JPH0363943A - 光情報記録方法および情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、光により情報を記録する方法および光により
情報が記録された情報記録媒体に関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リーとして使用されうるものである。

ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク（コンパクト
・ディスク（ＣＤ））などは再生専用の光ディスクとし
て既に実用化されており、情報の書き込み可能なり　Ｒ
Ａ　Ｗ　（Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　ＡｆｔｅｒＷｒｉ
ｔｅ　）型光ディスク、あるいは情報の書き換えが可能
な消去可能型光ディスクについても開発が進んでおり、
一部実用化されている。

ＤＲＡＷ型の情報記録媒体（光ディスク）は、例えばｒ
ｓｏ（国際標準化機構）対応型光ディスクなどとして既
に知られている。ＩＳＯ対応型光ディスクは、速い線速
度で記録が行なわれるが、一方、コンパクト・ディスク
（ＣＤ）に採用されているＣＤフォーマット信号を用い
て遅い線速度で記録を行なうＣＤ−ＤＲＡＷについても
開発が進んでいる。ＣＤ−ＤＲＡＷタイプの光ディスク
の特性等の規格としては、最近ソニー■とオランダのフ
ィリップス社とによりブルーブック（ＢｌｕｅＢｏｏｋ
）としてまとめられた例が見られる。

このような情報記録媒体は、基本構造として、プラスチ
ック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と、この上に
設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ。

Ｔｅ等の金属または半金属からなる記録層とを有する。

光ディスクへの情報の書き込みは、たとえばレーザービ
ームな光ディスクに照射することにより行なわれ、記録
層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇する
結果、ビット形成等の物理的変化あるいは相変化等の化
学的変化を生じてその光学的特性を変えることにより情
報が記録される。光ディスクからの情報の読み取りもま
た、レーザービームを光ディスクに照射することなどに
より行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射
光または透過光を検出することにより情報が再生される
。そして、上記光ディスクへの情報の書き込みおよび読
み取りのためのレーザービームの照射は、通常ディスク
表面の所定の位置に行われる。このためレーザービーム
を案内して照射予定位置に正確にたどる（一般にトラッ
キングと呼ばれる）ようにするため、例えば逆台形型の
プレグルーブ（トラッキングガイド〉がディスク表面に
設けられる。

このように、ＤＲＡＷ型の情報記録媒体は、上記プレグ
ルーブを有する基板上に記録層等が設けられた基本構成
を有する。

このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有す
る他に、記録層を塗布法により簡単に形成することがで
きるという製造上の大きな利点を有している。しかしな
がら、色素からなる記録層は、一般に反射率が低い、あ
るいは高いＣ／Ｎが得られ難いとの欠点がある。

色素を含む記録層（以下、色素記録層と言うこともある
）への情報の記録は、レーザ光を照射することにより色
素記録層にビット（孔）を形成することにより行なわれ
る。

また色素記録層上に反射率を向上させるため反射層を設
けた情報記録媒体では、該色素記録層がレーザ光を吸収
し、それにより色素が融解するのに伴なってプラスチッ
ク製の基板が加熱され、該基板は色素記録層側に肉盛り
変形しビットが形成されることが知られている。

［発明の目的］ 本発明は、バブルモードにより高Ｃ／Ｎの記録が可能な
新規な光情報記録方法を提供することを目的とする。

また、本発明は、記録時のレーザーパワーとして広いエ
ネルギー範囲内の任意のパワーを使用することができる
光情報記録方法を提供することを目的とする。

また、本発明は、バブルモードにより高Ｃ／Ｎの信号が
記録された新規な情報記録媒体を提供することを目的と
する。

また、本発明は、バブルモードにより情報が記録され、
且つ反射率が高い新規な情報記録媒体を提供することを
目的とする。

さらに、本発明は、バブルモードにより情報が記録され
、且つ読み取り耐久性に優れた情報記録媒体を提供する
ことを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、基板上に設けられた色素からなる記録層の上
に、ＡｕまたはＡｕを含む合金からなる反射層が設けら
れてなる情報記録媒体を回転させながら、基板側からレ
ーザー光を照射して、記録層と反射層との界面に、反射
層の膨出と記録層の陥没により形成され、深さが光学的
距離でλ／１５〜λ／４の範囲（但し、λは再生時に用
いるレーザーの波長）にある空洞を生成させることによ
り情報を記録することからなる光情報記録方法にある。

また、上記光情報記録方法により情報が記録された情報
記録媒体にもある。

上記本発明の光情報記録方法の好ましい態様は以下の通
りである。

１）上記反射層上に、ガラス転位温度が一１５℃以下の
ポリマーからなる保護層が形成されていることを特徴と
する上記光情報記録方法。

２）上記反射層上に、少なくとも一方の表面に微細な凹
凸を有する樹脂フィルムが、該凹凸を有する表面と反射
層とが対向するように設けられていることを特徴とする
上記光情報記録方法。

３）上記反射層の層厚が、３００〜８００Ｘの範囲にあ
ることを特徴とする上記光情報記録方法。

４）上記反射層が、Ａｕからなることを特徴とする上記
光情報記録方法。

５）上記反射層の膨出の深さが、上記空洞の深さの４１
５〜１１５の範囲にあることを特徴とする上記光情報記
録方法。

６）上記情報の記録が、情報記録媒体を１．２〜２．８
ｍ／秒の定線速度にて回転させながら行われることを特
徴とする上記光情報記録方法。

７）上記情報の記録が、情報記録媒体を回転させながら
基板側からレーザー光を照射してＣＤフォーマットのＥ
ＦＭ信号を記録することにより行われることを特徴とす
る上記光情報記録方法。

