JPH0459286A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、レーザーにより情報の記録が可能な情報記録
媒体に関するものである。

［発明の技術的背景］ 情報の書き込み可能なり　ＲＡ　Ｗ　（Ｄｉｒｅｃｔ　
ＲｅａｄＡｆｔｅｒ　Ｗｒｉｔｅ　）型の情報記録媒体
は、基本構造として、プラスチック、ガラス等からなる
円盤状の透明基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ、
Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属、あるいは色素からな
る記録層とを有する。光ディスクへの情報の書き込みは
、たとえばレーザービームを光ディスクに照射すること
により行なわれ、記録層の照射部分がその光を吸収して
局所的に温度上昇する結果、ビット形成等の物理的変化
あるい−は相変化等の化学的変化を生じてその光学的特
性を変えることにより情報が記録される。光ディスクか
らの情報の読み取りもまた、レーザービームを光ディス
クに照射することなどにより行なわれ、記録層の光学的
特性の変化に応じた反射光または透過光を検出すること
により情報が再生される。そして、上記光ディスクへの
情報の書き込みおよび読み取りのためのレーザービーム
の照射は、通常ディスク表面の所定の位置に行われる。

このためレーザービームを案内して照射予定位置に正確
にたどる（一般にトラッキングと呼ばれる）ようにする
ため、例えば逆台形型のプレグルーブ（トラッキングガ
イド）がディスク表面に設けられる。さらに、データー
の記録に必要なアドレス情報などのプレフォーマット情
報が、ディスクの通常内周側にプレピットとして形成さ
れているのが一般的である。

このように、ＤＲＡＷ型の情報記録媒体は、上記プレグ
ルーブ、および所望によりプレピット、が形成された基
板上に記録層等が設けられた基本構成を有する。

このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、記録層を塗布法により簡単に
形成することができるという製造上の大きな利点を有し
ている。しかしながら、一般に光ディスクの記録材料中
で高感度であるとして有用とされているものは、金属類
でも色素類でもその反射率は３０ないし４０％である。

従フて、色素からなる記録層も、一般に反射率が低いと
の欠点がある。

反射率を向上させるために色素記録層上に金属反射層を
設けた情報記録媒体が、特開平２−８７３４０号公報に
開示されている。ここでは、高反射率を得るため反射層
を５０ｎｍ程度の比較的厚い層厚にて設けられている。

このような光ディスクは、基板側からの光に対して高い
反射率を示すものであるが、光の波長に対する反射率曲
線の、再生用のレーザーの発振波長における接線の勾配
が０．６（％／　ｎ　ｍ　）を超えており大きい。この
ため、再生レーザーの発振波長より少しずれた、すなわ
ち発振波長より少し低いあるいは高い波長において反射
率の大きさが極端に変化する傾向がある。例えば、再生
レーザーの発振波長７９０ｎｍで７０％の反射率を示す
光ディスクは７８５ｎｍでは６６％を示す。一般に光デ
イスクドライブに用いられる半導体レーザーの発振波長
は、その製品により若干具なっており、また温度などの
使用環境によってもその波長は変化する。このため、上
記高反射率を有する光ディスクを用いて記録または再生
を行なフた場合、使用するドライブあるいはその使用環
境によってトラッキングエラー　リードエラーなどの誤
動作が起こり易いとの問題がある。　従って、再生用の
レーザーの発振波長の近辺の波長領域で反射率の変動の
少ない光ディスクが望まれる。

［発明の目的１ 本発明は、色素からなる記録層を有する光ディスクであ
って、再生用のレーザーの発振波長の付近の波長領域で
反射率の変動の少ない新規な情報記録媒体を提供するこ
とを目的とする。

また、本発明は、広い波長領域で高い反射率を有する情
報記録媒体を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、基板上に、レーザーにより情報の記録または
再生が可能な色素からなる記録層、金属からなる反射層
および保護層が設けられた情報記録媒体において、 該反射層の透過率が１０％以上であり、且つ該情報記録
媒体の反射率特性を、縦軸が反射率（％）で、横軸が波
長（ｎｍ）である反射率白線で表わした場合、使用する
再生用レーザーの発振波長における該情報記録媒体の接
線の勾配（％／　ｎ　ｍ　）が、十０．６〜−０．６の
範囲にあることを特徴とする情報記録媒体にある。

