JPH043345A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野１ 本発明は、レーザーにより情報の記録か可能な光情報記
録媒体に関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルキー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体（光情報記録媒体）が開発され
、実用化されている。この情報記録媒体は光ディスクと
称され、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さ
らには大容量静止画像ファイルおよび大容量コンピュー
タ用ディスク・メモリーとして使用されうるものである
。

ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク（コンパクト
・ディスク（ＣＤ））などは再生専用の光ディスクとし
て既に実用化されており、情報の書き込み可能なり　Ｒ
Ａ　Ｗ　（Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅａｄ　Ａｆｔｅｒｌ１ｒ
ｉｔｅ　）型光ディスク、あるいは情報の書き換えが可
能な消去可能型光ディスクについても開発が進んでおり
、一部実用化されている。

上記ＤＲＡＷ型の情報記録媒体は、基本構造として、プ
ラスチック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と、こ
の上に設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属また
は半金属からなる記録層とを有する。光ディスクへの情
報の書き込みは、たとえばレーザービームを光ディスク
に照射することにより行なわれ、記録層の照射部分がそ
の光を吸収して局所的に温度上昇する結果、ピット形成
等の物理的変化あるいは相変化等の化学的変化を生じて
その光学的特性を変えることにより情報か記録される。

光ディスクからの情報の読み取りもまた、レーザービー
ムを光ディスクに照射することなどにより行なわれ、記
録層の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を
検出することにより情報が再生される。そして、上記光
ディスクへの情報の書き込みおよび読み取りのためのレ
ーサービームの照射は、通常ディスク表面の所定の位置
に行われる。このためレーザービームを案内して照射予
定位置に正確にたどる（〜般にトラッキングと呼ばれる
）ようにするため、例えば逆台形型のプレグルーブ（ト
ラッキングカイト）がディスク表面に設けられる。さら
に、データーの記録に必要なアドレス情報などのプレフ
ォーマット情報が、ディスクの通常内周側にプレピット
として形成されているのが一般的である。

このように、ＤＲＡＷ型の情報記録媒体は、上記プレグ
ルーブ、および所望によりプレピット、が形成された基
板上に記録層等が設けられた基本構成を有する。

このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、記録層を塗布法により簡単に
形成することができるという製造上の大きな利点を有し
ている。しかしながら、一般に光ディスクの記録材料中
で高感度であるとして有用とされているものは、金属類
でも色素類でもその反射率は３０ないし４０％である。

従って、色素からなる記録層も、一般に反射率が低いと
の欠点がある。

上記通常のＤＲＡＷ型の情報記録媒体（光ディスク）は
、一般に速い線速度で記録が行なわれるが、特に高い反
射率は要求されない。一方、コンパクト・ディスク（Ｃ
Ｄ）に採用されているＣＤフォーマット信号を用いて遅
い線速度で記録を行なうＣＤ−ＤＲＡＷでは、高い反射
率が要求される。すなわち、高い反射率を有することに
よって、情報が記録されたＣ　Ｄ　−Ｄ　ＲＡＷを、市
販のＣＤプレーヤーにより再生できるという大きな優位
性か得られる。市販のＣＤプレーヤーは、情報として音
楽か記録されたＣＤの再生用プレーヤーとして広く用い
られている。

反射率を向上させる方法として、色素材料に特定の色素
であるイミタゾキノキサリン系色素を用いて色素記録層
を形成することにより高い反射率が得られることが特開
平１−２４２２８７号公報に開示されている。しかしな
がら、レーザーにより該記録層に記録した該記録信号の
再生特性については充分に優れているとはいえない。ま
た、経時的に再生時のリードエラーが発生する場合があ
るとの問題がある。

また、反射率を向上させるために色素記録層上に金属反
射層を設けた情報記録媒体では、該色素記録層がレーザ
ー光を吸収し、それにより色素か融解するのに伴なって
プラスチック製の基板か加熱され、該基板は色素記録層
側に肉盛り変形しピットか形成されることが知られてい
る（日経エレクトロニクス、１９８９年　１月２３日発
行、１０７頁参照）。

また、ヨーロッパ特許公開公報のＥＰＯ３５３３９３Ａ
２およびＥＰＯ３５３３９４Ａ２には、さらに反射率を
向上させるために色素記録層と金属反射層との間にエン
ハンス層を設けることが開示されている。エンハンス層
の材料としては、５ｉＯ１Ｓｉｎ２ｒＳｉ３Ｎ４および
Ａｊ２Ｎなどの無機物が記載されている。

しかしながら、前者の反射率を高めるために色素記録層
上に反射層を設けた場合、および後者の色素記録層上に
、エンハンス層および反射層を設けた場合のどちらも色
素記録層は塗布により簡易に形成することができるが、
反射層およびエンハンス層はスパッタリングなどの蒸着
法で形成する必要があり、設備的にも高価なものとなり
、層を形成するためにも長時間を要するなど、製造上の
不利が大きい。

またＣＤ−ＤＲＡＷでは、データーの記録に必要なアド
レス情報などのプレフォーマット情報が、通常基板の成
形時に基板の内周側にプレピットとして記録されている
。しがしながら、上記のように色素記録層上に金属反射
層を設けた場合は、プレピット信号が極めて小さなもの
となり再生か困難となるため、プレピット＠域には色素
記録層を設けられないとの問題があり、このような光デ
ィスクの製造を煩雑なものにしている。

［発明の目的］ 本発明は、塗布による簡易な製造方法により得られ且つ
高い反射率を示す新規な光情報記録媒体を提供すること
を目的とする。

また、本発明は、１１００ｎ以上の広い波長領域に亙っ
て６０％以上の高い反射率を示す新規な光情報記録媒体
を提供することを目的とする。

また、プレピット領域も記録領域も同じ層構成の記録層
が形成された光情報記録媒体であって、プレピット部の
信号を精確に読み取ることが可能な記録媒体を提供する
ことを目的とする。

さらに、本発明は、長いピットの信号をはとんと歪を発
生させずに記録することか可能な光情報記録媒体を提供
することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、基板上に、第一記録層が設けられ、さらに該
第一記録層上に、第二記録層および第記録層がこの順で
積層された二層構造の積層体の繰り返し単位が少なく一
単位設けられており、そして 基板上に、第一記録層、第二記録層および第三記録層が
この順で設けられており、そして第一記録層が、有機物
からなり且つ下記の条件（１）および（２）： ｎ１ｒ≧１．ａ　　　　　　　（１） ｋ１ｒ≦０．５　　　　　　　（２） を満足する層であり、 第二記録層が、有機物からなり且つ下記の条件（３）お
よび（４）： ｎ２ｒ＜　１　、　８　　　　　　　　　（３）ｋ２ｒ
≦ｏ、ｓ　　　　　　　（４） を満足する層であり、 第三記録層か、有機物からなり且つ下記の条件（５）お
よび（６）： ｎ３ｒ≧１．８（５） ｋ３ｒ≦０．５　　　　　　　（６） または（７）： に３ｒ≧１（７） ［但し、”　Ｉ　ｒ、ｎ　２　ｒおよびｎ３ｒは、それ
ぞれ第一記録層、第二記録層および第三記録層の再生用
のレーザー波長における複素屈折率の実数部分を表わし
、ｋ　＋　ｒ、ｋ　２　ｒおよびに３ｒは、そわぞれ第
一記録層、第二記録層および第三記録層の再生用のレー
ザー波長における複素屈折率の虚数部分を表わす。］ を満足する層であることを特徴とする光情報記録媒体に
ある。

上記本発明の光情報記録媒体の好ましい態様は以下の通
りである。

１）上記条件（７）を満足する第三記録層か、さらに下
記の条件　（８）： ｎ　３１１１＋　ｋ　ｓｍ＜　５　、　２６　　　　　
（８）［但し、ｎ３．、およびに３ａｓは、それぞれ第
三記録層の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分
および虚数部分を表わす。］ を満足する層である上記光情報記録媒体。