上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通り
である。

１）上記反射層上に、ガラス転位温度が一１５℃以下の
ポリマーからなる保護層が形成されていることを特徴と
する上記情報記録媒体。

２）上記反射層上に、少なくとも一方の表面に微細な凹
凸を有する樹脂フィルムが、該凹凸を有する表面と反射
層とが対向するように設けられていることを特徴とする
上記情報記録媒体。

３）上記反射層の層厚が、３００〜７００大の範囲にあ
ることを特徴とする上記情報記録媒体。

４）上記反射層が、Ａｕからなることを特徴とする上記
情報記録媒体。

５）上記反射層の膨出の深さが、上記空洞の深さの４１
５〜１１５の範囲にあることを特徴とする上記情報記録
媒体。

［発明の効果］ 本発明の光情報記録方法に用いられる情報記録媒体は、
色素記録層および色素記録層上に設けられたＡｕを含む
反射層を、色素の種類、各層の層厚等を選択、調整する
ことにより、記録した場合に生ずる反射層の膨出および
記録層の陥没とからなる空洞の深さが上記範囲内に入る
ように設計されている。従って、従来にない新規な光情
報記録方法といえる。

本発明は上記情報記録媒体に記録を行なうことにより、
上記反射層の膨出部を有し且つ空洞の深さが上記範囲内
に入るので、得られる信号の波形の歪が少なくなり、再
生時に高いＣ／Ｎを得ることができる。また、反射層は
Ａｕを含む金属から構成されているため反射率が高く、
ＣＤフォーマット信号を記録して市販のＣＤプレーヤー
で記録された信号の再生が可能である。さらに、このよ
うな反射層を有しているため読み取り耐久性においても
優れている。

特に、該反射層上にガラス転位温度が一１５℃以下のポ
リマーからなる保護層を設けた場合、記録する際のレー
ザーパワーを広いエネルギー範囲で使用することが可能
となる。これにより、再生時の再生装置の調整の精度を
厳密にする必要がなくなり、使用できる再生装置の範囲
も広がる。また、この保護層は、記録時に生ずる空洞の
大きさを制御するためにも利用することもできる。

［発明の詳細な記述］ 本発明の光情報記録方法に用いられる情報記録媒体の構
成の例を、添付の第１図〜第３図を参照しながら説明す
る。

第１図は、基板１１上に、色素記録層１２および反射層
１３がこの順で設けられた、上記情報記録媒体の基本構
成を示す断面の模式図である。

第２図は、基板２１上に、色素記録層２２、反射層２３
および保護層２４がこの順で設けられた、上記情報記録
媒体の別の態様を示す断面の模式図である。

第３図は、基板３１上に、色素記録層３２、反射層３３
、および保護用の樹脂フィルム３５がこの順で設けられ
た、上記情報記録媒体の別の態様を示す断面の模式図で
ある。

第１図が本発明の記録方法に用られる情報記録媒体の不
可欠な層構成を示すものであり、第２図は反射層上に保
護層がさらに設けられた場合で、この保護層はガラス転
位温度が一１５℃以下のポリマーからなり、記録時に生
ずる空洞の大きさを制御するためにも利用することがで
きる。そして第３図は反射層がさらに保護用の樹脂フィ
ルムで覆われた場合で、耐久性の優れた構成を示してい
る。樹脂フィルムは、一般に基板の記録層が設けられて
いない内周側および外周側において超音波融着等により
接合される。

第２図の保護層２４の上にさらに高い硬度の耐久性に優
れた別の保護層を設けても良いし、また第３図で示した
樹脂フィルムで覆ってもよい。

本発明の光情報記録方法では、上記第１図〜第３図に示
されたような情報記録媒体を回転させながら、レーザー
光を基板側から照射して該記録層にバブルを生成させる
ことにより該記録層と該反射層との界面に、該反射層側
に膨出部および該記録層側に陥没部とを形成させ、これ
により空洞を生成させることによって情報の記録が行な
われる。そして、該空洞の深さ、すなわち該記録層の表
面と該反射層の底面との垂直距１１（基板表面に対して
垂直方向での距１１）の最大値が光学的距離でλ／１５
〜λ／４の範囲（但し、λは再生時のレーザーの波長）
にある必要がある。また上記反射層の膨出の深さが、上
記空洞の深さの４１５〜１１５の範囲にあることが好ま
しい。

上記のようにして情報が記録された情報記録媒体の断面
の模式図を第４図〜第６図に示す。

第４図は、基板４１上に、色素記録層４２および反射層
４３がこの順で設けられた情報記録媒体（上記第１図の
構成）に、本発明の記録方法により空洞４６が形成され
た情報記録媒体の断面の模式図である。ａは、上記空洞
４６の深さであり、本発明では、上記のようにが光学的
距離でλ／１５〜λ／４の範囲にある必要がある。

第５図は、基板５１上に、色素記録層５２、反射層５３
および保護層５４がこの順で設けられた情報記録媒体（
上記第２図の構成）に、本発明の記録方法により空洞５
６が形成された情報記録媒体の断面の模式図である。

