JPH04372735A

JPH04372735A - 情報記録媒体

Info

Publication number: JPH04372735A
Application number: JP3177417A
Authority: JP
Inventors: Yoshihisa Usami; 由久宇佐美
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1991-06-20
Filing date: 1991-06-20
Publication date: 1992-12-25

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光による情報の
記録及び再生が可能な情報記録媒体に関するものである
。

【０００２】

【従来の技術】近年において、レーザ光等の高エネルギ
ー密度のビームを用いる情報記録媒体が開発され、実用
化されている。この情報記録媒体は光ディスクと称され
、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには
大容量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用デ
ィスク・メモリーとして使用され得るものである。これ
らの情報記録媒体のうちで、音楽等のオーディオ再生用
としてコンパクトディスク（ＣＤ）が広く実用化されて
いる。コンパクトディスクは、製造時に基板上に形成さ
れたピット列からなる情報を再生するためにのみ使用さ
れる。すなわち、コンパクトディスクは、適当なプラス
チック材料を成形してスパイラル状にピットを形成し、
そしてその表面に反射層として金属層を形成することに
より製造される。このように、コンパクトディスクは再
生専用の記録媒体である。

【０００３】コンパクトディスクの情報の読み取りは、
ディスクを回転させながらレーザビームを照射すること
により行なわれる。情報はディスク上のピットの有無に
よる反射光量の変化を検知して再生される。再生のみの
コンパクトディスクは、ＣＤ規格に基づいて、ＣＤを１
．２〜１．４ｍ／秒の定線速度で回転させながら読み取
る（再生する）ように作られており、信号面内径４６ｍ
ｍおよび信号面外径１１６ｍｍの範囲内で、トラックピ
ッチ１．６μｍにて最大約７４分の記録時間を有するこ
とが要求されている。

【０００４】また、情報の書き込み（記録）が可能なＤ
ＲＡＷ（ＤｉｒｅｃｔＲｅａｄ　Ａｆｔｅｒ　Ｗｒｉｔ
ｅ）型の情報記録媒体についても開発され一部実用化さ
れている。このようなＤＲＡＷ型の情報記録媒体（光デ
ィスク）は、基本構造として、プラスチック、ガラス等
からなる円盤状の透明基板と、この上に設けられたＢｉ
、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属からなる記録
層又は色素からなる記録層とを有する。光ディスクへの
情報の記録は、例えば、レーザビームを光ディスクに照
射することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光
を吸収して局所的に温度上昇する結果、ピット形成等の
物理的変化あるいは相変化等の化学的変化を生じてその
光学的特性を変えることにより情報が記録される。光デ
ィスクからの情報の読み取り（再生）もまた、レーザビ
ームを光ディスクに照射することなどにより行なわれ、
記録層の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光
を検出することにより情報が再生される。

【０００５】上記光ディスクへの情報の記録及び再生の
ためのレーザビームの照射は、通常ディスク表面の所定
の位置に行われる。レーザビームを案内して照射予定位
置に正確にたどる（一般にトラッキングと呼ばれる）よ
うにするため、凹溝のトラッキングガイド（プリグルー
ブ）が基板の表面に設けられることが一般的である。

【０００６】また、上記のような記録可能な領域の内周
側に、基板上に予めピットが形成されたＲＯＭ領域が設
けられた情報記録媒体が提案されている（特開平２−４
２６５２号公報参照）。この情報記録媒体においては、
色素からなるレーザ光吸収層が記録可能領域にのみ設け
られ、プリピットが形成されたＲＯＭ領域には色素から
なるレーザ光吸収層は設けられていない。その理由は、
プリピットが形成された領域に色素からなるレーザ光吸
収層を設けると、プリピット信号の変調度が小さくなり
ＲＯＭ領域の情報を実用的に再生することができなくな
るためである。

