JPH03120635A - 再生用情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 103
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 221
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 80
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims abstract description 50
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 24
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 29
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 118
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 359
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 176
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 44
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 43
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 description 35
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 21
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 13
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 10
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 8
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 7
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 7
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 7
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 7
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 7
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 6
- HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N indolizine Chemical compound C1=CC=CN2C=CC=C21 HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 5
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 5
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 4
- YELMWJNXDALKFE-UHFFFAOYSA-N 3h-imidazo[4,5-f]quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=C(NC=N3)C3=CC=C21 YELMWJNXDALKFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 229910001914 chlorine tetroxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 3
- 239000000434 metal complex dye Substances 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXOZSRCVHASUCW-UHFFFAOYSA-N 1,3,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OC(F)CC(F)(F)F TXOZSRCVHASUCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000004658 aryl carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000043 benzamido group Chemical group [H]N([*])C(=O)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001013 indophenol dye Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 2
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical group C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000209205 Coix Species 0.000 description 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001756 Polyvinyl chloride acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003806 alkyl carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000005539 carbonized material Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- LMBQFLQKKMVTMV-UHFFFAOYSA-N cyclohepta[b]pyrrole Chemical group C1=CC=CC2=NC=CC2=C1 LMBQFLQKKMVTMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910001506 inorganic fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical class ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229940099990 ogen Drugs 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000379 polypropylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Chemical group 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 102200139268 rs10490923 Human genes 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Chemical group 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- KBLZDCFTQSIIOH-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC KBLZDCFTQSIIOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008634 thiazolopyrimidines Chemical group 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical compound C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical group 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔発明の分野］
本発明は、レーザービームを用いて情報を再生すること
ができる再生用情報記録媒体およびその製造方法に関す
るものである。 ［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、光カードさらには大容
量静止画像フシイルおよび大容量コンピュータ用ディス
ク・メモリーなどを含むものである。 これらの情報記録媒体のうちで、再生専用の光ディスク
として、音楽等のオーディオ再生用のコンパクトディス
ク（ＣＤ）や映像、音楽等の再生用ディスクであるビデ
オ・ディスク、別名レーザーディスク（ＬＤ）が広く実
用化されている。 また、記録可能な光ディスクとしては、ＤＲＡＷ（Ｄｉ
ｒｅｃｔ Ｒ，ｅａｄ Ａｆｔｅｒ Ｗｒｉｔｅ 、書
き込み可能）型の情報記録媒体（光ディスク）として、
ｌ５０（国際標準化機構）対応型およびＣＤ対応型が知
られており、゛消去可能な光ディスクについても開発さ
れている。 再生専用の光デイ、スフとしては１．上記のコンパクト
ディスク（ＣＤ）やレーザーディスク（、ＬＤ）に加え
て１文書、データ、静止画像等の７フイルについてもＣ
Ｄ −ＲＯＭ （Ｒｅａｄ ＯｎｌｙＭｅｍｏｒｙ）ま
たはＣＤ −Ｉ （Ｉｎｔｅｒａｃｔｉｖｅ）などの特
にコンピューター用の読み取り専用タイプの光ディスク
の開発も行なわれており、一部実、用化されている。さ
らにＣＤ−ＲＯＭ−ＦＲＯＭと呼ばれるディスクの一部
が記録可能な領域を有する読み取りタイプの光ディスク
も開発されている。 一般に、ＣＤやＬＤなどの再生専用型光ディスクは、以
下のように製造される。 まず、ガラス原板にフォトレジストを塗布し。 該レジスト層にレーザーを照射（露光）することにより
情報を記録して潜像を形成し、そして現像処理を行なう
ことにより凹凸を形成する。この表面にメツキを施しメ
タルマスクを作成し、次いでメタルマスクが反転したマ
ザーを作成し、さらにマザーが反転したスタンパを作成
する。このスタンパを用いて射出成形等の成形を行なう
ことにより情報を表わす凹凸が形成されたディスク基板
を得ることができる。そして基板上に反射層を蒸着によ
り形成し、ラベル印刷、保護層形成等を行なって光ディ
スクが製造される。 上記方法は、記録された情報が同一の再生用光ディスク
を多数製造する方法としては、大がかりな設備を要し、
且つ工程数も多いものと成っており、情報一種類当たり
大量の数の光ディスクを必要とする製造に適している。 しかしながら、一種類の当たりの需要が少ない再生用光
ディスクを製造するにはコスト高となり、製造上不利と
の問題がある。 一方、一般の一度だけ記録が可能なりＲＡＷ型光ディス
クについても上記のような同一の情報を複数必要とする
場合で、特に情報一種類当たり必要とする枚数が少ない
再生用光ディスクの製造に使用されることがある。 ＤＲＡＷ型光ディスクは、グルーブなどのトラッキング
ガイドを表面に有する基板上に金属、色素等からなる記
録層が設けられたもので、必要に応じて、記録層上に反
射層や保護層などが設けられている。そして、多くは記
録層にレーザーを照射してビットを形成することにより
情報の記録が行なわれる０色素を記録層とした場合には
、反射率を向上させるために記録層上に反射層を設ける
ことが多く、このような例が日経エレクトロニクス（Ｎ
ｏ、４６５．１９８９年１月２３日発行、１０７頁）に
記載されている。この光ディスクは、ポリカーボネート
基板の上に色素記録層、Ａｕからなる反射層及び保護層
がこの順で形成されたもので、該ディスクに基板側から
レーザーを照射して基板と色素記録層との界面に凸部を
形成することにより情報が記録される０色素記録層にレ
ーザー光を照射すると、色素層炉゛融解し、これに伴な
って色素層に密着している基板も熱っせられる。基板は
ガラス転位点に達し軟化する。この時、色素材料の分解
が起こり１色素層と基板との界面に圧力が加わって色素
材料と基板材料とが混じり合い、この部分が隆起して最
終的に基板表面に凸部が形成される。 従って、上記ＤＲＡＷ型の光ディスクの情報の記録形態
は、上記記録層へのビット形成、上記基板表面での凸部
の形成、あるいは記録層が下層から発生する気化成分の
圧力による凸部の形成（−般に、バブルモードといわれ
る）などが知られている。上記記録層のピット形成は、
記録層に凹部を形成するだけでなく、溶融した記録層の
熱により基板も溶融し凹部を形成すると一般に考えられ
る。 上記のようなりＲＡＷ型の光ディスクは、記録後であっ
ても光の照射により変化し易い記録層が残っている。従
って、前記のように情報一種類当たり必要とする枚数が
少ない再生用光ディスクの製造（再生用光ディスクの少
量生産）にＤＲＡＷ型の光ディスクを利用した場合、得
られた光ディスクは上記のように記録層が残存している
。このため、このような再生用光ディスクは一般的に光
により劣化しやすく耐光性が充分に優れている七は言え
ない。 以下余白 ［発明の目的］ 本発明は、新規な再生用情報記録媒体およびその製造方
法を提供することを目的とする。 詳しくは１本発明は記録された情報が同じ再生用光ディ
スクを製造する方法で、その生産量が少量の場合に好適
な再生用情報記録媒体の製造方法を提供することを目的
とする。 ［発明の要旨］ 本発明は１表面に、レーザーにより検知可能なトラッキ
ング用のマークおよび／またはグルーブと、レーザーに
より再生が可能な凹部または凸部からなる情報の記録部
位とを有する樹脂基板表面に直接反射層が形成されてな
る再生用情報記録媒体（Ａ）にある。 上記再生用情報記録媒体（Ａ）は、 レーザーにより検知可能なトラッキング用のマークおよ
び／またはグルーブを表面に有する基板上にレーザー光
吸収層が設けられた情報記録媒体の該レーザー光吸収層
にレーザーを照射して該レーザー光吸収層および基板に
凹部を形成させることにより情報を記録する工程 該レーザー光吸収層を除去する工程 該レーザー光吸収層が除去された基板表面に反射層を形
成する工程 からなる再生用情報記録媒体の製造方法（Ａｌ）％また
は レーザーにより検知可能なトラッキング用のマークおよ
び／またはグルーブを表面に有する基板上に色素からな
るレーザー光吸収層および反射層がこの順で形成された
情報記録媒体の該レーザー光吸収層にレーザーを照射し
て該基板と該レーザー光吸収層との界面に凸部を形成さ
せることにより情報を記録する工程 該レーザー光吸収層および反射層を除去する工程 該レーザー光吸収層および反射層が除去された基板表面
に反射層を形成する工程 からなる再生用情報記録媒体の製造方法（Ａ２）を利用
することにより有利に製造することができる。 上記本発明の再生用情報記録媒体（Ａ）の好ましい態様
は以下の通りである。 ｌ）該情報の記録部位が、基板表面に形成された凹部で
あることを特徴とする上記再生用情報記録媒体。 ２）該基板が、円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体。 ３）該基板が１表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ凹部または凸部からなる情報の記録部位が該グルー
ブ上または該グルーブ間に形成されていることを特徴と
する上記再生用情報記録媒体。 ４）該レーザー光吸収層が金属からなることを特徴とす
る上記再生用情報記録媒体。 ５）該レーザー光吸収層が色素からなることを特徴とす
る上記再生用情報記録媒体。 ６）該基板がアクリル系樹脂もしくはポリカーボネート
樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体。 上記本発明の（ＡＩ）の再生用情報記録媒体の製造方法
の好ましい態様は以下の通りである。 ｌ）該基板が、円盤状基板であり且つその表面にプレグ
ルーブを有することを特徴とする上記再生用情報記録媒
体の製造方法。 ２）該情報の記録が、該樹脂基板のトラッキング用のグ
ルーブの該グルーブ上または該グルーブ間に行なわれる
ことを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方法。 ３）該レーザー光吸収層が色素からなり、そして該レー
ザー光吸収層の除去が有機溶剤で洗浄することにより行
なわれること特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造
方法。 ４）該レーザー光吸収層が金属からなり、そして該レー
ザー光吸収層の除去が酸性溶液で洗浄することにより行
なあれること特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造
方法。 ５）該基板が７クリノυ系樹脂もしくはポリカーボネー
ト樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
の製造方法。 上記本発明の（Ａ２）の再生用情報記録媒体の製造方法
の好ましい態様は以下の通りである。 ｌ）該基板が、円盤状基板であり且つその表面にプレグ
ルーブを有することを特徴とする上記再生用情報記録媒
体の製造方法。 ２）該情報の記録が、該樹脂基板のトラッキング用のグ
ルーブの該グルーブ上または該グルーブ間に行なわれる
ことを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方法。 ３）該情報の記録が反射層上に保護層が設けられた情報
記録媒体に行なわれ、且つ除去工程で保護層も除去され
ることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方法
。 ４）該色素からなるレーザー光吸収層および反射層の除
去が、該色素からなるレーザー光吸収層を有機溶剤で洗
浄することにより行なわれること特徴とする上記再生用
情報記録媒体の製造方法。 ５）該基板がアクリル系樹脂もしくはポリカーボネート
樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の
製造方法。 また１本発明は、下記の褪色した色素層を有する再生用
情報記録媒体で、記録部位が空洞を有する再生用情報記
録媒体、およびその好ましい態様である（Ｂ）および（
Ｃ）、そして記録部位が凸部である（Ｄ）の再生用情報
記録媒体と、それらの製造方法（記録部位として空洞を
有する媒体の製造方法およびその好ましい態様（Ｂｌ）
および（ＣＩ）、そして（ＤＩ））にもある。 すなわち、本発明は、レーザーにより検知可能なトラッ
キング用のマークおよび／またはグルーブを表面に有す
る基板の上に設けられた褪色した色素からなる層上に５
反射層が形成され、且つ該色素層と該反射層との界面に
レーザーにより再生が可能な空洞からなる情報の記録部
位が形成されてなる再生用情報記録媒体にある。 上記再生用情報記録媒体は、レーザーにより検知可能な
トラッキング用のマークおよび／またはグルーブを表面
に有する基板上に、レーザーにより情報の記録が可能な
色素からなる層および反射層がこの順で形成された情報
記録媒体の。 該色素層にレーザーを照射して、該色素層と該反射層と
の界面に空洞を形成することにより情報を記録した後、 該色素層に光を照射して該色素を褪色させることからな
る再生用情報記録媒体の製造方法を利用することにより
有利に得ることができる。 上記褪色した色素を有する再生用情報記録媒体の好まし
い態様は下記のとおりである。 １）上記情報の記録部位が、該基板の実質的な変化を伴
なわずに該色素層と該反射層との界面に形成された空洞
からなることを特徴とする上記再生用情報記録媒体（Ｂ
）。 ２）上記情報の記録部位が、該色素層と該反射層との界
面に形成された空洞および該空洞の生成に伴ない該基板
表面に形成された凹部とからなることを特徴とする上記
再生用情報記録媒体（Ｃ）。 上記褪色した色素を有する再生用情報記録媒体の製造方
法の好ましい態様は下記のとおりである。 １）上記情報の記録が、該基板の実質的な変化を伴なわ
ずに該色素層と該反射層との界面に空洞を形成すること
により行なわれることを特徴とする上記再生用情報記録
媒体の製造方法（Ｂｌ）。 ２）上記情報の記録が、該色素層と該反射層との界面に
空洞および該基板表面に凹部とを形成することにより行
なわれることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製
造方法（ＣＩ）。 本発明の上記ＣＢ）の再生用情報記録媒体の好ましい態
様は以下の通りである。 １）該基板が１円盤状基板であり且つその表面にトラフ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体。 ２）該基板が、表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グルー
ブ間に形成されていることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体。 ３）上記基板の表面にはトラッキング用のマークおよび
／またはグルーブを有するプレグルーブ層が設けられて
いることを特徴とする上記再生用情報記録媒体。 ４）上記基板の表面に無機酸化物からなる下塗層が設け
られていることを特徴とする上記再生用情報記録媒体。 本発明の上記（Ｂｌ）の再生用情報記録媒体の製造方法