２）上記条件（７）を満足する第三記録層が、さらに下
記の条件　（８）および　（９）：ｎ　３．、＋　ｋ　
３．＜　５　、　２６　　　　　（８）１≦ｎ３ｒ≦４
（９） ［但し、ｎ３＋ｍおよびに３゜は、それぞれ第三記録層
の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分および虚
数部分を表わし、ｎ３ｒは、第三記録層の再生用のレー
ザー波長における複素屈折率の実数部分を表わす。］ を満足する層である上記光情報記録媒体。

３）上記条件（７）を満足する第三記録層が、さらに下
記の条件　（１０）　　： ｎ　３ａ十ｋ　３ｍ≧５．２６　　　（１０）［但し、
ｎ３ｍおよびに３Ｊ、上記定義と同じ意味を表わす。］ を満足する層である上記光情報記録媒体。

４）上記条件（７）を満足する第三記録層が、さらに下
記の条件　（１０１、（目）および　（１２）　　：ｎ
　３ｒｍ”　ｋ　３＋ｍ≧５．２６　　　（１０）ｋ３
ｅｓ≧１．０　　　　　　　（１１）ｎ３ｒ≦に３．　
　　　　　　　（１２）［但し、ｎ３ｍおよびに３ｍは
、上記定義と同じ意味を表わす。］ を満足する層である上記光情報記録媒体。

５）上記基板の表面に、プレグルーブおよびプレピット
が設けられている上記光情報記録媒体。

６）第一記録層および第三記録層の層厚が、５〜１１０
０ｎの範囲にある上記光情報記録媒体７）上記条件（７
）、　（１０）　　　（１１）および（１２）を満足す
る第三記録層の層厚が、５〜４０ｎｍの範囲にある上記
光情報記録媒体 ８）上記基板のプレグルーブのない表面に、プレピット
が設けられていることを特徴とする上記光情報記録媒体 ９）第一記録層の複素屈折率の実数部分（屈折率）　ｎ
１ｒと第二記録層の複素屈折率の実数部分ｎ２ｒ、どの
差が０．５以上である上記光情報記録媒体。

１０）第二記録層の複素屈折率の実数部分ｎ２ｒと上記
条件（５）および（６）を満足する第三記録層の複素屈
折率の実数部分ｎ３ｒとの屈折率の差が、０．５以上あ
ることを特徴とする上記光情報記録媒体。

１１）第一記録層、第二記録層および第三記録層の少な
くとも一層の消衰係数である複素屈折率の虚数部分（ｋ
＋ｒ、　ｋ２ｒまたはに３ｒ）が０．０１以上あること
を特徴とする上記光情報記録媒体。

１２）第一記録層および第三記録層の有機物が、いずわ
も色素であることを特徴とする上記光情報記録媒体。

１３）第二記録層の有機物が、高分子化合物または色素
であることを特徴とする上記光情報記録媒体。

１４）第二記録層の複素屈折率の虚数部分（ｋ　２ｒ）
が０〜０．３の範囲にあることを特徴とする上記光情報
記録媒体。

＋５）第一記録層の有機物か、イントリシン系色素、イ
ミタソキノキサリン系色素、チアゾール系色素、インド
レニン系色素、メロシアニン系色素およびフタロシアニ
ン系色素から選ばわる少なくとも一種であることを特徴
とする上記光情報記録媒体。

１６）第三記録層の有機物か、イントリシン系色素、イ
ミタゾキノキサリン系色素、チアソール系色素、インド
レニン系色素、メロシアニン系色素およびフタロシアニ
ン系色素から選ばれる少なくとも一種であることを特徴
とする上記光情報記録媒体。

１７）第二記録層の有機物が、高分子化合物であること
を特徴とする上記光情報記録媒体。

】８）上記光情報記録媒体の反射率か、５０％以上であ
ることを特徴とする上記光情報記録媒体。

１９）上記光情報記録媒体の反射率が、６０％以上であ
ることを特徴とする上記光情報記録媒体。

２０）上記プレグルーブの形状が、０．２〜１．０μｍ
の範囲にある半値幅および４００〜４０００λの範囲に
ある深さを有することを特徴とする上記光情報記録媒体
。

２１）第三記録層の上に、保護層が形成されていること
を特徴とする上記光情報記録媒体。

［発明の効果］ 本発明は、塗布により容易に形成することができる特定
の屈折率と消衰係数（複素屈折率の実数部分と虚数部分
）を有する記録層三層を基板上に有する光情報記録媒体
である。このような構成を採ることによって、簡易な製
造方法により得られることができるという大きな利点を
有しながら且つ高い反射率を有する光情報記録媒体を得
ることができる。

特に、第三記録層の消衰係数が大きい場合には、広い波
長領域に亙って６０％以上の高い反射率を示す光情報記
録媒体を得ることができる。

また、本発明の光情報記録媒体は、従来の金属反射層を
有する光ディスクに比べて、長いビットの信号を歪が極
めて小さい状態で記録することがてきる。さらに、プレ
ピット付きの金属反射層を有する光ディスクでは、プレ
ピット領域も記録領域も同じ層構成にした場合にプレピ
ット信号が再生できないとの問題があったが、本発明の
光情報記録媒体では、プレピット領域に記録領域と同し
三層構成の記録層を設けてもプレピットの信号を精確に
読み取ることができる。従って、プレピット領域と記録
領域とに同時釘記録層の形成が出来るため、プレピット
を有する光ディスクを簡易に製造することができる。

［発明の詳細な記述コ 本発明者等は、記録層等の層構成が基板上に塗布のみで
形成できる層構成であって、且つ高い反射率を示す光情
報記録媒体を得るため鋭意研究を重ね、本発明に到達し
たものである。

本発明は、基板上に色素などの有機物からなる記録層が
三層積層された基本構成を有し、三層がそれぞれ異なっ
た屈折率と消衰係数（複素屈折率の実数部分と虚数部分
）とを有する（但し、第一と第三は同してもよい）。

本発明の情報記録媒体の構成の例を、添付の第１図を参
照しながら説明する。

第１図は、基板１１上に、有機物からなる第記録層１２
、有機物からなる第二記録層１３および有機物からなる
第三記録層１４かこの順で設けられた基本構成を有する
光ディスクの断面図である。

基板１１は、表面にプレクループまたはプレグルーブと
プレピットが設けられたもので、通常プラスチック材料
からなるものが好ましい。基板の屈折率は一般に１．６
前後で、光の透過の程度を表わす消衰係数は０に近い。

第一記録層１２は、有機物（好ましくは色素）からなり
且つ下記の条件（１）および（２）：Ｄ１ｒ≧１．８　
　　　　　　（１） ｋ１ｒ≦０．５　　　　　　　（２） ［但し、ｎ１ｒは、第一記録層の再生用のレーザー波長
における複素屈折率の実数部分を表わし、ｋ１ｒは、第
一記録層の再生用のレーザー波長における複素屈折率の
虚数部分を表わす。コを満足する複素屈折率の実数部分
（屈折率）と虚数部分（消衰係数）の値を有する。

上記範囲は、一般に１２ｒ０≧”Ｉｒ≧１．８および０
≦ｋ１ｒ≦０．５、好ましくは１１．０≧ｎ１ｒ≧２ｒ
０および０≦ｋ１ｒ≦０．３、特に好ましくは１０．０
≧ｎ１ｒ≧２ｒ２および０≦ｋ１ｒ≦０６２である。

この第一記録層は、記録層として一般に使用される色素
などを用いることができる。すなわち、色素等を溶剤に
溶解した塗布液をスピンコード法等により塗布すること
により形成することができる。第一記録層は高い屈折率
（ｎ、、）と低い消衰係数（ｋＩｒ）を有している。従
って、基板と第記録層と屈折率の差は大きく、基板と第
一記録層との界面での反射率は一般に３０〜７０％程度
得られる。消衰係数（ｋｌ、、）は低く反射した光以外
の殆どの光は透過する。