【０００７】一方、特開平２−４２６５２号公報に記載
されているような、プリピット部（ＲＯＭ領域）に色素
層を設けず、記録可能領域にのみ色素層を設けた情報記
録媒体においては、色素層が設けられた部分と色素層が
設けられていない部分との境界部において、境界を再現
性よく形成することが困難であるとか、色素層のエッジ
部で膜厚が不均一になり易いとかの問題があり、円環状
の色素層の偏心が生じ易いなどの問題がある。更に、実
際上、ＲＯＭ領域とその外周側の記録可能領域との二つ
の領域に分かれた情報記録媒体しか製造することができ
ず、ＲＯＭ領域の内周側にも追加して記録可能領域を設
けたり、ＲＯＭ領域と記録可能領域を混在させて設けた
りすることが極めて困難であり、ＲＯＭ領域へ予め記録
しておくアプリケーションソフトやその利用方法などが
制限され、実用上不便であるという問題点もある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】プリピット形成領域と
プリグルーブ形成領域との両方に色素を含む光吸収層が
形成されており、プリピット形成領域からＣＤ規格を満
足する再生信号を得ることができ、プリグルーブ形成領
域には情報を記録したり、又は情報の書き換えをするこ
とができる情報記録媒体を提供する。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、プリピット及
びプリグルーブが形成された円盤状の基板上に、再生用
レーザ光の波長に対して屈折率が３以下であり且つ消衰
係数が２以上であり、１〜３０ｎｍの層厚を有する無機
物からなる下引層、レーザ光の照射により情報の記録が
可能な色素を含む光吸収層、そして金属からなる反射層
がこの順で設けられてなることを特徴とする情報記録媒
体である。

【００１０】上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様
は以下の通りである。（１）上記下引層を形成する物質
が、金属であることを特徴とする上記の情報記録媒体。

【００１１】（２）上記下引層の層厚が５〜２０ｎｍで
あることを特徴とする上記の情報記録媒体。

【００１２】（３）上記プリピットが０．２〜１．４μ
ｍの半値幅と、６０〜２００ｎｍの深さを有することを
特徴とする上記情報記録媒体。

【００１３】（４）上記プリグルーブが０．２〜１．４
μｍの半値幅と、５〜１２０ｎｍの深さを有することを
特徴とする上記の情報記録媒体。

【００１４】（５）上記プリグルーブの深さが、上記プ
リピットの深さよりも、光路長で表わしてλ／１６以上
短いことを特徴とする上記情報記録媒体。

【００１５】（６）上記反射層の上に、更に保護層が形
成されていることを特徴とする上記情報記録媒体。

【００１６】本発明の情報記録媒体は、その模式的断面
図を示す図１に示すように、プリピット及びプリグルー
ブが形成された基板１上に、特定の下引層２、色素を含
む光吸収層３及び金属からなる反射層４がこの順で設け
られた基本構成を有する。

【００１７】本発明における円盤状の基板の材料として
は、従来の情報記録媒体の基板として用いられている各
種の材料から任意に選択することができる。基板の光学
的特性、平面性、加工性、取扱い性、経時安定性及び製
造コストなどの点から、基板材料の例としては、ガラス
、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；
エポキシ樹脂；ポリカーボネート樹脂；アモルファスポ
リオレフィン及びポリエステルを挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ガラ
ス及びポリメチルメタクリレートを挙げることができる
。

【００１８】上記基板表面には、種々のアプリケーショ
ンソフト、アドレス信号などの情報を予め記録したプリ
ピット（ＲＯＭ領域）が形成されている。プリピットの
形状は、ピットの深さが６０〜２００ｎｍの範囲にあり
且つピットの半値幅（ピットの深さの１／２の深さにお
けるピットの幅）が０．２〜１．４μｍであるものが好
ましく、ピットの深さが７０〜１９０ｎｍの範囲にあり
且つピットの半値幅が０．３〜１．２μｍであるものが
更に好ましく、ピットの深さが８０〜１８０ｎｍの範囲
にあり且つピットの半値幅が０．３５〜１．０μｍであ
るものが最も好ましい。

【００１９】上記基板表面にはまた、記録又は再生時の
トラッキングを良好に行なうために、プリグルーブ（ト
ラッキング用溝）が形成されている。プリグルーブの形
状は、グルーブの深さが５〜１２０ｎｍの範囲にあり且
つグルーブの半値幅（グルーブの深さの１／２の深さに
おけるグルーブの幅）が０．２〜１．４μｍであるもの
が好ましく、グルーブの深さが１０〜９０ｎｍの範囲に
あり且つグルーブの半値幅が０．３〜１．２μｍである
ものが更に好ましく、グルーブの深さが２０〜６０ｎｍ
の範囲にあり且つグルーブの半値幅が０．３５〜１．０
μｍであるものが最も好ましい。アドレッシング、或は
線速制御用にグルーブをウォブリングさせても良い。