第６図は、基板６１上に、色素記録層６２、反射層６３
および保護用の樹脂フィルム６５がこの順で設けられた
情報記録媒体（上記第３図の構成）に、本発明の記録方
法により空洞６６が形成された情報記録媒体の断面の模
式図である。

第４図では、色素記録層がレーザー光の熱により分解あ
るいは気化し、このバブル（気泡）が上層の反射層を持
ち上げ膨出部を形成し、一方色素記録層は上記のように
色素が分解あるいは気化したため陥没部が形成される。

これにより、色素記録層と反射層との界面に空洞が形成
され、バブルモードによる情報の記録が行なわれる。上
記空洞が形成された際、その影響を受けて基板がいく分
陥没することもある。

第５図では、色素記録層がレーザー光の熱により分解あ
るいは気化し、上記と同様にこのバブルが上層の反射層
を持ち上げ膨出部を形成し、色素記録層には上記のよう
に陥没部が形成される。これによりバブルモードによる
情報の記録が行なうことができる。すなわち、反射層の
上層である保護層がガラス転位点が低く柔軟性を有する
ためこの凸部の形成をそれほど抑制することはない。む
しろ記録する際のレーザーパワーを広いエネルギー範囲
で使用できるようになる。従って、保護層を設けない時
より若干の記録感度等の低下は見られるが使用可能なレ
ーザーパワーの範囲が広がるため有用である。

第６図では、色素記録層がレーザー光の熱により分解あ
るいは気化し、このバブルが上層の反射層を持ち上げ膨
出部を形成する際、反射層を覆う保護用の樹脂フィルム
はこの膨出部の形成を抑制することはほとんどない。樹
脂フィルムは少なくとも反射層と対向する表面に微細な
凹凸を有しているため、反射層と樹脂フィルムの間には
空間が形成されている。従って、反射層の膨出部の形成
は勿論、色素記録層の陥没部の形成を抑制することはな
く、記録特性にほとんど影響を与えないで、耐久性の向
上の効果を付与することができる。また反射層上に上記
保護層を設け、そして該保護層上を樹脂フィルムで覆っ
た場合も同様に記録特性を劣化させずに耐久性の向上が
可能である。

上記基板上に設けられた記録層に用いられる色素は、特
に限定されるものではないが、バブルの形成が容易であ
ることが望ましい。従って、加熱により分解あるいは気
化（昇華）し易い色素が好ましい。そして、記録層上に
設けられる反射層は反射率が高く且つ反射層の変形量は
制御し易い帰属から構成されることが望ましい。本発明
ではＡｕまたはＡｕ合金であることが必要である。

Ａｕ合金に用いられる好ましい金属としては、Ｍｇ％　
Ｎｉ、　　Ｃｒ％　Ｇｅ、　　Ｚｎ、　　Ｉｎ、　　Ｓ
ｎ。

Ｐｂ、Ｃｏ％ＡｆＬ、Ｇａ％Ｓｂ、ＢｉおよびＧｅＳを
挙げることができる。また上記反射層の層厚が、３００
〜８００大の範囲にあることが好ましい。

本発明では、色素記録層および色素記録層上に設けられ
たＡｕを含む反射層は、色素の種類、各層の層厚等を選
択、調整することにより、記録した場合に生ずる反射層
の膨出および記録層の陥没とからなる空洞の深さが上記
範囲内に入るように設計されている。従って、従来にな
い新規な光情報記録方法といえる。

本発明は上記情報記録媒体に記録を行なうことにより、
上記反射層の膨出部を有し且つ空洞の深さが上記範囲内
に入るので、得られる信号の波形の歪が少なくなり、再
生時に高いＣ／Ｎを得ることができる。また、反射層は
Ａｕを含む金属から構成されているため反射率が高く、
ＣＤフォーマット信号を記録して市販のＣＤプレーヤー
で記録された信号の再生が可能である。さらに、このよ
うな反射層を有しているため読み取り耐久性においても
優れている。

特に、該反射層上にガラス転位温度が一１５℃以下のポ
リマーからなる保護層を設けた場合、記録する際のレー
ザーパワーを広いエネルギー範囲で使用することが可能
となる。これにより、再生時の再生装置の調整の精度を
厳密にする必要がなくなり、使用できる再生装置の範囲
も広がる。また、この保護層は、記録時に生ずる空洞の
大きさを制御するためにも利用することもできる。

本発明の光情報記録方法に用いられる情報記録媒体の製
造は、たとえば以下に述べるような材料を用いて行なう
ことができる。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としては、ガラス、セルキャストポリメチ
ルメタクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレート
等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合
体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；ポリカーボネ
ート樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエス
テルを挙げることができる。好ましくは、ポリカーボネ
ート、ポリオレフィンおよびセルキャストポリメチルメ
タクリレートを挙げることができる。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質；シランカップリング剤などの有機
物質；および無機酸化物（Ｓ　１０２　、　Ａ克２０３
等）、無機フッ化物（ＭｇＦｚ）などの無機物質を挙げ
ることができる。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般にｏ、ｏｏｓ〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範
囲である。

また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層および／またはプレピット層が設け
られてもよい。プレグルーブ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（
またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンバ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。

次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好まし
くは０．１〜５０μｍの範囲である。基板材料がプラス
チックの場合は、射出成形あるいは押出成形などにより
直接基板にプレグルーブおよび／またはプレピットが設
けられてもよい。

