JPH04255931A - 情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光による情報の
記録及び／又は再生が可能な情報記録媒体、及びその製
造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年において、レーザ光等の高エネルギ
ー密度のビームを用いる情報記録媒体が開発され、実用
化されている。この情報記録媒体は光ディスクと称され
、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには
大容量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用デ
ィスク・メモリーとして使用され得るものである。これ
らの情報記録媒体のうちで、音楽等のオーディオ再生用
としてコンパクトディスク（ＣＤ）が広く実用化されて
いる。コンパクトディスクは、製造時に基板上に形成さ
れたピット列からなる情報を再生するためにのみ使用さ
れる。すなわち、コンパクトディスクは、適当なプラス
チック材料を成形してスパイラル状にピットを形成し、
そしてその表面に反射層として金属層を形成することに
より製造される。このように、コンパクトディスクは再
生専用の記録媒体である。

【０００３】コンパクトディスクの情報の読み取りは、
ディスクを回転させながらレーザビームを照射すること
により行なわれる。情報はディスク上のピットの有無に
よる反射光量の変化を検知して再生される。再生のみの
コンパクトディスクは、ＣＤ規格に基づいて、ＣＤを１
．２〜１．４ｍ／秒の定線速度で回転させながら読み取
る（再生する）ように作られており、信号面内径４６ｍ
ｍおよび信号面外径１１６ｍｍの範囲内で、トラックピ
ッチ１．６μｍにて最大約７４分の記録時間を有するこ
とが要求されている。

【０００４】前述のように、オーディオ用ＣＤは現在広
く使用されている。従って、オーディオ用ＣＤの再生に
用いられる市販のＣＤプレーヤも広く一般に使用されて
いるので、大量生産による価格の低下および性能の向上
が実現している。

【０００５】また、情報の書き込み（記録）が可能なＤ
ＲＡＷ（ＤｉｒｅｃｔＲｅａｄ　Ａｆｔｅｒ　Ｗｒｉｔ
ｅ）型の情報記録媒体についても開発され一部実用化さ
れている。このようなＤＲＡＷ型の情報記録媒体（光デ
ィスク）は、基本構造として、プラスチック、ガラス等
からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられたＢｉ
、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属からなる記録
層又は色素からなる記録層とを有する。光ディスクへの
情報の記録は、例えば、レーザビームを光ディスクに照
射することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光
を吸収して局所的に温度上昇する結果、ピット形成等の
物理的変化あるいは相変化等の化学的変化を生じてその
光学的特性を変えることにより情報が記録される。光デ
ィスクからの情報の読み取り（再生）もまた、レーザビ
ームを光ディスクに照射することなどにより行なわれ、
記録層の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光
を検出することにより情報が再生される。

【０００６】上記光ディスクへの情報の記録及び再生の
ためのレーザビームの照射は、通常ディスク表面の所定
の位置に行われる。レーザビームを案内して照射予定位
置に正確にたどる（一般にトラッキングと呼ばれる）よ
うにするため、凹溝のトラッキングガイド（プリグルー
ブ）が基板の表面に設けられることが一般的である。

【０００７】また、上記のような記録可能な領域の内周
側に、基板上に予めピットが形成されたＲＯＭ領域が設
けられた情報記録媒体が提案されている（特開平２−４
２６５２号公報参照）。この情報記録媒体においては、
色素からなるレーザ吸収層が記録可能領域にのみ設けら
れ、プリピットが形成されたＲＯＭ領域には色素からな
るレーザ吸収層は設けられていない。その理由は、プリ
ピットが形成された領域に色素からなるレーザ吸収層を
設けると、プレピット信号の変調度が小さくなりＲＯＭ
領域の情報を実用的に再生することができなくなるため
である。

【０００８】即ち、色素からなるレーザ吸収層は一般に
色素の溶液を塗布し乾燥することによって形成されるも
のであり、プリピット形成領域に色素溶液を塗布すると
、前記のプリグルーブ形成領域への色素溶液の塗布の場
合と同様に、ピット部（穴部）のレーザ吸収層の膜厚が
ピット間部（ピットとピットとの間の部分で、前記ラン
ド部に相当する）のレーザ吸収層の膜厚よりも大きくな
り、そのために、基板のピット部の形状を反映して形成
されたレーザ吸収層の表面の穴の深さは、基板のピット
の深さよりも浅くなり、ピット部とピット間部との位相
差が小さくなるために、プリピットの変調度が小さくな
るのである。

【０００９】特開平２−４２６５２号公報に記載されて
いる情報記録媒体の製造方法においては、プリピット部
（ＲＯＭ領域）に色素層を設けず、プリピット部の外周
側にスピンコート法により色素層を設けている。従って
、この方法によれば、記録可能領域の外周側にプリピッ
ト部（色素層を有しない）を設けることができない。 従って、この方法によれば、内周側のＲＯＭ領域とその
外周側の記録可能領域との二つの領域に分かれた情報記
録媒体しか製造することができず、ＲＯＭ領域へ予め記
録しておくアプリケーションソフトやその利用方法など
が制限され、実用上不便であるという問題点もある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】レーザ光を照射して情
報を記録した後、変調度及び反射率が高くＣＤ規格を満
足する再生信号を得ることができる情報記録領域と、こ
の情報記録領域の外周側に、高い変調度の再生信号を得
ることができるプリピット領域とを有する情報記録媒体
及びその製造方法を提供する。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、プリグルーブ
領域が形成され、そして該プリグルーブ領域の外周側に
プリピット領域が形成された円盤状の基板上の、該プリ
グルーブ領域に、レーザ光を照射して再生用のピットを
形成することにより情報の記録が可能な色素を含む光吸
収層と、その上に更に金属からなる反射層とが設けられ
、該プリピット領域に色素を含む光吸収層が設けられる
ことなく、金属からなる反射層が設けられてなることを
特徴とする情報記録媒体である。