【００２０】プリグルーブの深さは、プリピットの深さ
よりも光路長で表わしてλ／１６（但し、λは再生用レ
ーザ光の波長であって、以下の記載において同じである
）以上短いことが好ましく、λ／１４以上短いことが更
に好ましく、λ／１２以上短いことが特に好ましい。その理由は、プリグルーブの深さを、変調度が十分大き
くなるプリピットの深さと同じように大きくすると、プ
リグルーブの反射率が低くなり過ぎるからである。

【００２１】基板材料がプラスチックの場合は、射出成
形あるいは押出成形などにより基板表面に上記プリピッ
トとプリグルーブとを直接設けてもよい。また、基板の
表面上に、上記プリピットとプリグルーブとを形成する
ためのプリピット層を設けてもよい。

【００２２】プリピット層の材料としては、アクリル酸
のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテト
ラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（または
オリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることが
できる。

【００２３】プリピット層の形成は、まず精密に作られ
た母型（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステルお
よび重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗
布液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介して
紫外線の照射により液層を硬化させて基板と液相とを固
着させる。次いで、基板を母型から剥離することにより
プリピット層の設けられた基板が得られる。プリピット
層の層厚は一般に０．１〜１００μｍの範囲にあり、好
ましくは０．１〜５０μｍの範囲である。

【００２４】本発明の情報記録媒体においては基板の表
面に特定の下引層が設けられている。即ち、この下引層
は、再生用レーザ光の波長に対して屈折率が３以下であ
り且つ消衰係数が２以上であり、１〜３０ｎｍの層厚を
有する無機物からなる層である。下引層の上記屈折率は
２以下であり、上記消衰係数は３以上であることが好ま
しい。下引層の上記屈折率が上記の範囲よりも大きいと
、下引層での反射率が大き過ぎて光吸収層への光の量が
少なくなるために、情報の記録時に高パワーを必要とす
ることになり、下引層の上記消衰係数が上記の値よりも
小さいと、下引層での反射率が小さ過ぎてプリピットで
の変調度が小さくなり過ぎる。

【００２５】また、下引層の層厚は、３〜２５ｎｍ、特
に５〜２０ｎｍであることが好ましい。下引層の層厚が
上記の範囲よりも大きいと、下引層での反射率が大き過
ぎて光吸収層への光の量が少なくなるために、情報の記
録時に高パワーを必要とすることになり、下引層の層厚
が上記の範囲よりも小さいと、下引層での反射率が小さ
過ぎてプリピットでの変調度が小さくなり過ぎる傾向に
ある。

【００２６】下引層の材料は、形成した下引層が上記の
ような屈折率及び消衰係数を有する下引層になるような
無機物からなる。下引層の材料としてはＢｅ、Ｂ、Ｃ、
Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ
、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒ
ｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、
Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓ
ｍ、Ｅｕ、Ｃｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ
、Ｌｕなどの金属及び半金属を挙げることができ、これ
らの一種又は二種以上の組み合わせ若しくは合金を使用
できる。これらの中でも、Ｂｅ、Ｂ、Ｃ、Ｓｉ、Ｔｉ、
Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｙ、
Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｔａ、Ｗ
などが好ましく、特に、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｍｏ、Ｒｈ
、Ｐｄ、Ａｕ、Ａｇ、Ｔａ、Ｗなどが好ましい。

【００２７】下引層は、たとえば上記下引層形成物質を
蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングする
ことにより基板の上に形成することができる。特に、ス
パッタリングによって下引層を成膜することが好ましい
。

【００２８】下引層の上に、例えば、アクリル系樹脂、
スチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド樹
脂などの樹脂を含む塗布液を使用して、光吸収層を形成
するための塗布液中の溶剤から保護するための耐溶剤層
を設けてもよい。