基板（またはプレグルーブ層等）上には、色素からなる
記録層が設けられる。本発明に使用される色素は、例え
ば、イミダゾキノキサリン系色素などのシアニン系色素
、インドレジン系色素、フタロシアニン系色素、ビリリ
ウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、
スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色
素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフ
ェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニル
メタン系色素、トリアリルメタン系色素、メロシアン系
色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニ
ウム系色素およびニトロソ化合物を挙げることができる
。

これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。

その好ましい例としては、 ｉ）シアニン系色素： ［＋］　（ＣＨ３）２Ｎ−（Ｃ８−（：Ｈ）ｓ−ＣＨ−
”Ｎ（ＣＨ３）２ｃｉｏ４−（ただし、ｎは２または３
である） ［４］　　Φ”　　　Ｌ　”’Ｐ　　　（Ｘ”−）Ｉ／
−（ただし、Φおよび平はそれぞれ芳香族環が縮合して
いてもよいインドレニン環残基、チアゾール環残基、オ
キサゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール
環残基、ピリジン環残基、チアゾロピリミジン環残基ま
たはイミダゾキノキサリン環残基であり、Ｌはモノカル
ボシアニン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンま
たはテトラカルボシアニンを形成するための連結基であ
り、Ｘ″′−は０価の陰イオンであり、ｍは１または２
であり、さらにＸｌ−はΦ、Ｌまたは？上に置換して分
子内塩を形成しても良く、またΦとし、またはＬと平と
はさらに連結して環を形成しても良い） 上記−数式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のａ）〜ｋ）等が挙げられる。

る） （ただし、Ｒは水素原子またはＮ　（ＣＨ３）　２であ
１１３ ＩＬＯ４− ＣＨ３ Ｃ角０４ Ｃ２）１５ ｉｉ）スクワリリクム系色素： Ｃｌ０ａ− ｃ　（ＣＨ３）　３ − Ｃ（ＣＨｓ）　ｓ Ｘ０４− ｉｉｉ）アズレニウム系色素： Ｃ旦０４− れてアザアズレン環となっていてもよい。〉ｉｖ）イン
ドフェノール系色素： ＾−ＲＩ　　　　Ｙ （ただし、Ｒ１とＲｔ　、　Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ’　
、Ｒ’　とＲ’　、Ｒ’　とＲ’　Ｊ３よびＲ’　とＲ
’の組合せのうち少なくとも一つの組合せで置換もしく
は未置換の複素環または脂肪族環による環を形成し、該
環を形成しないときのＲ１，Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｆｌｓ
　、　ｌ（６およびＲ７はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子または一価の有機残基であり、あるいはＲ１と１ｌ
ｊ２　、　Ｒ３とＲ４，Ｒ４とＲ８、Ｒ５とＲ’　ｇ、
ｌ−びＲ’　トＲ’　（７）　ｍｌ　合セ（Ｄ　ウち少
なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香族環
を形成してもよく、Ａは二重結合によって結合した二価
の有機残基であり、２−はアニオン残基である。なお、
アズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が窒素
原子で置き換えら（ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水素
原子、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基また
はハロゲン原子であり、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３はそれぞ
れ水素原子、Ｃ２〜Ｃ２゜の置換または未置換のアルキ
ル基、アリール基、複素環またはシクロヘキシル基であ
り、Ａは−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮ）Ｉ−である〉 ■）金属錯塩系色素： ＩＲ２Ｓ　　　　　Ｓ　　　　Ｒ’ （ただし、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） ＳＳ （ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Ｍは二価の遷移金属原子である〉 （ただし、［Ｃａｔｌは錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄまた
はｐｔであり、ｎは１または２で（Ｒ３）。　　　　　
　　　　　　　　　　（Ｒ３）。

（ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基またはアリール基であり、Ｒ３はアルキル
基、ハロゲン原子または４ （ただし、［Ｃａｔｌは錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃ０１Ｐｄまた
はｐｔであり、ｎは１または２である） 換または未置換のアルキル基またはアリール基である）
であり、Ｍは遷移金属原子であり、ｎは０〜３の整数で
ある） （ただし、Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子またはメ
チル基であり、ｎは１〜４の整数であり１．Ａは第四級
アンモニウム基である）びＲ２はそれぞれ１〜３の整数
であり、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアミノ基、モノアル
キルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチルアミノ基
、ベンゾイルアミノ基（置換ベンゾイルアミノ基を含む
）であり、ＸｌとＸ’、ｎ、とＲ２およびＲＩとＲ２は
それぞれ互いに同じであっても異なっていてもよく、Ｍ
はＣｒまたはＣｏ原子であり、Ｙは水素、ナトリウム、
カリウム、アンモニウム、脂肪族アンモニウム（置換脂
肪族アンモニウムを含む）または脂環族アンモニウムで
ある）ｖｉ）ナフトキノン系、アントラキノン系色素：
（ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である）（ただし、ｘｌおよび
ｘ２はそれぞれニトロ基および／またはハロゲン原子で
あり、ｎｌおよＨ （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である）（ただし、Ｘはハロゲ
ン原子であり、ｎは０〜１０の整数である） ＯＨＯ （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ン基または置換アミノ基である）（ただし、Ｘはハロゲ
ン原子である） Ｎｉ１．　　０ Ｈ２５ ｖｉｉ）インドリジン系色素： （式中、Ｒ１及びＲ４は、それぞれ独立に、置換基を有
していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、芳香環に置換基を有していてもよいアラル
キル基、アルコキシ基、芳香環に置換基を有していても
よいアリールオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基、
芳香環に置換基を有していてもよいアリールカルボニル
アミノ基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル
基又はハロゲン原子を表わし、Ｒ”及びＲ”は、それぞ
れ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキ
ル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に
置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基
、芳香環に置換基を有していてもよいアリールオキシ基
、アルキルカルボニルアミノ基、芳香環に置換基を有し
ていてもよいアリールカルボニルアミノ基、シアン基、
アシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を
表わし、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ８、Ｒｅ及びＲ７は、それぞれ
独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に置
換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基又
はハロゲン原子を表わし、Ｒ２及びＲ３がアルキル基で
あるときＲ２とＲ３とは一緒になって環を形成してもよ
く、Ｒ５及びＲ６がアルキル基であるときＲ５とＲ６と
は一緒になって環を形成してもよく、Ｘはアニオンを表
わす。） 上記−数式［２２］で表わされる具体的な色素例は以下
の（１）〜（２７）を挙げることができる。

