情報記録媒体の全面に亙って均一にすることができ、
プリピットが形成されたＲＯＭ領域と、プリグルーブが
形成された記録可能領域とを、例えば両像域を混在させ
るなど任意の場所に設けることが可能であり、アプリケ
ーションソフトの種類や利用方法に制限がなく広範囲の
用途に使用できるという顕著に優れた情報記録媒体であ
る。

更に、本発明の情報記録媒体の製造方法は、溶剤の種類
及び色素の濃度を制御して調製した特定の性質を有する
光吸収層形成用塗布液を使用する他は従来採用されてい
る手段を使用して、上記のような優れた特長を有する情
報記録媒体を容易に製造することができるという顕著に
優れた効果を奏する情報記録媒体の製造方法である。

［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、プリグルーブ又はプレピット
とプリグルーブとを有する基板上に、色素を含む光吸収
層、エンハンス層及び金属からなる反射層がこの順で設
けられた基本構成を有する。

本発明における円盤状の基板の材料としては、従来の情
報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から
任意に選択することができる。基板の光学的特性、平面
性、加工性、取扱い性、経時安定性および製造コストな
どの点から、基板材料の例としては、ガラス、ポリメチ
ルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、
塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂：エポキシ樹
脂；ポリカーボネート樹脂；アモルファスポリオレフィ
ンおよびポリエステルを挙げることができる。好ましく
は、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ガラスおよび
ポリメチルメタクリレートを挙げることができる。

光吸収層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善
、接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の
変質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗
層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、エポキシ樹脂等の高分子物質；シランカップリン
グ剤、チタネート系カップリング剤などの有機物質；お
よび無機誘電体（Ｓｉｎ２．ＺｎＳ、ＡＩＮ、５１３Ｎ
４等）、無機フッ化物（ＭｇＦ２）などの無機物質を挙
げることができる。

下塗層は、例えば上記物質を適当な溶剤に溶解または分
散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコー
ト、デイツプコート、エクストルージョンコートなどの
塗布法により基板表面に塗布することにより形成するこ
とができる。下塗層の層厚は一般にｏ、ｏｏｓ〜２０μ
ｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲
である。

本発明においては、上記基板表面（または下塗層表面）
に、記録又は再生時のトラッキングを良好に行なうため
に、プリグルーブ（トラッキング用溝）が形成されてい
る。プリグルーブの形状は、グルーブの深さ（添付する
第１図のｄ＋）が５〜７０ｎｍの範囲にあり且つグルー
ブの半値幅（グルーブの深さの１／２の深さにおけるグ
ルーブの幅）が０，２〜１．４μｍであるものが好まし
く、グルーブの深さが１５〜６０ｎｍの範囲にあり且つ
グルーブの半値幅が０．３〜０．７μｍであるものが更
に好ましく、グルーブの深さが２０〜５０ｎｍの範囲に
あり且つグルーブの半値幅が０．３５〜０．６μｍであ
るものが最も好ましい。アドレッシング、或は線速制御
用にグルーブをウオブリングさせても良い。

本発明においては、更に、上記基板表面（または下塗層
表面）に、種々のアプリケーションソフト、アドレス信
号などの情報を予め記録したプリピット（ＲＯＭ領域）
が形成されていてもよい。

プリピットの形状は、ピットの深さ（添付する第２図の
ｄ２）が６０〜３００ｎｍの範囲にあり且つピットの半
値幅（ピットの深さの１／２の深さにおけるピットの幅
）が０．２〜１．４μｍであるものが好ましく、ピット
の深さが７０〜２５０ｎｍの範囲にあり且つピットの半
値幅が０．３〜１．０μｍであるものが更に好ましく、
ピットの深さが９０〜２００ｎｍの範囲にあり且つピッ
トの半値幅が０．４〜０．７μｍであるものが最も好ま
しい。

また、プリピットが形成される場合、プリグルーブの深
さは、プリピットの深さよりも光路長で表わしてλ／１
６（但し、λは再生用レーザ光の波長であって、以下の
記載において同じである）以上短いことが好ましく、λ
／１４以上短いことが更に好ましく、１７１２以上短い
ことが特に好ましい。その理由は、プリグルーブの深さ
を、変調度が十分大きくなるプリピットの深さと同じよ
うに大きくすると、プリグルーブの反射率が低くなり過
ぎるからである。

基板材料がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押
出成形などにより基板表面に上記プリグルーブ又はプリ
グルーブとプリピットとを直接設けてもよい。また、基
板の表面上に、上記プリグルーブ又はプリグルーブとプ
リピットとを形成するためのプリグルーブ層を設けても
よい。

プリグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエス
テル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエステル
のうちの少なくとも一種のモノマー（またはオリゴマー
）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。

プリグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンパ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。

次いで、基板を母型から剥離することによりプリグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プリグルーブ層の層
厚は一般に０．１〜１００μｍの範囲にあり、好ましく
は０．１〜５０μｍの範囲である。

プリグルーブ又はプリピットを形成した基板（またはプ
リグルーブ層）上に、前記下塗層を形成する材料と同様
の材料を使用して、光吸収層を形成するための塗布液中
の溶剤から保護するための耐溶剤層を設けてもよい。

基板（または下塗層）上には、色素を含む光吸収層が設
けられている。基板側からレーザ光を照射して光吸収層
に再生用のピットを形成することにより、光吸収層に情
報を記録する。従って、基板のプリグルーブが形成され
た領域の光吸収層は、記録層として機能する。

