JPH0376686A - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、高エネルギー密度のレーザビームを用いての
情報の記録(書き込み)および/または再生(読み取り
)が可能な情報記録媒体の製造方法、特に、新規な溶剤
系を使用して調製した塗布液を使用して記録層を形成す
ることを含む情報記録媒体の製造方法に関する。
情報の記録(書き込み)および/または再生(読み取り
)が可能な情報記録媒体の製造方法、特に、新規な溶剤
系を使用して調製した塗布液を使用して記録層を形成す
ることを含む情報記録媒体の製造方法に関する。
[発明の技術的背景]
近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビーム
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。
この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・ディ
スク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリ
などとして使用されている。
スク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリ
などとして使用されている。
光ディスクは基本構造として、ガラス、合成樹脂などか
らなる円盤状の基板と、この上に設けられたBi、Sn
、In、Te等の金属または半金属;またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とを有
する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には通常
、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるい
は光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質か
らなる中間層が設けられることが多い。
らなる円盤状の基板と、この上に設けられたBi、Sn
、In、Te等の金属または半金属;またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とを有
する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には通常
、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるい
は光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質か
らなる中間層が設けられることが多い。
また、情報記録媒体の耐久性を向上させる目的で、記録
層上に保護層を設けたり、あるいはディスク構造として
、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板上に
記録層を設け、この二枚の基板を、記録層が内側に位置
し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサと
リング状外側スペーサとを介して接合してなるエアーサ
ンドイッチ構造が提案されている。このような保護層が
設けられた光ディスクやエアーサンドイッチ構造を有す
る光ディスクでは、記録層は直接外気に接することがな
く、情報の記録、再生は基板を透過するレーザ光で行な
われるために、記録層が物理的または化学的な損傷を受
けたり、あるいはその表面に塵埃が付着して情報の記録
、再生の障害となることがないとの利点がある。
層上に保護層を設けたり、あるいはディスク構造として
、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板上に
記録層を設け、この二枚の基板を、記録層が内側に位置
し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサと
リング状外側スペーサとを介して接合してなるエアーサ
ンドイッチ構造が提案されている。このような保護層が
設けられた光ディスクやエアーサンドイッチ構造を有す
る光ディスクでは、記録層は直接外気に接することがな
く、情報の記録、再生は基板を透過するレーザ光で行な
われるために、記録層が物理的または化学的な損傷を受
けたり、あるいはその表面に塵埃が付着して情報の記録
、再生の障害となることがないとの利点がある。
そして、光ディスクへの情報の記録および光ディスクか
らの情報の再生は通常下記の方法により行なわれる。
らの情報の再生は通常下記の方法により行なわれる。
情報の記録はレーザビームをこの光ディスクに照射する
ことにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を吸収
して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化
(たとえば、ビットの生成)が生じてその光学的特性を
変えることにより情報が記録される。情報の再生もまた
、レーザビームを光ディスクに照射することにより行な
われ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射光または
透過光を検出することにより情報が再生される。
ことにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を吸収
して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な変化
(たとえば、ビットの生成)が生じてその光学的特性を
変えることにより情報が記録される。情報の再生もまた
、レーザビームを光ディスクに照射することにより行な
われ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射光または
透過光を検出することにより情報が再生される。
このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有す
