JPH02265041A - 光情報記録媒体の成膜方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、微小凹凸が形成された光情報記録媒体の円板
状基板の微小凹凸形成面に液状の膜形成材料をスピンコ
ード法により塗布して、膜厚のバラツキの小さい膜を形
成させる光情報記録媒体の成膜方法に関する。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビーム
を用いる光情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この光情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・
ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止
画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メ
モリなどとして使用されている。

光ディスクは基本構造として、ガラス、合成樹脂などか
らなる円板状の基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ
、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属；またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とを有
する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には通常
、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるい
は光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質か
らなる下塗層が設けられることが多い。

また、光ディスクの耐久性を向上させる目的で、記録層
上に保護層を設けたり、あるいはディスフ構造として、
二枚の円板状基板のうちの少なくとも一枚の基板上に記
録層を設け、この二枚の基板を、記録層が内側に位置し
、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサとリ
ング状外側スペーサとを介して接合してなるエアーサン
ドイッチ構造が提案されている。このような保護層が設
けられた光ディスクやエアーサンドイッチ構造を有する
光ディスクでは、記録層は直接外気に接することがなく
、情報の記録、再生は基板を透過するレーザ光で行なわ
れるために、記録層か物理的または化学的な損傷を受け
たり、あるいはその表面に塵埃が付着して情報の記録、
再生の障害となることがないとの利点がある。

そして、光ディスクへの情報の書き込みおよび読み取り
は通常下記の方法により行なわれる。

情報の書き込みはレーザビームをこの光ディスクに照射
することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な
変化（たとえば、ビットの生成）が生じてその光学的特
性を変えることにより情報か記録される。情報の読み取
りもまた、レーザビームを光ティスフに照射することに
より行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射
光または透過光を検出することにより情報が再生される
。

上記のように、このような光ディスクの製造方法には、
記録層、下塗層、保護層などの層を円板状基板の表面に
設ける工程が含まれる。このような各層を形成させる方
法として最も一般的に採用されている方法の一つとして
スピンコード法がある。スピンコード法は、添付する第
４図に示すように、基板１を水平にしてスピンナー（図
示せず）に取り付け、スピンナーを５００〜５０００ｒ
、ｐ、ｍ、の回転数で回転させながら、上記各層となる
膜を形成させるための液状の材料を液状材料供給管２か
ら基板の上に滴下、スプレーなどにより供給し、基板の
回転による遠心力により液状材料を飛散させ基板表面に
成膜する方法である。

このスピンコード法は、液状の膜形成材料を使用して膜
Ｈの薄い膜を基板上に成膜する方法として優れた方法で
あるが、微小凹凸が形成された光情報記録媒体の円板状
基板の表面に均一な膜厚の膜を形成する場合には問題が
ある。

即ち、上記のような基板の表面にはプレピットやプレグ
ルーブが形成されており、このプレピットやプレグルー
ブは多数の微小凹凸から構成されている。第４図に示す
ような従来のスピンコード法により微小凹凸が形成され
ている基板上に成膜すると、第５図に示すように基板１
の四部３の部分の膜５の膜厚Ｇが、基板１の凸部４の部
分の膜５の膜厚りよりも大きくなり、その結果、膜５の
表面の凸部と四部との段差が基板１の表面の凸部と凹部
との段差よりも小さくなる。即ち、従来のスピンコード
法によっては、上記基板の表面にミクロ的に均一な膜を
形成させることが極めて困難である。光ディスクの製造
において、色素を含む記録層をミクロ的に均一に、即ち
プレピットやプレグルーブの凸部の膜厚りと凹部の膜厚
Ｇとが均になるように成膜することは、光ディスクの性
能上特に重要てあり、膜厚りに比較して膜厚Ｇが大きい
と記録層の表面の凸部と凹部との段差が小さくなるため
に光ディスクの信号強度が小さくなり、変澗度が小さく
なるという問題点が生ずる。