の好ましい態様は以下の通りである。 ｌ）該基板が、円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体の製造方法。 ２）該基板が、表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グルー
ブ間に形成されていることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体の製造方法。 ３）該記録層への光照射が、紫外線の照射により行なわ
れることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方
法。 ４）上記基板の表面にはトラッキング用のマークおよび
／またはグルーブを有するプレグルーブ層が設けられて
いることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方
法。 ５）上記基板の表面にｓＩｍ酸化物からなる下塗層が設
けられていることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
の製造方法。 本発明の上記（Ｃ）の再生用情報記録媒体の好ましい態
様は以下の通りである。 １）該基板が１円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体。 ２）該基板が１表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グルー
ブ間に形成されていることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体。 ３）上記基板がアクリル系樹脂もしくはポリカーボネー
ト樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
。 本発明の上記（ＣＩ）の再生用情報記録媒体の製造方法
の好ましい態様は以下の通りである。 ｌ）該基板が１円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体の製造方法。 ２）該基板が１表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グルー
ブ間に形成されていることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体の製造方法。 ３）該記録層への光照射が、紫外線の照射により行なわ
れることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方
法。 ４）該基板が、アクリル系樹脂もしくはポリカーボネー
ト樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
の製造方法。 さらに、本発明は、レーザーにより検知可能なトラッキ
ング用のマークおよび／またはグルーブを表面に有する
基板上に、褪色した色素からなる層および反射層がこの
順で形成され。 且つ該基板表面に凸部からなる情報の記録部位が形成さ
れてなる再生用情報記録媒体（Ｄ）にある。 上記再生用情報記録媒体は１表面にレーザーにより検知
可能なトラッキング用のマークおよび／またはグルーブ
を有する樹脂基板上に、レーザーにより情報の記録が可
能な色素からなる層および反射層がこの順で形成された
情報記録媒体の該色素層に、 レーザーを照射して、該基板表面に凸部を形成すること
により情報を記録した後、 該色素層に光な照射して該色素を褪色させることからな
る再生用情報記録媒体の製造方法（Ｄりにより有利に製
造することができる。 本発明の上記ＣＤ）の再生用情報記録媒体の好ましい態
様は以下の通りである。 １）該基板が、円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体。 ２）該基板が１表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グルー
ブ間に形成されていることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体。 ３）該反射層上に保護層が設けられていることを特徴と
する上記再生用情報記録媒体。 ４）上記基板がアクリル系樹脂もしくはポリカーボネー
ト樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
。 本発明の上記（ＤＩ）の再生用情報記録媒体の製造方法
の好ましい態様は以下の通りである。 １）該基板が１円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体の製造方法。 ２）・該基板が、表面にトラッキング用のグルーブを有
し且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グル
ーブ間に形成されていることを特徴とする。上記再生用
情報記録媒体の製造方法。 ３）該情報の記録が反射層上に保護層が設けられた情報
記録媒体に行なわれることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体の製造方法。 ４）該記録層への光照射が、紫外線の照射により行なわ
れることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方
法。 ５）該基板が、アクリル系樹脂もしくはポリカーボネー
ト樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
の製造方法。 ［発明の効果］ 本発明では、従来のようにディスク原板作成から始めて
再生信号のピットの反転模様が形成されたスタンパを製
造した後、成形により大量生産を行なうのではなく、上
記のように記録可能な光ディスクを用いてレーザー光吸
収層を除去し１反射層を設けるとし、１う簡便な方法、
あるいは記録層である色素を褪色させるという簡便な方
法により再生用の情報記録媒体を製造することができる
。 すなわち、本発明の製造方法は従来のように。 前記したような多くの工程を経る必要がなく、また情報
の記録であるレーザー露光（カッティング）に大がかり
な装置を必要としないため、比較的少量の再生用光ディ
スクを製造する場合には。 コストがかからず好適な製造方法ということができる。 また、一般の一度だけ記録が可能なりＲＡＷ型光ディス
クについても、上記のような同一の情報が記録された光
ディスクを必要とする枚数が少ない場合には、再生用光
ディスクの製造に使用される。このような場合、本発明
の情報記録媒体はレーザー光吸収層（一般の記録層）が
無いため。 あるいは記録層である色素が褪色しているため、光によ
り劣化する部分がないことから耐光性や耐候性などの耐
久性に優れたものである。 ［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、再生用に用いられる光ディス
クで、従来のＣＤやＬＤの製造では大規模な設備で多く
の工程を要する点、またＤＲＡＷ型の光ディスクを利用
して再生用光ディスクを製造した場合の記録層に由来す
る光により劣化し易い欠点を解消したものである。一つ
は、該記録層（レーザー光吸収層）を除去することによ
り、もう一つは記録層である色素を褪色させることによ
り得られるものであるφ 本発明の記録層除去により得られる情報記録媒体（Ａ）
は、再生用に用いられる光ディスクで、樹脂基板の表面
にグルーブ等によるトラッキングガイドとピット（孔）
等からなる情報が記録された部分とを有する基板、およ
びその上に設けられた反射層または反射層および保護層
からなる基本構成を有する。 また色素褪色により得られる再生用情報記録媒体（記録
部位が空洞を有する再生用情報記録媒体、およびその好
ましい態様であるＣＢ）および（Ｃ）、そして記録部位
が凸部である（Ｄ））は１．表面にグルーブ等によるト
ラッキングガイドを有する基板上に設けられた褪色した
色素層の上に、反射層または反射層および保護層が設け
られた基本構成を有する情報記録媒体であり、そして情
報が、各層間のいずれかの界面に形状変化として記録さ
れている。 前者の光ディスクの製造方法（好ましくはＡ１およびＡ
２）は、基板上に、色素層および反射層（および保護層
）が設けられた構成を有する光ディスクにレーザー照射
により基板とレーザー光吸収層にピット等による情報記
録を行ない、該レーザー光吸収性層を除去することによ
り情報を示すピット等が形成された基板を作成し、その
上に反射層を設けることからなっている。 後者の光ディスクの製造方法（記録部位として空洞を有
する媒体の製造方法およびその好ましい態様（Ｂｌ）お
よび（ＣＩ）、そして記録部位が凸部である（Ｄｉ））
は、基板上に、色素層および反射層（および保護層）は
設けられた構成を有する光ディスクを用いてレーザー照
射により、該色素層と該反射層との界面に空洞を形成（
好ましくは空洞のみ（ｎｉ）または基板表面に凹部およ
び該色素層と該反射層との界面に空洞と（Ｃ１）を形成
）して、あるいは基板表面に凸部（Ｄｌ）を形成して、
情報の記録を行ない１次いで色素層に光を照射して色素
を褪色させることにより行なわれる。 上記製造方法では、記録を行なう光ディスクとして、い
わゆるＤＲＡＷ型等の記録可能な光ディスクとして知ら
れているものを用いても良い。 従来、再生用光ディスクの製造は、前述したようにディ
スク原板作成から始めて再生信号のピットの反転模様が
形成されたスタンパを製造した後、成形により大量生産
にて行なわれていた。木発明者等は、このような多数の
工程からなるスタンパを製造を行なう必要のない製造方
法について鋭意研究を重ねてきた。上記のように情報を
記録した後記録に用いたレーザー光吸収層を除去する。 あるいは色素を褪色させるという簡便な方法で製造する
ことができることが明らかとなった。 特に、本発明は再生用光ディスクの一種類当たりの生産
量が少量の場合に好適な再生用情報記録媒体の製造方法
である。 また、再生用光ディスクの少量生産にＤＲＡＷ型の光デ
ィスクを利用して単°に記録するだけで使用した場合、
得られる再生用光ディスクは上記のように記録層が残存
しているため、このような再生用光ディスクは一般的に
光により劣化しやすい傾向にある。 本発明の製造方法が適用できる再生用の光ディスクとし
ては、コンパクトディスク（ＣＤ）、 レーザーディ
スク（ＬＤ）、文書、データ、静止画像等のファイルに
用いられるＣＤ−ＲＯＭ （ＲｅａｄＯｎｌｙ Ｍｅｍ
ｏｒｙ）またはＣＤ −Ｉ （Ｉｎｔ＠ｒａｃｔｉｖｅ
）などの特にコンピューター用の読み取り専用タイプの
光ディスク、さらにこれら以外にもディスク形状を有し
ない例えば光カードなどにも利用できる。基本的には、
ピットなどの基板表面の形状変化、あるいは各層間の形
状変化により情報が記録されており、それをレーザー照
射により再生が可能な媒体であれば１本発明の製造方法
を適用することができる。 本発明の再生用情報記録媒体の製造方法（Ａ１）の−例
を第１Ａ図〜第１Ｄ図を参照しながら詳しく説明する。 ここでは、記録信号が基板と反射層との界面に凹部を形
成された再生用情報記録媒体の製造方法について述べる
。 第１Ａ図は、表面にグルーブ１２およびランド１３から
なるトラッキング用のグルーブ（プレグルーブ）が形成
された基板１１の上にレーザー光吸収層１４が設けられ
た記録可能な光ディスクの断面図である。 レーザー光吸収層の材料は、金属あるいは色素、その他
カーポンンブラック、ポリマーなど、光を吸収してレー
ザー光吸収層に凹部又は凸部の形成し、且つ基板表面に
凹部又は凸部の形成を促進して形状を変化させるもので
あれば特に限定されるものではない、プレグルーブは、
信号を記録する際レーザー光を所定の位置に案内するト
ラッキングガイドであるが、トラッキングガイドの機能
があればグルーブでなくても、トラッキング用のマーク
（ウォブルピット、濃淡マークなど）であってもよい。 基板１１上のレーザー光吸収層１４は、光吸収性材料が
金属等（加熱により分解しない材料）の場合は真空蒸着
、スパッタリングあるいはイオンブレーティングにより
形成することができ、また色素やポリマーまた顔料等を
含む分散液の場合はこれらの塗布液を調製して塗布法に
より形成することができる。 第１Ｂ図は、表面にグルーブ１２およびランド１３から
なるプレグルーブが形成された基板１１の上にレーザー
光吸収層１４が設けられた光ディスク（第１Ａ図）の基
板表面のグルーブ１２に凹部１７が形成された断面図で
ある。ここではレーザー光吸収層１４にも凹部が形成さ
れている。上記基板は一般に熱軟化し易いことから樹脂
基板が用いられる。 上記基板表面に形成されたプレグルーブのグルーブ１２
にレーザーを照射することにより、レーザー光吸収層１
４は該レーザーのエネルギーを吸収して溶融し、これに
伴なって分解、気化等を起こして変形すると同時に、溶
融したレーザー光吸収層の表面張力のｆＩＩＩきにより
凹部が形成される。上記レーザー光吸収層（記録層）に
凹部を形成する際、上記のようにレーザー光吸収層だけ
でなく溶融したレーザー光吸収層の熱により基板も溶融
し、レーザー光吸収層と基板との界面張力の働きにより
基板のグルーブ１２上に凹部１７を形成すると考えられ
る。 また、この凹部の発生に伴なって基板材料の結晶状態の
変化などの状態変化があってもよい。 第１Ｂ図ではグルーブ１２に記録を行なっているが、ラ
ンド１３に行なってもよい、またプレグルーブを有しな
い基板の場合は、他のトラッキングガイドにより指定さ
れた場所に記録が行なわれる。 第１Ｃ図は１表面にグルーブ１２およびランド１３から
なるプレグルーブが形成された基板１１のグルーブ１２
に凹部１７が形成された断面図である。 第１ｃ図は、上記第１Ｂ図で示した凹部１７が形成され
た光ディスクからレーザー光吸収層１４が除去された状
態を示している。レーザー光吸収層の除去は、レーザー
光吸収層の材料が金属の場合、無機酸または有機酸の酸
性溶液、あるいはアルカリ水溶液などを用いて該レーザ
ー光吸収層に噴霧などして洗浄することにより行なわれ
る。その際、使用する酸性溶液等はレーザー光吸収層を
溶解し且つ樹脂基板（基板は一般に樹脂基板が用いられ
る）を侵さないようにその種類を選択、あるいは溶液濃
度などを調製する必要がある。またレーザー光吸収層の
材料が色素やポリマーの場合、レーザー光吸収層の除去
は有機溶剤などで噴霧などして洗浄することにより行な
われる。この場合も□樹脂基板を侵さないように、使用
する有機溶剤の選択を行なう必要がある。 第１Ｄ図は、表面にグルーブ１２およびランド１３から
なるプレグルーブが形成され、且つグルーブ１２に凹部
１７が形成された樹脂基板（第１ｃ図）の表面に反射層
１８が形成された断面図である。第１Ｄ図は、本発明の
再生用情報記録媒体（Ａ）の−態様でもある。 第１Ｃ図に示された記録信号として凹部１７が形成され
た基板表面には、再生時に必要な反射率を確保するため
反射層１８が形成される。一般にＡＩＩＬ、 Ａｕ等の
金属が真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンブレー
ティングにより形成される。しかしながら１反射率が高
くなる材料であれば金属以外でも良く、無機化合物１色
素、ポリマーなどを上記蒸着あるいは塗布法により上記
基板上に設けてもよい、上記反射層上には、得られた光
ディスクの耐久性を向上させるため一般に保護層が設け
られる。 本発明の再生用情報記録媒体（Ａ）の別の製造方法（Ａ
２）の−例を第２Ａ図〜第２Ｄ図を参照しながら詳しく
説明する。ここでは、記録信号が基板と反射層との界面
に凸部を形成された再生用情報記録媒体の製造方法につ
いて述べる。 第２Ａ図は、表面にグルーブ２２およびランド２３から
なるトラッキング用のグルーブ（プレグルーブ）が形成
された基板２１の上にレーザー光吸収層２４１反射層２
５および保護層２６が、この順で設けられた記録可能な
光ディスクの断面図である。 第２Ｂ図は、表面にグルーブ２２およびランド２３から
なるプレグルーブが形成された基板ｚｌ上にレーザー光
吸収層２４、反射層２５および保護層２６が設けられた
光ディスク（第２ＡｒＩ４）の基板上のグルーブ２２に
凸部２７が形成された断面図である。基板は一般に熱軟
化し易いことから樹脂基板が用いられる。 上記基板表面に形成されたプレグルーブのグルーブ２２
上のレーザー光吸収層（この場合は色素層）２４にレー
ザーを照射□することにより色素層が融解し、これに伴
なって色素層に密着している基板も熱っせられる。基板
はガラス転位点に達し軟化する。この時色素材料の分解
が起こり、発生した分解ガスは上部が反射層と保護層に
より押えられでいるため蓄積し、その蓄積された圧力が
色素層と基板との界面に加わって色素材料と基板材料と
の混合等の相互作用を起こさせる。そして、この部分が
隆起して最終的に基板表面（基板と色素層との界面）に
凸部が形成されると考えられる。この記録方法は前記日
経エレクトロニクスに記載された方法に当たる。 一般に、上記のように基板表面に凸部を形成して情報の
記録を行なうには、第２Ｂ図に示すようにレーザー光吸
収層が色素からなり、反射層の層厚が厚い（一般に１ｏ
ｏｏ１以上）か、またはその上に保護層が設けられた構
成を有する光ディスクを用いることが必要である。これ
はレーザーにより溶融した色素層が基板を軟化又は溶融
し１次いで色素が気化することにより発生する圧力は上
部が反射層と保護層により押えられているため軟化した
基板側に加わることになり、上記のように基板表面での
凸部形成が行なわれると考えられる。 また、この凸部の発生に伴なって基板材料の結晶状態の
変化などの状態変化があってもよい。 第２Ｂ図ではグルーブ１２に記録を行なっているが、ラ
ンド１３に行なってもよい、またプレグルーブを有しな
い基板の場合は、他のトラツキン。 グガイドにより指定された場所に記録が行なわれる。 第２Ｃ図は、表面にグルーブ２２およびランド２３から
なるプレグルーブが形成された基板２１のグルーブ２２
に凸部２７が形成された断面図である。 第２Ｃ図は、上記第２Ｂ図で示した凸部２７が形成され
た光ディスクからレーザー光吸収層２４、反射層２５お
よび保護層２６が除去された状態を示している。この場
合、レーザー光吸収層が色素層であるので上記有機溶剤
を用いて同様の方法で色素層を除去することができる０
反射層も保護層も色素層上に設けられているので色素層
と一緒に除去される。 第２Ｄ図は、表面にグルーブ２２およびランド２３から
なるプレグルーブが形成され、且つグルーブ２２に凸部
２７が形成された基板（第２Ｃ図）の表面に反射層２８
が形成された断面図である。第２Ｄ図は１本発明の再生
用情報記録媒体（Ａ）の別の一態様でもある。 第２Ｃ図に示された記録信号と−して凸部２７が形成さ
れた基板表面には、再生時に必要な反射率を確保するた
め反射層２８が形成される。一般にＡｎ、Ａｕ等の金属
が真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンブレーティ
ングにより形成される。上記反射層上には、得られた光
ディスクの耐久性を向上させるため一般に保護層が設け
られる。 次に１本発明の褪色した色素層を有する再生用情報記録
媒体の製造方法の例を第３Ａ図〜第３Ｃ図、第４Ａ図〜
第４Ｃ図および第５Ａ図〜第５Ｃ図を参照しながら詳し
く説明する。 第３Ａ図〜第３Ｃ図は、記録信号が色素層と反射層との
界面に空洞として形成された場合、第４Ａ図〜第４Ｃ図
は記録信号が色素層と反射層との界面の空洞および基板
表面の凹部として形成された場合、そして第５Ａ図〜第
５Ｃ図は記録信号が基板表面の凸部として形成された場
合である。 本発明の再生用情報記録媒体の製造方法（Ｂｌ）の−例
を第３Ａ図〜第３Ｃ図を参照しながら詳しく説明する。 第３Ａ図は、表面にグルーブ３２およびランド３３から
なるトラッキング用のグルーブ（プレグルーブ）が形成
された基板３１の上に色素層３４および反射層３５が、
この順で設けられた記録可能な光ディスクの断面図であ
る。 本発明では、上記基板３１の表面に形成されたプレグル
ーブのグルーブ３２上の色素層３４にレーザーを照射す
ることにより基板と色素層との界面に空洞として情報が
記録される。基板は実質的に変形されない。 本発明の褪色した色素層を形成するための色素層の材料
は、後述するようなシアニン色素（インドレニン系色素
、インドリジン系色素など）などの上記のように情報の
記録が可能な色素！あり、他に結合剤としてポリマーな
どを含んでいても良い、プレグルーブは、信号を記録す
る際レーザー光を所定の位置に案内するトラッキングガ
イドであるが、トラッキングガイドの機能があればグル
ーブでなくても、トラッキング用のマーク（サーボビッ
ト、濃淡マークなど）であってもよい。 基板３１上の色素層３４は、一般に色素を有機溶剤に溶
解して塗布液を調製し、塗布法により形成することがで
きる。耐熱性が優れた色素の場合は真空蒸着、スパッタ
リングあるいはイオンブレーティングにより形成するこ
ともできる。 上記反射層３５は、一般にＡｎ、Ａｕ等の金属を真空蒸
着、スパッタリングあるいはイオンブレーティングする
ことにより形成される。ただし、反射率が高くなる材料
であれば金属以外でも良く、無機化合物１色素、ポリマ
ーなどを上記蒸着あるいは塗布法により上記基板上に設
けてもよい。 上記光ディスクはこのように製造することができるが、
上記構成を有する記録可能な光ディスクであれば市販品
を用いてもよい。 第３Ｂ図は、表面にグルーブ３２およびランド３３から
なるプレグルーブが形成された基板３１の上に色素層３
４および反射層３５が設けられた光ディスク（第３Ａ図
）の色素層と反射層との界面に空洞３７が形成された断
面図である。基板には実質的に凹部等の変形べ゛ない。 上記基板表面に形成されたプレグルーブのグルーブ３２