る他に、記録層を塗布法により簡単に形成することがで
きるという製造上の大きな利点を有している。
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有す
る他に、記録層を塗布法により簡単に形成することがで
きるという製造上の大きな利点を有している。
上記のような情報記録媒体の記録層に使用される色素は
一般に溶解性が低く、記録層形成用塗布液を調製するた
めの溶剤として色素に対して溶解度の高いジクロロメタ
ン、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素が提案さ
れていた。
一般に溶解性が低く、記録層形成用塗布液を調製するた
めの溶剤として色素に対して溶解度の高いジクロロメタ
ン、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素が提案さ
れていた。
しかしながら、これらのハロゲン化炭化水素はプラスチ
ックに対しても溶解性を示すので、基板材料としてプラ
スチックを使用した場合には、ハロゲン化炭化水素から
調製した塗布液を塗布したとき基板表面が溶解して、基
板表面に設けられているトラッキング用グループなどの
凹凸が消失したり、基板材料の記録層への混入により記
録層の反射率が低下するなどの問題点があった。
ックに対しても溶解性を示すので、基板材料としてプラ
スチックを使用した場合には、ハロゲン化炭化水素から
調製した塗布液を塗布したとき基板表面が溶解して、基
板表面に設けられているトラッキング用グループなどの
凹凸が消失したり、基板材料の記録層への混入により記
録層の反射率が低下するなどの問題点があった。
本願特許出願人は、情報記録媒体の色素を含む記録層形
成のための塗布液の調製を容易にし、かつ塗布液により
基板が溶解するのを防止するために、この塗布液調製用
の溶剤として弗素含有化合物を使用することを提案して
いる(特開昭63−159090号公報参照)。
成のための塗布液の調製を容易にし、かつ塗布液により
基板が溶解するのを防止するために、この塗布液調製用
の溶剤として弗素含有化合物を使用することを提案して
いる(特開昭63−159090号公報参照)。
[発明の目的]
本発明は、溶解性の低い色素を用いた場合でも記録層形
成用塗布液を容易に調製することができ、しかも基板を
溶解するなどの基板に対して悪影響を与えることなく情
報記録媒体を製造することができる方法を提供すること
を目的とする。
成用塗布液を容易に調製することができ、しかも基板を
溶解するなどの基板に対して悪影響を与えることなく情
報記録媒体を製造することができる方法を提供すること
を目的とする。
[発明の要旨]
本発明は、円盤状基板上に、レーザ光により情報の記録
又は再生が可能な色素を含む記録層が設けられた情報記
録媒体の製造方法において、弗素化アルコール及び酸を
含む溶剤に該色素を溶解して調製した該記録層形成用塗
布液を、該基板上に塗布、乾燥して該記録層を形成する
ことを特徴とする情報記録媒体の製造方法にある。
又は再生が可能な色素を含む記録層が設けられた情報記
録媒体の製造方法において、弗素化アルコール及び酸を
含む溶剤に該色素を溶解して調製した該記録層形成用塗
布液を、該基板上に塗布、乾燥して該記録層を形成する
ことを特徴とする情報記録媒体の製造方法にある。
上記弗素化アルコール及び酸を含む溶剤は、上記の色素
、特に溶解性の低いメロシアニン系色素を溶解させる能
力が大きいので、上記記録層形成用塗布液を容易に調製
することができる。しかもこの溶剤はプラスチックから
なる基板を溶解することがないので、記録層形成のため
の塗布過程で基板が損傷を受けることがない。
、特に溶解性の低いメロシアニン系色素を溶解させる能
力が大きいので、上記記録層形成用塗布液を容易に調製
することができる。しかもこの溶剤はプラスチックから
なる基板を溶解することがないので、記録層形成のため
の塗布過程で基板が損傷を受けることがない。
従って、本発明によれば、従来問題になっていた基板表
面のグループの消失及び記録層の反射率の低下などが生
じることがなく、高性能の情報記録媒体を製造すること
ができる。また、予め基板に溶剤に対する不溶化処理な
どを行なう必要もないから、情報記録媒体の製造工程が
煩雑となったリ、製造コストが高くなることもない。
面のグループの消失及び記録層の反射率の低下などが生
じることがなく、高性能の情報記録媒体を製造すること
ができる。また、予め基板に溶剤に対する不溶化処理な
どを行なう必要もないから、情報記録媒体の製造工程が
煩雑となったリ、製造コストが高くなることもない。
上記本発明の情報記録媒体の製造方法の好ましい態様は
以下のとおりである。
以下のとおりである。
1)上記色素が、シアニン系色素、メロシアニン系色素
、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、フタロ
シアニン系色素、ビリリウム系色素、チオピリリウム系
色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素
、トリフェニルメタン系色素、キノン系色素、アミニウ
ム系色素、ジインモニウム系色素、金属錯塩系色素、な
どから選ばれる色素の一種又は二種以上からなることを
特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、フタロ
シアニン系色素、ビリリウム系色素、チオピリリウム系
色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素
、トリフェニルメタン系色素、キノン系色素、アミニウ
ム系色素、ジインモニウム系色素、金属錯塩系色素、な
どから選ばれる色素の一種又は二種以上からなることを
特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
2)上記色素が、メロシアニン系色素を含む色素である
ことを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法 3)上記記録層が、更に金属錯体系色素を上記色素又は