また、従来のスピンコード法によって成膜する場合には
、膜形成材料の粘度、屈折率、吸収率等によって基板の
プレピット、プレグルーブ形状を変える必要があった。

［発明の目的］ 本発明は、基板上に形成されている微小の凹凸の四部に
おける被膜の膜厚と凸部における被膜の膜厚との差が極
めて小さいミクロ的に均一な被膜を、光情報記録媒体の
基板の微小凹凸形成面に容易に形成させることができる
成膜方法を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、微小凹凸が形成された光情報記録媒体の円板
状基板の微小凹凸形成面に液状の膜形成材料をスピンコ
ード法により塗布し塗膜を形成させる光情報記録媒体の
成膜方法において、被コート面を上にして該基板を水平
に設置した状態を基準焦にして、該基板の面内を通る軸
線を中心として該基準点から１０゜〜３５ｏ°の角度該
基板を変位させた状態で、該基板を回転させながら該基
板の被コート面に該膜形成材料を供給することを特徴と
する光情報記録媒体の成膜方法にある。

上記本発明の成膜方法の好ましい態様は以下のとおりで
ある。

１）該基板の変位角度が４５゜〜３１５°であることを
特徴とする光情報記録媒体の成膜方法。

２）該基板の変位角度が９０±１０”　　　１８０±１
０°又は２７０±１ｏ°であることを特徴とする光情報
記録媒体の成膜方法。

３）該膜形成材料としてレーザ光により情報の書き込み
および／または読み取りが可能な色素を含有する記録層
形成用の材料を使用して、該基板上に記録層となる塗膜
を形成することを特徴とする光情報記録媒体の成膜方法
。

［発明の詳細な記述］ 本発明において使用される円板状基板は、従来の情報記
録媒体の基板として用いられているものであり、その表
面にプレピットやプレグルーブとしての微小凹凸が形成
された基板である。

この基板の材料は、各種の樹脂材料から任意に選択する
ことができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、取
扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、基
板材料の例としては、セルキャストポリメチルメタクリ
レート、射出成形ポリメチルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂：ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；ポリカーボネート樹脂、
アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルを挙げ
ることができる。好ましくは、ポリカーボネート、ポリ
オレフィンおよびセルキャストポリメチルメタクリレー
トを挙げることができる。

基板上には、トラッキング用溝またはアドレス信号等の
情報を表わす微小凹凸が形成された、プレピット層及び
／又はプレグルーブ層が設けられている。プレピット層
及び／又はプレグルーブ層の材料としては、アクリル酸
のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテト
ラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（または
オリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることが
できる。

プレピット層及び／又はプレグルーブ層の形成は、まず
精密に作られた母型（スタンバ−）上に上記のアクリル
酸エステルおよび重合開始剤からなる混合液を塗布し、
さらにこの塗布液層上に基板を載せたのち、基板または
母型を介して紫外線の照射により液層を硬化させて基板
と液相とを固着させる。次いで、基板を母型から剥離す
ることによりプレピット層及び／又はプレクループ層の
設けられた基板が得られる。プレピット層及び／又はプ
レグルーブ層の層厚は一般に０．０５〜１００μｍの範
囲にあり、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲である。

本発明のように、基板材料がプラスチックの場合は、射
出成形あるいは押出成形などにより直接基板にプレピッ
ト及び／又はプレグルーブを設けてもよい。

本発明は、」二記のような基板の微小凹凸形成面に液状
の膜形成材料をスピンコード法により成膜する方法に関
する。

本発明により上記のような基板表面に成膜される膜とし
ては、レーザ光により情報の書き込みおよび／または読
み取りが可能な色素を含有する記録層、記録性能の改善
、再生信号品質の改善、平面性の改善、接着力の向上、
基板の耐溶剤性の改善および記録層の変質の防止の目的
て、基板と記録層との間に設けられる下塗層、記録層の
上に設けられる保護層などを挙げることができる。

下塗層の膜形成材料としてはたとえば、ポリメチルメタ
クリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチ
レン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール
、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・スルホン
酸共重合体、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロ
ルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩
化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリ
イミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・
酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリカーボネート等の高分子物質：シランカップリング
剤なとの有機物質；および無機酸化物（Ｓ　ｉ　Ｏ２，
Ａ４２２０３等）、無機フッ化物（ＭｇＦ２）などの無
機物質を、適当な溶剤に溶解または分散して調製した塗
布液を挙げることかできる。下塗層の膜厚は一般に０．
００５〜２０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μ
ｍの範囲である。