上の色素層３４にレーザーを照射することにより、色素
が該レーザーのエネルギーを吸収して融解、分解、気化
等を起こして変形し、同時に色素からの伝導熱およびガ
ス圧により反射層が持ち上げられ、空洞３７が形成され
る。上記のような空洞の形成による記録方法は本出願人
が既に出願済（平成元年７月３１、発明の名称：光情報
記録方法および情報記録媒体、発明者：沢野充）である
が、一般に反射層の層厚が比較的薄い（一般に８００ｘ
以下）場合で且つ基板表面が硬い場合に起こり易い、す
なわち、基板表面に紫外線樹脂からなるプレグルーブ層
あるいは５ｔ０２などの無機酸化物の下塗層が設けられ
た場合、または基板がガラスからなる場合などである。 ただし、反射層の金属が変形し易い材料の場合あるいは
反射層が薄層の場合には、反射層側の膨出部大部分を占
めるか、あるいは膨出部が色素層側の陥没部より大きく
なる。また、色素が融解、分解、気化等を起こし易い場
合、反射層の金属が変形し難い場合あるいは反射層が厚
い層で変形し難い場合は、色素層の陥没部が反射層の変
形した膨出部分より大きくなる、あるいはほとんど色素
層の陥没部のみとなる。さらに１反射層上に保護層を設
けた場合は、反射層の変形が抑えられるため色素層の陥
没部が形成され易くなる。上記第３Ｂ図では反射層上に
保護層が設けられていないが、上記反射層上に上記空洞
の形成を妨げない限り保護層を設けてもよい。 上記のように空洞の形状は種々のものが形成されると考
えられるが、その形状としては少なくとも色素層が褪色
した後でもレーザーにより再生可能であることが必要で
ある。第３Ｂ図ではグルーブ３゛２に記録を行なってい
るが、ランド３３に行なってもよい、またプレグルーブ
を有しない基板の場合は、他のトラッキングガイドによ
り指定された場所に記録が行なわれる。 第３Ｃ図は１表面にグルーブ３２およびランド３３から
なるプレグルーブが形成された基板３１の上に褪色した
色素層３９および反射層３５が設けられた光ディスクの
色素層と反射層との界面に空洞３７が形成された断面図
である。また第３Ｃ図は本発明の再生用情報記録媒体（
Ｂ）の実施態様の一例の断面図でもある。 第３Ｃ図は上記第３Ｂ図で示された光ディスクの色素層
に光を照射して、該色素層を褪色させた光ディスクを示
している。使用される光は高エネルギーのものが良いが
、光デイスク自体を損傷させないようにすることが必要
である。使用する光として紫外線、電子線などが好まし
い、褪色した色素は、もはや光により劣化することはな
く耐久性に優れた情報記録媒体であるといえる。得られ
る情報記録媒体のＣ／Ｎなどの再生特性が良好なことが
要求されることから、記録時に色素褪色後の再生特性を
考慮して情報の記録を行なう必要がある。 本発明の再生用情報記録媒体の製造方法（Ｃ１）の−例
を第４Ａ図〜第４Ｃ図を参照しながら詳しく説明する。 第４Ａ図は、表面にグルーブ４２およびランド４３から
なるトラッキング用のグルーブ（プレグルーブ）が形成
された基板４１の上に色素層４４および反射層４５が、
この順で設けられた記録可能な光ディスクの断面図であ
る。 色素層の材料は、第３Ａ図で述べたものを使用すること
ができ同様に形成することができる。プレグルーブも上
述の通りトラッキングガイドであれば何でも良い。 上記反射層も第３Ａ図で述べたものを使用することがで
き同様に形成することができる。 また上記反射層上には、光ディスクの耐久性を向上させ
るため保護層が設けられていてもよい。 また上記構成を有する記録可能な光ディスクであれば市
販品を用いてもよい。 第４Ｂ図は１表面にグルーブ４２およびランド４３から
なるプレグルーブが形成された基板４１の上に色素層４
４および反射層４５が設けられた光ディスク（第４Ａ図
）の色素層と反射層との界面に空洞４７ａおよび基板と
色素層との界面のグルーブ４７ｂに凹部が形成された断
面図である。 上記基板は一般に熱軟化し易いことから樹脂基板が用い
られる。 上記基板表面に形成されたプレグルーブのグルーブ４２
上の色素層４４にレーザーを照射することにより、色素
が該レーザーのエネルギーを吸収して融解１分解、気化
等を起こして変形し、同時に色素からの伝導熱およびガ
ス圧により反射層が持ち上げられ、空洞４７ａが形成さ
れる。空洞が形成される理由は第３Ｂ図で述べた理由と
同じであるが、基板が熱により軟化し易い樹脂基板の場
合に、上記空洞形成の際基板２１も熱による軟化、溶融
が起こり、その溶融部分と上記（溶融した）色素との間
の界面張力の働きにより、そのグルーブ部分に第４Ｂ図
に示されるように凹部が形成されると考えられる。第４
Ｂ図では反射層上に保護層が設けられていないが、上記
反射層上に上記空洞の形成と基板の凹部形成を妨げない
限り保護層を設けてもよい、上記のような空洞の形成に
よる記録方法も上記本出願人が既に出願済（平成元年７
月３１日）の明細書に記載されている。 第４Ｂ図ではグルーブに記録を行なっているが、ランド
に行なってもよい、またプレグルーブを有しない基板の
場合は、他のトラッキングガイドにより指定された場所
に記録が行なわれる。 第４Ｃ図は１表面にグルーブ４２およびランド４３から
なるプレグルーブが形成された基板４１の上に褪色した
色素層４９および反射層３５が設けられた光ディスクの
色素層と反射層との界面に空洞４７＆および基板と色素
層との界面のグルーブに凹部４７ｂが形成された断面図
である。また第４Ｃ図は本発明の再生用情報記録媒体（
Ｃ）の実施態様の一例の断面図でもある。 前記第３Ｃ図と同様に色素層に光照射することにより色
素層を褪色させることができる。 次に、本発明の再生用情報記録媒体の製造方法（ＤＩ）
の−例を第５Ａ図〜第５Ｃ図を参照しながら詳しく説明
する。 第５Ａ図は、表面にグルーブ５２およびランド５３から
なるトラッキング用のグルーブ（プレグルーブ）が形成
された基板５１の上に色素層５４、反射層５５および保
護層５６が、この順で設けられた記録可能な光ディスク
の断面図である。 色素層および反射層は第３Ａ図の説明で述べたものを使
用でき、また同様に形成される。 第５Ｂ図は１表面にグルーブ５２およびランド５３から
なるプレグルーブが形成された基板５１上に色素層５４
１反射層５５および保護層５６が、この順で設けられた
光ディスク（第５Ａ図）の基板上のグルーブ５２に凸部
５７が形成された断面図である。基板は一般に熱軟化し
易いこンから樹脂基板が用いられる。 上記記録は、前記第２Ｂ図と同様に行なわれる。従って
反射層の層厚が厚いか、あるいは保護層が設けられてい
ることが必要である。上記基板表面に形成されたプレグ
ルーブのグルーブ５２上の色素層５４にレーザーを照射
することにより色素層が融解し、これに伴なって色素層
に密着している基板も熱っせられる。基板はガラス転位
点に達し軟化する。この時色素材料の分解が起こり、発
生した分解ガスは上部が押えられているため蓄積し、そ
の圧力が色素層と基板との界面に加わって色素材料と基
板材料とが混じり合い、この部分が隆起して最終的に基
板表面に凸部が形成されると考えられる。この記録方法
は前記日経エレクトロニクスに記載された方法に当たる
。 第５Ｃ図は、表面にグルーブ５２およびランド５３から
なるプレグルーブが形成された基板５１上に褪色した色
素層５９、反射層５・５および保護層５６が、この順で
設けられた光ディスクの樹脂基板上のグルーブ５２に凸
部５７が形成された断面図である。また第ｓｃＩ！ｉｉ
Ｉは本発明の再生用情報記録媒体（Ｄ）の実施態様の一
例の断面図□でもある。 第５Ｃ図は上記第５Ｂ図で示された光ディスクの色素層
に光を照射して、該色素層を褪色させた光ディスクを示
している。第３Ｃ図および第４Ｃ図の光ディスクと同様
簡易に製造でき且つ耐久性に優れた再生用光ディスクで
ある。 以下余白 上記製造方法は、同じ情報が記録された光ディスクを、
それ程大量に必要としない場合、例えば個人的、企業内
あるいはサークルなどでの情報交換等に用いる光ディス
クのソフトを製造するのに好適である。すなわち、従来
のように記録信号としてピットの反転模様が形成された
スタンパを製造した後、成形により大量生産を行なう方
法では、ディスク原板作成からスタンパの作成を行なう
ために前記したように多くの工程を経なければならない
こと、また情報の記録であるレーザー露光（カッティン
グ）に大がかりな装置を必要とするため、それ程大量に
同種の光ディスクを製造しない場合には、コスト高とな
り適当な製造方法とは言えない。 本発明の製造方法では、大量に製造された記録可能な光
ディスク（例えばＤＲＡＷ型）に、例えばディジタル信
号をＰＣＭエンコーダを介してインターフェースとレコ
ーディング・ユニットトからなる光デイスク作成システ
ムに入力し、レーザーによる信号の記録が行なわれる。 この光デイスク作成システムは比較的安価なものである
。信号の記録は、必要な光ディスクの枚数だけ繰り返さ
れる０例えば１００枚必要な場合は１００回記録が行な
われる。このように信号が記録された光ディスクの基板
上に設けられたレーザー光吸収層は有機溶剤あるいは酸
性溶液等を用いて洗浄することにより除去され、その上
に反射層が設けられる。あるいは、このように信号が記
録された光ディスクの色素層を紫外線などの光の暴露に
より褪色させる。 従って１本発明の製造方法は、記録可能な光ディスクに
情報の記録を必要な枚数だけ行なったのち、レーザー光
吸収層を除去し、反射層電設けるあるいは色素層の褪色
という簡便な方法により再生用の情報記録媒体を製造す
ることができる。 また、一般の一度だけ記録が可能なりＲＡＷ型の光ディ
スクを利用して上記のような必要な数が少ない再生用光
ディスクに作成する場合がある。 このような場合、本発明の再生用情報記録媒体の方がレ
ーザー光吸収層が無いため、あるいは色素層がすでに褪
色しているため、光により劣化する部分がないことから
耐光性や耐候性などの耐久性に優れたものである。 本発明の再生用情報記録媒体についてその材料および製
造方法について以下詳細に説明する。 本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としては、ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂：エポキシ樹脂：ポリエチレンテレ
フタレート等ポリエステル類；ポリカーボネートおよび
非晶質ポリオレフィンを挙げることができる。これらの
うちで、好ましいものはポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート、エポキシ樹脂、非晶質ポリオレフィン
およびポリエチレンテレフタレートであり、特にポリカ
ーボネートが好ましい。 レーザー光吸収層または色素層が設けられる側の基板表
面には、平面性の改善、接着力の向上および光吸収性層
の変質の防止の目的で、下塗層が設けられていてもよい
、下塗層の材料としては、たとえば、ポリメチルメタク
リレート、アクリルｍ−メタクリル酸共重合体、ニトロ
セルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート等の高分子物質；シランカップリング剤などの
有機物質：および無機酸化物（ＳｉＯ２，ＡＪＬｚＯ３
等）、無機弗化物（ＭｇＦｚ）などの無機物質を挙げる
ことができる。 下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散したのち、この塗布液をスピンコード、ティップコ
ート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。 また、基板上には良好なトラッキングを行なう目的でプ
レグルーブ、またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸
の形成等の目的でプレピットが樹脂材料の成形により、
あるいはプレグルーブ層等の形成により設けられる。上
記樹脂基板の成形による方法では、上記プレグルーブ、
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸が反転したス
タンパを製造し、これを成形用金型に装着して、この金
型に溶融樹脂を充填冷却することにより成形されプレグ
ルーブ等ｉ鳴するディスク基板を得ることができる。 プレグルーブ等の層を形成する場合、その材料としては
、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステ
ルおよびテトラエステルのうちの少なくとも一種の七ツ
マ−（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を
用いることができる。プレグルーブ等の層の層厚は、一
般に０．０５〜１１００１Ｌの範囲にあり、好ましくは
０．１〜５０μｍの範囲にある。 上記プレグルーブおよびプレピットの代わりに、トラッ
キングガイドとして濃淡等のマークが形成されていても
よい。 プレグルーフ藻有する上記基板上または上記プレグルー
ブ層上には、中間層が設けられても良い。 上記中間層の例としては、上記断熱層以外に接着層、反
射層、感度強化層（ガス発生層）などを挙げることがで
きる。 中間塗布層が断熱層である場合には、例えばポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、Ｎ−メチロール・アクリルアミド共重合体、スチ
レン・ビニルトルエン共重合体、塩素化ポリエチレン、
クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポ
リ塩化ビニル、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル
・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体
、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、
弗素化ポリオレフィンなどの高分子物質を溶剤に溶解し
た塗布液を用いて形成させることができる。好ましくは
、弗素化ポリオレフィン、塩素化ポリエチレンもしくは
ニトロセルロースを用いた塗布液であり、特に好ましく
は、塩素化ポリエチレンである。 基板上（所望により中間層を介して）には、レーザー光
吸収層または色素層が設けられる。 レーザー光吸収層に用いられる材料の例としては、Ｔｅ
、Ｚｎ、Ｉｎ％Ｓｎ、Ｚｒ％Ａ！Ｌ。 Ｃ＋ｒ、Ｇｅ等の金属；Ｂｉ、Ａｓ、Ｓｂ等の半金属；
Ｇｅ、Ｓｉ等の半導体：およびこれらの合金またはこれ
らの組合せを挙げることができる。 また、これらの金属または半金属の硫化物、酸化物、ホ
ウ化物、ケイ素化合物、炭化物および窒化物等の化合物
：およびこれらの化合物と金属との混合物も光吸収性層
に用いることができる。 レーザー光吸収層は、上記の記録材料を蒸着、スパッタ
リング、イオンブレーティングなどの方法によって基板
上に形成することができる。 またレーザー光吸収層として、シアニン系色素等の色素
類を用いてもよく、さらに相変化記録に用いられる高分
子化合物等を用いてもよい。 レーザー光吸収層として色素層を設ける場合、および褪
色した色素層となる色素層を設ける場合に使用される色
素としては、イミダゾキノキサリン系色素を含むシアニ
ン系色素、インドリジン系色素、フタロシアニン系色素
、ピリリウム・チオピリリウム系色素、アズレニウム系
色素、Ｎｉ。 Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素。 トリフェニルメタン系色素、スクワリリウム系色Ｗｅ、
７り’Ｃ１シアニン系色素、メロシアニン系色素、オ
キソノール系色素、インドアニリン系色素、アミニウム
系・ジインモニウム系色業およびニトロン化合物を挙げ
ることができる。 これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、７００〜９００ｍｍの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。 以下余白 その好ましい例としては、 ｉ）シアニン系色素： （ただし、Ｒは水素原子またはＮ（ＧＨ３）ｚである） ［４］ ＠゛−Ｌ＝’ｉ’ （Ｘ＠−）ｌ／＠（ただ
し、Φおよび！はそれぞれ芳香族環が縮合していてもよ
いインドレニン環残基、チアゾール環残基、オキサゾー
ル環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残基、
ピリジン環残基、チアゾロピリミジン環残基またはイミ
ダゾキノキサリン環残基であり、Ｌはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテト
ラカルボシアニンを形成するための連結基であり、ｘト
は１価の陰イオンであり、ｍは１または２であり、さら
にｘトはΦ、Ｌまたは！上に置換して分子内塩を形成し
ても良く、またΦとり、またはＬと！とはさらに連結し
て環を形成しても良い） 上記一般式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のａ）〜ｋ）等が挙げられる。 ［Ｃｌ ＣｌＯ４ ＣＩＯ４’ ［ｊ］ ＣｌＯ４’ ［ｋｌ 工５Ｏ−１＋４ｒＩ９ ＣＩＯ，’ １ｇｏ−１，；４１１９ ［ｆ］ ＣｌＯ４’ ［（］］ ＣＩＯ，’ ｉｉ） スクワリリウム系色素： １ｉｉ）アズレニウム系色素： れてアザアズレン環となっていてもよい、）ｉマ）イン
ドフェノール系色素： （ただし、Ｒ１とＲ２，Ｒ２とＲ３，Ｒ３とＲ４，Ｒ４
とＲ５，Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち少
なくとも一つの組合せでＭ換もしくは未置換の複素環ま
たは脂肪族環による環を形成し、鎖環を形成しないとき
のｉｌｌ、Ｒ２ｆ１３．ｆ１４．ｆｌｓ Ｒ６および
Ｒ１はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価の有
機残基であり、あるいはＲ１とＲ２Ｒ３とＲ４Ｒ４とＲ
５，Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち少なく
とも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香族環を形
成してもよく、Ａは二重結合によって結合した二価の有
機残基であり、Ｚ″はアニオン残基である。なお、アズ
レン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が窒素原子
で置き換えら（ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子
、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハ
ロゲン原子であり、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３はそれぞれ水
素原子、Ｃ３〜Ｃ２０の置換または未置換のアルキル基
、アリール基、複素環またはシクロヘキシル基であり、
Ａは−ＮＨＣＯ−または一〇〇ＮＨ−である） ■）金属錯塩系色素： （ただし、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし、 ［Ｃａｔｌは錯塩を中性ならしめるために
必要な陽イオンであり１ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｇｏ、Ｐｄま
たはＰｔであり、ｎは１または２であ（ただし、Ｒ１お
よびＲ２はそれぞれ置換または未置換のアルキル基また
はアリール基であり、Ｒ３はアルキル基、ハロゲン原子
または４ −Ｎ−Ｒ５基（ここで、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ置換
または未置換のアルキル基またはアリール基である）で
あり、Ｍは遷移金属原子であり、ｎは０〜３の整数であ
る） （ただし、 ［Ｃａｔｌは錯塩を中性ならしめるために
必要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｇｏ、Ｐｄま
たはＰｔであり、ｎは１または２である） 子またはメチル基であり、ｎは１〜４の整数であり、Ａ
は第四級アンモニウム基である）びＲ２はそれぞれ１〜
３の整数であり、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアミノ基、
モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチル
アミノ基、ベンゾイルアミノ基（置換ベンゾイルアミノ
基を含む）であり、ＸＩとｘ２、ｎｌとＲ２およびＲ１
とＲ２はそれぞれ互いに同じであっても異なっていても
よく、ＭはＣｒまたはＣ０ＩＸ子であり、Ｙは水素、ナ
トリウム、カリウム、アンモニウム。 脂肪族アンモニウム（置換脂肪族アンモニウムを含む）
または脂環族アンモニウムである）マｉ）ナフトキノン
系、アントラキノン系色素：（ただし、Ｒは水素原子、
アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミン基で
ある）（ただし、ＸＩおよ、びｘ２はそれぞれニトロ基
および／またはハロゲン原子であり、１１１およ（ただ
し、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基ま
たは置換アミン基である）（ただし、 Ｘはハロゲン原子であり、 ｎは０ （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である）（ただし、 又はハロゲン原子である） マｉｉ）インドリジン系色素： （式中、Ｒ１及びＲ４は、それぞれ独立に、置換基を有
していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、芳香環に置換基を有していてもよいアラル
キル基、アルコキシｘ、 芳香環に置換基を有していて
もよいアリールオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基
、芳香環に置換基を有していてもよいアリールカルボニ
ルアミノ基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基又はハロゲン原子を表わし、Ｒ１１及びＲ４１は、
それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい
アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳
香環に置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコ
キシ基、芳香環に置換基を有していてもよいアリールオ
キシ基、フルキルカルボニルアミノ基、芳香環に置換基
を有していてもよいアリールカルボニルアミノ基、シア
ノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン
原子を表わし、Ｒ２，Ｒ３Ｈｓ Ｒｂ及びＲ７は、そ
れぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいア
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香
環に置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキ
シ基又はハロゲン原子を表わし、Ｒ２及びＲ３がアルキ
ル基であるときＲ２とＲ３とは一緒になって環を形成し
てもよく、Ｒ５及びＲ６がアルキル基であるときＲ５と
Ｒ６とは一緒になって環を形成してもよく、Ｘ−はアニ
オンを表わす、） 上記一般式
ができる再生用情報記録媒体およびその製造方法に関す
るものである。 ［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、光カードさらには大容
量静止画像フシイルおよび大容量コンピュータ用ディス
ク・メモリーなどを含むものである。 これらの情報記録媒体のうちで、再生専用の光ディスク
として、音楽等のオーディオ再生用のコンパクトディス
ク（ＣＤ）や映像、音楽等の再生用ディスクであるビデ
オ・ディスク、別名レーザーディスク（ＬＤ）が広く実
用化されている。 また、記録可能な光ディスクとしては、ＤＲＡＷ（Ｄｉ
ｒｅｃｔ Ｒ，ｅａｄ Ａｆｔｅｒ Ｗｒｉｔｅ 、書
き込み可能）型の情報記録媒体（光ディスク）として、
ｌ５０（国際標準化機構）対応型およびＣＤ対応型が知
られており、゛消去可能な光ディスクについても開発さ
れている。 再生専用の光デイ、スフとしては１．上記のコンパクト
ディスク（ＣＤ）やレーザーディスク（、ＬＤ）に加え
て１文書、データ、静止画像等の７フイルについてもＣ
Ｄ −ＲＯＭ （Ｒｅａｄ ＯｎｌｙＭｅｍｏｒｙ）ま
たはＣＤ −Ｉ （Ｉｎｔｅｒａｃｔｉｖｅ）などの特
にコンピューター用の読み取り専用タイプの光ディスク
の開発も行なわれており、一部実、用化されている。さ
らにＣＤ−ＲＯＭ−ＦＲＯＭと呼ばれるディスクの一部
が記録可能な領域を有する読み取りタイプの光ディスク
も開発されている。 一般に、ＣＤやＬＤなどの再生専用型光ディスクは、以
下のように製造される。 まず、ガラス原板にフォトレジストを塗布し。 該レジスト層にレーザーを照射（露光）することにより
情報を記録して潜像を形成し、そして現像処理を行なう
ことにより凹凸を形成する。この表面にメツキを施しメ
タルマスクを作成し、次いでメタルマスクが反転したマ
ザーを作成し、さらにマザーが反転したスタンパを作成
する。このスタンパを用いて射出成形等の成形を行なう
ことにより情報を表わす凹凸が形成されたディスク基板
を得ることができる。そして基板上に反射層を蒸着によ
り形成し、ラベル印刷、保護層形成等を行なって光ディ
スクが製造される。 上記方法は、記録された情報が同一の再生用光ディスク
を多数製造する方法としては、大がかりな設備を要し、
且つ工程数も多いものと成っており、情報一種類当たり
大量の数の光ディスクを必要とする製造に適している。 しかしながら、一種類の当たりの需要が少ない再生用光
ディスクを製造するにはコスト高となり、製造上不利と
の問題がある。 一方、一般の一度だけ記録が可能なりＲＡＷ型光ディス
クについても上記のような同一の情報を複数必要とする
場合で、特に情報一種類当たり必要とする枚数が少ない
再生用光ディスクの製造に使用されることがある。 ＤＲＡＷ型光ディスクは、グルーブなどのトラッキング
ガイドを表面に有する基板上に金属、色素等からなる記
録層が設けられたもので、必要に応じて、記録層上に反
射層や保護層などが設けられている。そして、多くは記
録層にレーザーを照射してビットを形成することにより
情報の記録が行なわれる０色素を記録層とした場合には
、反射率を向上させるために記録層上に反射層を設ける
ことが多く、このような例が日経エレクトロニクス（Ｎ
ｏ、４６５．１９８９年１月２３日発行、１０７頁）に
記載されている。この光ディスクは、ポリカーボネート
基板の上に色素記録層、Ａｕからなる反射層及び保護層
がこの順で形成されたもので、該ディスクに基板側から
レーザーを照射して基板と色素記録層との界面に凸部を
形成することにより情報が記録される０色素記録層にレ
ーザー光を照射すると、色素層炉゛融解し、これに伴な
って色素層に密着している基板も熱っせられる。基板は
ガラス転位点に達し軟化する。この時、色素材料の分解
が起こり１色素層と基板との界面に圧力が加わって色素
材料と基板材料とが混じり合い、この部分が隆起して最
終的に基板表面に凸部が形成される。 従って、上記ＤＲＡＷ型の光ディスクの情報の記録形態
は、上記記録層へのビット形成、上記基板表面での凸部
の形成、あるいは記録層が下層から発生する気化成分の
圧力による凸部の形成（−般に、バブルモードといわれ
る）などが知られている。上記記録層のピット形成は、
記録層に凹部を形成するだけでなく、溶融した記録層の
熱により基板も溶融し凹部を形成すると一般に考えられ
る。 上記のようなりＲＡＷ型の光ディスクは、記録後であっ
ても光の照射により変化し易い記録層が残っている。従
って、前記のように情報一種類当たり必要とする枚数が
少ない再生用光ディスクの製造（再生用光ディスクの少
量生産）にＤＲＡＷ型の光ディスクを利用した場合、得
られた光ディスクは上記のように記録層が残存している
。このため、このような再生用光ディスクは一般的に光
により劣化しやすく耐光性が充分に優れている七は言え
ない。 以下余白 ［発明の目的］ 本発明は、新規な再生用情報記録媒体およびその製造方
法を提供することを目的とする。 詳しくは１本発明は記録された情報が同じ再生用光ディ
スクを製造する方法で、その生産量が少量の場合に好適
な再生用情報記録媒体の製造方法を提供することを目的
とする。 ［発明の要旨］ 本発明は１表面に、レーザーにより検知可能なトラッキ
ング用のマークおよび／またはグルーブと、レーザーに
より再生が可能な凹部または凸部からなる情報の記録部
位とを有する樹脂基板表面に直接反射層が形成されてな
る再生用情報記録媒体（Ａ）にある。 上記再生用情報記録媒体（Ａ）は、 レーザーにより検知可能なトラッキング用のマークおよ
び／またはグルーブを表面に有する基板上にレーザー光
吸収層が設けられた情報記録媒体の該レーザー光吸収層
にレーザーを照射して該レーザー光吸収層および基板に
凹部を形成させることにより情報を記録する工程 該レーザー光吸収層を除去する工程 該レーザー光吸収層が除去された基板表面に反射層を形
成する工程 からなる再生用情報記録媒体の製造方法（Ａｌ）％また
は レーザーにより検知可能なトラッキング用のマークおよ
び／またはグルーブを表面に有する基板上に色素からな
るレーザー光吸収層および反射層がこの順で形成された
情報記録媒体の該レーザー光吸収層にレーザーを照射し
て該基板と該レーザー光吸収層との界面に凸部を形成さ
せることにより情報を記録する工程 該レーザー光吸収層および反射層を除去する工程 該レーザー光吸収層および反射層が除去された基板表面
に反射層を形成する工程 からなる再生用情報記録媒体の製造方法（Ａ２）を利用
することにより有利に製造することができる。 上記本発明の再生用情報記録媒体（Ａ）の好ましい態様
は以下の通りである。 ｌ）該情報の記録部位が、基板表面に形成された凹部で
あることを特徴とする上記再生用情報記録媒体。 ２）該基板が、円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体。 ３）該基板が１表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ凹部または凸部からなる情報の記録部位が該グルー
ブ上または該グルーブ間に形成されていることを特徴と
する上記再生用情報記録媒体。 ４）該レーザー光吸収層が金属からなることを特徴とす
る上記再生用情報記録媒体。 ５）該レーザー光吸収層が色素からなることを特徴とす
る上記再生用情報記録媒体。 ６）該基板がアクリル系樹脂もしくはポリカーボネート
樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体。 上記本発明の（ＡＩ）の再生用情報記録媒体の製造方法
の好ましい態様は以下の通りである。 ｌ）該基板が、円盤状基板であり且つその表面にプレグ
ルーブを有することを特徴とする上記再生用情報記録媒
体の製造方法。 ２）該情報の記録が、該樹脂基板のトラッキング用のグ
ルーブの該グルーブ上または該グルーブ間に行なわれる
ことを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方法。 ３）該レーザー光吸収層が色素からなり、そして該レー
ザー光吸収層の除去が有機溶剤で洗浄することにより行
なわれること特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造
方法。 ４）該レーザー光吸収層が金属からなり、そして該レー
ザー光吸収層の除去が酸性溶液で洗浄することにより行
なあれること特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造
方法。 ５）該基板が７クリノυ系樹脂もしくはポリカーボネー
ト樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
の製造方法。 上記本発明の（Ａ２）の再生用情報記録媒体の製造方法
の好ましい態様は以下の通りである。 ｌ）該基板が、円盤状基板であり且つその表面にプレグ
ルーブを有することを特徴とする上記再生用情報記録媒
体の製造方法。 ２）該情報の記録が、該樹脂基板のトラッキング用のグ
ルーブの該グルーブ上または該グルーブ間に行なわれる
ことを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方法。 ３）該情報の記録が反射層上に保護層が設けられた情報
記録媒体に行なわれ、且つ除去工程で保護層も除去され
ることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方法
。 ４）該色素からなるレーザー光吸収層および反射層の除
去が、該色素からなるレーザー光吸収層を有機溶剤で洗
浄することにより行なわれること特徴とする上記再生用
情報記録媒体の製造方法。 ５）該基板がアクリル系樹脂もしくはポリカーボネート
樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の
製造方法。 また１本発明は、下記の褪色した色素層を有する再生用
情報記録媒体で、記録部位が空洞を有する再生用情報記
録媒体、およびその好ましい態様である（Ｂ）および（
Ｃ）、そして記録部位が凸部である（Ｄ）の再生用情報
記録媒体と、それらの製造方法（記録部位として空洞を
有する媒体の製造方法およびその好ましい態様（Ｂｌ）
および（ＣＩ）、そして（ＤＩ））にもある。 すなわち、本発明は、レーザーにより検知可能なトラッ
キング用のマークおよび／またはグルーブを表面に有す
る基板の上に設けられた褪色した色素からなる層上に５
反射層が形成され、且つ該色素層と該反射層との界面に
レーザーにより再生が可能な空洞からなる情報の記録部
位が形成されてなる再生用情報記録媒体にある。 上記再生用情報記録媒体は、レーザーにより検知可能な
トラッキング用のマークおよび／またはグルーブを表面
に有する基板上に、レーザーにより情報の記録が可能な
色素からなる層および反射層がこの順で形成された情報
記録媒体の。 該色素層にレーザーを照射して、該色素層と該反射層と
の界面に空洞を形成することにより情報を記録した後、 該色素層に光を照射して該色素を褪色させることからな
る再生用情報記録媒体の製造方法を利用することにより
有利に得ることができる。 上記褪色した色素を有する再生用情報記録媒体の好まし
い態様は下記のとおりである。 １）上記情報の記録部位が、該基板の実質的な変化を伴
なわずに該色素層と該反射層との界面に形成された空洞
からなることを特徴とする上記再生用情報記録媒体（Ｂ
）。 ２）上記情報の記録部位が、該色素層と該反射層との界
面に形成された空洞および該空洞の生成に伴ない該基板
表面に形成された凹部とからなることを特徴とする上記
再生用情報記録媒体（Ｃ）。 上記褪色した色素を有する再生用情報記録媒体の製造方
法の好ましい態様は下記のとおりである。 １）上記情報の記録が、該基板の実質的な変化を伴なわ
ずに該色素層と該反射層との界面に空洞を形成すること
により行なわれることを特徴とする上記再生用情報記録
媒体の製造方法（Ｂｌ）。 ２）上記情報の記録が、該色素層と該反射層との界面に
空洞および該基板表面に凹部とを形成することにより行
なわれることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製
造方法（ＣＩ）。 本発明の上記ＣＢ）の再生用情報記録媒体の好ましい態
様は以下の通りである。 １）該基板が１円盤状基板であり且つその表面にトラフ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体。 ２）該基板が、表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グルー
ブ間に形成されていることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体。 ３）上記基板の表面にはトラッキング用のマークおよび
／またはグルーブを有するプレグルーブ層が設けられて
いることを特徴とする上記再生用情報記録媒体。 ４）上記基板の表面に無機酸化物からなる下塗層が設け
られていることを特徴とする上記再生用情報記録媒体。 本発明の上記（Ｂｌ）の再生用情報記録媒体の製造方法
の好ましい態様は以下の通りである。 ｌ）該基板が、円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体の製造方法。 ２）該基板が、表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グルー
ブ間に形成されていることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体の製造方法。 ３）該記録層への光照射が、紫外線の照射により行なわ
れることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方
法。 ４）上記基板の表面にはトラッキング用のマークおよび
／またはグルーブを有するプレグルーブ層が設けられて
いることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方
法。 ５）上記基板の表面にｓＩｍ酸化物からなる下塗層が設
けられていることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
の製造方法。 本発明の上記（Ｃ）の再生用情報記録媒体の好ましい態
様は以下の通りである。 １）該基板が１円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体。 ２）該基板が１表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グルー
ブ間に形成されていることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体。 ３）上記基板がアクリル系樹脂もしくはポリカーボネー
ト樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
。 本発明の上記（ＣＩ）の再生用情報記録媒体の製造方法
の好ましい態様は以下の通りである。 ｌ）該基板が１円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体の製造方法。 ２）該基板が１表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グルー
ブ間に形成されていることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体の製造方法。 ３）該記録層への光照射が、紫外線の照射により行なわ
れることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方
法。 ４）該基板が、アクリル系樹脂もしくはポリカーボネー
ト樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
の製造方法。 さらに、本発明は、レーザーにより検知可能なトラッキ
ング用のマークおよび／またはグルーブを表面に有する
基板上に、褪色した色素からなる層および反射層がこの
順で形成され。 且つ該基板表面に凸部からなる情報の記録部位が形成さ
れてなる再生用情報記録媒体（Ｄ）にある。 上記再生用情報記録媒体は１表面にレーザーにより検知
可能なトラッキング用のマークおよび／またはグルーブ
を有する樹脂基板上に、レーザーにより情報の記録が可
能な色素からなる層および反射層がこの順で形成された
情報記録媒体の該色素層に、 レーザーを照射して、該基板表面に凸部を形成すること
により情報を記録した後、 該色素層に光な照射して該色素を褪色させることからな
る再生用情報記録媒体の製造方法（Ｄりにより有利に製
造することができる。 本発明の上記ＣＤ）の再生用情報記録媒体の好ましい態
様は以下の通りである。 １）該基板が、円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体。 ２）該基板が１表面にトラッキング用のグルーブを有し
且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グルー
ブ間に形成されていることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体。 ３）該反射層上に保護層が設けられていることを特徴と
する上記再生用情報記録媒体。 ４）上記基板がアクリル系樹脂もしくはポリカーボネー
ト樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
。 本発明の上記（ＤＩ）の再生用情報記録媒体の製造方法
の好ましい態様は以下の通りである。 １）該基板が１円盤状基板であり且つその表面にトラッ
キング用のグルーブを有することを特徴とする上記再生
用情報記録媒体の製造方法。 ２）・該基板が、表面にトラッキング用のグルーブを有
し且つ上記情報の記録部位が該グルーブ上または該グル
ーブ間に形成されていることを特徴とする。上記再生用
情報記録媒体の製造方法。 ３）該情報の記録が反射層上に保護層が設けられた情報
記録媒体に行なわれることを特徴とする上記再生用情報
記録媒体の製造方法。 ４）該記録層への光照射が、紫外線の照射により行なわ
れることを特徴とする上記再生用情報記録媒体の製造方
法。 ５）該基板が、アクリル系樹脂もしくはポリカーボネー
ト樹脂であることを特徴とする上記再生用情報記録媒体
の製造方法。 ［発明の効果］ 本発明では、従来のようにディスク原板作成から始めて
再生信号のピットの反転模様が形成されたスタンパを製
造した後、成形により大量生産を行なうのではなく、上
記のように記録可能な光ディスクを用いてレーザー光吸
収層を除去し１反射層を設けるとし、１う簡便な方法、
あるいは記録層である色素を褪色させるという簡便な方
法により再生用の情報記録媒体を製造することができる
。 すなわち、本発明の製造方法は従来のように。 前記したような多くの工程を経る必要がなく、また情報
の記録であるレーザー露光（カッティング）に大がかり
な装置を必要としないため、比較的少量の再生用光ディ
スクを製造する場合には。 コストがかからず好適な製造方法ということができる。 また、一般の一度だけ記録が可能なりＲＡＷ型光ディス
クについても、上記のような同一の情報が記録された光
ディスクを必要とする枚数が少ない場合には、再生用光
ディスクの製造に使用される。このような場合、本発明
の情報記録媒体はレーザー光吸収層（一般の記録層）が
無いため。 あるいは記録層である色素が褪色しているため、光によ
り劣化する部分がないことから耐光性や耐候性などの耐
久性に優れたものである。 ［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、再生用に用いられる光ディス