また、第一記録層が、さらに下記の条件　（１３）：ｎ
　Ｉｓ”　ｋ　Ｉｍ≧５．２６　　　　（１３）［但し
、ｎ１ｍおよびに１．、は、それぞれ第一記録層の極大
吸収波長における複素屈折率の実数部分および虚数部分
を表わす。］ を満足する場合、特に高い反射率が得られ易い 第二記録層は、有機物（好ましくは高分子化合物）から
なり且つ下記の条件（３）および（４）：ｎ２ｒ＜　１
　、８　　　　　　　（３）ｋ２ｒ≦０．５　　　　　
　　（４） ［但し、ｎ２ｒは、第二記録層の再生用のレーザー波長
における複素屈折率の実数部分を表わし、ｋ２ｒは、第
二記録層の再生用のレーザー波長における複素屈折率の
虚数部分を表わす。］を満足する複素屈折率の実数部分
（屈折率）と虚数部分（消衰係数）の値を有する。

上記範囲は、一般に１．０≦ｎ２ｒ＜１．８および０≦
に２ｒ≦０．５、好ましくは１，０≦０２ｒ、≦１．７
および０≦に２ｒ≦０．３、特に好ましくは１．０≦ｎ
２ｒ≦１．６および０≦に２ｒ≦０．１ある。

この第二記録層は、一般に屈折率の低い高分子化合物あ
るいは色素などを用いることができ、これらを溶剤に溶
解した塗布液をスピンコード法等により塗布することに
より形成することができる。第二記録層は、屈折率（ｎ
２ｒ）は低く、第記録層との屈折率の差により第一記録
層と第二記録層との界面で光は少し反射する。この屈折
率の差は、０．５以上が好ましく、特に好ましくは１．
０以上である。このように差を大きくとることにより、
反射光以外の記録再生時に検出することができない散乱
光の量を小さくすることかできる。第二記録層の消衰係
数（ｋ２ｒ）は低いのて反射しなかった光の殆どは透過
する。この第二記録層は、いわゆるエンハンス層に当た
るもので、第一記録層と第三記録層に介在させることに
より反射率を向上させることができる。

第三記録層は、有機物（好ましくは色素）からなり且つ
下記の条件（５）および（６）、または（７）を満足す
る複素屈折率の実数部分（屈折率）と虚数部分（消衰係
数）の値を有する層である。

下記の条件（５）および（６）： ｎ３ｒ≧１．８　　　　　　　（５） ｋ３ｒ≦０．５　　　　　　　（６） ［但し、ｎ３ｒは、第三記録層の再生用のレーザー波長
における複素屈折率の実数部分を表わし、ｋ３．、は、
第三記録層の再生用のレーザー波長における複素屈折率
の虚数部分を表わす。］を満足する層は、複素屈折率の
実数部分と虚数部分が１２ｒ０≧ｎ３ｒ≧１．８および
０≦に３ｒ≦０．５が一般的であり、１１，０≧ｎ３．
、≧２ｒ０および０≦に３ｒ≦０．３が好ましく、特に
１０゜０≧ｎ３ｒ≧２ｒ２および０≦に３ｒ≦０．２が
好ましい。上記範囲は第一記録層の範囲と同じである。

また下記の条件（７）： に３ｒ≧１（７） を満足する第三記録層は、さらに下記の条件　（９）ま
たは　（１１）　　： ｎ　３＋ｍ＋　ｋ　３ｍ＜　５　、　２６　　　　　（
８）ｎ　３．＋　ｋ　３．≧５．２６　　　　（１０）
［但し、ｎ３ｍおよびに３＋ａは、それぞれ第三記録層
の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分および虚
数部分を表わす。］ 上記条件　（８）を満たすことは、高反射率を維持しな
がら、特に記録再生特性を重視した場合に効果的てあり
、上記条件　（ｌＯ）を満たすことは、優れた記録再生
特性を維持しなから、特に広い波長範囲て高い反射率を
得たい場合に効果的であると言える。

また上記条件　（８）を満足する第三記録層が、さらに
下記の条件　（９）： １≦ｎ３ｒ≦４（９） ［但し、ｎ３ｒおよびｋ　３　ｒは、それぞれ第三記録
層の再生用のレーザー波長における複素屈折率の実数部
分および虚数部分を表わす。］を満足する層であること
が好ましい。

さらに上記条件（８）を満足する第三記録層は、一般に
４．０≧ｎ３ｒ≧１．０および１．０≦に３ｒ≦１０で
あり、３５≧ｎ３ｒ≧１．０および１２≦に３ｒ≦８．
０か好ましく、特に３．０≧ｎ３．。

≧１．０および１．５≦に３ｒ≦５，０が好ましい。

上記条件（１０）を満足する第三記録層は、さらに下記
の条件　（１１）および　（１２）　　：に３＋ｍ≧ｔ
、ｏ　　　　　　　（ＩＩ）ｎ３ｒ≦に３．　　　　　
　　　（１２）［但し、ｎ３ｒ、ｋ３ｒおよびに３゜は
、上記定義と同じ意味を表わす。］ を満足する層であることが好ましい。

上記条件（１１）および（１２）を満足する第三記録層
を設けた場合、広い波長領域に亙って顕著に高い反射率
が得ることができる。

さらに上記条件　（１０）を満足する第三記録層は、一
般に１０≧ｎ３ｒ≧０．５および１．０≦に３ｒ≦１０
であり、７≧ｎ３ｒ≧１および２≦に３ｒ≦６が好まし
く、特に４≧ｎ３ｒ≧１．５および３≦に３ｒ≦５が好
ましい。

この第三記録層は、好ましくは色素から成る層であって
、条件（５）および（６）を満足する層でも、条件（７
）を満足する層でも、どちらでも良い。

第三記録層の形成も前記と同様、色素等を溶剤に溶解し
た塗布液をスピンコード法等により塗布することにより
形成することができる。

上記第三記録層は、第二記録層と比較して屈折率か高く
、第二記録層と第三記録層との界面では、基板と第一記
録層との界面での反射光量と同等以上の大きな反射光量
が得られる。こｔは、第記録層の屈折率は、基板の屈折
率より小さく設定されているためである。第二と第三記
録層の屈折率の差は第一と第二記録層の差と同様、０．
５以上が好ましく、特に好ましくは１．０以上である。

消衰係数（ｋ３ｒ）は低いが、上言己のように反射率が
高く、透過する光量は小さい。

上記条件（７）を満足する第三記録層は、屈折率（ｎ　
３．）は高くなくても良いが、消衰係数（ｋ３．、）が
高いことが必要である。すなわち、消衰係数が高いので
、第二記録層からのレーザー光はほとんど第三記録層を
透過せず、大部分の光は、反射され、高い反射率を示す
。

また、上記条件（１０）　（好ましくは上記条件（１１
）および（１２）も満足する）を満足する第三記録層は
、上記条件（７）を満足する第三記録層の中でも特に高
い反射率を示す。それは、前者の層の消衰係数か後者に
比へて相対的に広い波長領域で大きな値を示すためであ
る。

このように、上記第一記録層、第二記録層および第三記
録層は全て塗布により形成することができる光情報記録
媒体であるにもかかわらず、従来色素記録層上に金属反
射層やエンハンス層をスパッタリング等により設けた場
合にのみ得られる高い反射率を獲得している。すなわち
、高い屈折率と低い消衰係数を有する第一記録層（通常
の色素記録層に当たる）、低い屈折率と極く低い消衰係
数を有する第二記録層（通常のエンハンス層に当たる）
そして第一記録層と同じ高い屈折率と低い消衰係数を有
するか、あるいは通常の金属などのように高い消衰係数
を有する第三記録層（通常の構成では反射層に当たる）
からなる構成を採ることによって、高い反射率を有する
光情報記録媒体を得ることかできる。上記前られる反射
率は、般に５０％以上であり、６０％以上が好ましく、
特に７０％以上が好ましい。そして屈折率と消衰係数を
上記範囲内にすることによって、記録再生特性も損なう
ことはない。

また、本発明の光情報記録媒体は、色素記録層上に金属
反射層を有する光ディスクに比較して、長いビットの信
号を歪が極めて小さい状態で記録することができる。さ
らに、プレピット付きの金属反射層を有する光ディスク
では、プレピット領域も記録領域も同じ層構成にした場
合にプレピット信号が再生できないとの問題があった。