（１０） （１１） （１２） （１３） （１４） （１５） Ｃ２０） （２１） （２２） （１７） （１日） （１９） Ｃ２３） （２４） （２５） （２６） （２７） −ｎ３ −０３ などを挙げることができる。

上記インドリジン系色素は、例えば、胃、Ｌ。

Ｍｏ５ｂｙ著”ｔ（ｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｓｙｓｔ
ｅｍｓ　ｗｉｔｈＢＲＩＤＧＥＨＥＡＤ　ＮｌＴＲ０Ｇ
ＥＮ　ＡＴＯＭ　ＰａｒｔｏｎｅＩｎｔｅｒｓｃｉｅｎ
ｃｅ　Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ　１９６１、米国特許第２
，４０９．６１２号、同第２，５１１，２２２号、同第
２，５７１，７７５号、同第２，６２２，０８２号、同
第２，７０６，１９３号、特開昭６２−２２７６９３号
公報、同６４−４９６８５号公報等に開示された方法を
参考にして合成することができる。以下に、前記例示し
たインドリジン系色素の合成法を色素（７）および（３
）を例にとり説明する。

合成例１：色素（７）の合成 ３．５−ジメチル−２−フェニルピロコリン６ｇをエタ
ノール５０用ＩＬに溶解した後、１，３゜３−トリメト
キシプロベン４ｍｊ２と濃塩酸４ｍｌとを加え、１５分
間にわたり加熱還流した。反応液を氷冷し生じた結晶を
濾取し、メタノールで洗浄して色素（７）の粗結晶を得
た。

合成例２：色素（３）の合成 上記で得られた色素（７）の粗結晶５ｇにメタノール２
５０ｒｎＪＺを加えて溶解し少量の不溶物を濾別した後
、過塩素酸テトラブチルアンモニウム５ｇを５０ｍＪｌ
のメタノールに溶解して添加した。生じた結晶を濾取し
、メタノールで洗浄して４．２ｇの色素３を得た。

融点：３００℃以上 これらの色素のうちで、１００〜３００℃前後の温度で
、融解、熱分解、昇華等の熱的変化を起こす色素が本発
明のバブルを形成する上で好ましい。本発明の方法を好
ましく適用することができる具体的な色素としては、イ
ミダゾキノキサリン系色素、チアゾール系色素を含むシ
アニン系色素、インドリジン系色素、アズレニウム系色
素、スクワリリウム系色素、フタロシアニン系色素、メ
ロシアニン系色素、オキソノール系色素およびインドア
ニリン系色素である。なお、これらの色素は単独でもあ
るいは二種以上の混合物として用いてもよい。また、シ
アニン系色素を用いる場合に、上記金属錯塩系色素また
はアミニウム系・ジィンモニウム系色素をクエンチャ−
として−緒に用いてもよい。

記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１，２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、２．２．３．３−テトラフロ
ロプロパノール等フッソ＝ｔ＝　溶剤などを挙げること
ができる。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５
０容量％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族
炭化水素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶
媒を含んでいてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂：
ボリビニルアルコール：塩素化ポリオレフィン：エポキ
シ樹脂：ブチラール樹脂：ゴム誘導体およびフェノール
・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物
などの合成有機高分子物質を挙げることができる。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重量比）の
範囲にある。

記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に０
．０１〜２μｍの範囲にあり、好ましくは０．０２〜０
．３μｍの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい。

上記色素記録層の上には本発明の反射層が設けられる。

本発明の反射層の材料は、ＡｕまたはＡｕを含む合金で
ある。Ａｕ以外の合金材料としては、上記のようにＭｇ
、ＡＪＺ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｃｏ
、Ｐｂ％　Ｇａ、Ｓｂ。

Ｂｉ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ。

Ｍｏ％　Ｗ％　Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｒｈ。

Ｉ　ｒ、Ｇａ、Ｓｉ、Ｔｅ、Ｐａなどの金属および半金
属を挙げることができる。

反射層は、たとえば上記金属等の材料を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。

反射層の層厚は一般に１００〜１００ＯＸの範囲であり
、好ましくは３００〜８００Ｘの範囲である。

上記反射層上には、下記の保護層が設けられ・ることか
好ましい。これにより記録により形成される空洞の形状
を制御することができる。また一般に保護層のように記
録層および反射層を保護して耐久性を獲得できると共に
、記録時の使用できるレーザーパワーのエネルギーの範
囲が拡大する。