【００１２】他の本発明は、プリグルーブ領域が形成さ
れ、そして該プリグルーブ領域の外周側にプリピット領
域が形成された円盤状の基板上に、色素を溶剤に溶解し
て調製した色素溶液を塗布し乾燥することによって、レ
ーザ光を照射して再生用のピットを形成することにより
情報の記録が可能な光吸収層を該基板上に形成し、次い
で、該プリグルーブ領域よりも外周側の領域に該色素を
溶解し得る溶剤をスピンコート法により供給して該外周
側の領域に形成されている該光吸収層を除去し、次いで
、該基板の全領域に金属からなる反射層を設けることを
特徴とする情報記録媒体の製造方法である。

【００１３】上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様
は以下の通りである。 （１）上記基板の上記プリグルーブ領域の内周側に更に
プリピット領域が形成され、上記プリグルーブ領域の内
周側のプリピット領域に色素を含む光吸収層が設けられ
ることなく、金属からなる反射層が設けられてなること
を特徴とする上記の情報記録媒体

【００１４】（２）上記基板の上記プリグルーブ領域の
外周側のプリピット領域の外周側に、更にプリグルーブ
領域が形成され、最外周側のプリグルーブ領域に上記光
吸収層及び反射層が設けられてなる上記の情報記録媒体
。

【００１５】（３）上記プリグルーブ領域の、グルーブ
底部の光吸収層の光学的膜厚とランド部の光吸収層の光
学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再生用レーザ光の
波長）以下であることを特徴とする上記の情報記録媒体
。

【００１６】（４）上記基板の上記プリグルーブ領域の
内周側に更にプリピット領域が形成されており、上記プ
リグルーブ領域の、グルーブ底部の光吸収層の光学的膜
厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／８（
但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であり、上記プ
リグルーブ領域の内周側のプリピット領域に光吸収層及
び反射層が形成されており、上記内周側のプリピット領
域のピット部の光吸収層の光学的膜厚とピット間部の光
吸収層の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再生用
レーザ光の波長）以下であることを特徴とする上記の情
報記録媒体。

【００１７】（５）上記反射層の上に、更に保護層が形
成されていることを特徴とする上記の情報記録媒体。

【００１８】上記本発明の情報記録媒体の製造方法の好
ましい態様は以下の通りである。 （６）上記基板上に、色素溶液の塗布温度において該色
素溶液から該溶剤を蒸発させることにより色素の析出が
始まったときの色素懸濁溶液の体積の、該色素溶液の元
の体積に対する比率として定義される濃縮限界が９９〜
２０％（好ましくは、９０〜５０％）である色素溶液を
、スピンコート法により塗布し乾燥することによって、
グルーブ底部の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚との
差がλ／８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下で
あり、上記プリグルーブ領域の内周側にプリピット領域
が形成された基板の場合にはそのピット部の光学的膜厚
とピット間部の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは
再生用レーザ光の波長）以下である上記光吸収層を、基
板上に形成することを特徴とする上記の情報記録媒体の
製造方法。

【００１９】（７）上記プリグルーブ領域の外周側のプ
リピット領域の外周側に、更にプリグルーブ領域が形成
された基板の、外周側のプリピット領域及びプリグルー
ブ領域に形成されている光吸収層を除去した後、上記の
外周側のプリグルーブ領域に上記色素溶液をスピンコー
ト法により塗布し乾燥することによって、上記情報の記
録が可能な光吸収層を形成することを特徴とする上記の
情報記録媒体の製造方法。

【００２０】（８）上記反射層の上に、更に保護層を形
成させることを特徴とする上記の情報記録媒体の製造方
法。

【００２１】本発明の情報記録媒体は、プリグルーブ領
域が形成され、そして該プリグルーブ領域の外周側にプ
リピット領域が形成された円盤状の基板上の、該プリグ
ルーブ領域に、レーザ光を照射して再生用のピットを形
成することにより情報の記録が可能な色素を含む光吸収
層と、その上に更に金属からなる反射層とが設けられ、
該プリピット領域に光吸収層が設けられずに、金属から
なる反射層が設けられて構成されている。

【００２２】本発明を、添付する図面を参照して詳細に
説明する。

【００２３】図１は、本発明の情報記録媒体の実施例の
プリグルーブ領域及びプリピット領域の概略を示す平面
図である。図２は、図１（ａ）のＡ−Ａ線断面の中心線
より片側部分の拡大断面図である。