色素混合物1モル部に対してo、oot〜0.2モル部
含むことを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
ことを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法 3)上記記録層が、更に金属錯体系色素を上記色素又は
色素混合物1モル部に対してo、oot〜0.2モル部
含むことを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
4)上記記録層の層厚が、500〜2000Xの範囲に
あることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
あることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
5)上記弗素化アルコールが、−数式(I)A−CH,
OH(I) [式中、Aは、CF3又はH(CF2−CF2) n(
ただし、nは1〜3の整数)である] で表わされる化合物であることを特徴とする上記情報記
録媒体の製造方法。
OH(I) [式中、Aは、CF3又はH(CF2−CF2) n(
ただし、nは1〜3の整数)である] で表わされる化合物であることを特徴とする上記情報記
録媒体の製造方法。
6)上記酸が、無機酸又は有機酸であることを特徴とす
る上記情報記録媒体の製造方法。
る上記情報記録媒体の製造方法。
7)上記溶剤が更に少量の水を含むことを特徴とする上
記情報記録媒体の製造方法。
記情報記録媒体の製造方法。
8)上記溶剤の常温におけるpHが1〜6であることを
特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
9)上記記録層の上に、Au、Ag、Cu、Pt、Cr
、Ti、ALLおよびステンレスからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の金属または合金からなる反射層が設
けられていることを特徴とする上記情報記録媒体の製造
方法。
、Ti、ALLおよびステンレスからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の金属または合金からなる反射層が設
けられていることを特徴とする上記情報記録媒体の製造
方法。
10)上記反射層の層厚が、SOO〜2000大の範囲
にあることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
にあることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
11)上記反射層の上に保護層が設けられていることを
特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
12)上記基板の材料が、ポリカーボネート、ポリオレ
フィンまたはセルキャストポリメチルメタクリレートで
あることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
フィンまたはセルキャストポリメチルメタクリレートで
あることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
[発明の詳細な記述]
本発明により製造される情報記録媒体は、円盤状基板上
に、レーザ光により情報の記録又は再生が可能な色素を
含む記録層が設けられた基本構成を有する。
に、レーザ光により情報の記録又は再生が可能な色素を
含む記録層が設けられた基本構成を有する。
上記基板はプラスチックから作られた基板であることが
好ましく、このプラスチックとしては従来の情報記録媒
体の基板として用いられている各種の材料から任意に選
択することができる。基板の光学的特性、平面性、加工
性、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点か
ら、基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメ
タクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;ポリカーボネート
樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステル
を挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネート
、ポリオレフィンおよびセルキャストポリメチルメタク
リレートを挙げることができる。
好ましく、このプラスチックとしては従来の情報記録媒
体の基板として用いられている各種の材料から任意に選
択することができる。基板の光学的特性、平面性、加工
性、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点か
ら、基板材料の例としては、セルキャストポリメチルメ
タクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;ポリカーボネート
樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステル
を挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネート
、ポリオレフィンおよびセルキャストポリメチルメタク
リレートを挙げることができる。
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質;シランカップリング剤などの有機
物質;および無機酸化物(S i O,、A11203
等)、無機弗化物(MgFt)などの無機物質を挙げる
ことができる。
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質;シランカップリング剤などの有機
物質;および無機酸化物(S i O,、A11203
等)、無機弗化物(MgFt)などの無機物質を挙げる