上記保護層を形成する材料はガラス転位点温度（Ｔｇ）
が−１５℃以下のポリマーを使用する必要がある。Ｔｇ
が上記範囲内にあるポリマーであれば、使用するポリマ
ーは特に限定されるものではない。

上記ポリマーの具体例としては、ポリエチレン（７ｇニ
ー２０〜−８０℃）、ポリベンテン（７ｇニー２４〜−
５３℃）、シス−ポリブタジェン（Ｔｇニー１０８℃）
、２−イソプロピル−１，３−ブタジェン（Ｔｇニー４
７℃）、シス−ポリイソプレン（７ｇニー６５〜−７５
℃）、ポリイソブチレン（７ｇニー６５〜−７１℃）、
ポリオキシメチレン（７ｇニー４０〜−６０℃）、ポリ
エチルアクリレート（Ｔｇニー２３〜−２９℃）、ポリ
ブチルアクリレート（Ｔｇニー６３℃）、ポリヘキセン
（Ｔｇニー５０℃）、ポリ−１−オクテン（Ｔｇニー６
５℃）およびポリドデセン−１（Ｔｇニー２５℃）、ポ
リウレタン（Ｔｇニー１５℃以下）などを挙げることが
できる。また、紫外線硬化型樹脂で、モノマー成分など
Ｔｇを低下させる成分を単独もしくは他のオリゴマー、
モノマー成分に添加してＴｇが一１５℃以下の保護層を
形成しても良い。使用できるモノマーとしては、商品名
がアロニックスＭ−１０１（Ｔｇニー２５℃）、アロニ
ックスＭ−１１３（Ｔｇニー４３℃）、アロニックスＭ
−１１７（Ｔｇニー２０℃）、アロニックスＭ−５５０
０（Ｔｇニー４０℃）（以上東亜合成化学工業■製）を
挙げることができる。

保護層の形成は、上記ポリマーを溶剤に溶解して塗布液
を調製し、次いでこの塗布液を反射層上に塗布して塗膜
を形成したのち乾燥することにより行なうことができる
。塗布機としては、スピンコードなと上記色素層形成時
に使用したものを利用することができる。紫外線硬化性
樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解し
て塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を
照射して硬化させることによって形成することができる
。また、上記ポリマーを蒸着、スパッタリング等により
緩衝層を形成してもよい。緩衝層の層厚は、一般に０，
１〜５００μｍの範囲であり、好ましくは１〜１００μ
ｍの範囲である。

さらに優れた耐久性を要求する光ディスクの用途へは、
該保護層の上に、記録層、反射層および情報記録媒体全
体を物理的および化学的に保護するための別の保護層を
設けることが必要である。

また、この保護層は、基板の記録層が設けられていない
側にも耐傷性、耐湿性を高める効果も有する。

本発明では上記別の保護層より上記保護機能有する表面
に微細な凹凸を有する樹脂フィルムにより反射層上また
は保護層上を覆うことが好ましい。その材料としては、
ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレン等を挙げることができる。

また保護層に用いられる材料の例としては、無機物質と
しては、Ｓｉｎ、ＳｉＯ２，Ｓｉ３Ｎ４．ＭｇＦ２．５
ｎ０２、ＺｎＳ等を挙げることができる。有機物質とし
ては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂
等を挙げることができ、好ましくは紫外線硬化性樹脂で
ある。

すなわち、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布
し、乾燥することによっても形成することができる。紫
外線硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し
、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成する
ことができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレタン（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポ
リエステル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレ
ートのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エステル等の
モノマー類等さらに光重合開始剤等の通常の紫外線硬化
性樹脂を使用することができる。これらの塗布液中には
、更に帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の各種
添加剤を目的に応じて添加してもよい。

保護層の層厚は一般には０．１〜５００μｍの範囲であ
る。好ましくは１〜１００μｍである。

上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押出
加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
上にラミネートすることにより形成することができる。

あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法によ
り設けられてもよい。

次に、本発明に用いられる情報記録媒体に情報を記録お
よび再生する方法を、ＣＤフォーマットデジタル信号の
記録を例にとって説明する。

まず、情報記録媒体を１．２〜１．４ｍ／秒の範囲内の
一定の線速度で回転させながら、基板側から半導体レー
ザー光などの記録用の光を照射する。一般に、記録光と
しては７６５〜８４０　ｎｍの範囲の発振波長を有する
半導体レーザービームが用いられる。本発明の情報記録
媒体では、１０ｍＷ以下のレーザーパワーで記録するこ
とができ、高感度である。

上記の記録方法により、記録層には、同心円状もしくは
スパイラル状にＣＤフォーマットデジタル信号がバブル
モードにて形成される。そして、信号が記録層に書き込
まれる。

記録に際しては、トラッキング用プレグルーブを用いて
トラッキング制御を行なうことが好ましい。記録媒体に
プレグルーブが設けられている場合において、信号の記
録はグループの底部、もしくはグループ間の領域どちら
に行なってもよい。