上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通り
である。

１）上記反射率の層厚が、０．３〜３０ｎｍの範囲にあ
ることを特徴とする上記情報記録媒体。

２）上記接線の勾配（％／　ｎ　ｍ　）が十〇、Ｓ〜−
０，５の範囲にある曲線であることを特徴とする上記情
報記録媒体。

３）該情報記録媒体が、記録または再生用のレーザーの
発振波長の±２０ｎｍの波長領域で、該発振波長での反
射率の８０〜１２０％の範囲の反射率を有することを特
徴とする上記情報記録媒体。

４）上記記録層と反射層との間に、層厚が３０〜３００
ｎｍの範囲にあるエンハンス層が設けられていることを
特徴とする上記情報記録媒体。

５）上記反射層の金属が、Ｔｉ％Ｚｒ、Ｔａ、Ｃｒ％　
Ｍｏ％Ｗ％　Ｎｉ％　Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ。

Ｃｕ、Ａｇ％Ａｕ、Ｚｎ、ＡｆＬ、Ｉｎ、Ｓｉ。

Ｇｅ％Ｔｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓｂ、ＴＪ！、ｐｔおよびＣ
かうなる群より選ばれる少なくとも１種であることを特
徴とする上記情報記録媒体。

６）上記反射層の金属が、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｚｎ、Ａ
ＩＬ、Ｉｎ、ＰｔおよびＣからなる群より選ばれる少な
くとも１種であることを特徴とする上記情報記録媒体。

７）上記反射層が、１５％以上の透過率を有することを
特徴とする上記情報記録媒体。

８）上記反射層の層厚が、１．０〜３０ｎｍの範囲にあ
ることを特徴とする上記情報記録媒体。

９）上記保護層が、紫外線硬化型樹脂の硬化物からなる
ことを特徴とする上記情報記録媒体。

１０）上記保護層の層厚が、５００〜５０００ｎｍの範
囲にあることを特徴とする上記情報記録媒体。

１１）上記記録層の色素が、インドリジン系色素、イミ
ダゾキノキサリン系色素、チアゾール系色素、インドレ
ニン系色素、メロシアニン系色素およびフタロシアニン
系色素から選ばれる少なくとも一種であることを特徴と
する上記情報記録媒体。

尚、上記反射層の透過率は、ガラス板上に反射層を形成
した後、ガラス板側から再生波長の光を照射して測定し
た。

［発明の効果］ 上記のように、本発明の情報記録媒体は、反射層の透過
率を１０％以上にすることにより、該反射層を透過した
レーザー光が保護層と空気との界面で反射して人手側に
戻ってくるようにされている。そして、この保護層と空
気との界面の反射光が、反射層と記録層との界面で反射
したレーザー光を干渉するように保護層の層厚が設定さ
れているので、レーザー光の発振波長付近の波長であっ
ても発振波長での反射率と大きく変動することはない。

これにより、再生用のレーザーの発振波長の付近の波長
領域で反射率の変動の少ない情報記録媒体を得ることが
できる。

従って、光デイスクドライブに用いられる半導体レーザ
ーの発振波長が多少移動していても、また温度などの使
用環境によって発振波長が変化しても、本発明の情報記
録媒体を用いることにより、再生時のフォーカシングエ
ラー　トラッキングエラーなどの誤動作がほとんど発生
することがない。

Ｃ発明の詳細な記述］ 本発明者等は、塗布により形成可能な色素からなる記録
層、反射層および保護層の基本構成を有する光ディスク
であって、再生用のレーザーの発振波長の付近の波長領
域で反射率の変動の少ない記録媒体を得るため鋭意研究
を重ね、本発明に到達したものである。

本発明の情報記録媒体の例を、添付の第１図を参照しな
がら説明する。

第１図は、基板１１上に、色素からなる記録層１２、金
属からなる反射層１３および保護層１４がこの順で設け
られた基本構成を有する光ディスクの断面図である。

上記光ディスクは、プラスチック等からなる透明な基板
１１上に、スピンコード法などにより色素層形成用の塗
布液を塗布して色素記録層１２が形成され、その上に反
射率を向上させるために反射層１３が金属をスパッタリ
ング等することにより形成され、さらにこれらを保護す
るために保護層１４が形成されている。