【００２４】図１（ａ）及び図２において、情報記録媒
体１ａは、中央部に穴２ａが設けられた円盤上の基板３
ａの平面上に、その内周側にプリグルーブ領域Ｇが設け
られ、その外周側にプリピット領域Ｐが設けられて構成
されている。プリグルーブ領域Ｇにおいては、基板３ａ
上に光吸収層４が設けられ、その上に反射層５が設けら
れている。プリピット領域Ｐにおいては、基板３ａ上に
反射層５が設けられている。

【００２５】図１（ｂ）において、情報記録媒体１ｂは
、中央部に穴２ｂが設けられた円盤上の基板３ｂの平面
上に、内周側にプリピット領域Ｐ１、その外周側にプリ
グルーブ領域Ｇ、及び、その外周側にプリピット領域Ｐ
２が設けられて構成されている。図２に示すものと同様
に、プリグルーブ領域Ｇにおいては、基板３ｂ上に光吸
収層が設けられ、その上に反射層が設けられており、プ
リピット領域Ｐ１及びＰ２においては、基板３ｂ上に反
射層が設けられている。

【００２６】図１（ｃ）において、情報記録媒体１ｃは
、中央部に穴２ｃが設けられた円盤上の基板３ｃの平面
上に、内周側にプリグルーブ領域Ｇ１、その外周側にプ
リピット領域Ｐ、及びその外周側にプリグルーブ領域Ｇ
２が設けられて構成されている。図２に示すものと同様
に、プリグルーブ領域Ｇ１及びＧ２においては、基板３
ｃ上に光吸収層が設けられ、その上に反射層が設けられ
ており、プリピット領域Ｐにおいては、基板３ｃ上に反
射層が設けられている。

【００２７】図１（ｄ）において、情報記録媒体１ｄは
、中央部に穴２ｄが設けられた円盤上の基板３ｄの平面
上に、内周側にプリピット領域Ｐ１、その外周側にプリ
グルーブ領域Ｇ１、その外周側にプリピット領域Ｐ２、
及びその外周側にプリグルーブ領域Ｇ２が設けられて構
成されている。図２に示すものと同様に、プリグルーブ
領域Ｇ１及びＧ２においては、基板３ｄ上に光吸収層が
設けられ、その上に反射層が設けられており、プリピッ
ト領域Ｐ１及びＰ２においては、基板３ｄ上に反射層が
設けられている。

【００２８】基板３（３ａ、３ｂ、３ｃ及び３ｄを含む
）の材料としては、従来の情報記録媒体の基板として用
いられている各種の材料から任意に選択することができ
る。基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱い性、経
時安定性および製造コストなどの点から、基板材料の例
としては、ガラス、ポリメチルメタクリレート等のアク
リル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩
化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；ポリカーボネート樹脂
；アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルを挙
げることができる。好ましくは、ポリカーボネート、ポ
リオレフィン、ガラスおよびポリメチルメタクリレート
を挙げることができる。

【００２９】光吸収層４が設けられる側の基板表面には
、平面性の改善、接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善
および記録層の変質の防止の目的で、下塗層が設けられ
てもよい。下塗層の材料としては例えば、ポリメチルメ
タクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、ス
チレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコー
ル、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・スルホ
ン酸共重合体、スチレン・ビニルトルエン共重合体、ク
ロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ
塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポ
リイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン
・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン
、ポリカーボネート、エポキシ樹脂等の高分子物質；シ
ランカップリング剤、チタネート系カップリング剤など
の有機物質；および無機誘電体（ＳｉＯ２　、ＺｎＳ、
ＡｌＮ、Ｓｉ３　Ｎ４等）、無機フッ化物（ＭｇＦ２　
）などの無機物質を挙げることができる。

【００３０】下塗層は、例えば上記物質を適当な溶剤に
溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布液
をスピンコート、ディップコート、エクストルージョン
コートなどの塗布法により基板表面に塗布することによ
り形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．０
０５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１
０μｍの範囲である。

【００３１】本発明においては、上記基板表面（または
下塗層表面）に、記録又は再生時のトラッキングを良好
に行なうために、プリグルーブ（トラッキング用溝）が
形成されている。プリグルーブの形状は、グルーブの深
さが５０〜３００ｎｍの範囲にあり且つグルーブの半値
幅（グルーブの深さの１／２の深さにおけるグルーブの
幅）が０．２〜１．４μｍであるものが好ましく、グル
ーブの深さが６０〜２００ｎｍの範囲にあり且つグルー
ブの半値幅が０．３〜１．０μｍであるものが更に好ま
しい。アドレッシング、或は線速制御用にグルーブをウ
ォブリングさせても良い。

【００３２】本発明においては、更に、上記基板表面（
または下塗層表面）に、種々のアプリケーションソフト
、アドレス信号などの情報を予め記録したプリピット（
ＲＯＭ領域）が形成されている。プリピットの形状は、
ピットの深さが６０〜４００ｎｍの範囲にあり且つピッ
トの半値幅（ピットの深さの１／２の深さにおけるピッ
トの幅）が０．２〜１．４μｍであるものが好ましく、
ピットの深さが８０〜２５０ｎｍの範囲にあり且つピッ
トの半値幅が０．３〜１．０μｍであるものが更に好ま
しい。

【００３３】基板材料がプラスチックの場合は、射出成
形あるいは押出成形などにより基板表面に上記プリグル
ーブとプリピットとを直接設けてもよい。また、基板の
表面上に、上記プリグルーブとプリピットとを形成する
ためのプリグルーブ層を設けてもよい。