本発明に使用される色素は特に限定されるものではなく
、どのようなものでも良い。例えば、シアニン系色素、
フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ピリ
リウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系
色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなとの金属錯
塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素
、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、ト
リフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、ア
ミニウム系色素、シインモニウム系色素、ニトロソ系色
素、ロイコ系色素、クロコニウム系色素、等々の色素を
挙げることかできる。

これらの色素は、ライト・ワンス（ＷＯ）型に限らず、
リライタブル（ＲＷ）型（又は可逆型）のものであって
もよい。

これらの色素のうちでも記録再生用レーザーとして近赤
外光を発振する半導体レーザーの利用か実用化されてい
る点から、７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対す
る吸収率が高い色素か好ましい。

特に、シアニン系色素、アズレニウム系色素及びスクワ
リリウム系色素が好ましく、シアニン系色素の中でも、
ナフトインドレニン系色素及びイミダゾキノキサリン系
色素が好ましい。

これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合物とし
て用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる場合に
、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系色素又はジイ
ンモニウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いるこ
とが好ましい。その場合、クエンチャ−として金属錯塩
系色素などを全色素１モルに対して０．００１〜０，３
モルの割合で含むことが好ましい。

本発明の情報記録媒体においては、光吸収層のグルーブ
底部の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚との差が、λ
／８以下であることを特徴とする。また、本発明の情報
記録媒体が基板上に更にプリピットを有する場合には、
光吸収層のピット部の光学的膜厚とピット間部の光学的
膜厚との差が、λ／８以下であることを特徴とする。

本発明の情報記録媒体における光吸収層の光学的膜厚に
ついて、添付する図面を参照して詳細に説明する。

第１図は、本発明の情報記録媒体の一実施例の、プリグ
ルーブ領域における断面の一部を模式的に示す断面図で
ある。第２図は、本発明の情報記録媒体の一実施例の、
プリピット領域における断面の一部を模式的に示す断面
図である。第３図は、従来公知の情報記録媒体の、プリ
グルーブ領域における断面の一部を模式的に示す断面図
である。

第３図において、プラスチックからなる基板３１の表面
に色素からなる光吸収層３２が形成され、光吸収層３２
の上に金属からなる反射層３３か形成されている。基板
３１には、プリグルーブ３４が形成されている。光吸収
層３２は色素をその溶剤に溶解して調製した光吸収層形
成用溶液をスピンコート法により塗布し乾燥することに
よって形成さおだものである。プリグルーブ３４のグル
ーブ底部３６の光吸収層３２の膜厚ｔ６は、基板３１の
ランド部３５の光吸収層３２の膜厚ｔ５よりも大きくな
っている。その結果、光吸収層３２の反射層３３との接
触面における溝形状の深さがグルーブ３４の深さｄ３よ
りも小さくなり、情報を記録するためにレーザ光を照射
してプリグルーブ３４に記録ピットを形成したとき、光
吸収層３２の溝の上部（基板のランド部に対応する部分
）と底部との位相差が小さくなるために、記録ピットの
変調度が小さくなるという問題があった。この問題を解
消するために、グルーブの深さを大きくしている。しか
し、グルーブの深さを大きくし過ぎるとグルーブ部の反
射率が低下するという問題が生じる。

第１図において、プラスチックからなる基板１１の表面
に色素からなる光吸収層１２が形成され、光吸収層１２
の上にエンハンス層１７が形成され、エンハンス層１７
の上に金属からなる反射層１３が形成されている。基板
１１には、プリグルーブ１４が形成されている。光吸収
層１２は色素を溶剤に溶解して調製した前記のように特
定の性状を有する光吸収層形成用溶液を、スピンコート
法により塗布し乾燥することによって形成されたもので
ある。プリグルーブ１４のグルーブ底部１６の光吸収層
１２の光学的膜厚（ｎｒ”ｔ２）（但し、ｎ、は光吸収
層の屈折率であり、ｔ２はクループ底部１６の光吸収層
１２の膜厚である）と、基板１１のランド部１５の光吸
収層１２の光学的膜厚（ｎ、−ｔｌ　）（但し、ｎ、は
光吸収層の屈折率であり、１．はランド部１５の光吸収
層１２の膜厚である）との差は、λ／８以下であるよう
に形成されている。その結果、光吸収層１２のエンハン
ス層１フとの接触面にあける溝形状の深さはグルーブ１
４の深さｄ、と同じか又は光学的膜厚でλ／８以下はど
小さくなっており、光吸収層１２のグルーブ部とランド
部とで位相差が大きく記録ピットの変調度が大きいもの
である。更にｎｒ−ｔｌとｎ、・ｔ２との差を上記のよ
うにすることにより、グルーブ１４の深さｄｌを小さく
することが可能となりグルーブ部の反射率が大きくなる
。