上記反射層は、従来反射率を向上させるため比較的厚い
層厚で設けられており、照射されたレーザーのうち反射
層を透過する光は殆ど無かった。

本発明では、従来と同様入射したレーザー光を反射層で
反射させである程度の反射率を確保しながら、反射しな
いで透過したレーザー光を保護層と空気との界面で反射
できるように、反射層の層厚を比較的薄くして、その透
過率を１０％以上にしている。そして、この保護層と空
気との界面の反射光により、主に反射層と記録層との界
面で反射したレーザー光を干渉して、レーザー光の発振
波長付近の波長であっても発振波長ての反射率と大きく
変動しないように、後述するように保護層の層厚に設定
している。

このように、薄層の反射層上に上記のように設定された
層厚を有する保護層を設けることにより、情報記録媒体
の反射率特性を、縦軸が反射率（％）で、横軸が波長（
ｎｍ）である座標上に反射率曲線として表わした場合、
使用する再生用のレーザーの発振波長における該情報記
録媒体の接線の勾配（％／　ｎ　ｍ　）が＋０．６〜−
０．６の範囲（好ましくは、＋０．５〜−０．５の範囲
）にあるようにすることができる。さらに、情報記録媒
体が、再生用のレーザーの発振波長の主２０ｎ 〜１２０％の範囲の反射率を有することが、より広範囲
の条件で再生が可能となるので好ましい。

本発明の光情報記録方法に用いられる情報記録媒体の製
造は、たとえば以下に述べるような材料を用いて行なう
ことができる。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板材料の例としては、ガラス、ポリ
メチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂：エボキ
シ樹脂：ポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレ
フィンおよびポリエステルを挙げることができる。好ま
しくは、基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱い性
、経時安定性および製造コストなどの点から、ポリカー
ボネート、アモルファスポリオレフィンおよびポリメチ
ルメタクリレートを挙げることができる。

また、基板上には、トラッキング用溝またはアドレス信
号等の情報を表わす凹凸の形成の目的で、プレグルーブ
またはプレグルーブとプレピットが設けられる。プレピ
ットはプレグルーブのない内周側に形成されるのが一般
的である。基板材料がプラスチックの場合は、射出成形
あるいは押出成形などにより直接基板にプレグルーブお
よびプレピットが設けられことが好ましい。

上記プレグルーブおよびプレピットは、プレグルーブ層
等を形成することにより設けてもよい。

その材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一稀のモノマー（またはオリゴマー）と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層
の形成は、まず精密に作られた母型（スタンバ−）上に
上記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からなる混
合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に基板を載せたの
ち、基板または母型を介して紫外線の照射により液層を
硬化させて基板と液相とを固着させる。次いで、基板を
母型から剥離することによりプレグルーブ層の設けられ
た基板が得られる。プレグルーブ層の層厚は一般に０．
０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５
０μｍの範囲である。

上記プレグルーブの形状は、半値幅が一般に０、２〜１
．０μｍの範囲で、好ましくは０．３〜０．８μｍの範
囲、特に好ましくは０．４〜０、７μｍの範囲であり、
そして深さが一般に４００〜４０００Ｘの範囲、好まし
くは６ｏｏ〜３０００λの範囲、そして特に好ましくは
６００〜２０００又の範囲である。

基板上には、記録層が設けられる。

記録層に使用される色素としては、例えば、イミダゾキ
ノキサリン系色素、インドレジン系色素などのシアニン
系色素、フタロシアニン系色素、ピリリウム系・チオピ
リリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム
系色素、Ｎｉ，Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノ
ン系・アントラキノン系色素、インドフェノール系色素
、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、
トリアリルメタン系色素、メロシアン系色素、オキソノ
ール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素およ
びニトロソ化合物を挙げることができる。