【００３４】プリグルーブ層の材料としては、アクリル
酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテ
トラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（また
はオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いること
ができる。

【００３５】プリグルーブ層の形成は、まず精密に作ら
れた母型（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステル
および重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの
塗布液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介し
て紫外線の照射により液層を硬化させて基板と液相とを
固着させる。次いで、基板を母型から剥離することによ
りプリグルーブ層の設けられた基板が得られる。プリグ
ルーブ層の層厚は一般に０．１〜１００μｍの範囲にあ
り、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲である。

【００３６】プリグルーブ及びプリピットを形成した基
板（またはプリグルーブ層）上に、前記下塗層を形成す
る材料と同様の材料を使用して、光吸収層を形成するた
めの塗布液中の溶剤から保護するための耐溶剤層を設け
てもよい。

【００３７】基板３（または下塗層）上のプリグルーブ
領域Ｇには、色素を含む光吸収層４が設けられている。 基板側からレーザ光を照射して光吸収層４に再生用のピ
ットを形成することにより、光吸収層に情報を記録する
。従って、基板のプリグルーブが形成された領域の光吸
収層は、記録層として機能する。

【００３８】本発明に使用される色素は特に限定される
ものではなく、どのようなものでも良い。例えば、シア
ニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン
系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、ア
ズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ，Ｃｒ
などの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタ
ン系色素、アミニウム系色素、ジインモニウム系色素、
ニトロソ系色素、ロイコ系色素、クロコニウム系色素、
等々の色素を挙げることができる。

【００３９】これらの色素は、ライト・ワンス（ＷＯ）
型に限らず、リライタブル（ＲＷ）型（又は可逆型）の
ものであってもよい。

【００４０】これらの色素のうちでも記録再生用レーザ
ーとして近赤外光を発振する半導体レーザーの利用が実
用化されている点から、７００〜９００ｎｍの近赤外領
域の光に対する吸収率が高い色素が好ましい。

【００４１】特に、シアニン系色素、アズレニウム系色
素及びスクワリリウム系色素が好ましく、シアニン系色
素の中でも、ナフトインドレニン系色素及びイミダゾキ
ノキサリン系色素が好ましい。

【００４２】これらの色素は単独でもあるいは二種以上
の混合物として用いてもよい。また、シアニン系色素を
用いる場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系
色素又はジインモニウム系色素をクエンチャーとして一
緒に用いることが好ましい。その場合、クエンチャーと
して金属錯塩系色素などを全色素１モルに対して０．０
０１〜０．３モルの割合で含むことが好ましい。

【００４３】光吸収層の形成は、前記のような色素を、
所望により結合剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑剤などの各種の添加剤と共に溶剤に溶解して色素溶液
を調製し、次いでこの色素溶液を基板の表面に塗布して
塗膜を形成した後乾燥することにより行なう。

【００４４】上記の溶剤としては、ベンゼン、トルエン
、キシレン、エチルベンゼンなどのような芳香族炭化水
素系溶剤；ヘキサン、オクタン、ノナン、シクロヘキサ
ンなどのような脂肪族炭化水素系溶剤；酢酸のような有
機酸系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、エ
チレングリコールモノエチルエーテルアセテート、セロ
ソルブアセテートなどのようなエステル系溶剤；アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのようなケトン系溶剤；ジクロルメ
タン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム、メチル
クロロホルム、トリクレン、四塩化炭素、テトラクロロ
エチレンなどのようなハロゲン化炭化水素系溶剤；テト
ラヒドロフラン、エチルエーテル、イソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、ダイグライムなどのようなエーテル系
溶剤；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノー
ル、ｎ−ブタノール、アミルアルコール、ジアセトンア
ルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ベンジルアルコールなどの
ようなアルコール系溶剤；ジメチルホルムアミドのよう
なアミド系溶剤；２、２、３、３、テトラフロロプロパ
ノールなどのようなフッ素化アルコール、フッ素置換ケ
トン、フッ素置換エステル、フッ素置換アミド、フッ素
置換エーテル、フッ素置換芳香族炭化水素、フッ素置換
脂肪族炭化水素などのようなフッ素系溶剤などを挙げる
ことができる。上記のような非炭化水素系溶剤に、５０
容量％までの脂肪族炭化水素溶剤、脂環式炭化水素溶剤
、芳香族炭化水素溶剤などを含有させてもよい。上記色
素溶液中の上記色素の濃度は０．５〜１５重量％、特に
１〜１０重量％、更に特に１．５〜８重量％であること
が好ましい。

【００４５】結合剤を使用する場合に結合剤としては、
例えばゼラチン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等
のセルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなど
の天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化
ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポ
リアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることができる
。

【００４６】上記色素溶液の塗布方法としては、従来公
知の方法、例えば、スプレー法、スピンコート法、ディ
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを採用することができ
るが、色素の良好な配向状態を形成するために、スピン
コート法を使用することが好ましい。