ことができる。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に0.005〜20
μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜!0μmの範
囲である。
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に0.005〜20
μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜!0μmの範
囲である。
また、基板(または下塗層)上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層および/またはプレピット層が設け
られてもよい。プレグルーブ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー(
またはオリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層および/またはプレピット層が設け
られてもよい。プレグルーブ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー(
またはオリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型(ス
タンバ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。
タンバ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。
次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般に0.05〜100μmの範囲にあり、好まし
くは0.1〜50μmの範囲である。基板材料がプラス
チックの場合は、射出成形あるいは押出成形などにより
直接基板にプレグルーブおよび/またはプレピットが設
けられてもよい。
ブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般に0.05〜100μmの範囲にあり、好まし
くは0.1〜50μmの範囲である。基板材料がプラス
チックの場合は、射出成形あるいは押出成形などにより
直接基板にプレグルーブおよび/またはプレピットが設
けられてもよい。
基板(またはプレグルーブ層等)上には、レーザ光によ
り情報の記録(書き込み)または再生(読み取り)が可
能な色素を含む記録層が設けられる。本発明においては
、特に、記録層を形成するための塗布液を調製するため
に使用する溶剤系に特徴を有する。
り情報の記録(書き込み)または再生(読み取り)が可
能な色素を含む記録層が設けられる。本発明においては
、特に、記録層を形成するための塗布液を調製するため
に使用する溶剤系に特徴を有する。
上記色素は特に限定されるものではなく、どのようなも
のでも良い。例えば、シアニン系色素、フタロシアニン
系色素、メロシアニン系色素、ピリリウム系色素、チオ
ピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウ
ム系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系
色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系
色素、キノン系色素、アミニウム系色素、ジインモニウ
ム系色素、金属錯塩系色素などを挙げることができる。
のでも良い。例えば、シアニン系色素、フタロシアニン
系色素、メロシアニン系色素、ピリリウム系色素、チオ
ピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウ
ム系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系
色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系
色素、キノン系色素、アミニウム系色素、ジインモニウ
ム系色素、金属錯塩系色素などを挙げることができる。
色素は単一の色素であってもよく、また二種以上の色素
の混合物であってもよい。特にメロシアニン系色素のよ
うな、溶剤、特に弗素化アルコールのような基板を溶解
しないような溶剤に対して溶解度の小さい色素である場
合に、本発明は優れた効果を奏する。
の混合物であってもよい。特にメロシアニン系色素のよ
うな、溶剤、特に弗素化アルコールのような基板を溶解
しないような溶剤に対して溶解度の小さい色素である場
合に、本発明は優れた効果を奏する。
また、シアニン系色素、メロシアニン系色素等を用いる
場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニクム系・ジイ
ンモニウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いるこ
とが好ましい。その場合、クエンチャ−として金属錯塩
系色素などを全色素1モル部に対して0.001〜0.
2モル部含むことが好ましい。
場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニクム系・ジイ
ンモニウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いるこ
とが好ましい。その場合、クエンチャ−として金属錯塩
系色素などを全色素1モル部に対して0.001〜0.
2モル部含むことが好ましい。
本発明において記録層の形成は、上記色素、さらに所望
により結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで
この塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾
燥することにより行なうことができる。
により結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで
この塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾
燥することにより行なうことができる。
本発明においては、上記記録層形成用塗布液を調製する
ための溶剤として、弗素化アルコール及び酸を含む溶剤
を使用する。
ための溶剤として、弗素化アルコール及び酸を含む溶剤
を使用する。
上記弗素化アルコールとしては、−数式(I)A −C
H20H(I ) [式中、Aは、CF3又は’A (CF2−CF2)。
H20H(I ) [式中、Aは、CF3又は’A (CF2−CF2)。
(ただし、nは1〜3の整数)である]
で表わされる化合物であることが好ましい。
上記弗素化アルコールの好ましい具体例とじては、2,
2,3.3−テトラフルオロプロパツール、2,2,3
,3,4,4,5.5−オクタフルオロペンタノール、
2,2.2−)ルフルオロエタノール等を挙げることが
できる。最も好ましいものは、2,2,3.3−テトラ
フルオロプロパツールである。
2,3.3−テトラフルオロプロパツール、2,2,3
,3,4,4,5.5−オクタフルオロペンタノール、
2,2.2−)ルフルオロエタノール等を挙げることが
できる。最も好ましいものは、2,2,3.3−テトラ
フルオロプロパツールである。
上記酸としては、無機酸又は有機酸の何れであってもよ
い。上記無機酸としては、塩化水素、臭化水素、硫酸、
硝酸、燐酸、三弗化硼素、等を挙げることができ、なか
でも塩化水素が特に好ましい。また、上記有機酸として
は、低級脂肪族カルボン酸(例えば、ギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、吉草酸、シュウ酸、コハク酸、酒石酸
、等)、脂肪族又は芳香族スルホン酸(例えば、メタン
スルホン酸、エタンスルホン酸、メタンジスルホン酸、
エタンジスルホン酸、フェニルスルホン酸等)、脂肪族
又は芳香族スルフィン酸(例えば、エタンスルフィン酸
、フェニルスルフィン酸等)を挙げることができる。な
かでも低級脂肪族カルボン酸、特に酢酸が好ましい。
い。上記無機酸としては、塩化水素、臭化水素、硫酸、
硝酸、燐酸、三弗化硼素、等を挙げることができ、なか
でも塩化水素が特に好ましい。また、上記有機酸として
は、低級脂肪族カルボン酸(例えば、ギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、吉草酸、シュウ酸、コハク酸、酒石酸
、等)、脂肪族又は芳香族スルホン酸(例えば、メタン
スルホン酸、エタンスルホン酸、メタンジスルホン酸、
エタンジスルホン酸、フェニルスルホン酸等)、脂肪族
又は芳香族スルフィン酸(例えば、エタンスルフィン酸
、フェニルスルフィン酸等)を挙げることができる。な
かでも低級脂肪族カルボン酸、特に酢酸が好ましい。
上記弗素化アルコール及び酸を含む溶剤中には更に少量
の水が含まれていてもよい。含有される水の量は、上記
色素の溶解性を低下させないような量に調節すべきであ
る。
の水が含まれていてもよい。含有される水の量は、上記
色素の溶解性を低下させないような量に調節すべきであ
る。
上記溶剤中の弗素化アルコールと酸の混合割合は、使用
する弗素化アルコールと酸の種類によりまた使用する色
素の種類により上記溶剤への色素の溶解性が変化するの
で、一義的に定めることはできず、色素の溶解性が高く
なるように適宜決定すればよい。上記溶剤中の弗素化ア
ルコールと酸の混合割合は、当業者が実験的に容易に決
定することができる。
する弗素化アルコールと酸の種類によりまた使用する色
素の種類により上記溶剤への色素の溶解性が変化するの
で、一義的に定めることはできず、色素の溶解性が高く
なるように適宜決定すればよい。上記溶剤中の弗素化ア
ルコールと酸の混合割合は、当業者が実験的に容易に決
定することができる。
また、上記溶剤が水を含有する場合には、上記溶剤の常
温におけるpHが1〜6であるように上記酸を混合する
ことが好ましい。
温におけるpHが1〜6であるように上記酸を混合する
ことが好ましい。
上記溶剤には、色素の溶解性を実質的に低下させないよ
うな含有量(−殻内には50容量%以下の量)で、従来
色素含有塗布液調製用に使用されている溶剤、例えば、
酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどの
エステル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メ
チルイソブチルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、
1.2−ジクロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン
化炭化水素、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジ
オキサンなどのエーテル、エタノール、n−プロパツー
ル、イソプロパツール、n−ブタノールなどのアルコー
ル、ジメチルホルムアミドなどのアミド、等の溶剤(こ
れらの溶剤には更にその50容量%以下の脂肪族炭化水
素溶剤、脂環族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤など
の炭化水素系溶媒が含有されていてもよい)が含まれて
いてもよい。
うな含有量(−殻内には50容量%以下の量)で、従来
色素含有塗布液調製用に使用されている溶剤、例えば、
酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどの
エステル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メ
チルイソブチルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、
1.2−ジクロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン
化炭化水素、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジ
オキサンなどのエーテル、エタノール、n−プロパツー
ル、イソプロパツール、n−ブタノールなどのアルコー
ル、ジメチルホルムアミドなどのアミド、等の溶剤(こ
れらの溶剤には更にその50容量%以下の脂肪族炭化水
素溶剤、脂環族炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤など
の炭化水素系溶媒が含有されていてもよい)が含まれて
いてもよい。
塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
牙子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
牙子物質;およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。色素の良好な配向状態を形成するためには、スピンコ
ード法を用いることが好ましい。ざらにスビコート時に
、スピンナーの回転数を500〜5000 r、p、+
n、の範囲にて、そして乾燥時間を1〜60秒の範囲に
て行なうことが上記色素の良好な配向を促進させる上で
好ましい。
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。色素の良好な配向状態を形成するためには、スピンコ
ード法を用いることが好ましい。ざらにスビコート時に
、スピンナーの回転数を500〜5000 r、p、+
n、の範囲にて、そして乾燥時間を1〜60秒の範囲に
て行なうことが上記色素の良好な配向を促進させる上で
好ましい。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1.0〜95%(重量比)の
範囲にある。
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1.0〜95%(重量比)の
範囲にある。
色素記録層の層厚は一般には200〜3000工、好ま
しくは、500〜2000大の範囲である。
しくは、500〜2000大の範囲である。
本発明の情報記録媒体の製造方法において、上記記録層
の上に反射層を設けてもよい。反射層を設けることCよ
り、反射率の向上の効果、情報の再生時におけるS/N
の向上および記録時における感度の向上の効果も得るこ
とができる。
の上に反射層を設けてもよい。反射層を設けることCよ
り、反射率の向上の効果、情報の再生時におけるS/N
の向上および記録時における感度の向上の効果も得るこ
とができる。
反射層の材料としては、Mg、Se、Y、Ti、 Zr
、 Hf、 V、 Nb、 Ta%Cr、 M。
、 Hf、 V、 Nb、 Ta%Cr、 M。
W%Mn%Re、Fe、 co%N i、Ru。
Rh%Pd、I r%Pt、Cu、Ag、Au、Zn、
Cd、A11%Ga、In1Si、Ge。
Cd、A11%Ga、In1Si、Ge。
Te%Pb、Po、Sn、Biなどの金属および半金属
を挙げることができる。さらにステンレス鋼などの合金
であってもよい。本発明では、温度400Kにおける熱
伝導率が高い、少なくとも10W/m−に以上の金属か
らなる反射層が設けられることが好ましい。これにより
、色素記録層にレーザー光を照射した際の熱を反射層に
急速に伝導することができる。これらの中でもAu、A
g、Cu、Pt、A1.、Cr、Niおよびステンレス
鋼が特に好ましい。これらの物質は単独で用いてもよい
し、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用い
てもよい。
を挙げることができる。さらにステンレス鋼などの合金
であってもよい。本発明では、温度400Kにおける熱
伝導率が高い、少なくとも10W/m−に以上の金属か
らなる反射層が設けられることが好ましい。これにより
、色素記録層にレーザー光を照射した際の熱を反射層に
急速に伝導することができる。これらの中でもAu、A
g、Cu、Pt、A1.、Cr、Niおよびステンレス
鋼が特に好ましい。これらの物質は単独で用いてもよい
し、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用い
てもよい。
反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。
反射層の層厚は一般には100〜3000Xの範囲、好
ましくは、500〜2000Xの範囲である。
ましくは、500〜2000Xの範囲である。
そして該反射層の上には、記録層および情報記録媒体全
体を物理的および化学的に保護する目的で保護層を設け
てもよい。また、この保護層は、基板の記録層が設けら
れていない側にも耐傷性、耐湿性を高めるために設けて
もよい。
体を物理的および化学的に保護する目的で保護層を設け
てもよい。また、この保護層は、基板の記録層が設けら
れていない側にも耐傷性、耐湿性を高めるために設けて
もよい。
保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、Si0%5in2、Si3N4、MgF、、5n0
2等を挙げることができる。また、有機物質としては、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げ
ることができ、好ましくはUV硬化性樹脂である。特に
上記有機物質を塗布により設けた場合に有効である。
は、Si0%5in2、Si3N4、MgF、、5n0
2等を挙げることができる。また、有機物質としては、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げ
ることができ、好ましくはUV硬化性樹脂である。特に
上記有機物質を塗布により設けた場合に有効である。
すなわち、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布
し、乾燥することによっても形成することができる。U
V硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤
に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、