クで、従来のＣＤやＬＤの製造では大規模な設備で多く
の工程を要する点、またＤＲＡＷ型の光ディスクを利用
して再生用光ディスクを製造した場合の記録層に由来す
る光により劣化し易い欠点を解消したものである。一つ
は、該記録層（レーザー光吸収層）を除去することによ
り、もう一つは記録層である色素を褪色させることによ
り得られるものであるφ 本発明の記録層除去により得られる情報記録媒体（Ａ）
は、再生用に用いられる光ディスクで、樹脂基板の表面
にグルーブ等によるトラッキングガイドとピット（孔）
等からなる情報が記録された部分とを有する基板、およ
びその上に設けられた反射層または反射層および保護層
からなる基本構成を有する。 また色素褪色により得られる再生用情報記録媒体（記録
部位が空洞を有する再生用情報記録媒体、およびその好
ましい態様であるＣＢ）および（Ｃ）、そして記録部位
が凸部である（Ｄ））は１．表面にグルーブ等によるト
ラッキングガイドを有する基板上に設けられた褪色した
色素層の上に、反射層または反射層および保護層が設け
られた基本構成を有する情報記録媒体であり、そして情
報が、各層間のいずれかの界面に形状変化として記録さ
れている。 前者の光ディスクの製造方法（好ましくはＡ１およびＡ
２）は、基板上に、色素層および反射層（および保護層
）が設けられた構成を有する光ディスクにレーザー照射
により基板とレーザー光吸収層にピット等による情報記
録を行ない、該レーザー光吸収性層を除去することによ
り情報を示すピット等が形成された基板を作成し、その
上に反射層を設けることからなっている。 後者の光ディスクの製造方法（記録部位として空洞を有
する媒体の製造方法およびその好ましい態様（Ｂｌ）お
よび（ＣＩ）、そして記録部位が凸部である（Ｄｉ））
は、基板上に、色素層および反射層（および保護層）は
設けられた構成を有する光ディスクを用いてレーザー照
射により、該色素層と該反射層との界面に空洞を形成（
好ましくは空洞のみ（ｎｉ）または基板表面に凹部およ
び該色素層と該反射層との界面に空洞と（Ｃ１）を形成
）して、あるいは基板表面に凸部（Ｄｌ）を形成して、
情報の記録を行ない１次いで色素層に光を照射して色素
を褪色させることにより行なわれる。 上記製造方法では、記録を行なう光ディスクとして、い
わゆるＤＲＡＷ型等の記録可能な光ディスクとして知ら
れているものを用いても良い。 従来、再生用光ディスクの製造は、前述したようにディ
スク原板作成から始めて再生信号のピットの反転模様が
形成されたスタンパを製造した後、成形により大量生産
にて行なわれていた。木発明者等は、このような多数の
工程からなるスタンパを製造を行なう必要のない製造方
法について鋭意研究を重ねてきた。上記のように情報を
記録した後記録に用いたレーザー光吸収層を除去する。 あるいは色素を褪色させるという簡便な方法で製造する
ことができることが明らかとなった。 特に、本発明は再生用光ディスクの一種類当たりの生産
量が少量の場合に好適な再生用情報記録媒体の製造方法
である。 また、再生用光ディスクの少量生産にＤＲＡＷ型の光デ
ィスクを利用して単°に記録するだけで使用した場合、
得られる再生用光ディスクは上記のように記録層が残存
しているため、このような再生用光ディスクは一般的に
光により劣化しやすい傾向にある。 本発明の製造方法が適用できる再生用の光ディスクとし
ては、コンパクトディスク（ＣＤ）、 レーザーディ
スク（ＬＤ）、文書、データ、静止画像等のファイルに
用いられるＣＤ−ＲＯＭ （ＲｅａｄＯｎｌｙ Ｍｅｍ
ｏｒｙ）またはＣＤ −Ｉ （Ｉｎｔ＠ｒａｃｔｉｖｅ
）などの特にコンピューター用の読み取り専用タイプの
光ディスク、さらにこれら以外にもディスク形状を有し
ない例えば光カードなどにも利用できる。基本的には、
ピットなどの基板表面の形状変化、あるいは各層間の形
状変化により情報が記録されており、それをレーザー照
射により再生が可能な媒体であれば１本発明の製造方法
を適用することができる。 本発明の再生用情報記録媒体の製造方法（Ａ１）の−例
を第１Ａ図〜第１Ｄ図を参照しながら詳しく説明する。 ここでは、記録信号が基板と反射層との界面に凹部を形
成された再生用情報記録媒体の製造方法について述べる
。 第１Ａ図は、表面にグルーブ１２およびランド１３から
なるトラッキング用のグルーブ（プレグルーブ）が形成
された基板１１の上にレーザー光吸収層１４が設けられ
た記録可能な光ディスクの断面図である。 レーザー光吸収層の材料は、金属あるいは色素、その他
カーポンンブラック、ポリマーなど、光を吸収してレー
ザー光吸収層に凹部又は凸部の形成し、且つ基板表面に
凹部又は凸部の形成を促進して形状を変化させるもので
あれば特に限定されるものではない、プレグルーブは、
信号を記録する際レーザー光を所定の位置に案内するト
ラッキングガイドであるが、トラッキングガイドの機能
があればグルーブでなくても、トラッキング用のマーク
（ウォブルピット、濃淡マークなど）であってもよい。 基板１１上のレーザー光吸収層１４は、光吸収性材料が
金属等（加熱により分解しない材料）の場合は真空蒸着
、スパッタリングあるいはイオンブレーティングにより
形成することができ、また色素やポリマーまた顔料等を
含む分散液の場合はこれらの塗布液を調製して塗布法に
より形成することができる。 第１Ｂ図は、表面にグルーブ１２およびランド１３から
なるプレグルーブが形成された基板１１の上にレーザー
光吸収層１４が設けられた光ディスク（第１Ａ図）の基
板表面のグルーブ１２に凹部１７が形成された断面図で
ある。ここではレーザー光吸収層１４にも凹部が形成さ
れている。上記基板は一般に熱軟化し易いことから樹脂
基板が用いられる。 上記基板表面に形成されたプレグルーブのグルーブ１２
にレーザーを照射することにより、レーザー光吸収層１
４は該レーザーのエネルギーを吸収して溶融し、これに
伴なって分解、気化等を起こして変形すると同時に、溶
融したレーザー光吸収層の表面張力のｆＩＩＩきにより
凹部が形成される。上記レーザー光吸収層（記録層）に
凹部を形成する際、上記のようにレーザー光吸収層だけ
でなく溶融したレーザー光吸収層の熱により基板も溶融
し、レーザー光吸収層と基板との界面張力の働きにより
基板のグルーブ１２上に凹部１７を形成すると考えられ
る。 また、この凹部の発生に伴なって基板材料の結晶状態の
変化などの状態変化があってもよい。 第１Ｂ図ではグルーブ１２に記録を行なっているが、ラ
ンド１３に行なってもよい、またプレグルーブを有しな
い基板の場合は、他のトラッキングガイドにより指定さ
れた場所に記録が行なわれる。 第１Ｃ図は１表面にグルーブ１２およびランド１３から
なるプレグルーブが形成された基板１１のグルーブ１２
に凹部１７が形成された断面図である。 第１ｃ図は、上記第１Ｂ図で示した凹部１７が形成され
た光ディスクからレーザー光吸収層１４が除去された状
態を示している。レーザー光吸収層の除去は、レーザー
光吸収層の材料が金属の場合、無機酸または有機酸の酸
性溶液、あるいはアルカリ水溶液などを用いて該レーザ
ー光吸収層に噴霧などして洗浄することにより行なわれ
る。その際、使用する酸性溶液等はレーザー光吸収層を
溶解し且つ樹脂基板（基板は一般に樹脂基板が用いられ
る）を侵さないようにその種類を選択、あるいは溶液濃
度などを調製する必要がある。またレーザー光吸収層の
材料が色素やポリマーの場合、レーザー光吸収層の除去
は有機溶剤などで噴霧などして洗浄することにより行な
われる。この場合も□樹脂基板を侵さないように、使用
する有機溶剤の選択を行なう必要がある。 第１Ｄ図は、表面にグルーブ１２およびランド１３から
なるプレグルーブが形成され、且つグルーブ１２に凹部
１７が形成された樹脂基板（第１ｃ図）の表面に反射層
１８が形成された断面図である。第１Ｄ図は、本発明の
再生用情報記録媒体（Ａ）の−態様でもある。 第１Ｃ図に示された記録信号として凹部１７が形成され
た基板表面には、再生時に必要な反射率を確保するため
反射層１８が形成される。一般にＡＩＩＬ、 Ａｕ等の
金属が真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンブレー
ティングにより形成される。しかしながら１反射率が高
くなる材料であれば金属以外でも良く、無機化合物１色
素、ポリマーなどを上記蒸着あるいは塗布法により上記
基板上に設けてもよい、上記反射層上には、得られた光
ディスクの耐久性を向上させるため一般に保護層が設け
られる。 本発明の再生用情報記録媒体（Ａ）の別の製造方法（Ａ
２）の−例を第２Ａ図〜第２Ｄ図を参照しながら詳しく
説明する。ここでは、記録信号が基板と反射層との界面
に凸部を形成された再生用情報記録媒体の製造方法につ
いて述べる。 第２Ａ図は、表面にグルーブ２２およびランド２３から
なるトラッキング用のグルーブ（プレグルーブ）が形成
された基板２１の上にレーザー光吸収層２４１反射層２
５および保護層２６が、この順で設けられた記録可能な
光ディスクの断面図である。 第２Ｂ図は、表面にグルーブ２２およびランド２３から
なるプレグルーブが形成された基板ｚｌ上にレーザー光
吸収層２４、反射層２５および保護層２６が設けられた
光ディスク（第２ＡｒＩ４）の基板上のグルーブ２２に
凸部２７が形成された断面図である。基板は一般に熱軟
化し易いことから樹脂基板が用いられる。 上記基板表面に形成されたプレグルーブのグルーブ２２
上のレーザー光吸収層（この場合は色素層）２４にレー
ザーを照射□することにより色素層が融解し、これに伴
なって色素層に密着している基板も熱っせられる。基板
はガラス転位点に達し軟化する。この時色素材料の分解
が起こり、発生した分解ガスは上部が反射層と保護層に
より押えられでいるため蓄積し、その蓄積された圧力が
色素層と基板との界面に加わって色素材料と基板材料と
の混合等の相互作用を起こさせる。そして、この部分が
隆起して最終的に基板表面（基板と色素層との界面）に
凸部が形成されると考えられる。この記録方法は前記日
経エレクトロニクスに記載された方法に当たる。 一般に、上記のように基板表面に凸部を形成して情報の
記録を行なうには、第２Ｂ図に示すようにレーザー光吸
収層が色素からなり、反射層の層厚が厚い（一般に１ｏ
ｏｏ１以上）か、またはその上に保護層が設けられた構
成を有する光ディスクを用いることが必要である。これ
はレーザーにより溶融した色素層が基板を軟化又は溶融
し１次いで色素が気化することにより発生する圧力は上
部が反射層と保護層により押えられているため軟化した
基板側に加わることになり、上記のように基板表面での
凸部形成が行なわれると考えられる。 また、この凸部の発生に伴なって基板材料の結晶状態の
変化などの状態変化があってもよい。 第２Ｂ図ではグルーブ１２に記録を行なっているが、ラ
ンド１３に行なってもよい、またプレグルーブを有しな
い基板の場合は、他のトラツキン。 グガイドにより指定された場所に記録が行なわれる。 第２Ｃ図は、表面にグルーブ２２およびランド２３から
なるプレグルーブが形成された基板２１のグルーブ２２
に凸部２７が形成された断面図である。 第２Ｃ図は、上記第２Ｂ図で示した凸部２７が形成され
た光ディスクからレーザー光吸収層２４、反射層２５お
よび保護層２６が除去された状態を示している。この場
合、レーザー光吸収層が色素層であるので上記有機溶剤
を用いて同様の方法で色素層を除去することができる０
反射層も保護層も色素層上に設けられているので色素層
と一緒に除去される。 第２Ｄ図は、表面にグルーブ２２およびランド２３から
なるプレグルーブが形成され、且つグルーブ２２に凸部
２７が形成された基板（第２Ｃ図）の表面に反射層２８
が形成された断面図である。第２Ｄ図は１本発明の再生
用情報記録媒体（Ａ）の別の一態様でもある。 第２Ｃ図に示された記録信号と−して凸部２７が形成さ
れた基板表面には、再生時に必要な反射率を確保するた
め反射層２８が形成される。一般にＡｎ、Ａｕ等の金属
が真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンブレーティ
ングにより形成される。上記反射層上には、得られた光
ディスクの耐久性を向上させるため一般に保護層が設け
られる。 次に１本発明の褪色した色素層を有する再生用情報記録
媒体の製造方法の例を第３Ａ図〜第３Ｃ図、第４Ａ図〜
第４Ｃ図および第５Ａ図〜第５Ｃ図を参照しながら詳し
く説明する。 第３Ａ図〜第３Ｃ図は、記録信号が色素層と反射層との
界面に空洞として形成された場合、第４Ａ図〜第４Ｃ図
は記録信号が色素層と反射層との界面の空洞および基板
表面の凹部として形成された場合、そして第５Ａ図〜第
５Ｃ図は記録信号が基板表面の凸部として形成された場
合である。 本発明の再生用情報記録媒体の製造方法（Ｂｌ）の−例
を第３Ａ図〜第３Ｃ図を参照しながら詳しく説明する。 第３Ａ図は、表面にグルーブ３２およびランド３３から
なるトラッキング用のグルーブ（プレグルーブ）が形成
された基板３１の上に色素層３４および反射層３５が、
この順で設けられた記録可能な光ディスクの断面図であ
る。 本発明では、上記基板３１の表面に形成されたプレグル
ーブのグルーブ３２上の色素層３４にレーザーを照射す
ることにより基板と色素層との界面に空洞として情報が
記録される。基板は実質的に変形されない。 本発明の褪色した色素層を形成するための色素層の材料
は、後述するようなシアニン色素（インドレニン系色素
、インドリジン系色素など）などの上記のように情報の
記録が可能な色素！あり、他に結合剤としてポリマーな
どを含んでいても良い、プレグルーブは、信号を記録す
る際レーザー光を所定の位置に案内するトラッキングガ
イドであるが、トラッキングガイドの機能があればグル
ーブでなくても、トラッキング用のマーク（サーボビッ
ト、濃淡マークなど）であってもよい。 基板３１上の色素層３４は、一般に色素を有機溶剤に溶
解して塗布液を調製し、塗布法により形成することがで
きる。耐熱性が優れた色素の場合は真空蒸着、スパッタ
リングあるいはイオンブレーティングにより形成するこ
ともできる。 上記反射層３５は、一般にＡｎ、Ａｕ等の金属を真空蒸
着、スパッタリングあるいはイオンブレーティングする
ことにより形成される。ただし、反射率が高くなる材料
であれば金属以外でも良く、無機化合物１色素、ポリマ
ーなどを上記蒸着あるいは塗布法により上記基板上に設
けてもよい。 上記光ディスクはこのように製造することができるが、
上記構成を有する記録可能な光ディスクであれば市販品
を用いてもよい。 第３Ｂ図は、表面にグルーブ３２およびランド３３から
なるプレグルーブが形成された基板３１の上に色素層３
４および反射層３５が設けられた光ディスク（第３Ａ図
）の色素層と反射層との界面に空洞３７が形成された断
面図である。基板には実質的に凹部等の変形べ゛ない。 上記基板表面に形成されたプレグルーブのグルーブ３２
上の色素層３４にレーザーを照射することにより、色素
が該レーザーのエネルギーを吸収して融解、分解、気化
等を起こして変形し、同時に色素からの伝導熱およびガ
ス圧により反射層が持ち上げられ、空洞３７が形成され
る。上記のような空洞の形成による記録方法は本出願人
が既に出願済（平成元年７月３１、発明の名称：光情報
記録方法および情報記録媒体、発明者：沢野充）である
が、一般に反射層の層厚が比較的薄い（一般に８００ｘ
以下）場合で且つ基板表面が硬い場合に起こり易い、す
なわち、基板表面に紫外線樹脂からなるプレグルーブ層
あるいは５ｔ０２などの無機酸化物の下塗層が設けられ
た場合、または基板がガラスからなる場合などである。 ただし、反射層の金属が変形し易い材料の場合あるいは
反射層が薄層の場合には、反射層側の膨出部大部分を占
めるか、あるいは膨出部が色素層側の陥没部より大きく
なる。また、色素が融解、分解、気化等を起こし易い場
合、反射層の金属が変形し難い場合あるいは反射層が厚
い層で変形し難い場合は、色素層の陥没部が反射層の変
形した膨出部分より大きくなる、あるいはほとんど色素
層の陥没部のみとなる。さらに１反射層上に保護層を設
けた場合は、反射層の変形が抑えられるため色素層の陥
没部が形成され易くなる。上記第３Ｂ図では反射層上に
保護層が設けられていないが、上記反射層上に上記空洞
の形成を妨げない限り保護層を設けてもよい。 上記のように空洞の形状は種々のものが形成されると考
えられるが、その形状としては少なくとも色素層が褪色
した後でもレーザーにより再生可能であることが必要で
ある。第３Ｂ図ではグルーブ３゛２に記録を行なってい
るが、ランド３３に行なってもよい、またプレグルーブ
を有しない基板の場合は、他のトラッキングガイドによ
り指定された場所に記録が行なわれる。 第３Ｃ図は１表面にグルーブ３２およびランド３３から
なるプレグルーブが形成された基板３１の上に褪色した
色素層３９および反射層３５が設けられた光ディスクの
色素層と反射層との界面に空洞３７が形成された断面図
である。また第３Ｃ図は本発明の再生用情報記録媒体（
Ｂ）の実施態様の一例の断面図でもある。 第３Ｃ図は上記第３Ｂ図で示された光ディスクの色素層
に光を照射して、該色素層を褪色させた光ディスクを示
している。使用される光は高エネルギーのものが良いが
、光デイスク自体を損傷させないようにすることが必要
である。使用する光として紫外線、電子線などが好まし
い、褪色した色素は、もはや光により劣化することはな
く耐久性に優れた情報記録媒体であるといえる。得られ
る情報記録媒体のＣ／Ｎなどの再生特性が良好なことが
要求されることから、記録時に色素褪色後の再生特性を
考慮して情報の記録を行なう必要がある。 本発明の再生用情報記録媒体の製造方法（Ｃ１）の−例
を第４Ａ図〜第４Ｃ図を参照しながら詳しく説明する。 第４Ａ図は、表面にグルーブ４２およびランド４３から
なるトラッキング用のグルーブ（プレグルーブ）が形成
された基板４１の上に色素層４４および反射層４５が、
この順で設けられた記録可能な光ディスクの断面図であ
る。 色素層の材料は、第３Ａ図で述べたものを使用すること
ができ同様に形成することができる。プレグルーブも上
述の通りトラッキングガイドであれば何でも良い。 上記反射層も第３Ａ図で述べたものを使用することがで
き同様に形成することができる。 また上記反射層上には、光ディスクの耐久性を向上させ
るため保護層が設けられていてもよい。 また上記構成を有する記録可能な光ディスクであれば市
販品を用いてもよい。 第４Ｂ図は１表面にグルーブ４２およびランド４３から
なるプレグルーブが形成された基板４１の上に色素層４
４および反射層４５が設けられた光ディスク（第４Ａ図
）の色素層と反射層との界面に空洞４７ａおよび基板と
色素層との界面のグルーブ４７ｂに凹部が形成された断
面図である。 上記基板は一般に熱軟化し易いことから樹脂基板が用い
られる。 上記基板表面に形成されたプレグルーブのグルーブ４２
上の色素層４４にレーザーを照射することにより、色素
が該レーザーのエネルギーを吸収して融解１分解、気化
等を起こして変形し、同時に色素からの伝導熱およびガ
ス圧により反射層が持ち上げられ、空洞４７ａが形成さ
れる。空洞が形成される理由は第３Ｂ図で述べた理由と
同じであるが、基板が熱により軟化し易い樹脂基板の場
合に、上記空洞形成の際基板２１も熱による軟化、溶融
が起こり、その溶融部分と上記（溶融した）色素との間
の界面張力の働きにより、そのグルーブ部分に第４Ｂ図
に示されるように凹部が形成されると考えられる。第４
Ｂ図では反射層上に保護層が設けられていないが、上記
反射層上に上記空洞の形成と基板の凹部形成を妨げない
限り保護層を設けてもよい、上記のような空洞の形成に
よる記録方法も上記本出願人が既に出願済（平成元年７
月３１日）の明細書に記載されている。 第４Ｂ図ではグルーブに記録を行なっているが、ランド
に行なってもよい、またプレグルーブを有しない基板の
場合は、他のトラッキングガイドにより指定された場所
に記録が行なわれる。 第４Ｃ図は１表面にグルーブ４２およびランド４３から
なるプレグルーブが形成された基板４１の上に褪色した
色素層４９および反射層３５が設けられた光ディスクの
色素層と反射層との界面に空洞４７＆および基板と色素
層との界面のグルーブに凹部４７ｂが形成された断面図
である。また第４Ｃ図は本発明の再生用情報記録媒体（
Ｃ）の実施態様の一例の断面図でもある。 前記第３Ｃ図と同様に色素層に光照射することにより色
素層を褪色させることができる。 次に、本発明の再生用情報記録媒体の製造方法（ＤＩ）
の−例を第５Ａ図〜第５Ｃ図を参照しながら詳しく説明
する。 第５Ａ図は、表面にグルーブ５２およびランド５３から
なるトラッキング用のグルーブ（プレグルーブ）が形成
された基板５１の上に色素層５４、反射層５５および保
護層５６が、この順で設けられた記録可能な光ディスク
の断面図である。 色素層および反射層は第３Ａ図の説明で述べたものを使
用でき、また同様に形成される。 第５Ｂ図は１表面にグルーブ５２およびランド５３から
なるプレグルーブが形成された基板５１上に色素層５４
１反射層５５および保護層５６が、この順で設けられた
光ディスク（第５Ａ図）の基板上のグルーブ５２に凸部
５７が形成された断面図である。基板は一般に熱軟化し
易いこンから樹脂基板が用いられる。 上記記録は、前記第２Ｂ図と同様に行なわれる。従って
反射層の層厚が厚いか、あるいは保護層が設けられてい
ることが必要である。上記基板表面に形成されたプレグ
ルーブのグルーブ５２上の色素層５４にレーザーを照射
することにより色素層が融解し、これに伴なって色素層
に密着している基板も熱っせられる。基板はガラス転位
点に達し軟化する。この時色素材料の分解が起こり、発
生した分解ガスは上部が押えられているため蓄積し、そ
の圧力が色素層と基板との界面に加わって色素材料と基
板材料とが混じり合い、この部分が隆起して最終的に基
板表面に凸部が形成されると考えられる。この記録方法