【００４７】上記色素溶液をスピンコート法により基板
上に塗布するに際しては、それ自体公知の装置及び方法
を使用して行なうことができる。上記色素溶液を、一般
に０〜１００℃、特に５〜８０℃、更に特に１０〜６０
℃の温度で塗布することが好ましい。基板の回転数は、
色素溶液を塗布するときは、一般に１０〜１０００ｒ．
ｐ．ｍ．、特に１００〜５００ｒ．ｐ．ｍ．にすること
が好ましく、色素塗膜を乾燥するときは、一般に３００
〜１００００ｒ．ｐ．ｍ．、特に５００〜７０００ｒ．
ｐ．ｍ．、更に特に７００〜４０００ｒ．ｐ．ｍ．にす
ることが好ましい。

【００４８】基板のプリグルーブ領域Ｇの光吸収層４の
上、及びプリピット領域Ｐには、反射層５が設けられて
いる。

【００４９】反射層５の材料としては、Ｂｅ、Ｂ、Ｃ、
Ｓｃ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ａｓ、Ｏｓ、Ｔｌ、Ａｔ、Ｆｒ、Ｒ
ａ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、
Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚ
ｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ
、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓｂなどの金属及び半金属を挙げ
ることができる。これらの中でもＣ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｕ
、Ｐｔ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｉｎ及びステンレス鋼が特に好ま
しい。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上の組合せでまたは合金として用いてもよい。 反射層の層厚は一般には１０〜３００ｎｍ、好ましくは
４０〜２００ｎｍの範囲にある。

【００５０】反射層として貴金属反射層を設けた場合は
、その上にＡｌなどの金属密着層又は有機物の密着層を
設けることができる。

【００５１】反射層の形成は、本発明の情報記録媒体の
製造方法に従って行なう。即ち、前記のような方法によ
り、基板３のプリグルーブ領域及びプリピット領域が形
成された全面に光吸収層を形成し、次いで該プリグルー
ブ領域よりも外周側の領域に、光吸収層の色素を溶解し
得る溶剤をスピンコート法により供給して、該プリグル
ーブ領域よりも外周側の領域の光吸収層を除去した後、
プリグルーブ領域及びプリピット領域が形成された全面
に、反射層を形成する。

【００５２】図１（ａ）の態様について詳細に説明する
。基板３ａのプリグルーブ領域Ｇ及びプリピット領域Ｐ
が形成された全面に、前記のようにして光吸収層を形成
し、次いでプリピット領域Ｐの領域にのみ、光吸収層の
色素を溶解し得る溶剤をスピンコート法により供給して
、プリグルーブ領域Ｇの光吸収層４を残しプリピット領
域Ｐの光吸収層を除去した後、プリグルーブ領域Ｇ及び
プリピット領域Ｐが形成された全面に、反射層５を形成
する。プリピット領域Ｐに形成された光吸収層を除去す
る際に、溶剤をスピンコート法により基板のプリピット
領域Ｐに供給するので、この溶剤がプリグルーブ領域Ｇ
の光吸収層４を溶解することはなく、プリピット領域Ｐ
の光吸収層のみが除去される。プリピット領域Ｐに形成
された光吸収層を除去するするために使用できる溶剤と
しては、前記の色素溶液を調製するために使用できる溶
剤から選択でき、色素溶液を調製するための溶剤と光吸
収層を除去するために使用する溶剤とは、同じであって
もよく又異なっていてもよい。

【００５３】反射層の形成自体は、従来公知の方法、例
えば上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイ
オンプレーティングすることにより行なうことができる
。特に、スパッタリングによって反射層を成膜すること
が好ましい。反射層の層厚は一般には１０〜３００ｎｍ
、好ましくは４０〜２００ｎｍの範囲である。

【００５４】次に、図１（ｂ）に示す態様の情報記録媒
体の製造方法について説明する。基板３ｂのプリピット
領域Ｐ１が形成された面をそのまま残し、プリグルーブ
領域Ｇ及びプリピット領域Ｐ２が形成された面に、前記
のようにして光吸収層を形成し、次いでプリピット領域
Ｐ２の領域にのみ、光吸収層の色素を溶解し得る溶剤を
スピンコート法により供給して、プリピット領域Ｐ２の
光吸収層を除去した後、プリピット領域Ｐ１、プリグル
ーブ領域Ｇ及びプリピット領域Ｐ２が形成された全面に
反射層を形成する。プリピット領域Ｐ２の光吸収層を除
去するために使用する溶剤については、図１（ａ）につ
いて説明したことと同様である。このようにして、プリ
グルーブ領域Ｇには光吸収層と反射層とが形成され、プ
リピット領域Ｐ１及びＰ２には光吸収層がなく反射層が
形成された情報記録媒体を製造することができる。

【００５５】次に、図１（ｃ）に示す態様の情報記録媒
体の製造方法について説明する。基板３ｃのプリグルー
ブ領域Ｇ１、プリピット領域Ｐ及びプリグルーブ領域Ｇ
２が形成された面に、前記のようにして光吸収層を形成
し、次いでプリピット領域Ｐ及びプリグルーブ領域Ｇ２
の領域に、光吸収層の色素を溶解し得る溶剤をスピンコ
ート法により供給して、プリピット領域Ｐ及びプリグル
ーブ領域Ｇ２の光吸収層を除去した後、プリグルーブ領
域Ｇ２の領域に光吸収層を形成し、プリグルーブ領域Ｇ
１、プリピット領域Ｐ、及びプリグルーブ領域Ｇ２が形
成された全面に反射層を形成する。プリピット領域Ｐ及
びプリグルーブ領域Ｇ２の光吸収層を除去するために使
用する溶剤については、図１（ａ）について説明したこ
とと同様である。このようにして、プリグルーブ領域Ｇ
１及びＧ２には光吸収層と反射層とが形成され、プリピ
ット領域Ｐには光吸収層がなく反射層が形成された情報
記録媒体を製造することができる。