UV光を照射して硬化させることによっても形成するこ
とができる。UV硬化性樹脂としては、ウレタン(メタ
)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリ
エステル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレー
トのオリゴマー類、(メタ)アクリル酸エステル等のモ
ノマー類等さらに光重合開始剤等の通常のUV硬化性樹
脂を使用することができる。これらの塗布液中には、更
に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤
を目的に応じて添加してもよい。本発明では、UV硬化
性樹脂を用いることが好ましい。
剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布
し、乾燥することによっても形成することができる。U
V硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤
に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、
UV光を照射して硬化させることによっても形成するこ
とができる。UV硬化性樹脂としては、ウレタン(メタ
)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリ
エステル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレー
トのオリゴマー類、(メタ)アクリル酸エステル等のモ
ノマー類等さらに光重合開始剤等の通常のUV硬化性樹
脂を使用することができる。これらの塗布液中には、更
に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤
を目的に応じて添加してもよい。本発明では、UV硬化
性樹脂を用いることが好ましい。
保護層の層厚は一般には0.1〜100μmの範囲にあ
る。
る。
上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押出
加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
上にラミネートすることにより形成することができる。
加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
上にラミネートすることにより形成することができる。
あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法によ
り設けられてもよい。
り設けられてもよい。
以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。
[実施例1]
下記構造式:
を有する色素を、2.2,3.3−テトラフルオロプロ
パツール10mjlに対し0.INの塩酸1mJ2の割
合で混合した溶剤に溶解して、色素が均一に溶解した記
録層塗布液(色素濃度=2.o重量%)を調製した。色
素の上記溶剤に対する溶解性は非常に良好であった。
パツール10mjlに対し0.INの塩酸1mJ2の割
合で混合した溶剤に溶解して、色素が均一に溶解した記
録層塗布液(色素濃度=2.o重量%)を調製した。色
素の上記溶剤に対する溶解性は非常に良好であった。
トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板(外径:130mm、内径:15mm、厚さ:
1.2mm、トラックピッチ=1.6μm、グループの
深さ:800X)上に、上記塗布液をスピンコード法に
より回転数50゜r、p、m、の速度で塗布し、30秒
間乾燥して膜厚が1300Xの記録層を形成した。得ら
れた記録層は、表面が平滑であり、情報記録媒体として
の使用に耐え得るものであった。
ート基板(外径:130mm、内径:15mm、厚さ:
1.2mm、トラックピッチ=1.6μm、グループの
深さ:800X)上に、上記塗布液をスピンコード法に
より回転数50゜r、p、m、の速度で塗布し、30秒
間乾燥して膜厚が1300Xの記録層を形成した。得ら
れた記録層は、表面が平滑であり、情報記録媒体として
の使用に耐え得るものであった。
[比較例1]
実施例1において、記録層塗布液を調製する際に、溶剤
として、塩酸を混合せず2,2,3.3−テトラフルオ
ロプロパツールのみを使用したところ、沈殿が生成した
。この液は、スピンコード法により基板に塗布すること
はできないものであった。
として、塩酸を混合せず2,2,3.3−テトラフルオ
ロプロパツールのみを使用したところ、沈殿が生成した
。この液は、スピンコード法により基板に塗布すること
はできないものであった。
[実施例2]
色素を、下記構造式:
%式%
を有する色素に変えた他は、実施例1におけると同様に
して記録層塗布液を調製したところ、色素が均一に溶解
した記録層塗布液が得られた。この塗布液を使用して、
実施例1におけると同様にして記録層を形成したところ
、得られた記録層は、表面が平滑であり、情報記録媒体
としての使用に耐え得るものであった。
して記録層塗布液を調製したところ、色素が均一に溶解
した記録層塗布液が得られた。この塗布液を使用して、
実施例1におけると同様にして記録層を形成したところ
、得られた記録層は、表面が平滑であり、情報記録媒体
としての使用に耐え得るものであった。
[比較例2]
実施例2において、記録層塗布液を調製する際に、溶剤
として、塩酸を混合せず2,2,3.3−テトラフルオ
ロプロパツールのみを使用したところ、沈殿が生成した
。この液は、スピンコード法により基板に塗布すること
はできないものであった。
として、塩酸を混合せず2,2,3.3−テトラフルオ
ロプロパツールのみを使用したところ、沈殿が生成した
。この液は、スピンコード法により基板に塗布すること
はできないものであった。
[実施例3]
記録層塗布液調製用の溶剤として、2,2゜3.3−テ
トラフルオロプロパツール10mj2に対し酢酸(純度