記録層の膜形成材料としては、前記のような色素を、さ
らに所望により結合剤と共に、溶剤に溶解して調整した
塗布液を挙げることかできる。上記色素は特に限定され
るものてはなく、光ディスクの製造に使用されるもので
あればどのようなものでも良い。例えば、シアニン系色
素、フタロシアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリ
ウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色
素、Ｎｉ、Ｃｒなとの金属錯塩系色素、ナフトキノン系
・アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、イ
ンドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリ
アリルメタン系色素、アルミニウム系・ジインモニウム
系色素およびニトロソ化合物を挙げることができる。好
ましくは、シアニン系色素、アズレニウム系色素および
スクワリリウム系色素を挙げることがてきる。

これらのうちでも記録再生用レーザとして近赤外光を発
振する半導体レーザの利用が実用化されている点から、
７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸収率が
高い色素が好ましい。

なお、これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合
物として用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる
場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・シイ
ンモニウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いるこ
とが好ましい。その場合、クエンチャ−として金属錯塩
系色素などを全色素１モル部に対して０．００１〜０１
モル部含むことが好ましい。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エヂル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１，２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパツール、インプロパ
ツール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、２．２．３．３、テトラフロ
ロプロパツール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５０容量
％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重量比）の
範囲にある。

保護層の膜形成材料としては、５ｉＯ１Ｓｉ０２、Ｓ　
Ｉ　Ｎ　４　、　Ｍ　ｇ　Ｆ　２．５ｎ０２等の無機物
質、または、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性
樹脂等の有機物質を適当な溶剤に溶解して調整した塗布
液を挙げることができる。特にＵＶ硬化性樹脂を含むも
のが好ましく、ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままで
あってもよい。ＵＶ硬化性樹脂どしては、ウレタン（メ
タ）アクリレ−ト、エポキシ（メタ）アクリレート、ポ
リエステル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレ
ートのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エステル等の
モノマー類等さらに光重合開始剤等の通常のＵＶ硬化性
樹脂を使用することができる。これらの塗布液中には、
更に帯電防止剤、酸化防１Ｌ剤、ＵＶ吸収剤等の各種添
加剤を目的に応じて添加してもよい。

保護層の膜厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲にあ
る。

本発明により下塗層が設けられた場合には、下塗層の上
に、記録層として、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｂ
ｉ、Ｓｎ等の金属、半金属を真空成膜法によって設ける
こともできる。

また、本発明の方法を利用して製造される光情報記録媒
体には、記録層の上に反射層を設けることが好ましい。

反射層を設けることにより、反射率の向上の効果、情報
に再生時におけるＳ／Ｈの向上および記録時における感
度の向上の効果も得ることができる。

反射層の材料としては、Ａｕ、Ａｎ、Ｔｕ、Ｃｕ、Ｉｎ
、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｂｉ。

Ｓｎ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｔａ。

ｐｔ等の金属、半金属及びこれらの合金を挙げることが
できる。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。

反射層の層厚は一般には１００〜３０００λの範囲にあ
ることが好ましい。

次に本発明の成膜方法を、添付する図面を参照して詳細
に説明する。

本発明の成膜方法は、前記のような光ディスクの基板の
微小凹凸形成面に前記のような液状の膜形成材料をスピ
ンコード法により塗布し塗膜を形成させる成膜方法であ
って、膜形成材料を塗布する際に、基板を特定の状態に
変位させることに特徴を有する。

第１図は、本発明の成膜方法の一実施例を実施する状態
を示す概略図である。

第１図において、基板１は平面（微小凹凸形成面）が垂
直になるようにスピナー（図示せず）に設置され、該平
面の中心を通る該平面に垂直な軸線Ｘを中心軸にして回
転されるようになっている。本発明において、基板の変
位角度は、被コート面を上にして基板を水平に設置した
状態を基準点にして、該基板の面内な通る軸線を中心と
して該基板を回転変位させたときの該基準点からの角度
で表わす。第１図において、基準点Ｂは基板１′を、被
コート面（微小凹凸形成面）１′ａを上にして設置した
状態で示されている。従って、第１図における基板１の
変位角度αは、９０°である。基板１の被コート面１ａ
は第１図において基板１の左側の面である。