【００５６】次に、図１（ｄ）に示す態様の情報記録媒
体の製造方法について説明する。基板３ｄのプリピット
領域Ｐ１が形成された面をそのまま残し、プリグルーブ
領域Ｇ１、プリピット領域Ｐ２及びプリグルーブ領域Ｇ
２が形成された面に、前記のようにして光吸収層を形成
し、次いでプリピット領域Ｐ２及びプリグルーブ領域Ｇ
２の領域に、光吸収層の色素を溶解し得る溶剤をスピン
コート法により供給して、プリピット領域Ｐ２及びプリ
グルーブ領域Ｇ２の光吸収層を除去した後、プリグルー
ブ領域Ｇ２の領域に光吸収層を形成し、プリピット領域
Ｐ１、プリグルーブ領域Ｇ１、プリピット領域Ｐ２、及
びプリグルーブ領域Ｇ２が形成された全面に反射層を形
成する。プリピット領域Ｐ２及びプリグルーブ領域Ｇ２
の光吸収層を除去するために使用する溶剤については、
図１（ａ）について説明したことと同様である。このよ
うにして、プリグルーブ領域Ｇ１及びＧ２には光吸収層
と反射層とが形成され、プリピット領域Ｐ１及びＰ２に
は光吸収層がなく反射層が形成された情報記録媒体を製
造することができる。

【００５７】本発明の情報記録媒体においては、プリピ
ット領域の光吸収層を、そのピット部の光学的膜厚とピ
ット間部の光学的膜厚との差が、λ／８（但し、λは再
生用レーザ光の波長）以下になるように形成することに
より、プリグルーブ領域よりも内周側に形成されたプリ
ピット領域に光吸収層と反射層とを共に設けることがで
きる。この場合には、プリピット領域に光吸収層が形成
されているにもかかわらず、大きいプリピット変調度を
得ることができる。

【００５８】プリピット領域の光吸収層を、そのピット
部の光学的膜厚とピット間部の光学的膜厚との差が、λ
／８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下になるよ
うに形成することは、本願特許出願人の出願に係る特願
平２−１９１２５７号の発明、即ち、プリグルーブ又は
プリピット及びプリグルーブが形成された円盤状の基板
上に、色素を溶剤に溶解して調製した色素溶液であって
、該色素溶液の塗布温度において該色素溶液から該溶剤
を蒸発させることにより色素の析出が始まったときの色
素懸濁溶液の体積の、該色素溶液の元の体積に対する比
率として定義される濃縮限界が９９〜２０％である色素
溶液を、スピンコート法により塗布し乾燥することによ
って、グルーブ底部の光学的膜厚とランド部の光学的膜
厚との差がλ／８（但し、λは再生用レーザ光の波長）
以下であり、プリピットが形成された基板の場合にはピ
ット部の光学的膜厚とピット間部の光学的膜厚との差が
λ／８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下である
、レーザ光を照射して再生用のピットを形成することに
より情報の記録が可能な光吸収層を、該基板のプリグル
ーブ又はプリピット及びプリグルーブが形成された面上
に形成する方法によって行なうことができる。

【００５９】この反射層の上に、情報記録媒体全体、特
に光吸収層及び反射層を物理的及び化学的に保護する目
的で保護層を設けてもよい。また、この保護層は、基板
の光吸収層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を
高めるために設けてもよい。

【００６０】保護層に用いられる材料の例としては、無
機物質としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ２　、Ｓｉ３　Ｎ４　
、ＭｇＦ２　、ＳｎＯ２　等を挙げることができる。ま
た、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
ＵＶ硬化性樹脂等を挙げることができ、好ましくはＵＶ
硬化性樹脂である。

【００６１】保護層は、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂などを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち
、この塗布液を塗布し、乾燥することによって形成する
ことができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままも
しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの
塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによ
って保護層を形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂と
しては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メ
タ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート
等の（メタ）アクリレートのオリゴマー類、（メタ）ア
クリル酸エステル等のモノマー類等と光重合開始剤等と
の通常のＵＶ硬化性樹脂を使用することができる。これ
らの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ
吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。 保護層の材料としてＵＶ硬化性樹脂を用いることが好ま
しい。

【００６２】保護層の層厚は一般には０．１〜１００μ
ｍ、好ましくは０．５〜２０μｍの範囲にある。

【００６３】上記以外にも、保護層は、たとえばプラス
チックの押出加工で得られたフィルムを接着層を介して
色素記録層の上にラミネートすることにより形成するこ
とができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布
等の方法により設けられてもよい。