」二記のｎｒ−ｔ、とｎｒ”ｊ２との差は、λ／１１以
下であることが好ましく、λ／１３以下であることが更
に好ましく、λ／１６以下であることがより一層好まし
い。

第２図において、プラスチックからなる基板２１の表面
に色素からなる光吸収層２２が形成され、光吸収層２２
の上に金属からなる反射層２３が形成されている。基板
２１には、プリピット２４が形成されている。光吸収層
２２は色素を溶剤に溶解して調製した前記のように特定
の性状を有する光吸収層形成用溶液を、・スピンコート
法により塗布し乾燥することによって形成されたもので
ある。プリピット２４０ピツト部２６の光吸収層２２の
光学的膜厚（ｎｒ−ｔ４）（但し、ｎｒは光吸収層の屈
折率であり、ｔ４はピット部２６の光吸収層２２の膜厚
である）と、基板２１のピット間部２５の光吸収層２２
の光学的膜厚（ｎ　ｒｔ３）（但し、ｎｒは光吸収層の
屈折率であり、ｔ３はピット間部２５の光吸収層２２の
膜厚である）との差は、λ／８以下であるように形成さ
れている。その結果、光吸収層２２の反射層２３との接
触面における穴形状の深さはピット２４の深さｄ２と同
じか又は光学的膜厚でλ／８以下はど小さくなっており
、光吸収層２２のピット部とピット間部とで位相差が大
きくピットの変調度が大きいものである。その結果、基
板のピット形成領域に光吸収層が形成されていても、基
板のピットを高い変調度で再生することが可能となる。

上記のｎｒ−ｔ３とｎ、−ｔ、との差は、λ／１１以下
であることが好ましく、λ／１３以下であることが更に
好ましく、λ／１６以下であることがより一層好ましい
。

本発明の情報記録媒体は、上記光吸収層の上に更に反射
層が形成されたものであるが、上記のような特定された
関係の光学的膜厚を有する光吸収層の作用効果は、反射
層が形成されていない情報記録媒体においても同様に奏
されるものである。

基板にプリグルーブとプリピットとの両方が形成されて
いる場合は、グルーブの深さｄｌはピット部の深さｄ２
よりも、光路長（ｎ−ｄ：ｎは基板の屈折率で、ｄは深
さ寸法である）で表わしてλ／１６以上、特にλ／１４
以上、更に特にλ／１２以上小以上−とが好ましい。

上記光吸収層の、上記ランド部及び上記ピット間部の膜
厚は、４０〜４００ｎｍ、特に６０〜３００ｎｍ、更に
特に８０〜２５０ｎｍであることが好ましい。

本発明の情報記録媒体における特定の光学的膜厚を有す
る光吸収層、即ち、グルーブ底部の光吸収層の光学的膜
厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／８以
下であり、ピット部の光吸収層の光学的膜厚とピット間
部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／８以下である光
吸収層は、本発明の情報記録媒体の製造方法によフて形
成することができる。

本発明の製造方法において光吸収層の形成は、前記のよ
うな色素を溶剤に溶解して色素溶液を調製し、次いでこ
の色素溶液を基板の表面にスピンコート法により塗布し
て塗膜を形成した後乾燥することにより行なう。

本発明の製造方法において使用される上記の色素溶液は
、特定の性状を有するもの、即ち、濃縮限界が９９〜２
０％である色素溶液である。本明細書において、「濃縮
限界」の用語は、色素溶液の塗布温度において該色素溶
液から該溶剤を蒸発させることにより色素の析出が始ま
ったときの色素懸濁溶液の体積の、該色素溶液の元の体
積に対する比率と意味するものとして定義される。例え
ば、色素を溶剤に溶解した色素溶液を光吸収層を形成す
るための塗布温度に維持して溶剤を蒸発させたとき、溶
剤の蒸発に伴なって千〇体禎が減少し、やがて溶解して
いた色素が析出してくるが、色素の析出が始まりだとき
の色素溶液（厳密には色素懸濁溶液である）の体積が、
元の色素溶液の体積の９０％である色素溶液を、濃縮限
界が９０％の色素溶液という。

従フて、色素溶液の濃縮限界は、色素と溶剤（単一溶剤
又は混合溶剤）との組合せ、溶剤を種以上の溶剤の組合
せとしたときその種類と比率、色素溶液中の色素の濃度
、塗布温度、等々によって変化する。そのために、特定
の濃縮限界を有する色素溶液を特定の色素について一律
に定めることはできないが、上記のような条件を種々変
えて所望の濃縮限界を有する色素溶液を調製することは
、当業者が容易になし得ることである。

本発明の製造方法において使用する色素溶液は、濃縮限
界が９９〜２０％である色素溶液であるが、濃縮限界が
９９〜３０％、特に９５〜４０％、更に特に９０〜５０
％である色素溶液であることが好ましい。色素溶液の濃
縮限界が、上記範囲よりも大きいと光吸収層の膜厚が全
体的に不均一になり、また上記範囲よりも小さいとグル
ーブ底部とランド部との光吸収層の光学的膜厚の差及び
ピット部とピット間部との光吸収層の光学的膜厚の差が
大きくなる。

上記色素溶液を調製するために使用する溶剤は、色素溶
液の濃縮限界を満足するものである限り、単一の溶剤で
あってもよく、二種以上の溶剤の混合溶剤であってもよ
い。上記溶剤が混合溶剤である場合、使用する色素の良
溶剤（好ましくは、色素溶液の塗布温度において使用す
る色素を２重量％以上溶解し得る溶剤）と、使用する色
素の貧溶剤（好ましくは、色素溶液の塗布温度において
使用する色素を２重量％以上溶解しない溶剤）との混合
物であることが好ましい。その際に、該良溶剤と該貧溶
剤とは相溶性であり、上記塗布温度において該貧溶剤の
蒸発速度が該良溶剤の蒸発速度よりも大きくないことが
必要である。