上記色素の具体例として以下のものを挙げることができ
る。

ｉ）シアニン系色素： ［１１（ＣＨ３）２Ｎ−（ＣＨ−ＣＨ）５−ＣＨ−”Ｎ
（ＣＨ３）２　ＣＩｔ０４−（ただし、ｎは２または３
である） （ただし、Ｒは水素原子またはＮ　（ＣＨ３）　２であ
る） ［４］　　（Ｄ　”　　−Ｌ　＝　’Ｐ　　　　（Ｘ　
”−）Ｉ／−（ただし、Φおよび平はそれぞれ芳香族環
が縮合していてもよいインドレニン環残基、チアゾール
環残基、オキサゾール環残基、セレナゾール環残基、イ
ミダゾール環残基、ピリジン環残基、チアゾロピリミジ
ン環残基またはイミダゾキノキサリン環残基であり、Ｌ
はモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、トリカルボ
シアニンまたはテトラカルボシアニンを形成するための
連結基であり、ｘ′ｍ−はｍ価の陰イオンであり、ｍは
１または２であり、さらにＸ−はΦ、Ｌまたは！上に置
換して分子内塩を形成しても良く、またΦとし、または
Ｌと市とはさらに連結して環を形成しても良い） 上記−数式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のａ）〜ｋ）等が挙げられる。

［ｆ］ ［Ｃ］ ＣｌＯ４゜ ［９１ スクワリリウム系色素： ＣｌＯ４ ［う］ ［ｋｌ ｉｉｉ）アズレニウム系色素： れてアザアズレン環となっていてもよい、）ｉｖ）イン
ドフェノール系色素： （ただし、Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３，Ｒ３とＲ’、Ｒ’
とＲ５Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち少な
くとも一つの組合せで置換もしくは未置換の複素環また
は脂肪族環による環を形成し、鎖環を形成しないときの
Ｒ’、ＲｚＲ３Ｒ４、Ｒ５Ｒ６およびＲ７はそれぞれ水
素原子、ハロゲン原子またはｍ個の有機残基であり、あ
るいはＲ１とＲ２Ｒ３とＲ４，Ｒ４とＲ５、ＲＳとＲ６
およびＲ６とＲ７の組合せのうち少なくとも一つの組合
せで置換もしくは未置換の芳香族環を形成してもよく、
Ａは二重結合によ）て結合した二価の有機残基であり、
Ｚ−はアニオン残基である。なお、アズレン環を構成す
る少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で置き換えら（
ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子、アルキル基、
アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子であ
り、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ水素原子、Ｃ８〜
Ｃｏｏの置換または未置換のアルキル基、アリール基、
複素環またはシクロヘキシル基であり、Ａは−ＮＨＣＯ
−または−ＣＯＮＨ−である） ■）金属錯塩系色素： （ただし、Ｒｌ　、、　Ｒ４はそれぞれアルキル基また
はアリール基であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし、Ｒ′およびＲ２はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし、［Ｃａｔ］は錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄまた
はｐｔであり、ｎは１または２である） （ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基またはアリール基であり、Ｒ３はアルキル
基、ハロゲン原子または−Ｎ−８５基（ここで、Ｒ４お
よびＲ５はそれぞれ置換または未置換のアルキル基また
はアリール基である）であり、Ｍは遷移金属原子であり
、ｎはＯ〜３の整数である） （ただし、［Ｃａｔ］は錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄまた
はｐｔであり、ｎは１または２である） 子またはメチル基であり、ｎは１〜４の整数であり、Ａ
は第四級アンモニウム基である）びＲ２はそれぞれ１〜
３の整数であり、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアミノ基、
モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチル
アミノ基、ベンゾイルアミノ基（置換ベンゾイルアミノ
基を含む）であり、ＸＩとＸ２　ｎ、とＲ２およびＲ１
とＲ２はそれぞれ互いに同じであフても異なフていても
よく、ＭはＣｒまたはＣＯ原子であり、Ｙは水素、ナト
リウム、カリウム、アンモニウム、脂肪族アンモニウム
（置換脂肪族アンモニウムを含む）または脂環族アンモ
ニウムである）ｖｉ）ナフトキノン系、アントラキノン
系色素：（ただし、ｘｌおよびｘ２はそれぞれニトロ基
および／またはハロゲン原子であり、ｎｌおよ（ただし
、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基また
は置換アミノ基である）（ただし、Ｒは水素原子、アル
キル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基である
）（ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは０（ただし
、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基また
は置換アミン基である）（ただし、Ｘはハロゲン原子で
ある） ｖｉｉ）イントリジン系色素： （式中、Ｒ１及びＲ４は、それぞれ独立に、置換基を有
していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、芳香環に置換基を有していてもよいアラル
キル基、アルコキシ基、芳香環に置換基を有していても
よいアリールオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基、
芳香環に置換基を有していてもよいアリールカルボニル
アミノ基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル
基又はハロゲン原子を表わし、Ｒ”及びＲ”は、それぞ
れ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキ
ル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に
置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基
、芳香環に置換基を有していてもよいアリールオキシ基
、アルキルカルボニルアミノ基、芳香環に置換基を有し
ていてもよいアリールカルボニルアミノ基、シアノ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を
表わし、Ｒ２Ｒ３Ｒ５Ｒ８及びＲ７は、それぞれ独立に
、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置
換基を有していてもよいアリール基、芳香環に置換基を
有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基又はハロ
ゲン原子を表わし、Ｒ２及びＲ３がアルキル基であると
きＲ２とＲ３とは一緒にな）て環を形成してもよく、Ｒ
５及びＲ６がアルキル基であるときＲ５とＲ６とは一緒
になって環を形成してもよく、Ｘ−はアニオンを表わす
。） 上記色素層の形成は、上記色素、さらに所望により結合
剤を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液
を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥すること
により行なうことができる。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパツール、イソプロパ
ツール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、２．２．３．３−テトラフロ
ロプロパツール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５０容量
％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えハセラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質：およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