【００２９】下引層（又は耐溶剤層）の上には、色素を
含む光吸収層が設けられている。基板側からレーザ光を
照射して光吸収層に再生用のピットを形成することによ
り、光吸収層に情報を記録する。従って、基板のプリグ
ルーブが形成された領域の光吸収層は、記録層として機
能する。

【００３０】本発明に使用される色素は特に限定される
ものではなく、どのようなものでも良い。例えば、シア
ニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン
系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、ア
ズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ，Ｃｒ
などの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタ
ン系色素、アミニウム系色素、ジインモニウム系色素、
ニトロソ系色素、ロイコ系色素、クロコニウム系色素、
等々の色素を挙げることができる。

【００３１】これらの色素は、ライト・ワンス（ＷＯ）
型に限らず、リライタブル（ＲＷ）型（又は可逆型）の
ものであってもよい。

【００３２】これらの色素のうちでも記録再生用レーザ
ーとして近赤外光を発振する半導体レーザーの利用が実
用化されている点から、７００〜９００ｎｍの近赤外領
域の光に対する吸収率が高い色素が好ましい。

【００３３】特に、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ナフタロシアニン系色素、アズレニウム系色素及
びスクワリリウム系色素が好ましく、シアニン系色素の
中でも、ナフトインドレニン系色素及びイミダゾキノキ
サリン系色素が好ましい。

【００３４】これらの色素は単独でもあるいは二種以上
の混合物として用いてもよい。また、シアニン系色素を
用いる場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系
色素又はジインモニウム系色素をクエンチャーとして一
緒に用いることが好ましい。その場合、クエンチャーと
して金属錯塩系色素などを全色素１モルに対して０．０
０１〜０．３モルの割合で含むことが好ましい。

【００３５】本発明における光吸収層は、上記のような
色素を溶剤に溶解して色素溶液を調製し、この色素溶液
を適当な塗布方法、例えば、スピンコート法、スプレー
法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、
ドクターコート法、スクリーン印刷法などの方法により
下引層の上に塗布して塗膜を形成した後乾燥することに
よって形成することができる。

【００３６】上記の色素溶液を調製するために使用する
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチル
ベンゼンなどのような芳香族炭化水素系溶剤；ヘキサン
、オクタン、ノナン、シクロヘキサンなどのような脂肪
族炭化水素系溶剤；酢酸のような有機酸系溶剤；酢酸エ
チル、酢酸ブチル、酢酸アミル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、セロソルブアセテートな
どのようなエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなど
のようなケトン系溶剤；ジクロルメタン、１，２−ジク
ロルエタン、クロロホルム、メチルクロロホルム、トリ
クレン、四塩化炭素、テトラクロロエチレンなどのよう
なハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラン、エ
チルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン、ダ
イグライムなどのようなエーテル系溶剤；エタノール、
ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール
、アミルアルコール、ジアセトンアルコール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、ベンジルアルコールなどのようなアルコール系
溶剤；ジメチルホルムアミドのようなアミド系溶剤；２
，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのような
フッ素化アルコール、フッ素置換ケトン、フッ素置換エ
ステル、フッ素置換アミド、フッ素置換エーテル、フッ
素置換芳香族炭化水素、フッ素置換脂肪族炭化水素など
のようなフッ素系溶剤などを挙げることができる。

【００３７】上記色素溶液中の上記色素の濃度は０．５
〜１５重量％、特に１〜１０重量％、更に特に１．５〜
８重量％であることが好ましい。

【００３８】上記色素溶液中には、さらに結合剤、酸化
防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤
を目的に応じて添加してもよい。

【００３９】結合剤を使用する場合に結合剤としては、
例えばゼラチン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等
のセルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなど
の天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化
ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポ
リアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることができる
。

【００４０】上記色素溶液を、例えば、スピンコート法
により基板上に塗布する場合には、それ自体公知の装置
及び方法を使用して行なうことができる。上記色素溶液
を、一般に０〜１００℃、特に５〜８０℃、更に特に１
０〜６０℃の温度で塗布することが好ましい。基板の回
転数は、色素溶液を塗布するときは、一般に１０〜１０
００ｒ．ｐ．ｍ．、特に１００〜５００ｒ．ｐ．ｍ．に
することが好ましく、色素塗膜を乾燥するときは、一般
に３００〜１００００ｒ．ｐ．ｍ．、特に５００〜７０
００ｒ．ｐ．ｍ．、更に特に７００〜４０００ｒ．ｐ．
ｍ．にすることが好ましい。