一般に該貧溶剤の混合割合を増大させるほど濃縮限界は
大きくなる。

」二記の溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン
、エチルベンゼンなどのような芳香族炭化水素系溶剤；
ヘキサン、オクタン、ノナン、シクロヘキサンなどのよ
うな脂肪族炭化水素系溶剤：酢酸のような有機酸系溶剤
；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、エチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、セロソルブアセ
テートなどのようなエステル系溶剤；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノンなどのようなケトン系溶剤；ジクロルメタン、１．
２−ジクロルエタン、クロロホルム、メチルクロロホル
ム、トリクレン、四塩化炭素、テトラクロロエチレンな
どのようなハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフ
ラン、エチルエーチル、イソプロピルエーテル、ジオキ
サン、ダイグライムなどのようなエーテル系溶剤；エタ
ノール、ｎ−プロパツール、イソプロパツール、ｎ−ブ
タノール、アミルアルコール、ジアセトンアルコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノブチルエーテル、プロピレングリコール千ツ
メチルエーテル、ベンジルアルコールなどのようなアル
コール系溶剤；ジメチルホルムアミドのようなアミド系
溶剤；２．２．３．３、テトラフロロプロパツールなど
のようなフッ素化アルコール、フッ素置換ケトン、フッ
素置換エステル、フッ素置換アミド、フッ素置換エーテ
ル、フッ素置換芳香族炭化水素、フッ素置換脂肪族炭化
水素などのようなフッ素系溶剤などを挙げることができ
る。

本発明の製造方法において、上記色素溶液が上記限界濃
度を満足するものである限り特に限定されるものではな
いが、その取扱いの便宜上及びスピンコート法により基
板状の全体的に均一な膜厚の光吸収層を形成させるため
に、上記色素溶液中の上記色素の濃度は０．５〜１５重
量％、特に１〜１０重量％、更に特に１．５〜８重量％
であることか好ましい。

上記色素溶液中には、さらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、
可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加し
てもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質：及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ
酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸
メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポ
リビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキシ
樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホル
ムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの
合成有機高分子物質を挙げることができる。

上記色素溶液をスピンコート法により基板上に塗布する
に際しては、それ自体公知の装置及び方法を使用して行
なうことができる。上記色素溶液を、一般に０〜１００
℃、特に５〜８０℃、更に特に１０〜６０℃の温度で塗
布することが好ましい。基板の回転数は、色素溶液を塗
布するときは、一般に１０〜１０００　ｒ、ｐ、ｍ、、
特に１００〜５００　ｒ、ｐ、ｍ、にすることが好まし
く、色素塗膜を乾燥するときは、一般に３００〜１００
００ｒ、ｐ、ｍ、、特に５００〜７０００ｒ、ｐ、ｍ、
、更に特に７００〜４０００　ｒ、ｐ、ｍ、にすること
が好ましい。

本発明の情報記録媒体において上記光吸収層の上には、
エンハンス層が設けられている。このエンハンス層を設
けることにより、前記のように形成された光吸収層が奏
する優れた効果に加えて、情報記録媒体の反射率及び感
度を更に向上させることができる。

上記エンハンス層を形成するための物質は、６０〜４０
０℃、好ましくは１００〜３００℃、更に好ましくは１
００〜２５０℃の範囲内のガラス転移温度、６０〜５０
０℃、好ましくは１００〜４００℃、更に好ましくは１
００〜３５０℃の範囲内の融点、８０〜６００℃、好ま
しくは１２０〜５００℃、更に好ましくは１２０〜４５
０”Ｃの範囲内の沸点又は分解点、１．１〜１．８、好
ましくは１．２〜１．７、更に好ましくは１．３〜１．
６の範囲内の再生用レーザ光の波長での屈折率（ｎ）、
及び０．３以下、好ましくは０．１以下の再生用レーザ
光の波長での消衰係数（ｋ）を有する物質であることが
好ましい。エンハンス層を形成する物質としては上記の
ような特性を有するものであれば、有機物であっても無
機物てあってもよい。エンハンス層は蒸着、スパッタリ
ング等によって形成することも可能であるが、容易に且
つ経済的に形成できることから、上記物質を含む溶液の
塗布、乾燥によってエンハンス層を形成することが好ま
しく、そのためにエンハンス層を形成する物質としては
、塗布によって成膜することができる物質、例えば、ポ
リブタジェン、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂等が好ま
しい。

エンハンス層を塗布によって形成する方法としては、特
に限定されず、エンハンス層形成物質を適当な溶剤に溶
解した溶液を通常の塗布方法、例えばスピンコート法に
より塗布し、次いで乾燥して溶剤を除去して成膜する方
法を採用することがてきる。この際、エンハンス層の膜
厚（寸法膜厚）は、ランド部よりもグルーブ底部の方か
、また、ピット間部よりもピット部の方が厚くなること
もあるが、その場合でもエンハンス層の屈折率か小さい
ので、エンハンス層の光学的膜厚はランド部とグルーブ
底部とで、またピット間部とピット部とて殆ど差はない
。従って、本発明の情報記録媒体においては、エンハン
ス層を設けたことによって光吸収層の特性に悪影響を及
ぼすことかない エンハンス層の膜厚は、グルーブ底部及びピット部のＨ
ＬＪ’Ｊが、５０〜６００ｎｍであり、ランド部及びピ
ット間部の膜厚が、５０〜６００ｎｍであることが好ま
しい。