この方法により、たとえば、信号面の内径が５０ｍｍ、
外径が１１５ｍｍの記録媒体では、６０分以上の記録が
可能である。

情報の再生は、記録媒体を上記と同一の定線速度で回転
させながら半導体レーザー光を基板側から照射して、そ
の反射光を検出することにより行なうことができる。

以上の情報の記録、再生方法は、本発明の記録再生方法
の一態様であり、本発明を限定するものではない。例え
ば速度はもっと速い線速度にて記録再生することも可能
であり、また角速度であってもよい。

以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 上記色素の構造式ｖｉｉ）　−（３）　：１６５ｇを２
．２，３．３−テトラフロロブロバノール１００ｍＩｌ
に溶解して色素記録層塗布液を調製した。

トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ：
１．２ｍｍ、トラックピッチ：１．６μｍ）上に、上記
塗布液をスピンコード法により回転数１０００　ｒｐｍ
の速度で塗布した後、該基板をさらに２００　ｒｐｍの
速度で１分間回転させることにより乾燥させ、膜厚が１
ｓｏｏＸの記録層を形成した。

上記色素記録層上に、Ａｕをスパッタリング（ＤＣマグ
ネトロンスパッタ装置を用いて、圧カニ　２　Ｘ　１Ｏ
−２Ｔｏｒｒ、蒸着速度：４又／秒にて）することによ
り膜厚が４５０Ｘの反射層を形成した。

該反射層上に、ボリカーボネーネート樹脂フィルム（厚
さ：１３０μｍ１商品名ニューピロンマットフィルム、
ＦＥ−２０００ＭＯ１、三菱瓦斯化学■製）で、フィル
ムと基板を内周側および外周側にて超音波融着すること
により接合して覆った。

このようにして、基板、色素記録層、反射層および樹脂
フィルムからなる情報記録媒体を製造した。

［実施例２コ 実施例１において、該反射層上を樹脂フィルムを用いて
覆わなかった以外は実施例１と同様にして情報記録媒体
を製造した。

［実施例３］ 実施例１において、反射層の上にポリウレタン系樹脂（
Ｔｇニー２０℃、商品名：Ｔｌ３０８３、三洋化成■製
）を塗布、乾燥して層厚２μｍの保護層を設けた以外は
実施例１と同様にして情報記録媒体を製造した。

［実施例４］ 実施例１において、反射層の上にＴｇが１０℃以上であ
る紫外線硬化型樹脂（商品名：３０７０、スリーボンド
■製）１００重量部に紫外線硬化型モノマー（Ｔｇ　ニ
ー４３℃、商品名：アロニックスＭ−１１３、東亜合成
化学工業■製）２０重量部を加えた塗布液をスピンコー
ターで塗布、ＵＶ照射して硬化させて層厚２μｍの保護
層（Ｔｇニー４０℃）を設けた以外は実施例１と同様Ｃ
して情報記録媒体を製造した。

［実施例５］ 実施例１において、樹脂フィルムを使用せず、反射層の
上にＴｇが１０℃以上である紫外線硬化型樹脂（商品名
：　３０７０、スリーボンド■製）１００重量部に紫外
線硬化型モノマー（Ｔｇニー４３℃、商品名：アロニッ
クスＭ−１１３、東亜合成化学工業■製）２０重量部を
加えた塗布液をスピンコーターで塗布、ＵＶ照射して硬
化させて層厚５μｍの保護層（Ｔｇニーｓｏ℃）を設け
、該保護層の上にさらにＴｇが１０℃以上である紫外線
硬化型樹脂（商品名：　３０７０、スリーボンド■製）
をスピンコーターで塗布、ＵＶ照射して硬化させて別の
保護層を設けた以外は実施例１と同様にして情報記録媒
体を製造した。

［実施例６］ 実施例１において、反射層の層厚を４５０又から３５０
Ｘに変えた以外は実施例１と同様にして情報記録媒体を
製造した。

［実施例７］ 実施例１において、反射層の層厚を４５０Ｘから７５０
Ｘに変えた以外は実施例１と同様にして情報記録媒体を
製造した。

［実施例８コ 実施例１において、反射層の材料をＡｕのみからＡｕと
Ｗ（重量比で１００：１０）に変えた以外は実施例１と
同様にして情報記録媒体を製造した。

［実施例９］ 実施例１において、記録層に用いた色素を下記の色素に
変えた以外は実施例１と同様にして情報記録媒体を製造
した。

色素の構造式［４］−［ｂ］： １ｓｏ−Ｃ４Ｈ，に角０４−　　　ｌ５Ｏ−Ｌ；４Ｈ９
［情報記録媒体の評価］ １）光学的距離 トンネル顕微ｆｉ　（ＳＴＭ）を用いて得られた情報記
録媒体の各層を、上層から順に一層ずつ剥離して、各層
の表面形状プロファイルを測定し、これから断面形状を
推定した。すなわち、反射層のプロファイルより反射層
の膨出部の深さを測定し、色素記録層のプロファイルよ
り記録層の陥没部の深さを測定した。これＣより色素記
録層と反射層との界面に形成された各空洞の基板表面に
対する垂直距離の最大値を測定した。これを１０個の空
洞について行ないその平均を表記した。

２）反射率（％）、感度（ｍ　Ｗ　）、Ｃ／Ｎ（ｄＢ）
、パワー範囲（ｍ　Ｗ　）上記で得られた情報記録媒体
について、光デイスク評価機（パルステック工業■製）
を用いて、記録時のレーザーパワー（記録パワー）を変
化させて、線速度１．３ｍ／秒、変調周波数７２０ｋＨ
ｚおよびデユーティ３３％にて記録を行ない、そして反
射率、感度およびＣ／Ｎの測定をスペクトラムアナライ
ザー（ＴＲ４１３５：アドバンテスト社製）を用いて、
ＲＢＷ＝３０ｋＨｚ。