結合剤に対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（
重量比）の範囲にあり、好ましくは１゜０〜９５％（重
量比）の範囲にある。

上記記録層の層厚は、一般に１０〜１１０００ｎの範囲
にあり、好ましくは３０〜８００ｎｍの範囲にあり、さ
らに好ましくは５０〜５００ｎｍの範囲にある。

記録層の上には、反射率を向上させるためにエンハンス
層を設けても良い。

エンハンス層の材料としては、５ｉｎ２、ＡｆＮ、Ｚｎ
ＳおよびＳｉ３Ｎ４などの無機物質；ポリブタジェン、
エチレン系重合体、フッ素系樹脂などのポリマーを挙げ
ることができる。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｂｅ、Ｂ、
Ｃ，Ｓｃ、Ｒｈ、Ｓｒ％Ａｓ、Ｏｓ、Ｔｆｌ、Ａｔ、Ｆ
ｒ％　Ｒａ、Ｍｇ、Ｓｅ。

Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、
Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ％　Ｃｏ、Ｎｉ。

Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉ　ｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ。

Ａｕ％　Ｚｎ、Ｃｄ％ＡＲ，、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ。

Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ％Ｐｏ、Ｓｎ％Ｂｉ、Ｓｂなどを挙げ
ることができる。これらの内で好ましくは、Ｔｉ、Ｚｒ
、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ。

Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ％Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ。

Ａ１、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｓｎ％Ｂｉ。

Ｓｂ、Ｔｊ２、ｐｔおよびＣであり、特に好ましくは、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｚｎ、Ａｌｌ、Ｉｎ、ＰｔおよびＣ
である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるい
は二種以上の組合せでまたは合金として用いてもよい。

本発明では、反射層の層厚を入射したレーザー光を全て
反射するのではなく、１０％以上（好ましくは１２％以
上、さらに好ましくは１５％）透過させて、保護層と空
気との界面で反射できるようにしている。従って、反射
層の層厚は一般的には０．３〜３０ｎｍの範囲であり、
好ましくは１〜３０ｎｍの範囲であり、特に好ましくは
５〜２０ｎｍである。特に反射層の材料としてＡｕを使
用すする場合には、上記層厚の範囲が好ましい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより基板
の上に形成することができる。

上記反射層上には保護層が設けられる。

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、５ｉＯ１Ｓｉ０２　、Ｓｉ３　Ｎ４、ＭｇＦ２、Ｓ
ｎＯ３等を挙げることができる。また、有機物質として
は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を
挙げることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂である。

本発明の効果を得るためには有機物質を塗布により設け
ることが好ましい。

上記保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得ら
れたフィルムを接着層を介して飽和炭化水素系溶剤に可
溶な樹脂からなる保護層上にラミネートすることにより
形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリ
ング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗
布し、乾燥することによフても形成することができる。

ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し
、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成する
ことができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレタン（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポ
リエステル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレ
ートのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エステル等の
千ツマー類等さらに光重合開始剤等の通常のＵＶ硬化性
樹脂を使用することができる。これらの塗布液中には、
更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加
剤を目的に応じて添加してもよい。

上記の保護層の層厚は一般には５０〜１１００００ｎの
範囲にあり、好ましくはｉｏｏ〜７０００ｎｍの範囲、
さらに好ましくは５００〜５０００ｎｍの範囲にある。

また保護層は着色されても良い。

本発明では、入射したレーザー光を反射層で反射させで
ある程度の反射率を確保しながら、反射しないで透過し
たレーザー光を保護層と空気との界面で反射できるよう
に、上記反射層の層厚を比較的薄くして、その透過率を
１０％以上の範囲の薄層にしている。そして、この保護
層と空気との界面の反射光により、反射層と記録層との
界面で反射したレーザー光を干渉して、レーザー光の発
振波長付近の波長であっても発振波長での反射率と大き
く変動しないようにしている。

すなわち、反射層と記録層との界面で反射するレーザー
光の位相と保護層と空気との界面で反射するレーザー光
の位相のｒずれ１を下記式を満足する光学的膜厚になる
ように保護層の層厚を計算して設定することによって、
レーザー光の発振波長付近の反射率を変動の少ないもの
にすることができると考えられる。

ｎｄ＝ｊλ （ｎ：保護層の屈折率、ｄ：保護層の層厚、ｊ：整数、
λ：レーザーの波長） しかしながら、色素層と他の層との界面で位相のｒとび
１等があることから上記計算値の保護層の層厚で規定す
ることは困難であることが分かフた。

このため、保護層の層厚は、上記光学的層厚を参考にし
ながら下記のように設定することが好ましい。

１）保護層を設ける前の情報記録媒体の光の波長に対す
る反射率曲線が、使用するレーザーの発振波長における
反射率の方が長波長側より低くくなっている場合、保護
層形成後の情報記録媒体の反射率が該発振波長よりｌＯ
〜２００ｎｍ程度短波長側で極大を有するように保護層
の層厚を設定する。

２）保護層を設ける前の情報記録媒体の光の波長に対す
る反射率曲線が、使用するレーザーの発振波長における
反射率の方が長波長側で高くなっている場合、保護層形
成後の情報記録媒体の反射率が該発振波長より１０〜２
００ｎｍ程度長波長側で極大を有するように保護層の層
厚を設定する。

このように、薄層の反射層上に上記のように設定された
層厚を有する保護層を設けることにより使用する再生用
のレーザーの発振波長の付近の波長領域で反射率の変動
の少なくすることができる。

本発明において、光情報記録媒体は上述した構成からな
る単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有す
る二枚の基板を反射層が内側となるように向い合わせ、
接着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの
記録媒体を製造することもできる。また、本発明の記録
層は、ＣＤなどの再生専用の光ディスクのアルミニウム
などの反射層の代わりに使用することもできる。

上記光情報記録媒体への記録は、例えば下記のように行
なわれる。

まず、光情報記録媒体を定線速度または定角速度（ＣＤ
フォーマット信号の場合は、１．２〜１．４ｍ／秒）で
回転させながら、半導体レーザー光などの記録用の光を
、基板側から該プレグルーブのグループにレーザー光を
照射してＣＤフォーマットのＥＦＭ信号などの信号を、
該グループの記録層にビットを形成することにより記録
する。一般に、記録光としては７５０〜８５０ｎｍの範
囲の発振波長を有する半導体レーザービームが用いられ
る。一般に１〜１５ｍＷのレーザーパワーで記録される
。

上記記録層のビット形成は、記録層に空洞の形成、基板
の記録層側表面の肉盛り形成、これら空洞と肉盛りの両
方の形成、あるいは会合／非会合もしくは配向／無配向
等の相変化により行なわれる。

記録に際しては、上記トラッキング用プレグルーブを用
いてプッシュプル法などによるトラッキング制御が行な
われる。情報の記録は、プレグルーブのグループまたは
グループ間のランドに行なわれる。