は前記日経エレクトロニクスに記載された方法に当たる
。 第５Ｃ図は、表面にグルーブ５２およびランド５３から
なるプレグルーブが形成された基板５１上に褪色した色
素層５９、反射層５・５および保護層５６が、この順で
設けられた光ディスクの樹脂基板上のグルーブ５２に凸
部５７が形成された断面図である。また第ｓｃＩ！ｉｉ
Ｉは本発明の再生用情報記録媒体（Ｄ）の実施態様の一
例の断面図□でもある。 第５Ｃ図は上記第５Ｂ図で示された光ディスクの色素層
に光を照射して、該色素層を褪色させた光ディスクを示
している。第３Ｃ図および第４Ｃ図の光ディスクと同様
簡易に製造でき且つ耐久性に優れた再生用光ディスクで
ある。 以下余白 上記製造方法は、同じ情報が記録された光ディスクを、
それ程大量に必要としない場合、例えば個人的、企業内
あるいはサークルなどでの情報交換等に用いる光ディス
クのソフトを製造するのに好適である。すなわち、従来
のように記録信号としてピットの反転模様が形成された
スタンパを製造した後、成形により大量生産を行なう方
法では、ディスク原板作成からスタンパの作成を行なう
ために前記したように多くの工程を経なければならない
こと、また情報の記録であるレーザー露光（カッティン
グ）に大がかりな装置を必要とするため、それ程大量に
同種の光ディスクを製造しない場合には、コスト高とな
り適当な製造方法とは言えない。 本発明の製造方法では、大量に製造された記録可能な光
ディスク（例えばＤＲＡＷ型）に、例えばディジタル信
号をＰＣＭエンコーダを介してインターフェースとレコ
ーディング・ユニットトからなる光デイスク作成システ
ムに入力し、レーザーによる信号の記録が行なわれる。 この光デイスク作成システムは比較的安価なものである
。信号の記録は、必要な光ディスクの枚数だけ繰り返さ
れる０例えば１００枚必要な場合は１００回記録が行な
われる。このように信号が記録された光ディスクの基板
上に設けられたレーザー光吸収層は有機溶剤あるいは酸
性溶液等を用いて洗浄することにより除去され、その上
に反射層が設けられる。あるいは、このように信号が記
録された光ディスクの色素層を紫外線などの光の暴露に
より褪色させる。 従って１本発明の製造方法は、記録可能な光ディスクに
情報の記録を必要な枚数だけ行なったのち、レーザー光
吸収層を除去し、反射層電設けるあるいは色素層の褪色
という簡便な方法により再生用の情報記録媒体を製造す
ることができる。 また、一般の一度だけ記録が可能なりＲＡＷ型の光ディ
スクを利用して上記のような必要な数が少ない再生用光
ディスクに作成する場合がある。 このような場合、本発明の再生用情報記録媒体の方がレ
ーザー光吸収層が無いため、あるいは色素層がすでに褪
色しているため、光により劣化する部分がないことから
耐光性や耐候性などの耐久性に優れたものである。 本発明の再生用情報記録媒体についてその材料および製
造方法について以下詳細に説明する。 本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としては、ポリメチルメタクリレート等の
アクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等
の塩化ビニル系樹脂：エポキシ樹脂：ポリエチレンテレ
フタレート等ポリエステル類；ポリカーボネートおよび
非晶質ポリオレフィンを挙げることができる。これらの
うちで、好ましいものはポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート、エポキシ樹脂、非晶質ポリオレフィン
およびポリエチレンテレフタレートであり、特にポリカ
ーボネートが好ましい。 レーザー光吸収層または色素層が設けられる側の基板表
面には、平面性の改善、接着力の向上および光吸収性層
の変質の防止の目的で、下塗層が設けられていてもよい
、下塗層の材料としては、たとえば、ポリメチルメタク
リレート、アクリルｍ−メタクリル酸共重合体、ニトロ
セルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート等の高分子物質；シランカップリング剤などの
有機物質：および無機酸化物（ＳｉＯ２，ＡＪＬｚＯ３
等）、無機弗化物（ＭｇＦｚ）などの無機物質を挙げる
ことができる。 下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散したのち、この塗布液をスピンコード、ティップコ
ート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。 また、基板上には良好なトラッキングを行なう目的でプ
レグルーブ、またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸
の形成等の目的でプレピットが樹脂材料の成形により、
あるいはプレグルーブ層等の形成により設けられる。上
記樹脂基板の成形による方法では、上記プレグルーブ、
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸が反転したス
タンパを製造し、これを成形用金型に装着して、この金
型に溶融樹脂を充填冷却することにより成形されプレグ
ルーブ等ｉ鳴するディスク基板を得ることができる。 プレグルーブ等の層を形成する場合、その材料としては
、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステ
ルおよびテトラエステルのうちの少なくとも一種の七ツ
マ−（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を
用いることができる。プレグルーブ等の層の層厚は、一
般に０．０５〜１１００１Ｌの範囲にあり、好ましくは
０．１〜５０μｍの範囲にある。 上記プレグルーブおよびプレピットの代わりに、トラッ
キングガイドとして濃淡等のマークが形成されていても
よい。 プレグルーフ藻有する上記基板上または上記プレグルー
ブ層上には、中間層が設けられても良い。 上記中間層の例としては、上記断熱層以外に接着層、反
射層、感度強化層（ガス発生層）などを挙げることがで
きる。 中間塗布層が断熱層である場合には、例えばポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、Ｎ−メチロール・アクリルアミド共重合体、スチ
レン・ビニルトルエン共重合体、塩素化ポリエチレン、
クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポ
リ塩化ビニル、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル
・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体
、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、
弗素化ポリオレフィンなどの高分子物質を溶剤に溶解し
た塗布液を用いて形成させることができる。好ましくは
、弗素化ポリオレフィン、塩素化ポリエチレンもしくは
ニトロセルロースを用いた塗布液であり、特に好ましく
は、塩素化ポリエチレンである。 基板上（所望により中間層を介して）には、レーザー光
吸収層または色素層が設けられる。 レーザー光吸収層に用いられる材料の例としては、Ｔｅ
、Ｚｎ、Ｉｎ％Ｓｎ、Ｚｒ％Ａ！Ｌ。 Ｃ＋ｒ、Ｇｅ等の金属；Ｂｉ、Ａｓ、Ｓｂ等の半金属；
Ｇｅ、Ｓｉ等の半導体：およびこれらの合金またはこれ
らの組合せを挙げることができる。 また、これらの金属または半金属の硫化物、酸化物、ホ
ウ化物、ケイ素化合物、炭化物および窒化物等の化合物
：およびこれらの化合物と金属との混合物も光吸収性層
に用いることができる。 レーザー光吸収層は、上記の記録材料を蒸着、スパッタ
リング、イオンブレーティングなどの方法によって基板
上に形成することができる。 またレーザー光吸収層として、シアニン系色素等の色素
類を用いてもよく、さらに相変化記録に用いられる高分
子化合物等を用いてもよい。 レーザー光吸収層として色素層を設ける場合、および褪
色した色素層となる色素層を設ける場合に使用される色
素としては、イミダゾキノキサリン系色素を含むシアニ
ン系色素、インドリジン系色素、フタロシアニン系色素
、ピリリウム・チオピリリウム系色素、アズレニウム系
色素、Ｎｉ。 Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素。 トリフェニルメタン系色素、スクワリリウム系色Ｗｅ、
７り’Ｃ１シアニン系色素、メロシアニン系色素、オ
キソノール系色素、インドアニリン系色素、アミニウム
系・ジインモニウム系色業およびニトロン化合物を挙げ
ることができる。 これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、７００〜９００ｍｍの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。 以下余白 その好ましい例としては、 ｉ）シアニン系色素： （ただし、Ｒは水素原子またはＮ（ＧＨ３）ｚである） ［４］ ＠゛−Ｌ＝’ｉ’ （Ｘ＠−）ｌ／＠（ただ
し、Φおよび！はそれぞれ芳香族環が縮合していてもよ
いインドレニン環残基、チアゾール環残基、オキサゾー
ル環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール環残基、
ピリジン環残基、チアゾロピリミジン環残基またはイミ
ダゾキノキサリン環残基であり、Ｌはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンまたはテト
ラカルボシアニンを形成するための連結基であり、ｘト
は１価の陰イオンであり、ｍは１または２であり、さら
にｘトはΦ、Ｌまたは！上に置換して分子内塩を形成し
ても良く、またΦとり、またはＬと！とはさらに連結し
て環を形成しても良い） 上記一般式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のａ）〜ｋ）等が挙げられる。 ［Ｃｌ ＣｌＯ４ ＣＩＯ４’ ［ｊ］ ＣｌＯ４’ ［ｋｌ 工５Ｏ−１＋４ｒＩ９ ＣＩＯ，’ １ｇｏ−１，；４１１９ ［ｆ］ ＣｌＯ４’ ［（］］ ＣＩＯ，’ ｉｉ） スクワリリウム系色素： １ｉｉ）アズレニウム系色素： れてアザアズレン環となっていてもよい、）ｉマ）イン
ドフェノール系色素： （ただし、Ｒ１とＲ２，Ｒ２とＲ３，Ｒ３とＲ４，Ｒ４
とＲ５，Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち少
なくとも一つの組合せでＭ換もしくは未置換の複素環ま
たは脂肪族環による環を形成し、鎖環を形成しないとき
のｉｌｌ、Ｒ２ｆ１３．ｆ１４．ｆｌｓ Ｒ６および
Ｒ１はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価の有
機残基であり、あるいはＲ１とＲ２Ｒ３とＲ４Ｒ４とＲ
５，Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち少なく
とも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香族環を形
成してもよく、Ａは二重結合によって結合した二価の有
機残基であり、Ｚ″はアニオン残基である。なお、アズ
レン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が窒素原子
で置き換えら（ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子
、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハ
ロゲン原子であり、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３はそれぞれ水
素原子、Ｃ３〜Ｃ２０の置換または未置換のアルキル基
、アリール基、複素環またはシクロヘキシル基であり、
Ａは−ＮＨＣＯ−または一〇〇ＮＨ−である） ■）金属錯塩系色素： （ただし、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし、 ［Ｃａｔｌは錯塩を中性ならしめるために
必要な陽イオンであり１ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｇｏ、Ｐｄま
たはＰｔであり、ｎは１または２であ（ただし、Ｒ１お
よびＲ２はそれぞれ置換または未置換のアルキル基また
はアリール基であり、Ｒ３はアルキル基、ハロゲン原子
または４ −Ｎ−Ｒ５基（ここで、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ置換
または未置換のアルキル基またはアリール基である）で
あり、Ｍは遷移金属原子であり、ｎは０〜３の整数であ
る） （ただし、 ［Ｃａｔｌは錯塩を中性ならしめるために
必要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｇｏ、Ｐｄま
たはＰｔであり、ｎは１または２である） 子またはメチル基であり、ｎは１〜４の整数であり、Ａ
は第四級アンモニウム基である）びＲ２はそれぞれ１〜
３の整数であり、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアミノ基、
モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチル
アミノ基、ベンゾイルアミノ基（置換ベンゾイルアミノ
基を含む）であり、ＸＩとｘ２、ｎｌとＲ２およびＲ１
とＲ２はそれぞれ互いに同じであっても異なっていても
よく、ＭはＣｒまたはＣ０ＩＸ子であり、Ｙは水素、ナ
トリウム、カリウム、アンモニウム。 脂肪族アンモニウム（置換脂肪族アンモニウムを含む）
または脂環族アンモニウムである）マｉ）ナフトキノン
系、アントラキノン系色素：（ただし、Ｒは水素原子、
アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミン基で
ある）（ただし、ＸＩおよ、びｘ２はそれぞれニトロ基
および／またはハロゲン原子であり、１１１およ（ただ
し、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミノ基ま
たは置換アミン基である）（ただし、 Ｘはハロゲン原子であり、 ｎは０ （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である）（ただし、 又はハロゲン原子である） マｉｉ）インドリジン系色素： （式中、Ｒ１及びＲ４は、それぞれ独立に、置換基を有
していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、芳香環に置換基を有していてもよいアラル
キル基、アルコキシｘ、 芳香環に置換基を有していて
もよいアリールオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基
、芳香環に置換基を有していてもよいアリールカルボニ
ルアミノ基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基又はハロゲン原子を表わし、Ｒ１１及びＲ４１は、
それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい
アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳
香環に置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコ
キシ基、芳香環に置換基を有していてもよいアリールオ
キシ基、フルキルカルボニルアミノ基、芳香環に置換基
を有していてもよいアリールカルボニルアミノ基、シア
ノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン
原子を表わし、Ｒ２，Ｒ３Ｈｓ Ｒｂ及びＲ７は、そ
れぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいア
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香
環に置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキ
シ基又はハロゲン原子を表わし、Ｒ２及びＲ３がアルキ
ル基であるときＲ２とＲ３とは一緒になって環を形成し
てもよく、Ｒ５及びＲ６がアルキル基であるときＲ５と
Ｒ６とは一緒になって環を形成してもよく、Ｘ−はアニ
オンを表わす、） 上記一般式
【２２】で表わされる具体的な色素例は以下
の（１）〜（２７）を挙げることができる。 以下余白 ３ （１０） （１４） （１５） （１１） （１２） （１３） （１７） （１８） （１９） （２０） （２１） （２２） （２６） （２７） （２３） （２４） （２５） 上記インドリジン系色素は１例えば、１１．Ｌ。 Ｎｏｇｂｙ １１”Ｈｅｔｅｒａｃｙｃｌｊｃ ＳｙＳ
ｔｅｍＳｗｉｔｈｌｌＲＩＤＧＥＨｊＥＡＯ）ＩＩＴＲ
ＯＧＥＮ ＡＴＯＭ ＰａｒｔｏｎａＩｎｔｅｒｇｃｉ
ｅｎｃａ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ １９６１．米国特許
路２，４０９．６１２号、同第２，５１１，２２２号、
同第２，５７１，７７５号、同第２，６２２．０１１２
号、同第２，７０６．！３３号、特開昭６２−２２７６
９３号公報、同６４−４９６８５号公報等に開示された
方法を参考にして合成することができる。以下に、前記
例示したインドリジン系色素の合成法を色素（７）およ
び（３）を例にとり説明する。 合成例１：色素（７）の合成 ３．５−ジメチル−２−フェニルピロコリン６ｇをエタ
ノール５０ｍ１に溶解した後、１，３゜３−トリメトキ
シプロペン４ｍｌと濃塩酸４ｍｊＬとを加え、１５分間
にわたり加熱還流した０反応液を氷冷し生じた結晶を濾
取し、メタノールで洗浄して色素（７）の粗結晶を得た
。 合成例２二色素（３）の合成 上記で得られた色素（７）の粗結晶５ｇにメタノール２
５０ｍｊＬを加えて溶解し少量の不溶物を濾別した後、
過塩素酸テトラブチルアンモニウム５ｇを５０ｍＪｌの
メタノールに溶解して添加した。生じた結晶を濾取し、
メタノールで洗浄して４．２ｇの色素（３）を得た。 融点二３００℃以上 これらに中で好ましく適用することができる具体的な色
素としては、イミダゾキノキサリン系色素を含むシアニ
ン系色素、インドリジン系色素、アズレニウム系色素、
スクワリリウム系色素、フタロシアニン系色素、メロシ
アニン系色素、オキソノール系色素およびインドアニリ
ン系色素である。なお、これらの色素は単独でもあるい
は二種以上の混合物として用いてもよい、また、シアニ
ン系色素を用いる場合に、上記金属錯塩系色素またはア
ミニウム系・ジインモニウム系色素をクエンチャ−とし
て−緒に用いてもよい。 色素層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。 上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパツール、インプロパ
ツール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、２，２，３．３−テトラフロ
ロプロパツール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５０容量
％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。 塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤。 可塑剤、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加して
もよい。 結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質：およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフ、イン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子物質を挙げることができる。 塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。 色素層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重量比）の
範囲にある。 上記色素層あるいは金属層等である光吸収性層は単層で
も重層でもよいが、その層厚は一般に１００〜５５００
又の範囲にあり、好ましくは２００〜３０００スの範囲
にある。 このようにして、トラッキングガイドおよびレーザー光
吸収層（または色素層）とを有する光ディスクが製造す
ることができる。勿論、このような記録可能な光ディス
クは、基板に記録信号が残るものであれば、市販品を使
用することもできる。 レーザー光吸収層または色素層に反射層や保護層を設け
る場合は以下の材料を用いて行なわれる。 反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
％Ｙ、−Ｔｉ％Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎ ｂ、Ｔ ａ、Ｃｒ
、Ｍｏ、Ｗ％Ｍｎ％ Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、
Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ％ Ｚｎ、
Ｃｄ、Ａｎ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ％Ｔｅ％ Ｐｂ、
Ｐａ。 Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることができ
る。これらのうちで好ましいものはＡ１Ａｕ％Ｃｒおよ
びＮｉである。これらの物質は単独で用いてもよいし、
あるいは二種以上の組合せでまたは台金として用いても
よい。 反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着。 スパッタリングまたはイオンブレーティングすることに
より基板の上に形成することができる０反射層の層厚は
一般には１００〜３０００盈の範囲にある。 保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、Ｓｉｎ、５ｉＯｚ、Ｓ五３Ｎ４゜ＭｇＦ２．５ｎＯ
ｚ等を挙げることができる。また、有機物質としては、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げ
ることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂である。 上記保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得ら
れたフィルムを接着層を介して飽和炭化水素系溶剤に可
溶な樹脂からなる保護層上にテミネートする４とにより
形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリ
ング、塗布等の方法により設けられてもよい、また、熱
可塑性樹脂。 熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解し
て塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥す
ることによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹
脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して
塗布液を調製したのもこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照
射して硬化させることによっても形成することができる
。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレタン（メタ）アクリレ
ート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（
メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートのオリゴ
マー類、（メタ）アクリル酸エステル等の七ツマー類等
さらに光重合開始剤等の通常のＵＶ硬化性樹脂を使用す
ることができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止
剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応
じて添加してもよい。 上記別の保護層の層厚は一般には０．１〜１１００ＪＬ
の範囲にある、。 また、保護層の代わ−りに樹脂フィルムを用いて、光デ
ィスクを覆うことによって保護してもよい。 本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を反射層が内側となるように向い合すせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。 上記情報記録媒体への記録は１例えば上述した光デイス
ク作成システムを用いて行なねれるが。 光ディスクへのレーザー照射の具体的な条件は、例えば
下記のように行なわれる。 まず、情報記録媒体を定線速度または定角速度で回転さ
せながら、半導体レーザー光などの記録用の光を、基板
側から該プレグルーブのグルーブにレーザー考を照射し
てＣＤフォーマットのＥＦＭ信号などの信号を、該グル
ーブの光吸収性層および基板にピット等の形態変化ある
いは色素層と反射層との界面に空洞等を形成することに
より記録する。一般に、記録光としては７５０〜８５０
ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザービームが
用いられる。一般に１〜１５ｍＷのレーザーパワーで記
録声れる。 記録に際しては、上記トラッキング用プレグルーブを用
いてプッシュプル法などによるトラッキング制御が行な
われる。情報の記録は、プレグルーブのグルーブまたは
グルーブ間のランドに行なわれる。 得られる再生用情報記録媒体がレーザー光吸収層（記録
層）をもたない光ディスク（Ａ）の場合、上記光ディス
クに情報を記録した後、レーザー光吸収層が除去される
。レーザー光吸収層の材料が金属の場合に、除去剤とし
て無機酸または有機酸の酸性溶液あるいはアルカリ水溶
液などが用いられる。無機酸としては、例えば塩酸、硫
酸、硝酸、有機酸としては酢酸などを挙げることができ
る。 また、色素の場合は、色素を溶解しかつ基板を溶解しな
い有機溶剤が好ましく、例えば、メタノール、エタノー
ル、プロパツール、フタノール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコ
ール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテート、ジメチルホルムアミド、２゜２．３．
３−テトラフロロプロパツールなどのフッ素系アルコー
ルを挙げることができる。これらは、単独で、あるいは
組合せて使用される。 上記光吸収性層を除去するため、上記有機溶剤等をスプ
レー法、スピンナー法、デイツプ法、ロールコート法、
ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷
法などの塗布方法を利用して洗浄される。レーザー光吸
収層以外に下塗層や中間層を設けた場合は、これらも溶
解することを考慮して、すなわち混合溶剤を使用したり
、酸洗浄と溶剤・洗浄との二工程行なったりして、洗浄
を行なう必要がある。 レーザー光吸収層またはレーザー光吸収層とその上に設
けられた反射層および保護層を除去した基板表面には情
報が凹部または凸部の形で記録されている。この情報を
再生する際のレーザーの反射率を確保するため反射層を
設ける必要がある。 得られる再生用情報記録媒体が褪色した色素層を有する
光ディスク（（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）など）の場合
、上゛記情報が記録された光ディスクの色素層に光を照
射して、該色素層を褪色させるために使用される光は高
エネルギーのものが良いが、光デイスク自体を損傷させ
ないようにすることが必要である。使用する光として紫
外線、電子線などが挙げられる。紫外線を放射するラン
プとしては、キセノンランプ、蛍光灯、低圧または高圧
水銀灯などを挙げることができる。 このようにして光照射により褪色した色素は、もはや光
により劣化することはないため、得られた再生用光ディ
スクは、耐光性に優れており。 従って耐候性など耐久性に優れた情報記録媒体となる。 本発明の製造方法により得られた情報記録媒体は、市販
のＣＤプレーヤー、レーザーディスクプレーヤーあるい
はＣＤ−ＲＯＭディスクの再生装置等により記録された
信号の再生を行な″うことができる。 情報の再生は、例えば記録媒体を上記と同一の定線速度
または定角速度で回転させながら半導体レーザー光を基
板側から照射してその反射光を検出することにより、３
ビーム法などによるトラッキング制御を行ないながら情
報を再生することができる。 以下に１本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。 ［実施例１］ Ｉ ０ｓ− １，５ｇを、２，２，３．３−テトラフロロプロパツー
ル！００ｇに溶解して塗布液（１１度：１．５重量％）
を調製した。 プレグルーブが設けられた円盤状のポリヵーポネート基
板（外径：１２０ｍｍ、内径；１５ｍ ｍ 、厚さ＝１
．２ｍｍ、トラックピッチ：１．６ｐｍ、グルーブの深
さ：８００ｉ）上に、塗布液をスピンコード法により回
転数１００゜ｒｐｍの速度で３０秒間で塗布した後、乾
燥して層厚が６００盈のレーザー光吸収層を形成した。 得られた情報記録媒体について、光デイスク記録装置（
パルステック工業■製ＤＤＵ１００Ｏ−０１）を用いて
、記録する際のレーザーパワー（記録パワー）を４ｍＷ
、定線速度１．３ｍ／分にてＣＤフォーマットのＥＦＭ
信号を記録した。 上記信号が記録された光ディスクの光吸収性層上に、２
，２，３．３−テトラフロロプロパツールをスピンコー
ド法により回転数１０００ｒｐ層の速度で３０秒間塗布
することにより光吸収性層を除去した。 得られた信号が記録された樹脂基板上にＡｕをスフバタ
リングして層厚１０００１の反射層を形成した。 このようにして、信号が記録された、基板および反射層
からなる再生用情報記録媒体（Ａ）を製造した。 ［実施例２］ 実施例１において、レーザー光吸収層の層厚を１５００
又に１反射層の層厚を１３００１に変え、反射層上にさ
らに層厚２ｐｍの紫外線硬化型樹脂からなる保護層を紫
外線硬化型樹脂（商品名： ３０７０％スリーボンド−
Ｉりをスピンコード法により塗布して紫外線を照射する
ことによって形成し、そして情報の記録をレーザーパワ
ー（記録パワー）を７ｍＷを９ｍＷに変えて行なった以
外は実施例１と同様にして再生用情報記録媒体（Ａ）を
製造した。 得られた光ディスクの記録部分を走査型トンネル顕微鏡
（ＳＴＭ）を用いて、反射層および反射、層を剥離した
樹脂基板の表面の形状を観察したところ、実施例１では
第ｔｎｖ！Ｊに示されるように、樹脂基板の表面に凹部
の形成が確認され、この凹部より信号が記録されている
ことが分かった。 また、実施例２では第２Ｄ図に示されるように、樹脂基
板の表面に凸部の形成が確認され、この凸部より信号が
記録されていることが分かつた。 ［情報記録媒体の評価］ また得られた光ディスクを市販のＣＤプレーヤーで再生
したところ、音とびゃトラッキング外れ等の発生が無く
正常に情報の再生を行なうことができた。 ［実施例３］ 実施例１で用いた色素２．５ｇを、２，２゜３．３−テ
トラフロロプロパツール１００ｇに溶解して塗布液を調
製した。 実施例１で用い基板上に、５ｉ０２スツパタリングして
層厚１０００又の下塗層を形成した。 該下塗層上に上記色素塗布液をスピンコード法により回
転数１０００ ｒｐｙｓの速度−ｔ’３０秒間で塗布し
た後、乾燥して層厚が１５００裏の色素層を形成した。 上記色素上にＡｕをスフバタリングして層厚５００ｘの
反射層を形成した。 得られた情報記録媒体について、光デイスク記録装置（
パルステック工業■製ＤＤＵ１００Ｏ−０１）を用いて
、記録する際のレーザーパワー（記録パワー）を７ｍＷ
、定線速度１．３ｍ／分にてＣＤフォーマットのＥＦＭ
信号を記録した。 上記信号が記録された情報記録媒体の色素層に基板側か
らキセノンランプの光を２４時間照射して該色素を褪色
させた。 このようにして、信号が記録された。基板、褪色した色
素層および反射層からなる再生用情報記録媒体（Ｂ）を
製造した。 ［実施例４］ 実施例３において、上記下塗層を設けなかった以外は実
施例３と同様にして再生用情報記録媒体（Ｃ）を製造し
た。 【実施例５］ 実施例３において、反射層の層厚を１３００λに変え１
反射層上にざらに層厚２ｐｍの紫外線硬化型樹脂からな
る保護層を紫外線硬化型樹脂（商品名： ３０７０、ス
リーボンド−製）をスピコ−ト法により塗布して紫外線
を照射することによって形成し、そして情報の記録をレ
ーザーパワー（記録パワー）を７ｍＷを９ｍＷに変えて
行なった以外は実施例３と同様にして再生用情報記録媒
体ＣＤ）を製造した。 このようにして、信号が記録された、基板、褪色した色
素層、反射層および保護層からなる再生用情報記録媒体
を製造した。 得られた光ディスクの記録部分を走査型トンネル顕微鏡
（ＳＴＭ）を用いて保護層、反射層、褪色した色素層、
下塗層を順次剥離しながら各層の表面の層状を観察した
。 上記観察の結果、実施例３では、反射層の記録部位が膨
出し、かつ色素層が陥没しているこＷａｓゝ確認された
。従って、得られた再生用情報記録媒体は第３Ｃ図に示
されるように反射層と色素層との界面に記録信号として
空洞が形成されていることが分かった。 また、実施例４では、反射層の記録部位が膨出し、色素
層が陥没し、そして基板も陥没しているこ’ｔ ｒＩ傭
認された。従って、得られた再生用情報記録媒体は第４
Ｃ図に示されるように反射層と色素層との界面に形成さ
れた空洞および基板に形成された凹部により情報が記録
されていることが分かった。 さらに実施例５では、基板の表面に凸部が確認されたこ
とから、得られた再生用情報記録媒体は第４Ｃ図に示さ
れるように該凸部により信号の記録が行なわれているこ
とが分かった。 〔情報記録媒体の評価〕 上記実施例３．４および５で得られた光ディスクを市販
のＣＤプレーヤーで再生したところ、音とびゃトラッキ
ソング外れ等の発生が無く正常に情報の再生を行なうこ
とができた。 さらに、実施例３，４および５で得られた光ディスクに
更にキセノンランプの照射を２４時間続けた所、光ディ
スクの反射率が変化しなかった。これにより色素が既に
褪色していることが分かった。
の（１）〜（２７）を挙げることができる。 以下余白 ３ （１０） （１４） （１５） （１１） （１２） （１３） （１７） （１８） （１９） （２０） （２１） （２２） （２６） （２７） （２３） （２４） （２５） 上記インドリジン系色素は１例えば、１１．Ｌ。 Ｎｏｇｂｙ １１”Ｈｅｔｅｒａｃｙｃｌｊｃ ＳｙＳ
ｔｅｍＳｗｉｔｈｌｌＲＩＤＧＥＨｊＥＡＯ）ＩＩＴＲ
ＯＧＥＮ ＡＴＯＭ ＰａｒｔｏｎａＩｎｔｅｒｇｃｉ
ｅｎｃａ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ １９６１．米国特許
路２，４０９．６１２号、同第２，５１１，２２２号、
同第２，５７１，７７５号、同第２，６２２．０１１２
号、同第２，７０６．！３３号、特開昭６２−２２７６
９３号公報、同６４−４９６８５号公報等に開示された
方法を参考にして合成することができる。以下に、前記
例示したインドリジン系色素の合成法を色素（７）およ
び（３）を例にとり説明する。 合成例１：色素（７）の合成 ３．５−ジメチル−２−フェニルピロコリン６ｇをエタ
ノール５０ｍ１に溶解した後、１，３゜３−トリメトキ
シプロペン４ｍｌと濃塩酸４ｍｊＬとを加え、１５分間
にわたり加熱還流した０反応液を氷冷し生じた結晶を濾
取し、メタノールで洗浄して色素（７）の粗結晶を得た
。 合成例２二色素（３）の合成 上記で得られた色素（７）の粗結晶５ｇにメタノール２
５０ｍｊＬを加えて溶解し少量の不溶物を濾別した後、
過塩素酸テトラブチルアンモニウム５ｇを５０ｍＪｌの
メタノールに溶解して添加した。生じた結晶を濾取し、
メタノールで洗浄して４．２ｇの色素（３）を得た。 融点二３００℃以上 これらに中で好ましく適用することができる具体的な色
素としては、イミダゾキノキサリン系色素を含むシアニ
ン系色素、インドリジン系色素、アズレニウム系色素、
スクワリリウム系色素、フタロシアニン系色素、メロシ
アニン系色素、オキソノール系色素およびインドアニリ
ン系色素である。なお、これらの色素は単独でもあるい
は二種以上の混合物として用いてもよい、また、シアニ
ン系色素を用いる場合に、上記金属錯塩系色素またはア
ミニウム系・ジインモニウム系色素をクエンチャ−とし
て−緒に用いてもよい。 色素層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。 上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパツール、インプロパ
ツール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、２，２，３．３−テトラフロ
ロプロパツール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５０容量
％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。 塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤。 可塑剤、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加して
もよい。 結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質：およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフ、イン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子物質を挙げることができる。 塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。 色素層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重量比）の
範囲にある。 上記色素層あるいは金属層等である光吸収性層は単層で
も重層でもよいが、その層厚は一般に１００〜５５００
又の範囲にあり、好ましくは２００〜３０００スの範囲
にある。 このようにして、トラッキングガイドおよびレーザー光
吸収層（または色素層）とを有する光ディスクが製造す
ることができる。勿論、このような記録可能な光ディス
クは、基板に記録信号が残るものであれば、市販品を使
用することもできる。 レーザー光吸収層または色素層に反射層や保護層を設け
る場合は以下の材料を用いて行なわれる。 反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
％Ｙ、−Ｔｉ％Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎ ｂ、Ｔ ａ、Ｃｒ
、Ｍｏ、Ｗ％Ｍｎ％ Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、
Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ％ Ｚｎ、
Ｃｄ、Ａｎ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ％Ｔｅ％ Ｐｂ、
Ｐａ。 Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることができ
る。これらのうちで好ましいものはＡ１Ａｕ％Ｃｒおよ
びＮｉである。これらの物質は単独で用いてもよいし、
あるいは二種以上の組合せでまたは台金として用いても
よい。 反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着。 スパッタリングまたはイオンブレーティングすることに
より基板の上に形成することができる０反射層の層厚は
一般には１００〜３０００盈の範囲にある。 保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、Ｓｉｎ、５ｉＯｚ、Ｓ五３Ｎ４゜ＭｇＦ２．５ｎＯ
ｚ等を挙げることができる。また、有機物質としては、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げ
ることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂である。 上記保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得ら
れたフィルムを接着層を介して飽和炭化水素系溶剤に可
溶な樹脂からなる保護層上にテミネートする４とにより
形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリ
ング、塗布等の方法により設けられてもよい、また、熱
可塑性樹脂。 熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解し
て塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥す
ることによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹
脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して
塗布液を調製したのもこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照
射して硬化させることによっても形成することができる
。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレタン（メタ）アクリレ
ート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（
メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートのオリゴ
マー類、（メタ）アクリル酸エステル等の七ツマー類等
さらに光重合開始剤等の通常のＵＶ硬化性樹脂を使用す
ることができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止
剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応
じて添加してもよい。 上記別の保護層の層厚は一般には０．１〜１１００ＪＬ
の範囲にある、。 また、保護層の代わ−りに樹脂フィルムを用いて、光デ
ィスクを覆うことによって保護してもよい。 本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を反射層が内側となるように向い合すせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。 上記情報記録媒体への記録は１例えば上述した光デイス
ク作成システムを用いて行なねれるが。 光ディスクへのレーザー照射の具体的な条件は、例えば
下記のように行なわれる。 まず、情報記録媒体を定線速度または定角速度で回転さ
せながら、半導体レーザー光などの記録用の光を、基板
側から該プレグルーブのグルーブにレーザー考を照射し
てＣＤフォーマットのＥＦＭ信号などの信号を、該グル
ーブの光吸収性層および基板にピット等の形態変化ある
いは色素層と反射層との界面に空洞等を形成することに
より記録する。一般に、記録光としては７５０〜８５０
ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザービームが
用いられる。一般に１〜１５ｍＷのレーザーパワーで記
録声れる。 記録に際しては、上記トラッキング用プレグルーブを用
いてプッシュプル法などによるトラッキング制御が行な
われる。情報の記録は、プレグルーブのグルーブまたは
グルーブ間のランドに行なわれる。 得られる再生用情報記録媒体がレーザー光吸収層（記録
層）をもたない光ディスク（Ａ）の場合、上記光ディス
クに情報を記録した後、レーザー光吸収層が除去される
。レーザー光吸収層の材料が金属の場合に、除去剤とし
て無機酸または有機酸の酸性溶液あるいはアルカリ水溶
液などが用いられる。無機酸としては、例えば塩酸、硫
酸、硝酸、有機酸としては酢酸などを挙げることができ
る。 また、色素の場合は、色素を溶解しかつ基板を溶解しな
い有機溶剤が好ましく、例えば、メタノール、エタノー
ル、プロパツール、フタノール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコ
ール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテート、ジメチルホルムアミド、２゜２．３．
３−テトラフロロプロパツールなどのフッ素系アルコー
ルを挙げることができる。これらは、単独で、あるいは
組合せて使用される。 上記光吸収性層を除去するため、上記有機溶剤等をスプ
レー法、スピンナー法、デイツプ法、ロールコート法、
ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷
法などの塗布方法を利用して洗浄される。レーザー光吸
収層以外に下塗層や中間層を設けた場合は、これらも溶
解することを考慮して、すなわち混合溶剤を使用したり
、酸洗浄と溶剤・洗浄との二工程行なったりして、洗浄
を行なう必要がある。 レーザー光吸収層またはレーザー光吸収層とその上に設
けられた反射層および保護層を除去した基板表面には情
報が凹部または凸部の形で記録されている。この情報を
再生する際のレーザーの反射率を確保するため反射層を
設ける必要がある。 得られる再生用情報記録媒体が褪色した色素層を有する
光ディスク（（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）など）の場合
、上゛記情報が記録された光ディスクの色素層に光を照
射して、該色素層を褪色させるために使用される光は高
エネルギーのものが良いが、光デイスク自体を損傷させ
ないようにすることが必要である。使用する光として紫
外線、電子線などが挙げられる。紫外線を放射するラン
プとしては、キセノンランプ、蛍光灯、低圧または高圧
水銀灯などを挙げることができる。 このようにして光照射により褪色した色素は、もはや光
により劣化することはないため、得られた再生用光ディ
スクは、耐光性に優れており。 従って耐候性など耐久性に優れた情報記録媒体となる。 本発明の製造方法により得られた情報記録媒体は、市販
のＣＤプレーヤー、レーザーディスクプレーヤーあるい
はＣＤ−ＲＯＭディスクの再生装置等により記録された
信号の再生を行な″うことができる。 情報の再生は、例えば記録媒体を上記と同一の定線速度
または定角速度で回転させながら半導体レーザー光を基
板側から照射してその反射光を検出することにより、３
ビーム法などによるトラッキング制御を行ないながら情
報を再生することができる。 以下に１本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。 ［実施例１］ Ｉ ０ｓ− １，５ｇを、２，２，３．３−テトラフロロプロパツー
ル！００ｇに溶解して塗布液（１１度：１．５重量％）
を調製した。 プレグルーブが設けられた円盤状のポリヵーポネート基
板（外径：１２０ｍｍ、内径；１５ｍ ｍ 、厚さ＝１
．２ｍｍ、トラックピッチ：１．６ｐｍ、グルーブの深
さ：８００ｉ）上に、塗布液をスピンコード法により回
転数１００゜ｒｐｍの速度で３０秒間で塗布した後、乾
燥して層厚が６００盈のレーザー光吸収層を形成した。 得られた情報記録媒体について、光デイスク記録装置（
パルステック工業■製ＤＤＵ１００Ｏ−０１）を用いて
、記録する際のレーザーパワー（記録パワー）を４ｍＷ
、定線速度１．３ｍ／分にてＣＤフォーマットのＥＦＭ
信号を記録した。 上記信号が記録された光ディスクの光吸収性層上に、２
，２，３．３−テトラフロロプロパツールをスピンコー
ド法により回転数１０００ｒｐ層の速度で３０秒間塗布
することにより光吸収性層を除去した。 得られた信号が記録された樹脂基板上にＡｕをスフバタ
リングして層厚１０００１の反射層を形成した。 このようにして、信号が記録された、基板および反射層
からなる再生用情報記録媒体（Ａ）を製造した。 ［実施例２］ 実施例１において、レーザー光吸収層の層厚を１５００
又に１反射層の層厚を１３００１に変え、反射層上にさ
らに層厚２ｐｍの紫外線硬化型樹脂からなる保護層を紫
外線硬化型樹脂（商品名： ３０７０％スリーボンド−
Ｉりをスピンコード法により塗布して紫外線を照射する
ことによって形成し、そして情報の記録をレーザーパワ
ー（記録パワー）を７ｍＷを９ｍＷに変えて行なった以
外は実施例１と同様にして再生用情報記録媒体（Ａ）を
製造した。 得られた光ディスクの記録部分を走査型トンネル顕微鏡
（ＳＴＭ）を用いて、反射層および反射、層を剥離した
樹脂基板の表面の形状を観察したところ、実施例１では
第ｔｎｖ！Ｊに示されるように、樹脂基板の表面に凹部
の形成が確認され、この凹部より信号が記録されている
ことが分かった。 また、実施例２では第２Ｄ図に示されるように、樹脂基
板の表面に凸部の形成が確認され、この凸部より信号が
記録されていることが分かつた。 ［情報記録媒体の評価］ また得られた光ディスクを市販のＣＤプレーヤーで再生
したところ、音とびゃトラッキング外れ等の発生が無く
正常に情報の再生を行なうことができた。 ［実施例３］ 実施例１で用いた色素２．５ｇを、２，２゜３．３−テ
トラフロロプロパツール１００ｇに溶解して塗布液を調
製した。 実施例１で用い基板上に、５ｉ０２スツパタリングして
層厚１０００又の下塗層を形成した。 該下塗層上に上記色素塗布液をスピンコード法により回
転数１０００ ｒｐｙｓの速度−ｔ’３０秒間で塗布し
た後、乾燥して層厚が１５００裏の色素層を形成した。 上記色素上にＡｕをスフバタリングして層厚５００ｘの
反射層を形成した。 得られた情報記録媒体について、光デイスク記録装置（
パルステック工業■製ＤＤＵ１００Ｏ−０１）を用いて
、記録する際のレーザーパワー（記録パワー）を７ｍＷ
、定線速度１．３ｍ／分にてＣＤフォーマットのＥＦＭ
信号を記録した。 上記信号が記録された情報記録媒体の色素層に基板側か
らキセノンランプの光を２４時間照射して該色素を褪色
させた。 このようにして、信号が記録された。基板、褪色した色
素層および反射層からなる再生用情報記録媒体（Ｂ）を
製造した。 ［実施例４］ 実施例３において、上記下塗層を設けなかった以外は実
施例３と同様にして再生用情報記録媒体（Ｃ）を製造し
た。 【実施例５］ 実施例３において、反射層の層厚を１３００λに変え１
反射層上にざらに層厚２ｐｍの紫外線硬化型樹脂からな
る保護層を紫外線硬化型樹脂（商品名： ３０７０、ス
リーボンド−製）をスピコ−ト法により塗布して紫外線
を照射することによって形成し、そして情報の記録をレ
ーザーパワー（記録パワー）を７ｍＷを９ｍＷに変えて
行なった以外は実施例３と同様にして再生用情報記録媒
体ＣＤ）を製造した。 このようにして、信号が記録された、基板、褪色した色
素層、反射層および保護層からなる再生用情報記録媒体
を製造した。 得られた光ディスクの記録部分を走査型トンネル顕微鏡
（ＳＴＭ）を用いて保護層、反射層、褪色した色素層、
下塗層を順次剥離しながら各層の表面の層状を観察した
。 上記観察の結果、実施例３では、反射層の記録部位が膨
出し、かつ色素層が陥没しているこＷａｓゝ確認された
。従って、得られた再生用情報記録媒体は第３Ｃ図に示
されるように反射層と色素層との界面に記録信号として
空洞が形成されていることが分かった。 また、実施例４では、反射層の記録部位が膨出し、色素
層が陥没し、そして基板も陥没しているこ’ｔ ｒＩ傭
認された。従って、得られた再生用情報記録媒体は第４
Ｃ図に示されるように反射層と色素層との界面に形成さ
れた空洞および基板に形成された凹部により情報が記録
されていることが分かった。 さらに実施例５では、基板の表面に凸部が確認されたこ
とから、得られた再生用情報記録媒体は第４Ｃ図に示さ
れるように該凸部により信号の記録が行なわれているこ
とが分かった。 〔情報記録媒体の評価〕 上記実施例３．４および５で得られた光ディスクを市販
のＣＤプレーヤーで再生したところ、音とびゃトラッキ
ソング外れ等の発生が無く正常に情報の再生を行なうこ
とができた。 さらに、実施例３，４および５で得られた光ディスクに
更にキセノンランプの照射を２４時間続けた所、光ディ
スクの反射率が変化しなかった。これにより色素が既に
褪色していることが分かった。
第１Ａ図、第１Ｂ図、第ｔＣ図および第１Ｄ図は１本発
明の再生□月情報記録媒体の製造方法（ＡＩ）の−例を
説明する為の断面図である。 第２Ａ図、第２Ｂ図、第２Ｃ図および第２Ｄ図は、本発
明の再生用情報記録媒体の製造方法（Ａ２）の−例を説
明する為の断面図である。 第１０図および第２Ｄ図は本発明の再生用情報記録媒体
（Ａ）の−例を示す断面図である。 第３Ａ図、第３Ｂ図および第３Ｃ図は本発明の再生用情
報記録媒体の製造方法（Ｂｌ）の−例を説明する為の断
面図である。 第３Ｃ図は本発明の再生用情報記録媒体（Ｂ）の−例を
示す断面図である。 第４Ａｖ！Ｉ、第４Ｂ図および第４Ｃ図は本発明の再生
用情報記録媒体の製造方法（ＣＩ）の−例を説明する為
の断面図である。 第４Ｃ図は本発明の再生用情報記録媒体（Ｃ）の−例を
示す断面図である。 第５Ａ図、第５Ｂ図および第５Ｃ図は本発明の再生用情
報記録媒体の製造方法（ＤＩ）の−例を説明する為の断
面図である。 第５Ｃ図は本発明の再生用情報記録媒体（Ｄ）の−例を
示す断面図である。 １１ 、２１゜ ｉ２，２２． １３、 ２３゜ １４、２４ ： ３４、４４． ２５、３５゜ ｌ ８、２８ ： ２６．５６： １７、４７ｂ ３７、４７ａ ２７、５７ ： ３９、４９゜ ３１．４１．５！二基板 ３２．４２．５２ニゲループ ３３．４３，５３：ランド レーザー光吸収層 ５４：色素層 ４５．５５：反射層 反射層（基板表面に設けられた） 保護層 ：凹部 ：空洞 凸部 ５９：褪色した色素
明の再生□月情報記録媒体の製造方法（ＡＩ）の−例を
説明する為の断面図である。 第２Ａ図、第２Ｂ図、第２Ｃ図および第２Ｄ図は、本発
明の再生用情報記録媒体の製造方法（Ａ２）の−例を説
明する為の断面図である。 第１０図および第２Ｄ図は本発明の再生用情報記録媒体
（Ａ）の−例を示す断面図である。 第３Ａ図、第３Ｂ図および第３Ｃ図は本発明の再生用情
報記録媒体の製造方法（Ｂｌ）の−例を説明する為の断
面図である。 第３Ｃ図は本発明の再生用情報記録媒体（Ｂ）の−例を
示す断面図である。 第４Ａｖ！Ｉ、第４Ｂ図および第４Ｃ図は本発明の再生
用情報記録媒体の製造方法（ＣＩ）の−例を説明する為
の断面図である。 第４Ｃ図は本発明の再生用情報記録媒体（Ｃ）の−例を
示す断面図である。 第５Ａ図、第５Ｂ図および第５Ｃ図は本発明の再生用情
報記録媒体の製造方法（ＤＩ）の−例を説明する為の断
面図である。 第５Ｃ図は本発明の再生用情報記録媒体（Ｄ）の−例を
示す断面図である。 １１ 、２１゜ ｉ２，２２． １３、 ２３゜ １４、２４ ： ３４、４４． ２５、３５゜ ｌ ８、２８ ： ２６．５６： １７、４７ｂ ３７、４７ａ ２７、５７ ： ３９、４９゜ ３１．４１．５！二基板 ３２．４２．５２ニゲループ ３３．４３，５３：ランド レーザー光吸収層 ５４：色素層 ４５．５５：反射層 反射層（基板表面に設けられた） 保護層 ：凹部 ：空洞 凸部 ５９：褪色した色素
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、表面に、レーザーにより検知可能なトラッキング用
のマークおよび／またはグルーブと、レーザーにより再
生が可能な凹部または凸部からなる情報の記録部位とを
有する基板表面に直接反射層が形成されてなる再生用情
報記録媒体。 ２、レーザーにより検知可能なトラッキング用のマーク
および／またはグルーブを表面に有する基板上にレーザ
ー光吸収層が設けられた情報記録媒体の該レーザー光吸
収層にレーザーを照射して該レーザー光吸収層および基
板に凹部を形成させることにより情報を記録する工程 該レーザー光吸収層を除去する工程 該レーザー光吸収層が除去された基板表面に反射層を形
成する工程 からなる再生用情報記録媒体の製造方法。 ３、レーザーにより検知可能なトラッキング用のマーク
および／またはグルーブを表面に有する基板上に色素か
らなるレーザー光吸収層および反射層がこの順で形成さ
れた情報記録媒体の該レーザー光吸収層にレーザーを照
射して該基板と該レーザー光吸収層との界面に凸部を形
成させることにより情報を記録する工程 該レーザー光吸収層および反射層を除去する工程 該レーザー光吸収層および反射層が除去された基板表面
に反射層を形成する工程 からなる再生用情報記録媒体の製造方法。 ４、レーザーにより検知可能なトラッキング用のマーク
および／またはグルーブを表面に有する基板の上に設け
られた褪色した色素からなる層上に、反射層が形成され
、 且つ該色素層と該反射層との界面にレーザーにより再生
が可能な空洞からなる情報の記録部位が形成されてなる
再生用情報記録媒体。 ５、上記情報の記録部位が、該基板の実質的な変化を伴
なわずに該色素層と該反射層との界面に形成された空洞
からなることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の
再生用情報記録媒体。 ６、上記情報の記録部位が、該色素層と該反射層との界
面に形成された空洞および該空洞の生成に伴ない該基板
表面に形成された凹部とからなることを特徴とする特許
請求の範囲第４項記載の再生用情報記録媒体。 ７、レーザーにより検知可能なトラッキング用のマーク
および／またはグルーブを表面に有する基板上に、レー
ザーにより情報の記録が可能な色素からなる層および反
射層がこの順で形成された情報記録媒体の、 該色素層にレーザーを照射して、該色素層と該反射層と
の界面に空洞を形成することにより情報を記録した後、 該色素層に光を照射して該色素を褪色させることからな
る再生用情報記録媒体の製造方法。 ８、上記情報の記録が、該基板の実質的な変化を伴なわ
ずに該色素層と該反射層との界面に空洞を形成すること
により行なわれることを特徴とする特許請求の範囲第７
項記載の再生用情報記録媒体の製造方法。 ９、上記情報の記録が、該基板表面に凹部および該色素
層と該反射層との界面に空洞とを形成することにより行
なわれることを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の
再生用情報記録媒体の製造方法。 １０、レーザーにより検知可能なトラッキング用のマー
クおよび／またはグルーブを表面に有する基板上に、褪
色した色素からなる層および反射層がこの順で形成され
、 且つ該基板表面に凸部からなるレーザーにより再生が可
能な情報の記録部位が形成されてなる再生用情報記録媒
体。 １１、表面にレーザーにより検知可能なトラッキング用
のマークおよび／またはグルーブを有する基板上に、レ
ーザーにより情報の記録が可能な色素からなる層および
反射層がこの順で形成された情報記録媒体の、 該色素層にレーザーを照射して、該基板表面に凸部を形
成することにより情報を記録した後、該色素層に光を照
射して該色素を褪色させることからなる再生用情報記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1260716A JPH03120635A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | 再生用情報記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1260716A JPH03120635A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | 再生用情報記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03120635A true JPH03120635A (ja) | 1991-05-22 |
Family
ID=17351766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1260716A Pending JPH03120635A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | 再生用情報記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03120635A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6083667A (en) * | 1994-10-21 | 2000-07-04 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Optical recording medium |
| EP1073047A1 (en) * | 1999-07-28 | 2001-01-31 | TDK Corporation | Fluorinated alcohol for manufacturing optical recording medium and optical recording medium produced by using the same |
| JP2008287761A (ja) * | 2007-05-15 | 2008-11-27 | Pulstec Industrial Co Ltd | 記録型光ディスクの記録層に記録されたデータの再生方法 |
| US9199670B2 (en) | 2012-04-10 | 2015-12-01 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Vehicle body |
-
1989
- 1989-10-04 JP JP1260716A patent/JPH03120635A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6083667A (en) * | 1994-10-21 | 2000-07-04 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Optical recording medium |
| EP1073047A1 (en) * | 1999-07-28 | 2001-01-31 | TDK Corporation | Fluorinated alcohol for manufacturing optical recording medium and optical recording medium produced by using the same |
| US6485888B1 (en) | 1999-07-28 | 2002-11-26 | Tdk Corporation | Fluorinated alcohol for manufacturing optical recording medium and optical recording medium using the same |
| JP2008287761A (ja) * | 2007-05-15 | 2008-11-27 | Pulstec Industrial Co Ltd | 記録型光ディスクの記録層に記録されたデータの再生方法 |
| US9199670B2 (en) | 2012-04-10 | 2015-12-01 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Vehicle body |
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