99.5%)10mJZの割合で混合した溶剤を使用し
た他は、実施例1におけると同様にして記録層塗布液を
調製したところ、色素が均一に溶解した記録層塗布液が
得られた。この塗布液を使用して、実施例1におけると
同様にして記録層を形成したところ、得られた記録層は
、表面が平滑であり、情報記録媒体としての使用に耐え
得るものであった。
トラフルオロプロパツール10mj2に対し酢酸(純度
99.5%)10mJZの割合で混合した溶剤を使用し
た他は、実施例1におけると同様にして記録層塗布液を
調製したところ、色素が均一に溶解した記録層塗布液が
得られた。この塗布液を使用して、実施例1におけると
同様にして記録層を形成したところ、得られた記録層は
、表面が平滑であり、情報記録媒体としての使用に耐え
得るものであった。
[比較例3]
実施例3において、記録層塗布液を調製する際に、溶剤
として酢酸のみを使用したところ、沈殿が生成した。こ
の液は、スピンコード法により基板に塗布することはで
きないものであった。
として酢酸のみを使用したところ、沈殿が生成した。こ
の液は、スピンコード法により基板に塗布することはで
きないものであった。
上記実施例と比較例との比較から、色素記録層塗布液調
製用の溶剤として優れている弗素化アルコールに溶解し
難い色素を使用した場合でも、弗素化アルコール及び酸
を含む溶剤を使用することにより色素が均一に溶解した
塗布液を調製することができ、スピンコード法により塗
布して記録層を形成することが可能になり、優れた情報
記録媒体を製造できることが明らかである。
製用の溶剤として優れている弗素化アルコールに溶解し
難い色素を使用した場合でも、弗素化アルコール及び酸
を含む溶剤を使用することにより色素が均一に溶解した
塗布液を調製することができ、スピンコード法により塗
布して記録層を形成することが可能になり、優れた情報
記録媒体を製造できることが明らかである。
[発明の効果]
本発明の情報記録媒体の製造方法は、溶解性の低い色素
を用いた場合でも記録層形成用塗布液を容易に調製する
ことができ、スピンコード法のような容易な方法で記録
層を形成することができ、しかも基板を溶解するなどの
基板に対して悪F29を与えることなく情報記録媒体を
製造することができるという顕著な効果を奏する。
を用いた場合でも記録層形成用塗布液を容易に調製する
ことができ、スピンコード法のような容易な方法で記録
層を形成することができ、しかも基板を溶解するなどの
基板に対して悪F29を与えることなく情報記録媒体を
製造することができるという顕著な効果を奏する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、円盤状基板上に、レーザ光により情報の記録又は再
生が可能な色素を含む記録層が設けられた情報記録媒体
の製造方法において、弗素化アルコール及び酸を含む溶
剤に該色素を溶解して調製した該記録層形成用塗布液を
、該基板上に塗布、乾燥して該記録層を形成することを
特徴とする情報記録媒体の製造方法。 2、該色素がメロシアニン系色素であることを特徴とす
る請求項1記載の情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1214310A JPH0376686A (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 情報記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1214310A JPH0376686A (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 情報記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0376686A true JPH0376686A (ja) | 1991-04-02 |
Family
ID=16653628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1214310A Pending JPH0376686A (ja) | 1989-08-21 | 1989-08-21 | 情報記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH0376686A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002342984A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-11-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光情報記録媒体の製造方法 |
WO2003028019A1 (fr) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Composition de solvant pour la production d'un support d'enregistrement optique |
-
1989
- 1989-08-21 JP JP1214310A patent/JPH0376686A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002342984A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-11-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光情報記録媒体の製造方法 |
WO2003028019A1 (fr) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Composition de solvant pour la production d'un support d'enregistrement optique |
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