これについても、プレピット領域を有する基板にプレピ
ット領域も記録領域も同じ三層構成の記録層を設けても
プレピットの信号を精確に読み取ることができる。従っ
て、プレピット領域と記録領域とに同時に記録層の形成
が出来るため、プレピットを有する光ディスクを簡易に
製造することができる。

また、第三記録層を設けた後、第三記録層の上にさらに
第二と第三記録層を設けてもよく、製造工程上許されれ
ば第二と第三記録層との積層を一単位として複数回（好
ましくは２〜５回）８１層を行なってもよい。このよう
にすることにより、さらに高い反射率を得ることができ
る。

本発明の光情報記録方法に用いられる情報記録媒体の製
造は、たとえば以下に述べるような材料を用いて行なう
ことができる。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板材料の例としては、ガラス、ポリ
メチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂：エボキ
シ樹脂；ポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレ
フィンおよびポリエステルを挙げることができる。好ま
しくは、基板の光学的特性、平面性、加工性、取扱い性
、経時安定性および製造コストなどの点から、ポリカー
ボネート、アモルファスポリオレフィンおよびポリメチ
ルメタクリレートを挙げることかできる。

また、基板上には、トラッキング用溝またはアドレス信
号等の情報を表わす凹凸の形成の目的て、プレクループ
またはプレグルーブとプレピットか設けられる。プレピ
ットはプレグルーブのない内周側に形成されるのが一般
的である。基板材料がプラスチックの場合は、射出成形
あるいは押出成形などにより直接基板にプレグルーブお
よびプレピットが設けられことが好ましい。

上記プレグルーブおよびプレピットは、プレグルーブ層
等を形成することにより設けてもよい。

その材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種の千ツマ−（またはオリゴマー）と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。プレグルーブ層
の形成は、まず鯖密に作られた母型（スタンパ−）上に
上記のアクリル酸エステルおよび重合開始剤からなる混
合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に基板を載せたの
ち、基板または母型を介して紫外線の照射により液層を
硬化させて基板と液相とを固着させる。次いて、基板を
母型から剥離することによりプレグルーブ層の設けられ
た基板が得られる。ブレクループ層の層厚は一般に０．
０５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは０．１〜５
０μｍの範囲である。

上記ブレクループの形状は、半値幅が一般に０．２〜１
．０μｍの範囲で、好ましくは０．３〜０．８μｍの範
囲、特に好ましくは０．４〜０．７μｍの範囲であり、
そして深さか一般に４００〜４０００Ｘの範囲、好まし
くは６００〜３０００Ｘの範囲、そして特に好ましくは
６００〜２０００λの範囲である。

以下余白 基板上には、第一記録層か設けられる。

第一記録層の材料の有機物としては、下記の条件（１）
および（２）： ｎ１ｒ≧ｔ、ｓ　　　　　　　（１） ｋ１ｒ≦０．５　　　　　　　（２） ［但し、ｎ１ｒは、第一記録層の再生用のレーザー波長
にあける複素屈折率の実数部分（屈折率）を表わし、ｋ
ｌ、、は、第一記録層の再生用のレーザー波長における
複素屈折率の虚数部分（消衰係数）を表わす。］ を満足する屈折率と消衰係数の値を有するものであれば
何でもよい。一般に吸収極大の波長が、レーザーの記録
または再生波長より５０〜２００ｎｍ程度短波長側にあ
る色素の中から選択される。好ましくは、シアニン系色
素、メロシアニン系色素、フタロシアニン系色素および
ナフタロシアニン系色素である。

第一記録層上には第二記録層が設けられる。

第二記録層の材料の有機物としては下記の条件（３）お
よび（４）： ｎ　２ｒ＜　１　、　８　　　　　　　　　　　（３）
ｋ２ｒ≦０．５　　　　　　　　　　　（４）［但し、
ｎ２ｒは、第二記録層の再生用のレーザー波長における
複素屈折率の実数部分（屈折率）を表わし、ｋ２ｒは、
第二記録層の再生用のレーザー波長における複素屈折率
の虚数部分（消衰係数）を表わす。］ を満足する屈折率と消衰係数の値を有するものであわば
何でもよい。

上記条件（３）および（４）を満足する材料とし高分子
化合物を挙げることができる。例えば、フェノール樹脂
、メラミン樹脂、アリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミ
ド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビ
ニル・ポリ酢酸ビニル共重合体、ポリフッ化ビニリデン
、ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、アイ
オノマー樹脂、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリス
チレン、アクリルニトリル・スチレン共重合体、ＡＢＳ
樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリ
酢酸ビニル、ポリカーボネート、ポリアセタール、塩素
化ポリエチレン、塩素化ポリ−チル、ポリアミド、弗素
樹脂、ポリフェニレンオキシド、酢酸セルロース系樹脂
、硝酸セルロース系樹脂、酢酸酪酸セルロース系樹脂、
ポリブタジェン、アクリルニトリル樹脂、ポリエチレン
テレフタレートおよびポリブテンを挙げることかてきる
。

また第二記録層の材料として色素を用いることもできる
。そのような色素としては、一般に吸収極大の波長が、
レーザーの記録または再生波長より２００ｎｍ程度以上
短波長側にある色素、あるいは１１００ｎ程度以上長波
長側にある色素の中から選択できる。好ましくは、シア
ニン系色素、メロシアニン系色素、フタロシアニン系色
素およびナフタロシアニン系色素である。

第二記録層上には第三記録層が設けられる。

第三記録層の材料の有機物としては、下記の条件（５）
および（６）： ｎ３ｒ≧１．８　　　　　　　（５） ｋ３ｒ≦０．５　　　　　　　（６） または（７）： に３ｒ≧１（７） ［但し、ｎ３ｒは、第三記録層の再生用のレーサー波長
における複素屈折率の実数部分（屈折率）を表わし、ｋ
３ｒは、第三記録層の再生用のレーザー波長における複
素屈折率の虚数部分（消衰係数）を表わす。］ を満足する屈折率および消衰係数の値を有するものであ
れば何でもよい。

上記条件（７）を満足する第三記録層が、さらに下記の
条件（８）： ｎ　３１１１　＋　ｋ　３ｍ　＜　５　、　２６　　　
　　（８）［但し、ｎ３ｓｓおよびに３ｍは、そわそれ
第三記録層の極大吸収波長における複素屈折率の実数部
分および虚数部分を表わす。］ を満足することが好ましく、特に下記の条件（９）： １≦ｎ３ｒ≦４（９） ［但し、ｎ３ｍおよびに３．は、それぞれ第三記録層の
最大吸収波長における複素屈折率の実数部分および虚数
部分を表わす。］ を満足することか好ましい。

また、上記条件（７）を満足する第三記録層か、さらに
下記の条件　（１０）　　： ｎ　３．、十ｋ　３ｍ≧５．２６　　　　　　（１０）
を満足することか好ましく、特に下記の条件（１１）お
よび（１２）　　： に３ｍ≧ｔ、ｏ　　　　　　（１１） ｎ３ｒ≦に３、　　　　　　（］２） ［但し、ｎ３ｒ、　３ｒｓｎ３ｖａおよびに３ａ＋は、
上記定に 義と同じ意味を表わす。］ を満足することが好ましい。

上記条件（５）および（６）を満足する有機物は実質的
に第一記録層と同じ材料を用いることかできる。

上記条件（７）を満足する有機物としては、吸収極大の
波長が、レーザーの記録または再生波長の付近にある色
素が好ましい。好ましくは、シアニン系色素、メロシア
ニン系色素、フタロシアニン系色素およびナフタロシア
ニン系色素である。

上記第一記録層、第二記録層および第三記録層の層厚は
、それぞれ５０〜１００００λの範囲が数的で、好まし
くは１００〜１００ＯＯＸの範囲であり、特に好ましく
は４００〜３０００λの範囲である。

上記条件（＋）および（２）を満足する第一記録層が、
同時に下記条件　（１３）　　： ｎ　１ａ＋　ｋ　ｌｅｔ≧５．２６　　　（１３）を満
足する場合、あるいは 上記条件（５）および（６）を満足する第三記録層か、
同時に下記条件　（１０） ｎ　３．、＋　ｋ　３．≧５．２６　　　（１０）を満
足する場合は、共に層厚を５０〜１０００λの範囲にす
ることが好ましく、さらに１００〜８００大の範囲にす
ることが好ましい。