【００４１】本発明の情報記録媒体の光吸収層の上には
更に反射層が設けられる。反射層の材料としてはＢｅ、
Ｂ、Ｃ、Ｓｃ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ａｓ、Ｏｓ、Ｔｌ、Ａｔ、
Ｆｒ、Ｒａ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ
、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、
Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔ
ｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓｂなどの金属及び半金
属を挙げることができる。これらの中でもＣ、Ａｕ、Ｚ
ｎ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｉｎ及びステンレス鋼が
特に好ましい。これらの物質は単独で用いてもよいし、
あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用いても
よい。

【００４２】反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングするこ
とにより記録層の上に形成することができる。特に、ス
パッタリングによって反射層を成膜することが好ましい
。反射層の層厚は一般には１０〜３００ｎｍ、好ましく
は４０〜２００ｎｍの範囲にある。

【００４３】反射層として貴金属反射層を設けた場合は
、その上にＡｌなどの金属密着層又は有機物の密着層を
設けることができる。

【００４４】光吸収層と反射層との間には、更にポリマ
ーなどからなるエンハンス層を設けてもよい。

【００４５】この反射層の上に、情報記録媒体全体、特
に光吸収層及び反射層を物理的及び化学的に保護する目
的で保護層を設けてもよい。また、この保護層は、基板
の光吸収層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を
高めるために設けてもよい。

【００４６】保護層に用いられる材料の例としては、無
機物質としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ３　Ｎ４　、
ＭｇＦ２　、ＳｎＯ２　等を挙げることができる。また
、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、Ｕ
Ｖ硬化性樹脂等を挙げることができ、好ましくはＵＶ硬
化性樹脂である。

【００４７】保護層は、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂などを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち
、この塗布液を塗布し、乾燥することによって形成する
ことができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままも
しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの
塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによ
って保護層を形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂と
しては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メ
タ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート
等の（メタ）アクリレートのオリゴマー類、（メタ）ア
クリル酸エステル等のモノマー類等と光重合開始剤等と
の通常のＵＶ硬化性樹脂を使用することができる。これ
らの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ
吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の材料としてＵＶ硬化性樹脂を用いることが好ま
しい。

【００４８】保護層の層厚は一般には０．１〜１００μ
ｍ、好ましくは０．２〜２０μｍ、特に好ましくは０．
３〜５μｍの範囲にある。

【００４９】上記以外にも、保護層は、たとえばプラス
チックの押出加工で得られたフィルム（必要に応じて印
刷されたものであってもよい）を接着層を介して色素記
録層の上にラミネートすることにより形成することがで
きる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方
法により設けられてもよい。

【００５０】反射層と保護層との間には、耐樹脂収縮性
などを付与する目的で、ポリマー、金属などからなる緩
衝層を設けてもよい。緩衝層の層厚は、一般には２〜１
００００ｎｍ、好ましくは５〜５０００ｎｍ、特に好ま
しくは１０〜３０００ｎｍの範囲にある。また、緩衝層
を着色することもできる。

【００５１】本発明の情報記録媒体への情報の記録は、
情報記録媒体を定線速度（好ましくは１．２〜２．８ｍ
／秒、特に好ましくは１．２〜１．４ｍ／秒）にて回転
させながら、基板側から該プレグルーブの底部にレーザ
ー光を照射してグルーブ上にある光吸収層に再生用のピ
ットを形成して信号を記録することにより行なう。信号
としてはＣＤフォーマットのＥＦＭ信号を記録すること
が本発明の効果を得る上で好ましい。一般に、記録光と
しては７５０〜８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半
導体レーザービームが用いられる。本発明の情報記録媒
体では、１０ｍＷ以下のレーザーパワーで記録すること
ができる。

【００５２】上記の記録後のピットは、基板及び／又は
色素がレーザ光の照射により発熱し、溶融、蒸発、昇華
、変形或るいは変質することにより、基板−色素間に凸
状、波状、凹状等の変化が起こったり、色素内で変化が
起こったり、色素−金属反射層間で変化が起こったりす
るなどの形態のものである。