ＶＢＷ＝１００Ｈ２，再生パワー０．５ｍＷにて行なっ
た。パワー範囲は最大のＣ／Ｎより３ｄＢ以下の値まで
を維持できる記録時のレーザーパワーの範囲を求めた。

３）読み取り耐久性 上記再生条件で、同一のトラックの再生を繰り返し、Ｃ
／Ｎが初期より３ｄＢ低下するまでの再生回数を表記し
た。

４）ＣＤプレーヤーでの再生 上記記録条件にて、信号をＣＤフォーマットＥＦＭ信号
に変更して記録し、記録された信号が、市販のＣＤプレ
ーヤーにて再生が可能であったディスクをＡＡ、不可能
なディスクをＢＢとした。

第１表 距離　反射　感度　ＣＡＮパワー　耐久　ＣＤＡ（Ｂ）
　　率　　　　　　　範囲　性　　再生λｘ　　　（零
）　　（ｎｕｌ？）　　（ｄＢ）　（ｔｎＶＩ）　　（
回）実１ 実２ 実３ 実４ 実５ 実６ 実７ 実８ 実９ １／６（１／１３）　　７２ １／６（１／１３）７２ １／９（１／２０）７２ １／９（１／２０）７２ １／１０（１／２２）７２ １１５（１／１２）６８ １／９（１／１６）７３ １／７（１／１３）７０ １／６（１／１４）７２ ７　　　５３　　０．５ ７　　　５３　　０．５ ９　　　４９　　１．０ ９　　　４９　　１．５ ９　　　４９　　１．５ ７　　　５２　　０．５ ７　　　５１　　０．５ ７　　　５３　　０．５ ６　　　５４　　０．５ ＩＸＩＯ’　　　ＡＡ ＩＸＩＯ’　　　ＡＡ １ｘｌＯ’　　　ＡＡ ＩＸＩＯ’　　　ＡＡ ＩＸＩＯ’　　　ＡＡ ＩＸＩＯ’　　　ＡＡ ＩＸＩＯ’　　　ＡＡ ＩＸＩＯ’　　　ＡＡ ＩＸ　１０’　　　ＡＡ 尚、第１表において、距＠Ａは空洞の深さ、距ｌ！Ｂは
反射層の膨出部の深さを示す。また、λは７８０ｎｍで
ある。そして実は実施例を表わす。

上記第１表より明らかなように、本発明の光情報記録方
法である、反射層に膨出部を有し、色素記録層と反射層
との界面に形成された各空洞の深さ（基板表面に対する
垂直距離の最大値）が所定の範囲に入るように情報が記
録された情報記録媒体（実施例１〜９）は、反射率が高
く、且つ再生時のＣ／Ｎも高いことが分かる。また反射
層上にＴｇの低い材料からなる保護層を設けた実施例３
〜５は記録時に使用できるレーザーのパワー範囲が広く
、装置への適応性が大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図および第３図は、本発明の光情報記録方
法に用いられる情報記録媒体の一例を示す部分断面の模
式図である。 第４図、第５図および第６図は、本発明のバルブモード
にて情報が記録された情報記録媒体の例を示す部分断面
の模式図である。 二色未記録層 １３．２３．３３．４３．５３．６３ ：反射層 ２４．５４：保護層 ３５．６５：保護用樹脂フィルム ４６．５６．６６：空洞

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に設けられた色素からなる記録層の上に、Ａ
   ｕまたはＡｕを含む合金からなる反射層が設けられてな
   る情報記録媒体を回転させながら、基板側からレーザー
   光を照射して、記録層と反射層との界面に、反射層の膨
   出と記録層の陥没により形成され、深さが光学的距離で
   λ／１５〜λ／４の範囲（但し、λは再生時に用いるレ
   ーザーの波長）にある空洞を生成させることにより情報
   を記録することからなる光情報記録方法。 ２、上記反射層上に、ガラス転位温度が−１５℃以下の
   ポリマーからなる保護層が形成されていることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の光情報記録方法。 ３、上記反射層上に、少なくとも一方の表面に微細な凹
   凸を有する樹脂フィルムが、該凹凸を有する表面と反射
   層とが対向するように設けられていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の上記光情報記録方法。 ４、基板上に設けられた色素からなる記録層の上に、Ａ
   ｕまたはＡｕを含む金属からなる反射層が設けられてな
   る情報記録媒体の、記録層と反射層との界面に、反射層
   の膨出と記録層の陥没により形成され、深さが光学的距
   離でλ／１５〜λ／４の範囲（但し、λは再生時に用い
   るレーザーの波長）にある空洞が形成され、これにより
   情報が記録されていることからなる情報記録媒体。 ５、上記反射層上に、ガラス転位温度が−１５℃以下の
   ポリマーからなる保護層が形成されていることを特徴と
   する特許請求の範囲第４項記載の情報記録媒体。 ６、上記反射層上に、少なくとも一方の表面に微細な凹
   凸を有する樹脂フィルムが、該凹凸を有する表面と反射
   層とが対向するように設けられていることを特徴とする
   特許請求の範囲第４項記載の上記情報記録媒体。