また、ミラ一部の反射率に対するグルーブ底部の反射率
の比率か、７０％以上、特に８０％以上、更に特に９０
％以上にすることか好ましい。

ミラ一部の反射率に対するクループ底部の反射率の比率
を増大させるためには、グルーブ部の光路長とラント部
の光路長との差を小さくすればよい。

本発明の情報記録媒体のエンハンス層の上には更に反射
層が設けられる。

反射層の材料としては、Ｂｅ、Ｂ、Ｃ，Ｓｃ、Ｒｂ、Ｓ
ｒ、Ａｓ、Ｏｓ、Ｔ１．Ａｔ、Ｆｒ、Ｒａ、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、■、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ
、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ。

Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉ　ｒ、Ｐｔ、
Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ１、Ｇａ、Ｉｎ、
Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓｂなと
の金属及び半金属を挙げることができる。これらの中で
もＣ，Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ａｌ１．Ｎｉ、Ｉｎ及
びステンレス鋼か特に好ましい。これらの物質は単独で
用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合
金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。

特に、スパッタリングによって反射層を成膜することか
好ましい。反射層の層厚は一般には１ｏ。

〜３０００Ｘ、好ましくは４００〜２０００大の範囲に
ある。

反射層として貴金属反射層を設けた場合は、その上に八
１などの金属密着層又は有機物の密着層を設けることが
できる。

この反射層の上に、情報記録媒体全体、特に光吸収層及
び反射層を物理的及び化学的に保護する目的で保護層を
設けてもよい。また、この保護層は、基板の光吸収層が
設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高めるために
設けてもよい。

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、５ｉＯ１Ｓｉ０２　、Ｓｉ３　Ｎ、、ＭｇＦ２．５
ｎｏ２等を挙げることができる。また、有機物質として
は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を
挙げることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂である。

保護層は、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを適
当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液
を塗布し、乾燥することによって形成することかてきる
。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布
し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって保護層を
形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレ
タン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレ
ート、ポリエステル（メタ）アクリレート等の（メタ）
アクリレートのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エス
テル等の千ツマー類等と光重合開始剤等との通常のＵＶ
硬化性樹脂を使用することができる。これらの塗布液中
には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各
種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の材料
としてＵＶ硬化性樹脂を用いることが好ましい。

保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍ、好ましく
は０．５〜２０μｍの範囲にある。

上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押出
加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
上にラミネートすることにより形成することができる。

あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法によ
り設けられてもよい。

本発明の情報記録媒体への情報の記録は、情報記録媒体
を定線速度（好ましくは１．２〜２．８ｍ／秒、特に好
ましくは１．２〜１．４ｍ／秒）にて回転させながら、
基板側から該プレグルーブの底部にレーザー光を照射し
てグルーブ上にある光吸収層に再生用のピットを形成し
て信号を記録することにより行なう。信号としてはＣＤ
フォーマットのＥＦＭ信号を記録することが本発明の効
果を得る上で好ましい。一般に、記録光としては７５０
〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザー
ビームが用いられる。本発明の情報記録媒体では、１０
ｍＷ以下のレーザーパワーで記録することができる。

上記の記録後のピットは、基板及び／又は色素かレーザ
光の照射により発熱し、溶融、蒸発、昇華、変形成るい
は変質することにより、基板−色素間に凸状、波状、凹
状等の変化が起こったり、色素内で変化が起こったり、
色素−金属反射層間で変化が起こったりするなどの形態
のものである。

上記記録方法により、本発明の情報記録媒体にＣＤフォ
ーマット信号などを定線速度で記録を行うことにより、
信号の変調度、再生Ｃ／Ｎなどの優れた記録再生特性を
得ることができ、さらに記録時のトラッキング性、特に
プッシュプル法によるトラッキング性が優れたものとな
る。また本発明の光ディスクは高反射率を有するので、
記録されたＣＤフォーマット信号を市販のＣＤプレーヤ
ーを用いて再生することができる。更にＲＯＭ領域が設
けられた本発明の情報記録媒体の場合は、ＲＯＭ領域に
おいてもＣＤ規格を満足する高い変調度の再生信号を得
ることができる。

以下に１、本発明の実施例及び比較例を記載する。ただ
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１コ はぼ全面にプリグルーブが設けられた円盤状のポリカー
ボネート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：　１５ｍｍ、
厚さ：１．２ｍｍ、トラックピッチ：１．６μｍ１グル
ーブの半値幅：０．５５μｍ、グルーブの深さ；５０ｎ
ｍ）を用意した。

一方、下記構造式： を有する色素（Ａ）を、プロピレングリコール千ノエチ
ルエーテルに溶解して、色素（Ａ）を２゜０重量％含有
する色素溶液を調製した。この色素溶液の２３℃におけ
る限界濃度は６０％であった。

この色素溶液を２°３℃に維持し、２３℃の上記基板上
に上記色素溶液をスピンコート法により基板回転数２０
０　ｒ、ｐ、ｍ、の速度で４秒間塗布した後、回転数１
０００　ｒ、ｐ、ｍ、で３０秒間乾燥して光吸収層を形
成した。

形成された光吸収層の上に、シリコーン樹脂（東し・ダ
ウコーニング社製、商品名ＴＳＩＲＩ０５）をｎ−ヘキ
サンで４倍に希釈した溶液を、スピンコート法により基
板回転数２００　ｒ、ｐ、ｍ、の速度で５秒間塗布した
後、回転数１０００　ｒ、ｐ、ｍ。