情報の再生は、例えば記録媒体を上記と同一の定線速度
または定角速度で回転させながら半導体レーザー光を基
板側から照射してその反射光を検出することにより、３
ビーム法などによるトラッキング制御を行ないながら情
報を再生することができる。

以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 下記の色素： ４．８ｇを、２，２，３．３−テトラフロロプロパツー
ル１００ｍ１に超音波を１時間付与しながら溶解して色
素塗布液を調製した。

プレグルーブが設けられた円盤状のポリカーボネート基
板（外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ：１．２
ｍｍ、トラックピッチ：１．６μｍ、グループ幅：０．
４５μｍ、グループの深さ：９００又、グループ領域：
直径４４ｍｍ〜１１７ｍｍの範囲）のプレグルーブが設
けられている側の基板表面に、上記色素塗布液をスピン
コード法により回転数７５０ｒｐ■の速度で５秒間塗布
し、毎秒５０　ｒｐｍずつ回転数を上げながら１６秒後
置終回転数１０００　ｒｐｍとして３０秒間保持して乾
燥して層厚が４００ｎｍの色素記録層を形成した。

上記色素記録層上にＡｕを、ＤＣスパッタ装置を用いて
、Ａｒ圧力が２Ｐａ、電力が４８０Ｗ。

蒸着速度２ｎｍ（層厚）７秒の条件にて５秒間スッパタ
リングして、層厚１０ｎｍの反射層を形成した。

反射層上にさらに上記紫外線硬化型樹脂（商品名：　３
０７０、スリーポンド社製）をスピンコード法により回
転数１５００ｒｐｍの速度で塗布した。乾燥後、該塗布
層に紫外線を照射（２００Ｗ／　ｃ　ｍ　２の水銀灯を
１０秒間）することによフて層厚２．５μｍの保護層を
形成した。

このようにして、基板上に、色素記録層、反射層および
保護層が設けられた情報記録媒体（第１図参照）を製造
した。

上記と同様にして反射層をガラス板に形成し、分光光度
計（■日立製作所）を用いて透過率測定したところ、７
９０ｎｍの波長にて４０％であフた。

［実施例２］ 実施例１において、反射層の層厚１０ｎｍから下記のよ
うにして２０ｎｍに変えた以外は実施例１と同様にして
情報記録媒体を製造した。

上記色素記録層上にＡｕを、ＤＣスパッタ装置を用いて
、Ａｒ圧力が２Ｐａ、電力が４８０Ｗ、蒸着速度２ｎｍ
（層ｊｇ）７秒の条件にて１０秒間の条件にてスッパタ
リングしてに層厚２０ｎｍの反射層を形成した。

上記と同様にして反射層をガラス板に形成し、分光光度
計（■日立製作所）を用いて透過率測定したところ、７
９０ｎｍの波長にて１７％であった。

［比較例１コ 実施例１において、反射層の層厚１０ｎｍから下記のよ
うにして５０ｎｍに変えた以外は実施例１と同様にして
情報記録媒体を製造した。

上記色素記録層上にＡｕを、ＤＣスパッタ装置を用いて
、Ａｒ圧力が２Ｐａ、電力が４８０Ｗ、蒸着速度２ｎｍ
（層厚）７秒の条件にて２５秒間の条件にてスッパタリ
ングしてに層厚５０ｎｍの反射層を形成した。

上記と同様にして反射層をガラス板に形成し、分光光度
計（■日立製作所）を用いて透過率測定したところ、７
９０ｎｍの波長にて１％であった。

［比較例２］ 実施例１において、反射層の層厚１０ｎｍから下記のよ
うにして２００ｎｍに変えた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

上記色素記録層上にＡｕを、ＤＣスパッタ装置を用いて
、Ａｒ圧力が２Ｐａ、電力が４８０Ｗ、蒸着速度２ｎｍ
（層厚）７秒の条件にて１００秒間の条件にてスツパタ
リングしてに層厚２００ｎｍの反射層を形成した。

上記と同様にして反射層をガラス板に形成し、分光光度
計（■日立製作所）を用いて透過率測定したところ、７
９０ｎｍの波長にて０％であった。

［情報記録媒体の評価コ １）反射率 得られた情報記録媒体について分光光度計（■日立製作
所）を用いて基板側より７７０〜８５０ｎｍ範囲にある
波長の光を照射して未記録部分の反射率を測定した。