また、上記条件（７）を満足する第三記録層か、さらに
上記の条件（１０）、　（１１）および　（１２）　　
：ｎ　３．、十ｋ　３ｅａ≧５．２６　　　（１１）ｋ
３ａ≧ｔ、ｏ　　　　　　　（１２）ｎ３ｒ≦に３．　
　　　　　　（１３）を同時に満足する場合は、層厚を
４００〜１００００Ｘの範囲にすることが好ましく、さ
らに１０００〜３０００スの範囲にすることが好ましい
。

上記第−記録層、第二記録層および第三記録層に使用さ
れる色素は、下記の中がら上記要件を満たすものを適宜
選択することがてきる。

例えば、イミダゾキノキサリン系色素、インドレニン系
色素などのシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ビ
リリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色
素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなとの金属錯塩
系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、イン
ドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェ
ニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、メロシア
ン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジイン
モニウム系色素およびニトロソ化合物を挙げることがで
きる。

上記色素の具体例として以下のものを挙げることかでき
る。

ｉ）シアニン系色素： ［１］　（ＣＬ）　２Ｎ−（ＯＨ−（：Ｈ）　５−ＣＨ
−”Ｎ　（ＣＨ３）　２　ＣＪ２０４（ただし、 ｎは２または３である） （たたし、Ｒは水素原子またはＮ（ＣＨ３）２である） ［４］　　Φ”　　−Ｌ　−”ｆ　　　（Ｘ−−）Ｉ／
　−（たたし、Φおよび甲はそれぞれ芳香族環か縮合し
ていてもよいインドレニン環残基、チアゾール環残基、
オキサゾール環残基、セレナソール環残基、イミダゾー
ル環残基、ピリジン環残基、チアゾロピリミジン環残基
またはイミタゾキノキサリン環残基であり、Ｌはモノカ
ルボシアニン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニン
またはテトラカルボシアニンを形成するための連結基で
あり、ｘＩ′′−はｍ価の陰イオンであり、ｍは１また
は２であり、さらにｘｌ−はΦ、Ｌまたは宇土に置換し
て分子内塩を形成しても良く、またΦとし、またはＬと
市とはさらに連結して環を形成しても良い） 上記−数式で表わされる具体的な化合物の例としては、
以下の１〜４７を挙げることができる。

Ｙ−１ Ｙ−４ ＩＯ Ｙ−２ ○ Ｙ−５ Ｃ１０゜ Ｙ−３ Ｙ−６ ａｙ−７ ＣＹ−８ ＣＹ−９ ＣＹ−１３ ＣＹ−１４ Ｙ４５ ＣＹ−１０ ＣＹ−１１ ＣＹ−１２ ＣＹ−１６ ＣＹ−１７ ＣＹ−１８ 工 し１ｔＪ４ ＣＹ−１９ ＣＹ−２０ ＣＹ−２５ ＣＹ−２６ ＣＹ−２７ ＣＹ−２８ ＣＹ　−２２ ＣＹ−２３ ＣＹ−２４ 工 ＣＹ−２９ ＣＹ−３０ ＣＹ−３１ ＣＹ−３２ ＣＹ−３７ ＣＹ−３８ ＣＹ−３９ ＣＹ−３３ ＣＹ−３６ ＣＹ−４１ ＣＹ−４３ ｉｉ）スクワリリウム系色素： ＣＹ−４６ ＣＹ・４７ ｉｉｉ）アズレニウム系色！Ｉ！： わてアザアズレン環となフていてもよい。）ｉｖ）イン
ドフェノール系色素： （ただし、Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３Ｒ３とＲ’、Ｒ’と
ＲＳ　、　Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち
少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の複素環
または脂肪族環による環を形成し、該環を形成しないと
きのＲｌ　、　Ｒ２Ｒ３、Ｒ４Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は
それぞわ水素原子、ハロゲン原子またはｍ個の有機残基
であり、あるいはＲ１とＲ２Ｂ　３とＲ４、Ｒ４とＲＳ
　　Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち少なく
とも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香族環を形
成してもよく、Ａは二重結合によって結合した二価の有
機残基であり、Ｚ−はアニオン残基である。なお、アズ
レン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が窒素原子
で置き換えら（たたし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子
、アルキル基、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハ
ロゲン原子であり、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３はそれぞれ水
素原子、ＣＩ〜Ｃ２゜の置換または未置換のアルキル基
、アリール基、複素環またはシクロヘキシル基であり、
Ａは一５Ｏ８ＮＨ−１−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−
であり、この色素分子が金属に配位してし１ても良い） ■）金属錯塩系色素： （ただし、Ｒ１−Ｒ４はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアルキル基または
ハロゲン原子であり、Ｍは二個の遷移金属原子である） （ただし、［Ｃａｔ］は錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃ０１Ｐｄまた
はｐｔであり、ｎは１または２である） （ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基またはアリール基であり、Ｒ３はアルキル
基、ハロゲン原子または（ただし、［Ｃａｔ］は錯塩を
中性ならしめるために必要な陽イオンであり、ＭはＮｉ
、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄまたはｐｔであり、ｎは！または２
である） 換または未置換のアルキル基またはアリール基である）
であり、Ｍは遷移金属原子であり、ｎはθ〜３の整数で
ある） 子またはメチル基であり、ｎは１〜４の整数であり、Ａ
は第四級アンモニウム基である）びＲ２はそれぞれ１〜
３の整数であり、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアミノ基、
モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチル
アミノ基、ヘンシイルアミノ基（置換ベンゾイルアミノ
基を含む）であり、Ｘｌとｘ２、ｎｌとｎ２ＪよびＲ１
とＲ２はそわそわ互いに同じてあフても異なっていても
よく、ＭはＣｒまたはＣｏ原子であり、Ｙは水素、ナト
リウム、カリウム、アンモニウム、脂肪族アンモニウム
（置換脂肪族アンモニウムを含む）または脂環族アンモ
ニウムである）ｖｉ）ナフトキノン系、アントラキノン
系色素：（ただし、ｘｌおよびｘ２はそれ＋′わニトロ
基および／またはハロゲン原子であり、ｎｌおよす （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミン基である）（たたし、Ｒは水素原
子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ
基である）（ただし、Ｘはハロゲン原子てあり、ｎは０
〜１０の整数である） （たたし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である）（ただし、Ｘはハロゲ
ン原子である） ｖｉｉ）インドリジン系色素： （式中、Ｒ１及びＲ４は、それぞれ独立に、置換基を有
していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい
アリール基、芳香環に置換基を有していてもよいアラル
キル基、アルコキシ基、芳香環に置換基を有していても
よいアリールオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基、
芳香環に置換基を有していてもよいアリールカルボニル
アミノ基、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル
基又はハロゲン原子を表わし、Ｒ”及びＲ”は、そゎそ
れ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキ
ル基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に
置換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基
、芳香環に置換基を有していてもよいアリールオキシ基
、アルキルカルボニルアミノ基、芳香環に置換基を有し
ていてもよいアリールカルボニルアミノ基、シアノ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を
表わし、Ｒ２、Ｒ３，Ｒ６、Ｒｅ及びＲ７は、それぞれ
独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアリール基、芳香環に置
換基を有していてもよいアラルキル基、アルコキシ基又
はハロゲン原子を表わし、Ｒ２及びＲ３がアルキル基で
あるときＲ２とＲ３とは一緒になって環を形成してもよ
く、Ｒ５及びＲ６がアルキル基であるときＲ５とＲ６と
は一緒になって環を形成してもよく、Ｘ−はアニオンを
表わす。） 以下余白 Ｖｊｉｊ） は同一でも異なっても良い。］ 上記−数式で表わされる化合物の具体例として、下記の
［２３］、　［２４］および［２５］を挙げることがで
きる。