で１２０秒間乾燥してグルーブ部の膜厚が約１６０ｎｍ
のエンハンス層を形成した。エンハンス層の屈折率はｎ
＝１．４であった。

形成されたエンハンス層の上に、４８０Ｗ、ターゲット
−基板距１１１９５ｍｍ、ガス圧２Ｐａ、レー）２ｎｍ
／秒の条件下で、ＡｕをＤＣスパッタリングして膜厚が
１１００ｎのＡｕからなる反射層を形成した。

上記反射層上に、保護層としてＵＶ硬化性樹脂（商品名
：　３０７０、スリーポンド社製）をスピンコート法に
より回転数１５００　ｒ、ｐ、ｍ、の速度て塗布した後
、高圧水銀灯にて紫外線を照射して硬化させ、層厚２μ
ｍの保護層を形成した。

このようにして、基板、光吸収層（色素記録層）、エン
ハンス層、反射層及び保護層からなる情報記録媒体を製
造した。

得られた情報記録媒体について、グルーブ底部の光吸収
層の光学的膜厚、ランド部の光吸収層の光学的膜厚、ミ
ラ一部反射率、グルーブ反射率、記録後グルーブ反射率
、及びトラッキングサーボゲインを、下記の評価方法に
より測定した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例２］ 実施例１において、プレグルーブのグルーブの半値幅か
０，４５μｍ、グルーブの深さが３０ｎｍである他は実
施例１て使用した基板と同じ基板を使用し、光吸収層、
エンハンス層、反射層及び保護層を実施例１におけると
同様にして基板上に順次形成して情報記録媒体を製造し
た。

得られた情報記録媒体について実施例１におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例３］ 実施例Ｉにおいて、シリコーン樹脂の溶液の代わりに、
フッ素系樹脂（旭硝子■製、商品名ＣＴＸ８０５）をそ
の溶剤（旭硝子■製、商品名ＣＴ−５ｏｌｖ、１８０）
で４倍に希釈した溶液を使用して同様にしてグルーブ部
の膜厚か約１５００ｍのエンハンス層（屈折率ｎ＝１．
３４）を形成した他は実施例１におけると同様にして、
情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例１におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［比較例１］ 実施例１て使用した基板と同し基板を使用し、色素溶液
を調製するための溶剤としてプロピレングリコール千ノ
エチルエーテルの代わりに２゜２．３．３−テトラフロ
ロプロパツールを使用して調製した、色素（Ａ）を２．
０重量％含有する色素溶液（この色素溶液の２３℃にお
ける限界濃度は２０％未満であった）を使用した他は実
施例１におけると同様にして光吸収層を形成し、次いで
、エンハンス層、反射層及び保護層を実施例１における
と同様にして基板上に順次形成して情報記録媒体を製造
した。

得られた情報記録媒体について実施例１におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［比較例２］ エンハンス層を設けなかった他は実施例１におけると同
様にして情報記録媒体を作成した。

得られた情報記録媒体について実施例１におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

「実施例４］ 直径４６ｍｍ〜８０ｍｍの領域にＥＦＭ信号を記録した
プリピット（ピットの半値幅＝０．６μｍ、ピットの深
さ：１３０ｎｍ）が形成され、直径８０ｎｍ〜１１８ｍ
ｍの領域にプリグルーブ（トラックピッチ：１．６μｍ
、グルーブの半値幅：０．５５μｍ、グルーブの深さ：
５０ｎｍ）か形成された円盤状のポリカーボネート基板
（外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ＝１．２ｍ
ｍ）を用意した。

上記の基板を使用し、光吸収層、エンハンス層、反射層
及び保護層を実施例１におけると同様にして基板上に順
次形成して情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について、プリピット形成領域で
は、ピット部の光吸収層の光学的膜厚、ピット間部の光
吸収層の光学的膜厚、及びＩＩＴ変調度を下記の評価方
法により測定し、プリグルーブ形成領域では、実施例１
におけると同様にして各項目に関して評価した。評価結
果を第１表に記載する。

［実施例５］ 実施例４において、シリコーン樹脂の溶液の代わりに、
フッ素系樹脂（旭硝子■製、商品名ＣＴＸ８０５）をそ
の溶剤（旭硝子■製、商品名ＣＴＳｏｌｖ、１８０）で
４倍に希釈した溶液を使用して同様にしてグルーブ部の
膜厚か約１５０ｎｍのエンハンス層（屈折率ｎ＝ｆ、３
４）を形成した他は実施例４におけると同様にして、情
報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例４にあけると四柱
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例６］ 実施例４で使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
として、下記構造式： を有する色素（Ｂ）を、２，２，３．３−テトラフロロ
プロパツールとプロピレングリコールモノエチルエーテ
ルとの９２＝８の体積比の混合溶剤に溶解して調製した
、色素（Ｂ）を２．０重量％含有する色素溶液（この色
素溶液の２３℃における限界濃度は８０％であった）を
使用した他は実施例４におけると同様にして光吸収層を
形成し、次いで、エンハンス層、反射層及び保護層を実
施例４におけると同様にして基板上に順次形成して情報
記録媒体を製造した。