２）Ｃ／Ｎ ドライブ装置（ＤＤＵ−１０００，パルスチック■製）
を用いて、発振波長７９０ｎｍのレーザーで記録時のレ
ーザーパワー（記録パワー）７ｍＷ、線速度１．３ｍ／
秒にて、変調周波数７２０ｋＨｚ　（デユーティ−３３
％）の信号を記録した。そして記録された信号を０゜５
ｍＷの再生パワーにて再生時のＣ／Ｎをスペクトルアナ
ライザー（ＴＲ４１３５、アトパンテスト社製）を用い
て測定した。

３）フォーカスエラー波長依存性 上記２）で信号が記録された情報記録媒体を再生し、ト
ラッキングフォーカシングが外れた時のフォーカスエラ
ー振幅の、コンパクトディスク（ＣＤ）のエラー振幅に
対する割合（ＥＦλ（λはレーザー波長））を、λｎｍ
、λ＋５ｎｍおよびλ−５ｎｍでの波長で測定し、下記
式よりフォーカスエラーの波長依存性（α（％））を求
めた。

ＥＦ　λ。５　−ＥＦ　λ−５ α＝　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　Ｘ１００ＥＦ　　λ 上記測定結果を第２図および第１表に示す。

第２図は、１）反射率において測定された実施例１．２
および比較例１の７７０〜８５０ｎｍにおける反射率の
反射率曲線が示されている。実施例１および２ではレー
ザーの発振波長である７９０ｎｍ前後で反射率の極端な
上昇または低下がないことが分かる。

尚、波長７９０ｎｍでの反射率白線の勾配は、第２図の
反射率曲線を用いて、７９０ｎｍ波長において該曲線に
接線を引いて求めた。

第１表 （ネ／ｎｍ） （ｄ　Ｂ）７８０ｎｍ　　７９０ｎｍ　８００ｎＩ１１
実施例１ 実施例２ ０．１０ ０．３５ ４８．５ ４８．９ 比較例１ 比較例２ ０．６５ ４９．２ ４９．２ 上記第１表より明らかなように、本発明の光ディスク（
実施例１および２）は、レーザーの発振波長である７９
０ｎｍで反射率の勾配が小さく、７９０ｎｍ前後で反射
率の変化が少ない。且つＣ／Ｎも低下していない。また
、本発明に従いレーザーの発振波長である７９０ｎｍで
反射率の勾配が小さくなるように設定されているので、
フォーカスエラー波長依存性が、７９０ｎ■の波長のレ
ーザーに対して小さいことは勿論であるが、７８０ｔ＋
ｍおよび８００ｎ■のどの波長のレーザーに対しても小
さいことが分かる。従って、各レーザーに対してフォー
カシングの安定性が良好である。

方、従来の反射層が設けられた比較例１および比較例２
の光ディスクでは、７９０　ｎｍで反射率の勾配が大き
く、７９０付近で反射率の変化が大きい。また、フォー
カスエラー波長依存性が、７８０ｎｍおよび７９０ｎｍ
の波長のレーザーに対して大きく（一般に、αは１０を
超えるとフォーカシングが低下し、フォーカシングエラ
ーが生じ易くなる）　、　８００ｎｍの波長のレーザー
に対してのみ小さい。従って、種々のレーザーに対して
フォーカシングの安定性が良好であるとは言えない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の情報記録媒体の基本的構成を示す平
面図である。 第２図は、実施例１．２および比較例１で得られた光デ
ィスクの７７０〜８５０ｎｍにおける反射率を示すグラ
フ（反射率曲線）である。 基板：１１ 記録層：１２ 反射層：１３ 保護層：１４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に、レーザーにより情報の記録または再生が
   可能な色素からなる記録層、金属からなる反射層および
   保護層がこの順で設けられた情報記録媒体において、 該反射層の透過率が１０％以上であり、且つ該情報記録
   媒体の反射率特性を、縦軸が反射率（％）で、横軸が波
   長（ｎｍ）である反射率曲線で表わした場合、使用する
   再生用レーザーの発振波長における該情報記録媒体の接
   線の勾配 （％／ｎｍ）が、＋０．６〜−０．６の範囲にあること
   を特徴とする情報記録媒体。