基板１の被コート面１ａに液状の膜形成材料を塗布し成
膜するには、まず、スピンナーにより基板１を前記のよ
うに回転させながら、液状材料供給管２から液状の膜形
成材料をスプレーすることによって被コート面１ａに供
給する。被コート面１ａに供給された膜形成材料は、基
板１の回転による遠心力と重力とによって被コート面１
ａの全体に広がり、均一な厚さの塗布膜が形成される。

所定の膜厚の塗布膜が形成された後に塗布膜から乾燥に
より溶剤を除去して、所定の膜を形成させる。

膜形成材料の濃度、粘度および量、基板の回転数、温度
、湿度、等を制御することによフて任意の厚さの膜を形
成させることができ、これらの条件の設定自体は従来公
知のスピンコード法の技術により当業者が容易に実施で
きる。

第２図は、本発明の成膜方法の他の実施例を実施する状
態を示す概略図である。

第２図において、基板１は平面を水平にし被コート面（
微小凹凸形成面）ｌａが下面になるようにスピンナー（
図示せず）に取り付けられている。即ち、基板１は基準
点から１８０°の変位角度で取り付けられている。

第２図に示す実施例において、基板１の被コート面１ａ
に液状の膜形成材料を塗布し成膜するには、基板１の下
側に設けられた液状材料供給管２から液状の膜形成材料
をスプレーすることのほかは、第１図に示す実施例にお
けると同様にして行なえばよい。

本発明の成膜方法は、前記基準点からの変位角度か１０
゜〜３５ｏ°になるように基板を変位させた状態て液状
の膜形成材料を基板の微小凹凸形成面にスピンコードす
ることに特徴を有するものであるが、上記変位角度は４
５゜〜３１５°であることが好ましい。また、上記変位
角度が、９゜±１０°、１８０±１０°又は２７０±１
０”である態様が特に好ましい。

第３図は、本発明の成膜方法により基板の微小凹凸形成
面に膜が形成された↓（板の一例の部分拡大断面図であ
る。

第３図において、基板１の被コート面１ａに膜５か形成
されており、四部３の部分の膜５の膜厚Ｇは、凸部４の
部分の膜５の膜ＪｇＬと同じが又は僅かに大きい程度で
ある。即ち、Ｌ／Ｇが９０〜１００％である。その結果
、膜５の表面の凸部と凹部との段差が基板１の表面の凸
部と四部との段差と殆と変わらなくなり、光ディスクの
信号強度及び変調度を十分に確保することがてきる。

従って、本発明の成膜方法は、前記膜形成材料としてレ
ーザ光により情報の書き込みおよび／または読み取りが
可能な色素を含有する記録層形成用の材料を使用して、
前記基板」二に記録層となる塗膜を形成するために適用
するとき、特に効果を奏することができる。

また、記録層の下に前記のような下塗層を設ける場合は
、本発明の成膜方法を下塗層を形成するために適用する
とき、特に効果を奏することができる。

以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。

以Ｆ余１で１ ［実施例１］ 下記構造式の色素（Ａ）： Ｃ２１１４０Ｇ２１１Ｂ；　　　　　Ｃ２１１４０Ｆ’
：２１１５ｃ　２ＩＩ　ｓ　ＯＣ２Ｉｔ　ｒ、　　Ｃ立
０．＋−Ｃ２１１４０Ｃ２１１゜を、２．７５重量％に
なるように、２．．２，３゜３−テトラフロロプロパツ
ールに溶解して色素記録層形成用塗布液を調製した。