【００６４】本発明の情報記録媒体への情報の記録は、
情報記録媒体を定線速度（好ましくは１．２〜２．８ｍ
／秒、特に好ましくは１．２〜１．４ｍ／秒）にて回転
させながら、基板側から該プレグルーブの底部にレーザ
ー光を照射してグルーブ上にある光吸収層に再生用のピ
ットを形成して信号を記録することにより行なう。信号
としてはＣＤフォーマットのＥＦＭ信号を記録すること
が本発明の効果を得る上で好ましい。一般に、記録光と
しては７５０〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半
導体レーザービームが用いられる。本発明の情報記録媒
体では、１０ｍＷ以下のレーザーパワーで記録すること
ができる。

【００６５】上記の記録後のピットは、基板及び／又は
色素がレーザ光の照射により発熱し、溶融、蒸発、昇華
、変形或るいは変質することにより、基板−色素間に凸
状、波状、凹状等の変化が起こったり、色素内で変化が
起こったり、色素−金属反射層間で変化が起こったりす
るなどの形態のものである。

【００６６】上記記録方法により、本発明の情報記録媒
体にＣＤフォーマット信号などを定線速度で記録を行う
ことにより、信号の変調度、再生Ｃ／Ｎなどの優れた記
録再生特性を得ることができ、さらに記録時のトラッキ
ング性、特にプッシュプル法によるトラッキング性が優
れたものとなる。また本発明の光ディスクは高反射率を
有するので、記録されたＣＤフォーマット信号を市販の
ＣＤプレーヤーを用いて再生することができる。更にＲ
ＯＭ領域が設けられた本発明の情報記録媒体の場合は、
ＲＯＭ領域においてもＣＤ規格を満足する高い変調度の
再生信号を得ることができる。

【００６７】

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を記載す
る。ただし、これらの各例は本発明を制限するものでは
ない。

【００６８】［実施例１］直径４４ｍｍ〜８０ｍｍの領
域にプリグルーブ（トラックピッチ：１．６μｍ、グル
ーブの半値幅：０．５μｍ、グルーブの深さ：９０ｎｍ
）が形成され、直径８０ｍｍ〜１１８ｍｍの領域にＥＦ
Ｍ信号を記録したプリピット（ピットの半値幅：０．５
μｍ、ピットの深さ：１１０ｎｍ）が形成された円盤状
のポリカーボネート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１
５ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ、屈折率：１．５８）を用意
した。

【００６９】一方、下記の構造式（Ａ）を有する色素（
Ａ）を、２，２，３，３−テトラフロロプロパノールに
溶解して、色素（Ａ）を２．４重量％含有する光吸収層
形成用塗布液を調製した。

【００７０】

【化１】

【００７１】上記基板の直径４２ｍｍより外周側の全面
に、上記光吸収層形成用塗布液をスピンコート法により
基板回転数２００ｒ．ｐ．ｍ．の速度で５秒間塗布した
後、回転数１０００ｒ．ｐ．ｍ．で３０秒間乾燥して、
膜厚１３０ｎｍの光吸収層を形成した。

【００７２】次いで、２，２，３，３−テトラフロロプ
ロパノールのみを、基板の直径８０ｍｍより外周側の面
（プリピット領域）にスピンコート法により基板回転数
４００ｒ．ｐ．ｍ．の速度で２０秒間供給して、基板の
直径８０ｍｍより外周側の光吸収層を除去した。

【００７３】次いで、基板の直径４２ｍｍより外周側の
全面に、４８０Ｗ、ターゲット−基板間距離９５ｍｍ、
ガス圧２Ｐａ、レート２ｎｍ／秒の条件下で、ＡｕをＤ
Ｃスパッタリングして膜厚が１００ｎｍのＡｕからなる
反射層を形成した。

【００７４】上記反射層上に、保護層としてＵＶ硬化性
樹脂（商品名：３０７０、スリーボンド社製）をスピン
コート法により回転数１５００ｒ．ｐ．ｍ．の速度で塗
布した後、高圧水銀灯にて紫外線を照射して硬化させ、
層厚２μｍの保護層を形成した。

【００７５】このようにして、基板、光吸収層（プリグ
ルーブ領域のみ）、反射層、及び保護層からなる情報記
録媒体（図１（ａ）参照）を製造した。

【００７６】得られた情報記録媒体について、下記の評
価方法により、プリピット領域の１１Ｔ変調度を測定し
たところ７８％であり、プリグルーブ領域にＥＦＭ記録
を行ない、再生信号のＣ１エラーを測定したところ、２
０以下であった。

【００７７】評価方法 １）１１Ｔ変調度 上記記録されたＣＤフォーマット信号のうち記録長１１
Ｔの直流再生信号について、信号部分とミラー部（信号
の無い部分）の信号強度を測定し、その変調度（Ｃ）を
次式により求めた。 Ｃ＝［（ＳＨ　−ＳＬ　）／ＳＨ　］×１００（ＳＨ：
信号の最大強度、ＳＬ：信号の最小強度）

【００７８】
２）Ｃ１エラー ディスク評価装置を使用し、記録波長７８０ｎｍ、レー
ザパワー７ｍＷでＥＦＭ信号を記録し、再生信号のＣ１
エラーを測定した。

【００７９】［実施例２］直径４４ｍｍ〜７０ｍｍの領
域にプリグルーブ（トラックピッチ：１．６μｍ、グル
ーブの半値幅：０．５μｍ、グルーブの深さ：９０ｎｍ
）が形成され、直径７０ｍｍ〜９０ｍｍの領域にＥＦＭ
信号を記録したプリピット（ピットの半値幅：０．５μ
ｍ、ピットの深さ：１１０ｎｍ）が形成され、９０ｍｍ
〜１１８ｍｍの領域に上記と同じプリグルーブが形成さ
れた円盤状のポリカーボネート基板（外径：１２０ｍｍ
、内径：１５ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ、屈折率：１．５
８）を用意した。