／７ｉられた情報記録媒体について実施例４におけると
同様にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例７］ 実施例４て使用した基板と同し基板を使用し、色素溶液
として、色素（Ｂ）を、２，２，３．３−テトラフロロ
プロパツールとブタノールとの７０　：　３０の体積比
の混合溶剤に溶解して調製した、色素（Ｂ）を２．０重
量％含有する色素溶液（この色素溶液の２３℃における
限界濃度は８０％であった）を使用した他は実施例４に
おけると同様にして光吸収層を形成し、次いで、エンハ
ンス層、反射層及び保護層を実施例４におけると同様に
して基板上に順次形成して情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例４におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例８］ プリピットのピットの半値幅が０．５μｍ、ピットの深
さが１２０ｎｍである他は実施例４で使用した基板と同
じ基板を使用し、光吸収層、エンハンス層、反射層及び
保護層を実施例４におけると同様にして基板上に順次形
成して情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例４におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例９］ 実施例４で使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
として、色素（Ｂ）を、２，２，３．３−テトラフロロ
プロパツールと酢酸との９０＝１０の体積比の混合溶剤
に溶解して調製した、色素（Ｂ）を２．０重量％含有す
る色素溶液（この色素溶液の２３℃における限界濃度は
５５％であった）を使用した他は実施例４におけると同
様にして光吸収層を形成し、次いで、エンハンス層、反
射層及び保護層を実施例４におけると同様にして基板上
に順次形成して情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例４におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例１０］ 実施例４で使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
として、色素（Ｂ）を、２，２，３．３−テトラフロロ
プロパツールとエチルセロソルブとの９０：１０の体積
比の混合溶剤に溶解して調製した、色素（Ｂ）を２．０
重量％含有する色素溶液（この色素溶液の２３℃におけ
る限界濃度は６０％であった）を使用した他は実施例４
におけると同様にして光吸収層を形成し、次いで、エン
ハンス層、反射層及び保護層を実施例４におけると同様
にして基板上に順次形成して情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例４におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例１１］ 実施例４て使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
として、色素（Ｂ）を、２，２，３．３デトラフロロプ
ロバノールとブチルセロソルブとの９０：１０の体積比
の混合溶剤に溶解して調製した、色素（Ｂ）を２．０重
量％含有する色素溶液（この色素溶液の２３℃における
限界濃度は６０％であった）を使用した他は実施例４に
おけると同様にして光吸収層を形成し、次いで、エンハ
ンス層、反射層及び保護層を実施例４におけると同様に
して基板上に順次形成して情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例４におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例１２］ 実施例４て使用した基板と同し基板を使用し、色素溶液
として、色素（Ｂ）を、２，２，３．３−テトラフロロ
プロパツールとイソアミルアルコールとの７０・３０の
体積比の混合溶剤に溶解して調製した、色素（Ｂ）−を
２．０重量％含有する色素溶液（この色素溶液の２３℃
における限界濃度は５０％であった）を使用した他は実
施例４におけると同様にして光吸収層を形成し、次いて
、エンハンス層、反射層及び保護層を実施例４における
と同様にして基板上に順次形成して情報記録媒体を製造
した。

ｊｉｔらねた情報記録媒体について実施例４におけると
同様にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例１３］ 色素（Ｂ）を、下記構造式： を有する色素（Ｃ）に変えた他は実施例４におけると同
様にして（色素溶液の２３℃における限界濃度は８０％
であった）、情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例４におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［比較例３］ 実施例４で使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
を比較例】で使用した色素溶液に変えた他は実施例４に
おけると同様にして光吸収層を形成し、次いで、エンハ
ンス層、反射層及び保護層を実施例４におけると同様に
して基板上に順次形成して情報記録媒体を製造した。

ｊ１？られた情報記録媒体について実施例４におけると
同様にしてシ平価した。評価結果を第１表に記載する。

［比較例４］ エンハンス層を設けなかった他は実施例４におけると同
様にして情報記録媒体を作成した。

得られた情報記録媒体について実施例４におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［情報記録媒体の評価］ −［１記で得られた情報記録媒体を、ティスフ評価装置
（ＮＡ：０．５、レーザー波長ニア８０ｎｍ）及びＥＦ
Ｍエンコータ（ＫＥＮ−１ｆ００Ｄ）を用いて、記録す
る際のレーザーパワー（記録パワー）を６ｍＷ、定線速
度：　１．３ｍ／秒にてプレグルーブの底部に記録を行
なった。

１）ダルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚光吸収層の絶
対膜厚を、断面部の超高分解能電ｆ顕微ｍ（株式会社日
立製作所製５９００）観察によって測定し、光吸収層の
屈折率を、別に形成した色素薄膜の反射率、透過率、及
び絶対膜厚を測定した結果から求め、これらの絶対膜厚
と屈折率とから光学的膜厚を算出した。

２）ランド部の光吸収層の光学的膜厚 上記１）の方法と同様にして求めた。

３）ミラ一部反射率 反射率が既知のＡｎ板をリファレンスとして、分光光度
計（株式会社島津製作所製ＵＶ１３０）を使用して測定
した。

４）グルーブ反射率 ミラ一部の反射率をリファレンスとして、ディスク評価
装置を使用して測定した。

５）記録後グルーブ反射率 上記４）の方法と同様にして求めた。

６）トラッキングサーボゲイン オシレータで外乱を与え、サーボアナライザで測定し、
ＣＤに比較したゲインで表わした。

７）ピット部の光吸収層の光学的膜厚 上記１）の方法と同様にして求めた。

８）ピット間部の光吸収層の光学的膜厚上記１）の方法
と同様にして求めた。

９）ＩＩＴ変調度 上記記録されたＣＤフォーマット信号のうち記録長１１
Ｔの直流再生信号について、信号部分とミラ一部（信号
の無い部分）の信号強度を測定し、その変調度（Ｃ）を
次式により求めた。