長さ二０．８μｍ、幅：０．４μｍ、深さ・８００久の
ヒ゛ットがトラックビツヂ：１．６μｍで長平方向に並
んだプレピットが設けられた円盤状のポリカーボネート
基板（外径：１３０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ：　１
．２ｍｍ）を、第２図に示す態様でスピンナーに取付は
回転数１０００ｒ、ｐ、ｍ、の速度で回転させながら、
」１記塗布液を液状材料供給管２か６５　ｃ　ｃ　７秒
の送液速度て、上向にプレピット形成面にスプレーする
方法でスピンコードした後、７０℃の温度で１０分間乾
燥して記録層を形成した。

上記のようにして基板の表面に記録層を成膜したディス
クについて測定した、第２図に示ず膜ＪｇＬ（１３００
λ）と膜厚Ｇとの比（Ｌ／Ｇ）、及びプレピットの変調
度（使用波長λ＝７８０ｎｍ、対物レンズ開口数ＮＡ＝
０．４５のヘッドを使用）を、下記第１表に示す。

［実施例２コ 基板を第１図に示す態様で取り付りた他は実施例１にお
けると同様にして、基板の表面に記録層を成膜した。こ
の膜厚りは実施例１の膜厚りと同になるように制御した
。

上記のようにして基板の表面に記録層を成膜したディス
クについて測定した、膜厚りと膜Ｊ’ＪＧとの比（Ｌ／
Ｇ）、及びプレピットの変調度を、下記第１表に示す。

［比較例１］ 基板を第４図に示す態様て取り付けた他は実施例１にお
けると同様にして、基板の表面に記録層を成膜した。こ
の膜厚しは実施例１の膜厚しと同になるように制御した
。

上記のようにして基板の表面に記録層を成膜したディス
クについて測定した、膜厚りと膜ＩＪａとの比（Ｌ／Ｇ
）、及びプレピットの変調度を、下記第１表に示１−０ 第　　１　　表 第１表の結果から明らかなように、実施例１及び実施例
２て得ら４１だ光ディスクのＬ　／　Ｇは理想的値であ
る１００％に非常に近い高い値であるのに対して、比較
例１で得られた光ディスクのＬ／Ｇは低い値であり、そ
の結果、実施例１及び実施例２で得られた光ディスクの
変調度は犬きく、比較例１て得られた光ディスクの変調
度は小さくなっている。

［発明の効果コ 本発明の光情報記録媒体の成膜方法は、基板上に形成さ
れている微小の凹凸の四部における被膜の膜厚と凸部に
おける被膜の膜厚との差が極めて小さいミクロ的に均一
な被膜を、光情報記録媒体の基板の微小凹凸形成面に容
易に形成させることができ、その結果、信号強度が十分
大きく、変調度の大きい光情報記録媒体を製造すること
ができるという優ねた効果を奏することができる。

また本発明は、膜形成材料の粘度、屈折率、吸収率等が
変化しても、同一のプレピット、プレグルーブ形状の基
板を使用して成膜てきるという優ねた効果を奏すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の成膜方法の一実施例を実施する状態
を示す概略図、 第２図は、本発明の成膜方法の他の実施例を実施する状
態を示す概略図、 第３図は、本発明の成膜方法により基板の微小凹凸形成
面に膜が形成された基板の一例の部分拡大断面図、 第４図は、従来公知のスピンコード法により成膜する状
態を示す概略図、 第５図は、従来公知のスピンコード法により基板の微小
凹凸形成面に膜が形成された基板の部分拡大断面図であ
る。 １：基板、　　　　　　１ａ：被コート面、２：液状材
料供給管、　３：凹部、 ４：凸部、　　　　　　５：膜、 α：変位角度、 Ｌ：凸部４０部分の膜厚、 Ｇ：四部３０部分の膜厚。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、微小凹凸が形成された光情報記録媒体の円板状基板
   の微小凹凸形成面に液状の膜形成材料をスピンコート法
   により塗布し塗膜を形成させる光情報記録媒体の成膜方
   法において、被コート面を上にして該基板を水平に設置
   した状態を基準点にして、該基板の面内を通る軸線を中
   心として該基準点から１０゜〜３５０゜の角度該基板を
   変位させた状態で、該基板を回転させながら該基板の被
   コート面に該膜形成材料を供給することを特徴とする光
   情報記録媒体の成膜方法。