以下余白 ［たたし、Ｒ１へＲ１６は、それぞれ水素原子、ハロゲ
ン原子またはｍ個の有機残基であり、あるいは隣接する
ＨｋとＲｋ＋ｌ（ｋは１〜１５の範囲の整数で且つに≠
４ｎ（ｎは１．２、または３である））の組み合せのう
ち少なくとも一つの組み合せで置換もしくは未置換の芳
香族を形成しても良く、ＭはＳｉ、ＧｅまたはＳｎを表
わし、Ｙはアリールオキシ基、アルコキシ基、トリアル
キルシロキシル基、トリアリールシロキシ基、トリチル
オキシ基またはアシロキシ基を表わし、そして二個のＹ
［２３〕 ［２５］ ［２４］ 以 下 余 臼 上記第−記録層、第二記録層および第三記録層の層か色
素層の場合は次のように形成される。すなわち、色素層
の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を溶剤に
溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面
に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行な
う゛ことができる。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパツール、イソプロパ
ツール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどの
アルコール、ジメチルホルムアミドなどのアミド、２ｒ
２ｒ３．３−テトラフロロプロパツール等フッ素系溶剤
などを挙げることができる。

なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５０容量％以
内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水素溶
剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含んで
いてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、ゼラチン、テキストラン、ロジン、ゴムなどの
天然有機高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化
ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポ
リアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ポリカーボネート
、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の
熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子物質を
挙げることができる。さらに、所望により架橋剤を併用
しても良い。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

色素層の材料として結合剤を併用する場合は、上記第一
記録層、第二記録層および第三記録層の本発明の特定の
屈折率および消衰係数の範囲を逸脱しないように使用す
ることが必要である。結合剤に対する色素の比率は一般
に０．０１〜９９％（重量比）の範囲にあり、好ましく
は１．０〜９５％（重量比）の範囲にある。

第二記録層の形成材料に高分子化合物を用いる場合も、
上記溶剤および塗布方法を用いて該記録層を形成するこ
とができる。

上記第一記録層、第二記録層および第三記録層の三層の
形成は、例えばスピンコードに用いるスピナーにノズル
を三つ取り付けて、塗布と乾燥を繰り返して連続的に行
なうことができる。従って、基板上に記録層の形成は極
めて容易に行なうことができる。

上記第三記録層上に、−反射層か設けらてもよい。この
場合、極めて高い反射率を得ることかできるが、本発明
の塗布のみで製造が可能であることおよびプレピットの
再生が可能という効果を得ることができない。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ
、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ。

Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ％　Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉ　ｒ、Ｐｔ
、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌｌ、Ｇａ、Ｉｎ
、Ｓｉ％　Ｇｅ、Ｔｅ％　Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓ
ｂなどの金属および半金属を挙げることができる。これ
らのうちで好ましいも゛のはＡｌ１．Ａｕ、Ｃｒおよび
Ｎｉである。これらの物質は単独で用いてもよいし、あ
るいは二種以上の組合せでまたは合金として用いてもよ
い。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより基板
の上に形成することができる。反射層の層厚は一般には
１００〜３０００λの範囲にある。

上記第三記録層上には保護層を設けてもよい。

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質トシテ
ハ、Ｓｉｎ、５ｉ０２ｒＳｉ３Ｎ４、ＭｇＦ２，５ｎＯ
ｚ等を挙げることができる。また、有機物質としては、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げ
ることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂である。本発
明の効果を得るためには有機物質を塗布により設けるこ
とが好ましい。

上記保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得ら
れたフィルムを接着層を介して飽和炭化水素系溶剤に可
溶な樹脂からなる保護層上にラミネートすることにより
形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリ
ング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗
布し、乾燥することによっても形成することかできる。

ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し
、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成する
ことができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレタン（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポ
リエステル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレ
ートのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エステル等の
千ツマー類等さらに光重合開始剤等の通常のＵＶ硬化性
樹脂を使用することができる。これらの塗布液中には、
更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加
剤を目的に応じて添加してもよい。

上記の保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範
囲にある。また保護層は着色されても良い。

また、第三記録層の形成材料に、上記熱可塑性樹脂、熱
硬化性樹脂あるいはＵＶ樹脂を加えて形成することによ
り、第三記録層が保護層を兼ねてもよい。

また、第三記録層上に保護層を設ける場合は、保護層の
収縮による記録層の変形等を防止するため保護層上に緩
衝層を設けても良い。緩衝層の材料としては、高分子化
合物、金属類を使用することができる。上記緩衝層上に
さらに反射層を設けても良い。

さらに、保護層の代わりに樹脂フィルムを用いて、光デ
ィスクを覆うことによって保護してもよい 本発明において、光情報記録媒体は上述した構成からな
る単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有す
る二枚の基板を反射層が内側となるように向い合わせ、
接着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの
記録媒体を製造することもできる。また、本発明の記録
層は、ＣＤなどの再生専用の光ディスクのアルミニウム
などの反射層の代わりに使用することもできる。

上記光情報記録媒体への記録は、例えば下記のように行
なわわる。

まず、光情報記録媒体を定線速度または定角速度（ＣＤ
フォーマット信号の場合は、１，２〜１．４ｍ／秒）で
回転させながら、半導体レーザー光などの記録用の光を
、基板側から該プレグルーブのグループにレーザー光を
照射してＣＤフォーマットのＥＦＭ信号などの信号を、
該グループの記録層にピットを形成することにより記録
する。一般に、記録光としては５００〜９００ｎｍ（好
ましくは７５０〜８５０ｎｍ）の範囲の発振波長を有す
る半導体レーザービームが用いられる。一般に１〜１５
ｍＷのレーザーパワーで記録される。

上記記録層のビット形成は、第一記録層の消衰係数が０
に近い場合は第三記録層のみにビットが形成され、そう
でない場合は第一記録層にビットおよび第三記録層も変
形すると考えられる。また、レーザーのエネルギーが大
きい時は第二記録層にもピット、変形が起こることも考
えられる。

さらに、第一および第三記録層の消衰係数をほぼ０にし
て第二記録層に色素を用いた場合、第二記録層に記録す
ることが可能である。しかしなから、一般にとれか一層
のみに記録するのは困難て他の層への影響は避けられな
い。

記録に際しては、上記トラッキング用プレグルーブを用
いてプッシュプル法などによるトラッキング制御が行な
われる。情報の記録は、ブレクループのグループまたは
グループ間のランドに行なわれる。

情報の再生は、例えば記録媒体を上記と同一の定線速度
または定角速度で回転させながら半導体レーザー光を基
板側から照射してその反射光を検出することにより、３
ビーム法などによるトラッキング制御を行ないながら情
報を再生することかできる。

以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。たた
し、これらの各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 前記色素［ｃｙ−４１］　　： ２ｒ２５ｇを２ｒ２，３．３−テトラフロロプロパツー
ルに溶解して２ｒ２５重量％の第一記録層形成用塗布液
を調製した。

−楡の ポリブタジェン（サイエンティフィックポリマープロダ
クツ製、Ｎｏ、６６８、）Ｏ，，６ｇをシクロヘキサン
１５ｃｃとｎ−ノナン１０ｃｃに溶解して第二記録層形
成用塗布液を調製した。

ニー　潰の 上＝己第−記録層形成用塗布液と同じものを調製した。

プレクループ設けられた円盤状のポリカーボネート基板
（外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚さ：１．２ｍ
ｍ、トラックピッチ＝１．６μｍ、クループの幅＝０．
５μｍ、クループの深さ：　８００Ｘ、グループ位置：
直径４５ｍｍ〜１１６ｍｍの範囲）上に、上記第一記録
層形成用塗布液をスピンコード法により回転数２０００
　ｒｐｍの速度で３０秒間で塗布、乾燥して層厚が９０
０Ｘの第一記録層を形成した。

第一記録層上に、上記第二記録層形成用塗布液をスピン
コード法により回転数１４００　ｒｐｍの速度で３０秒
間で塗布、乾燥して層厚が１００ＯＸの第二記録層を形
成した。

第二記録層上に、上記第三記録層形成用塗布液をスピン
コード法により回転数２０００　ｒｐｍの速度で３０秒
間で塗布、乾燥して層厚が９００Ｘの゛第三記録層を形
成した。