【００５３】上記記録方法により、本発明の情報記録媒
体にＣＤフォーマット信号などを定線速度で記録を行う
ことにより、信号の変調度、再生Ｃ／Ｎなどの優れた記
録再生特性を得ることができ、さらに記録時のトラッキ
ング性、特にプッシュプル法によるトラッキング性が優
れたものとなる。

【００５４】本発明の情報記録媒体から、プリピット形
成領域の信号を再生する場合、情報記録媒体からの反射
光は主として下引層からの反射光であり、下引層及び光
吸収層を通過し反射層で反射する反射光（下引層及び光
吸収層を２回通過することになる）は、殆ど関与しない
。従って、本発明の情報記録媒体においては、プリピッ
ト形成領域からの再生反射光は、その位相差にプリピッ
トの形状が主として関与し、光吸収層の膜厚のピット部
とピット間部とでの差は殆ど関与しないので、プリピッ
ト形成領域に色素を含む光吸収層が設けられていても、
ＣＤ規格を満足する高い変調度の再生信号を得ることが
できるのである。

【００５５】また、本発明の情報記録媒体における下引
層は前記のように特定されたものであるので、プリグル
ーブ形成領域に情報を記録する際にも、またプリグルー
ブ形成領域に記録された情報を再生する際にも何等障害
にはならないのである。

【００５６】光吸収層の色素としてＲＷ型の色素を使用
した場合には、一度情報を記録した個所に別の情報を記
録することができる、所謂書換型の情報記録媒体にする
こともできる。

【００５７】

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を記載す
る。ただし、これらの各例は本発明を制限するものでは
ない。

【００５８】［実施例１］直径４６ｍｍ〜８０ｍｍの領
域にＥＦＭ信号を記録したプリピット（ピットの半値幅
：０．６μｍ、ピットの深さ：１３０ｎｍ）が形成され
、直径８０ｎｍ〜１１８ｍｍの領域にプリグルーブ（ト
ラックピッチ：１．６μｍ、グルーブの半値幅：０．５
μｍ、グルーブの深さ：６０ｎｍ）が形成された円盤状
のポリカーボネート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１
５ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ）を用意した。

【００５９】上記基板のプリピット及びプリグルーブ形
成面の上に、４８０Ｗ、ターゲット−基板距離９５ｍｍ
、ガス圧２Ｐａ、レート２ｎｍ／秒の条件下で、Ａｕを
ＤＣスパッタリングして膜厚が１０ｎｍのＡｕからなる
下引層を形成した。

【００６０】一方、下記構造式（Ａ）を有する色素（Ａ
）を、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに
溶解して、色素（Ａ）を２．０重量％含有する色素溶液
を調製した。

【００６１】

【化１】

【００６２】この色素溶液を、上記基板の下引層の上に
、スピンコート法により基板回転数２００ｒ．ｐ．ｍ．
の速度で４秒間塗布した後、回転数７００ｒ．ｐ．ｍ．
で３０秒間乾燥して、膜厚約１１０ｎｍの光吸収層を形
成した。

【００６３】形成された光吸収層の上に、４８０Ｗ、タ
ーゲット−基板距離９５ｍｍ、ガス圧２Ｐａ、レート２
ｎｍ／秒の条件下で、ＡｕをＤＣスパッタリングして膜
厚が１００ｎｍのＡｕからなる反射層を形成した。

【００６４】上記反射層上に、保護層としてＵＶ硬化性
樹脂（商品名：３０７０、スリーボンド社製）をスピン
コート法により回転数１５００ｒ．ｐ．ｍ．の速度で塗
布した後、高圧水銀灯にて紫外線を照射して硬化させ、
層厚２μｍの保護層を形成した。

【００６５】このようにして、基板、下引層、光吸収層
、反射層及び保護層からなる情報記録媒体を製造した。

【００６６】得られた情報記録媒体について、プリピッ
ト形成領域では１１Ｔ変調度を、プリグルーブ形成領域
ではＣ１（誤り訂正信号）エラーを、下記の評価方法に
より測定した。評価結果を表１に記載する。