【００８０】上記基板の直径４２ｍｍより外周側の全面
に、実施例１におけると同様にして調製した光吸収層形
成用塗布液をスピンコート法により実施例１におけると
同様にして塗布し乾燥して、膜厚１３０ｎｍの光吸収層
を形成した。

【００８１】次いで、２，２，３，３−テトラフロロプ
ロパノールのみを、基板の直径７０ｍｍより外周側の面
（プリピット領域）にスピンコート法により基板回転数
４００ｒ．ｐ．ｍ．の速度で２０秒間供給して、基板の
直径７０ｍｍより外周側の光吸収層を除去した。

【００８２】次いで、基板の直径９０ｍｍより外周側の
全面に、実施例１におけると同様にして調製した光吸収
層形成用塗布液をスピンコート法により実施例１におけ
ると同様にして塗布し乾燥して、膜厚１３０ｎｍの光吸
収層を形成した。

【００８３】次いで、基板の直径４２ｍｍより外周側の
全面に、実施例１におけると同様にして膜厚が１００ｎ
ｍのＡｕからなる反射層を形成した。上記反射層上に、
実施例１におけると同様にして層厚２μｍの保護層を形
成した。

【００８４】このようにして、基板（内周側からプリグ
ルーブ領域、プリピット領域及びプリグルーブ領域が形
成されている）、光吸収層（プリグルーブ領域のみ）、
反射層、及び保護層からなる情報記録媒体（図１（ｃ）
参照）を製造した。

【００８５】得られた情報記録媒体について、前記の評
価方法により、プリピット領域の１１Ｔ変調度を測定し
たところ７７％であり、プリグルーブ領域にＥＦＭ信号
記録を行ない再生信号のＣ１エラーを測定したところ、
直径６０ｍｍの位置で２０以下であり、直径１００ｍｍ
の位置で２０以下であった。

【００８６】［比較例１］実施例１において、基板の直
径８０ｍｍより外周側の光吸収層を除去する工程を行な
わなかった他は、実施例１におけると同様にして情報記
録媒体を製造した。この情報記録媒体は、プリピット領
域にも光吸収層と反射層とが形成されている。

【００８７】得られた情報記録媒体について、前記の評
価方法により、プリピット領域の１１Ｔ変調度を測定し
たところ２０％であり、プリグルーブ領域にＥＦＭ信号
記録を行ない再生信号のＣ１エラーを測定したところ、
直径６０ｍｍの位置で２０以下であった。

【００８８】実施例と比較例とを比較すると、比較例に
おいては、プリピット領域に光吸収層が設けられている
ために変調度が極めて小さいのに対して、実施例におい
てはプリピット領域の変調度が極めて高いことが明らか
である。

【００８９】

【発明の効果】本発明の情報記録媒体は、高い変調度の
再生信号を得ることができるプリピット領域を、情報の
記録が可能な領域の外周側に有する情報記録媒体であり
、外周側のプリピット領域のソフトを使用する場合には
記録可能領域でのアクセスが迅速であるなど、プリピッ
ト領域に予め記録しておくアプリケーションソフトの種
類やその利用方法などが何等制限を受けることなく広く
利用できるという顕著な効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の情報記録媒体の実施例のプリグルーブ
領域及びプリピット領域の概略を示す平面図である。

【図２】図１（ａ）のＡ−Ａ線断面の中心線より片側部
分の拡大断面図である。

【符号の説明】

１　　情報記録媒体 ２　　穴 ３　　基板 ４　　光吸収層 ５　　反射層 Ｇ　　プリグルーブ領域 Ｐ　　プリピット領域

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　プリグルーブ領域が形成され、そして
   該プリグルーブ領域の外周側にプリピット領域が形成さ
   れた円盤状の基板上の、該プリグルーブ領域に、レーザ
   光を照射して再生用のピットを形成することにより情報
   の記録が可能な色素を含む光吸収層と、その上に更に金
   属からなる反射層とが設けられ、該プリピット領域に色
   素を含む光吸収層が設けられることなく、金属からなる
   反射層が設けられてなることを特徴とする情報記録媒体
   。
2. 【請求項２】　　プリグルーブ領域が形成され、そして
   該プリグルーブ領域の外周側にプリピット領域が形成さ
   れた円盤状の基板上に、色素を溶剤に溶解して調製した
   色素溶液を塗布し乾燥することによって、レーザ光を照
   射して再生用のピットを形成することにより情報の記録
   が可能な光吸収層を該基板上に形成し、次いで、該プリ
   グルーブ領域よりも外周側の領域に該色素を溶解し得る
   溶剤をスピンコート法により供給して該外周側の領域に
   形成されている該光吸収層を除去し、次いで、該基板の
   全領域に金属からなる反射層を設けることを特徴とする
   情報記録媒体の製造方法。