上記三層の形成は、スピンナーにスピンコード用のノズ
ルを三つ取り付けて、塗布と乾燥を繰り返して連続的に
行なった。

このようにして、基板、第一記録層、第二記録層および
第三記録層からなる光情報記録媒体（第１図参照）を製
造した。

［実施例２コ 実施例１において、上記第三記録層形成用塗布液に使用
した色素［ｃｙ−４１］を下記の色素［前記色素：　Ｃ
Ｙ−３８］に変えた以外は実施例１と同様にして光情報
記録媒体を製造した。

色素ＣＹ−３８： ［実施例３］ 実施例１において、基板表面のグループ形状をグループ
幅：０．６５μｍ、グループの深さ：１３００Ｘに変え
た以外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を製造し
た。

［実施例４］ 実施例１において、基板表面に直径４６ｍｍ〜１１７ｍ
ｍの範囲にビットの幅が０．６５μｍおよびクループの
深さが１３００ＸからなるＣＤフォーマットのＥＦＭ信
号のビット（プレピット）を形成した以外は実施例１と
同様にして光情報記録媒体を製造した。

［実施例５］ 実施例１において、基板表面に直径４６ｍｍ〜１１７ｍ
ｍの範囲にビットの幅が０．５μｍおよびグループの深
さが１３００スからなるＣＤフォーマットのＥＦＭ信号
のビット（プレピット）を形成した以外は実施例１と同
様にして光情報記録媒体を製造した。

［参考例１］ 実施例１において、基板上に第一記録層のみ形成し、第
二および第三記録層を形成せずに実施例１と同様にして
光情報記録媒体を製造した。

［参考例２］ 実施例４において、基板上釘第−記録層のみ形成し、第
二および第三記録層を形成せずに実施例４と同様にして
光情報記録媒体を製造した。

［参考例３］ 実施例５において、基板上に第一記録層のみ形成し、第
二および第三記録層を形成せずに実施例５と同様にして
光情報記録媒体を製造した。

［比較例１］ 実施例４において、基板上に第一記録層のみ形成し、第
二および第三記録層を形成せず、第一記録層上にＡｕを
スパッタリングすることにより層厚１０００又の反射層
を形成した以外は実施例４と同様にして光情報記録媒体
を製造した。

上記実施例で示したポリカーボネート基板および色素記
録層について下記のように複素屈折率の実数部分（屈折
率）および虚数部分（消衰係数）を測定した。

ポリカーボネート基板はそのまま、色素記録層は、各材
料を実施例と同様にして塗布にてカラス板に薄層（実施
例と同じ層厚）を形成し、７８０ｎｍにおける反射率と
透過率を測定して、屈折率（ｎ、）および消衰係数（ｋ
、’）を求めた。

また、各記録層の極大吸収波長における、屈折率（ｎｌ
）および消衰係数（ｋｌ）も求めた。

その結果を、第１表に示す。

以下余白 第１表 層 色素／　　ｎ、。

層厚　（Ｘ） ｋ。

Ｉ１１ （ｎｍ） ｋゆ 第 ＣＹ−４１／９００　２ｒ６０　０．０６　２ｒ０８　
　＋、８４第二　ブタジェン／１０００　　１．５０　
０．００　　−第三　ＣＹ−４１／９００　２ｒ６００
．０６　２ｒ０８　１．８４第 ＣＹ−４］／９００　２ｒ６０　０，０６　２ｒ０８　
１．８４（７２］　） 第二　ブタジェン／１０００　　１．５０　０．００　
　−第三　ＣＹ−３８／９００　２，１０１．８０　１
．９６　１．９９［情報記録媒体の評価］ １）反射率（％）およびＣ／Ｎ（ｄＢ）上記で得られた
情報記録媒体について、光デイスク評価機（パルステッ
ク工業■製）を用いて、７８０ｎｍの発振波長を有し、
記録時のレーザーパワー（記録パワー）６ｍＷ、線速度
１．３ｍ／秒、変調周波数７２０ｋＨｚおよびデユーテ
ィ３３％にて記録を行ない、そして反射率およびＣ／Ｎ
の測定をスペクトラムアナライザー（ＴＲ４１３５：ア
トパンテスト社製）を用いて、ＲＢＷ　＝　３０　ｋ　
Ｈｚ、ＶＢＷ＝１００Ｈｚ、再生パワー０．５ｍＷにて
行なった。

２）変調度 上記プレピットのＥＦＭ信号の内１１７ビツトについて
、信号部分と信号の無い部分（ミラー部）のそれぞれの
信号の強度を測定してその変調度（Ｃ）を次式より求め
た。

（ＳＨ：信号の最大強度、ＳＬ二倍信号最小強度、ＳＭ
：ミラーの信号強度） ３）プレピットの読み取り 上記記録されたＣＤフォーマットのＥＦＭ（３号（プレ
ピット）を市販のＣＤプレーヤー（ＳＬＰ７７７、松下
電器産業■製）を用いてプレピットの読み取りが可能か
どうかを試験した。

ＡＡ：読取可能 ＣＣ：読取不可 上記測定結果を第２表に示す。

以下余白 ＳＭ 実施例１ 実施例２ 実施例３ 実施例４ 実施例５ 第２表 反射率　　Ｃ／Ｎ （！ｋ）　　　　（ｄＢ） 変調度　　プレピット （ｔ）　　　読取 ＡＡ ＡＡ 参考例１ 参考例２ 参考例３ 比較例１ 　Ｃ いＣ／Ｎを有している。ＣＤフォーマットのＥＦＭ信号
をプレピットとして記録した場合（実施例４と５）、読
み取りが可能であり、モしてＩＩＴという長いビットの
信号であっても高い変調度が得られる。

一方、参考例１〜３の色素記録層が一層だけの光ディス
クでは、反射率が低く、Ｃ／Ｎも上記実施例より劣って
いる。ＣＤフォーマットのＥＦＭ信号をプレピットとし
て記録した場合（参考例２と３）、１１Ｔという長いピ
ットの信号では高い変調度が得られない。

さらに、従来の色素記録層上に金属反射層が設けられた
比較例１の光ディスクでは、高い反射率か得られるが、
プレピットの信号を読み取ることができない。

上記第２表より明らかなように、実施例１〜５の基板、
第一記録層、第二記録層および第三記録層からなる本発
明の光ディスクは高い反射率と高次の実施例６〜８には
、特に広い波長領域で高い反射率を示す本発明の光情報
記録媒体の実施例を示す。

［実施例６］ 前記色素［ＣＹ−２］： 前記色素［ＣＹ−１９］　： ２ｒ０ｇを２ｒ２，３．３−テトラフロロプロパツール
１００ｃｃに溶解して第一記録層形成用塗布液を調製し
た。

−楡の 実施例１と同様にして第二記録層形成用塗布液を調製し
た。

＝　　濾の ２ｒ０ｇを２ｒ２，３．３−テトラフロロプロパツール
１００ｃｃに溶解して第三記録層形成用塗布液を調製し
た。

実施例１で使用されたものと同じ円盤状のポリカーボネ
ート基板上に、上記第一記録層形成用塗布液をスピンコ
ード法により、まず回転数３０゜ｒｐｍの速度で塗布し
、回転数４０００　ｒｐｍの速度で９０秒間乾燥して層
厚が７００又の第一記録層を形成した。

第一記録層上に、上記第二記録層形成用塗布液をスピン
コード法により、まず回転数３０　Ｏｒｐｍの速度で塗
布し、回転数２００　Ｏｒｐｍの速度て９θ秒間乾燥し
て層厚が９００λの第二記録層を形成した。

第二記録層上に、上記第三記録層形成用塗布液をスピン
コード法により、まず回転数３００　ｒｐｍの速度て塗
布し、回転数１５００ｒｐｍの速度で９０秒間乾燥して
層厚が１０４０λの第三記録層を形成した。