Ｈ−ＳＬ （Ｓｔｌ：信号の最大強度、Ｓｌ、：信号の最／ＪＸ強
度）以下余白 第１表より明らかなように、実施例の情報記録媒体は、
ブリクループ形成領域（ｈ’ｉ報記録領域）でクループ
反射率及び記録後反射率か犬きく、トラッキングサーホ
ケインの低下量か小さく、プリピット形成領域（ＲＯＭ
領域）で変調度が大きく優れた性能を有するものである
。

これに対して、比較例１及び比較例３の情報記録媒体は
、ブリクループ形成領域でグルーブ反射率又は記録後反
射率が小さく、トラッキングサーホケインの低下量か大
きく、プリピット形成領域（ＲＯＭ￥１域）て変調度が
極めて小さいものである。また、比較例２及び比較例４
の情報記録媒体は、エンハンス層か無いために反射率か
小さいものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の情報記録媒体の一実施例のプリグル
ーブ領域における断面の一部を模式的に示す断面図であ
る。 第２図は、本発明の情報記録媒体の一実施例のプリピッ
ト領域における断面の一部を模式的に示ず断面図である
。 第３図は、従来公知の情報記録媒体のプリグルーブ領域
における断面の＝一部を模式的に示す断面図である。 １１．２１．３１：基板、 １２．２２．３２：光吸収層、 １３．２３．３３：反射層、 １４．３４：ブリクループ、 ２４：プリピット、 １５．３５：ランド部、 ２５：ピット間部、 １６．３６：グルーブ底部、 ２６：ピット部・ １７．２７：エンハンス層。 特許出願人　富士写真フィルム株式会社代　理　人　弁
理士　　柳　川　泰　男第 図 第３図 第２図 手続補正書（自発） 平成３年　８月２０日 明細書の［発明の詳細な説明］の欄を下記の通り補正す
る。 平成　２年　特許願　第２３０１６８号２、発明の名称 情報記録媒体及びその製造方法 ３、補正をする者 事件との関係　　　　　特許出願人 名　称　　（５２０）富士写真フィルム株式会社４、代
理人 東京都新宿区四谷２−１４ミッヤ四谷ビル８階明細書の
「発明の詳細な説明」の欄。 −記一 １゜明細書の第３６頁１３行目の「濃縮限界」を「濃縮
限界（以下、限界濃度ということがある）」と補正する
。 ２゜明細書の第３９頁９〜１０行目の「２．２．３．３
、テトラフロロプロパツール」を「２゜２．３．３−テ
トラフロロプロパツール」と補正する。 ３゜明細書の第４７頁４行目の「色素記録層」を「反射
層」と補正する。 ４゜明細書の第３９頁下から４行目、第４９頁下から３
行目、第５２頁最終行〜第５３頁１行目、第５６頁１行
目、同頁１５行目、第５７頁最終行、第５８頁１５行目
、第５９頁１０行目、第６０頁５〜６行目および第６１
頁２〜３行目の「限界濃度」を「ｉｌ！縮限界」と補正
する。 −以上一

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １。プリグルーブが形成された円盤状の基板上に、レー
   ザ光を照射して再生用のピットを形成することにより情
   報の記録が可能な色素を含む光吸収層が設けられ、該光
   吸収層上にエンハンス層が設けられ、更に該エンハンス
   層上に金属からなる反射層が設けられてなる情報記録媒
   体であって、グルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚とラ
   ンド部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／８（但し、
   λは再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴とす
   る情報記録媒体。 ２。プリピット及びプリグルーブが形成された円盤状の
   基板上に、レーザ光を照射して再生用のピットを形成す
   ることにより情報の記録が可能な色素を含む光吸収層が
   設けられ、該光吸収層上にエンハンス層が設けられ、更
   に該エンハンス層上に金属からなる反射層が設けられて
   なる情報記録媒体であって、ピット部の光吸収層の光学
   的膜厚とピット間部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ
   ／８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であり、
   グルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚とランド部の光吸
   収層の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再生用レ
   ーザ光の波長）以下であることを特徴とする情報記録媒
   体。 ３。プリグルーブ又はプリピット及びプリグルーブが形
   成された円盤状の基板上に、色素を溶剤に溶解して調製
   した色素溶液であって、該色素溶液の塗布温度において
   該色素溶液から該溶剤を蒸発させることにより色素の析
   出が始まったときの色素懸濁溶液の体積の、該色素溶液
   の元の体積に対する比率として定義される濃縮限界が９
   ９〜２０％である色素溶液を、スピンコート法により塗
   布し乾燥することによって、グルーブ底部の光学的膜厚
   とランド部の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再
   生用レーザ光の波長）以下であり、プリピットが形成さ
   れた基板の場合にはピット部の光学的膜厚とピット間部
   の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再生用レーザ
   光の波長）以下である、レーザ光を照射して再生用のピ
   ットを形成することにより情報の記録が可能な光吸収層
   を、該基板のプリグルーブ又はプリピット及びプリグル
   ーブが形成された面上に形成し、次いで、該光吸収層上
   にエンハンス層を設け、更に該エンハンス層上に金属か
   らなる反射層を設けることを特徴とする情報記録媒体の
   製造方法。