【００６７】［情報記録媒体の評価］（１）１１Ｔ変調度情報記録媒体のプリピット形成領域のＥＦＭ信号のうち
記録長１１Ｔの直流再生信号について、信号部分とミラ
ー部（信号の無い部分）の信号強度を測定し、その変調
度（Ｃ）を次式により求めた。Ｃ＝［（ＳＨ　−ＳＬ　）／ＳＨ　］×１００（ＳＨ：
信号の最大強度、ＳＬ：信号の最小強度）

【００６８】
（２）Ｃ１エラー上記の情報記録媒体を、ディスク評価装置（ＮＡ：０．
５、レーザー波長：７８０ｎｍ）　及びＥＦＭエンコー
ダ（ＫＥＮ−ＷＯＯＤ）を用いて、記録する際のレーザ
ーパワー（記録パワー）を６ｍＷ、定線速度：１．３ｍ
／秒にてプレグルーブの底部にＥＦＭ記録を行なった。

【００６９】記録部分のグルーブにレーザ光を照射する
ようにトラッキングを行なって再生状態にし、ＥＦＭデ
コーダにより出力されるＣ１フラグ（Ｆ）の回数をカウ
ンターでカウントし、Ｃ１フラグを測定した時間（秒）
で割った値で表示した。

【００７０】［実施例２］実施例１において、色素（Ａ
）の代わりに、下記構造式（Ｂ）を有する色素（Ｂ）を
使用した他は実施例１におけると同様にして、基板、下
引層、光吸収層、反射層及び保護層からなる情報記録媒
体を製造した。

【００７１】

【化２】

【００７２】得られた情報記録媒体について、実施例１
に於けると同様にして評価した。評価結果を表１に示す
。

【００７３】［実施例３］実施例１において、下引層の
膜厚を２０ｎｍに変えた他は実施例１におけると同様に
して、基板、下引層、光吸収層、反射層及び保護層から
なる情報記録媒体を製造した。

【００７４】得られた情報記録媒体について、実施例１
に於けると同様にして評価した。評価結果を表１に示す
。

【００７５】［比較例１］下引層を設けないで、基板の
プリピット及びプリグルーブ形成面の上に光吸収層を直
接形成した他は実施例１におけると同様にして、基板、
光吸収層、反射層及び保護層からなる情報記録媒体を製
造した。

【００７６】得られた情報記録媒体について、実施例１
に於けると同様にして評価した。評価結果を表１に示す
。

【００７７】［比較例２］下引層を設けないで、基板の
プリピット及びプリグルーブ形成面の上に光吸収層を直
接形成した他は実施例２におけると同様にして、基板、
光吸収層、反射層及び保護層からなる情報記録媒体を製
造した。

【００７８】得られた情報記録媒体について、実施例１
に於けると同様にして評価した。評価結果を表１に示す
。

【００７９】

【表１】

【００８０】表１より明らかなように、実施例の情報記
録媒体は、プリピット形成領域（ＲＯＭ領域）で変調度
が大きく、プリグルーブ形成領域（情報記録領域）でエ
ラーが少なく、優れた性能を有するものである。

【００８１】これに対して、比較例の情報記録媒体は、
プリグルーブ形成領域のエラーは少ないものの、プリピ
ット形成領域（ＲＯＭ領域）での変調度が極めて小さい
ものであった。

【００８２】

【発明の効果】本発明の情報記録媒体は、プリピット形
成領域へ光吸収層が形成されていても変調度の高い再生
信号を得ることができると共に、レーザ光の照射により
グルーブ形成領域へ情報を記録すること及び記録された
情報を再生することをエラーが少なく行なえるという、
顕著に優れた性能を有する情報記録媒体である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の情報記録媒体の一例の断面を模式的に
示した断面図である。

【符号の説明】

１　　基板２　　下引層３　　光吸収層４　　反射層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　プリピット及びプリグルーブが形成さ
れた円盤状の基板上に、再生用レーザ光の波長に対して
屈折率が３以下であり且つ消衰係数が２以上であり、１
〜３０ｎｍの層厚を有する無機物からなる下引層、レー
ザ光の照射により情報の記録が可能な色素を含む光吸収
層、そして金属からなる反射層がこの順で設けられてな
ることを特徴とする情報記録媒体。