上記三層の形成は、実施例１と同様にしてスピンナーに
スピンコード用のノズルを三つ取り付けて、塗布と乾燥
を繰り返して連続的に行なった。

このようにして、基板、第一記録層、第二記録層および
第三記録層からなる光情報記録媒体（第１図参照）を製
造した。

［実施例７］ 実施例６において、第一記録層形成用塗布液の調製を前
記色素［ＣＹ−１９］に代えて前記色素［ＣＹ−３５］
を用い、第一記録層の層厚を７００λから６００λに変
えた以外は実施例６と同様にして光情報記録媒体を製造
した。

［実施例８］ 実施例６において、第一記録層形成用塗布液の調製を前
記色素［ＣＹ−１９］　２ｒ０ｇに代えて前記色素［［
：Ｙ−４］　１、Ｏｇを用い、第一記録層を下記の塗布
条件で形成した以外は実施例６と同様にして光情報記録
媒体を製造した。

前記色素［ＣＹ−４コ 基板上に、上記第一記録層形成用塗布液をスピンコード
法により、まず回転数３００　ｒｐｍの速度で塗布し、
回転数１０００　ｒｐｍの速度で９０秒間乾燥して層厚
が７００λの第一記録層を形成した。

上記実施例６〜８で示した色素記録層について下記のよ
うに複素屈折率の実数部分（屈折率）および虚数部分（
消衰係数）を測定した。

色素記録層は、各材料を実施例と同様にして塗布にてガ
ラス板に薄層（実施例と同じ層厚）を形成し、７８０ｎ
ｍにおける反射率と透過率を測定して、屈折率（ｎ、）
および消衰係数（ｋ、）を求めた。また、各記録層の極
大吸収波長における、屈折率（ｎ６）および消衰係数（
ｋｌ）も求めた。

その結果を、第３表に示す。

以下余白 第３表 層 色素／　　　ｎ。

層厚（又） ｋ。

Ｔｍ （ｎｍ） ｋ。

第一　ＣＹ−１９／７００　２ｒ６］　０．０２　１．
７７３．７９第三　ＣＹ−２／１０４０　０．５１２ｒ
３８　２ｒ１７４．２７第一　ＣＹ−３５／６００　２
ｒ７９０．０６　２ｒ３０１．７８第三　にＹ−２／１
０４０　０．５１２ｒ３８　２ｒ１７４．２７第一　Ｃ
Ｙ−４／６００　４．７００．１０　１，３１３．４３
第三　ＣＹ−２／１０４０　０．５１２ｒ３８　２，１
７４．２７尚、第二記録層のｎｒとに、は、上記実施例
１と同じ値であった。

［情報記録媒体の評価］ １）反射率（％）およびＣ／Ｎ（ｄＢ）上記で得られた
情報記録媒体について、光デイスク評価機（パルステッ
ク工業■製）を用いて、７８０ｎｍの発振波長を有し、
記録時のレーザーパワー（記録パワー）６ｍＷ、線速度
１．３ｍ／秒、変調周波数７２０ｋＨｚおよびデユーテ
ィ３３％にて記録を行ない、そして反射率およびＣ／Ｎ
の測定をスペクトラムアナライザー（ＴＲ４１３５：ア
ドバンテスト社製）を用いて、ＲＢＷ　＝　３０　ｋ　
Ｈｚ、ＶＢＷ＝１００Ｈｚ、再生パワー０．５ｍＷにて
行なった。

上記測定結果を第４表に示す。

第４表 反射率　　高反射率の （＊）　　　　範囲（を以上） Ｃ／Ｎ （ｄＢ） 実施例６　　７５　　７００−８５０ｎｍ　（７Ｈ）　
　　５２実施例７　　７１　　７６０−８６０ｎｍ　（
６０；）　　５２実施例８　　６９　　７７０−８６０
ｎｍ　（６０５ｋ）　　５２上記第３表および第４表よ
り明らかなように。

実施例６〜８の基板、第一記録層、第二記録層および第
三記録層からなる本発明の光ディスクは、高反射率を示
すだけでなく、広い波長領域でも高反射率を維持してい
る。ざらにＣ／Ｈにおいても高い値を示している。

従って、上記本発明の光ディスクは、記録再生特性に優
わ且つ広い波長領域で高い反射率を示すことから多くの
光ドライブに適用性があると考えられる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光情報記録媒体の一伊１の断面図で
ある。 ：基板 ：第−記録層 ：第二記録層 ：第三記録層 特許出願人　富士写真フィルム株式会社代　理　人　弁
理士　　柳　川　秦　男第 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に、第一記録層が設けられ、さらに該第一記
   録層上に、第二記録層および第三記録層がこの順で積層
   された二層構造の積層体の繰り返し単位が少なく一単位
   設けられており、そして第一記録層が、有機物からなり
   且つ下記の条件（１）および（２）： ｎ＿１＿ｒ≧１．８（１） ｋ＿１＿ｒ≦０．５（２） を満足する層であり、 第二記録層が、有機物からなり且つ下記の条件（３）お
   よび（４）： ｎ＿２＿ｒ＜１．８（３） ｋ＿２＿ｒ≦０．５（４） を満足する層であり、 第三記録層が、有機物からなり且つ下記の条件（５）お
   よび（６）： ｎ＿３＿ｒ≧１．８（５） ｋ＿３＿ｒ≦０．５（６） または（７）： ｋ＿３＿ｒ≧１（７） ［但し、ｎ＿１＿ｒ、ｎ＿２＿ｒおよびｎ＿３＿ｒは、
   それぞれ第一記録層、第二記録層および第三記録層の再
   生用のレーザー波長における複素屈折率の実数部分を表
   わし、ｋ＿１＿ｒ、ｋ＿２＿ｒおよびｋ＿３＿ｒは、そ
   れぞれ第一記録層、第二記録層および第三記録層の再生
   用のレーザー波長における複素屈折率の虚数部分を表わ
   す。］ を満足する層であることを特徴とする光情報記録媒体。 ２、上記条件（７）を満足する第三記録層が、さらに下
   記の条件（８）： ｎ＿３＿ｍ＋ｋ＿３＿ｍ＜５．２６（８） ［但し、ｎ＿３＿ｍおよびｋ＿３＿ｍは、それぞれ第三
   記録層の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分お
   よび虚数部分を表わす。］ を満足する層である請求項第１項記載の光情報記録媒体
   。 ３、上記条件（７）を満足する第三記録層が、さらに下
   記の条件（８）および（９）： ｎ＿３＿ｍ＋ｋ＿３＿ｍ＜５．２６（８） １≦ｎ＿３＿ｒ≦４（９） ［但し、ｎ＿３＿ｍおよびｋ＿３＿ｍは、それぞれ第三
   記録層の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分お
   よび虚数部分を表わし、ｎ＿３＿ｒは、第三記録層の再
   生用のレーザー波長における複素屈折率の実数部分を表
   わす。］ を満足する層である請求項第１項記載の光情報記録媒体
   。 ４、上記条件（７）を満足する第三記録層が、さらに下
   記の条件（１０）： ｎ＿３＿ｍ＋ｋ＿３＿ｍ≧５．２６（１０）［但し、ｎ
   ＿３＿ｍおよびｋ＿３＿ｍは、それぞれ第三記録層の極
   大吸収波長における複素屈折率の実数部分および虚数部
   分を表わす。］ を満足する層である請求項第１項記載の光情報記録媒体
   。 ５、上記条件（７）を満足する第三記録層が、さらに下
   記の条件（１０）、（１１）および（１２）：ｎ＿３＿
   ｍ＋ｋ＿３＿ｍ≧５．２６（１０）ｋ＿３＿ｍ≧１．０
   （１１） ｎ＿３＿ｒ≦ｋ＿３＿ｒ（１２） ［但し、ｎ＿３＿ｍおよびｋ＿３＿ｍは、それぞれ第三
   記録層の極大吸収波長における複素屈折率の実数部分お
   よび虚数部分を表わし、ｎ＿３＿ｒおよびｋ＿３＿ｒは
   、それぞれ第三記録層の再生用のレーザー波長における
   複素屈折率の実数部分および虚数部分を表わす。］ を満足する層である請求項第１項記載の光情報記録媒体
   。 ６、上記基板の表面に、プレグルーブおよびプレピット
   が設けられている請求項第１項記載の光情報記録媒体。